CN110497667A - 一种复合玻璃板及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种复合玻璃板，包括相互贴合的玻璃基板和载板，其中，所述玻璃基板和所述载板之间的吸附力为单位面积所述玻璃基板所受重力的2‑25倍；所述载板的贴合面的粗糙度不大于100nm。根据本发明所述的复合玻璃板，由于所述玻璃基板与所述载板之间的贴合面的吸附力较强，因此所述玻璃基板与所述载板不容易分开，从而可以满足了超薄玻璃基板的运输以及显示面板制造过程中所述玻璃基板与所述载板不会分离。

Description

一种复合玻璃板及其制造方法
技术领域
本发明涉及玻璃制造技术领域，具体涉及一种复合玻璃板及其制备方法。
背景技术
液晶玻璃基板是显示面板主要组件，为满足玻璃基板的运输及显示面板制程中支撑要求，玻璃基板需要具有一定的刚度，其厚度一般在0.35mm以上，随着平板显示器件薄化需求发展，在显示面板制程成盒后需要对玻璃基板进行化学减薄处理，使玻璃基板薄至0.2mm以下，这需要大量使用氢氟酸对玻璃基板侵蚀减薄，氢氟酸具有强烈腐蚀性，可以腐蚀人员的皮肤和呼吸道，泄漏后会严重污染大气。
厚度0.2mm以下玻璃基板由于刚度太低，无法满足运输和显示面板制程中支撑要求，从而不能直接使用，因此如何解决厚度0.2mm以下玻璃基板刚度低的问题，长期困扰着业界。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种复合玻璃板及其制备方法，该复合玻璃板具有一定的刚性，能够单独运输，当所述玻璃基板使用后，所述载板可以回收再利用。
为实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种复合玻璃板。
本发明的一种复合玻璃板，包括相互贴合的玻璃基板和载板，其中，所述玻璃基板和所述载板之间的吸附力为单位面积所述玻璃基板所受重力的2-25倍；优选为2-20倍，更优选为2-15倍。
所述载板的贴合面的粗糙度不大于100nm。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板的贴合面的粗糙度不大于100nm。
在一个具体实施方式中，所述载板的厚度不小于0.3mm，优选0.3-1mm。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板的厚度不大于0.2mm，优选0.05-0.2mm。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板的长度和宽度尺寸均小于所述载板的长度和宽度尺寸。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板，以摩尔百分比计，包含如下组成：
SiO2：60-75％，B2O3：0-11％，Al2O3：3-20％，ZnO：0.1-3％，RO：10-30％，R2O：0-0.1％；
其中RO为MgO、CaO、SrO以及BaO中的任意一种或多种，R2O为Li2O、Na2O以及K2O中的任意一种或多种；
所述玻璃基板的杨氏模量大于60GPa，在50-350℃的膨胀系数小于43×10-7/℃。
在一个具体实施方式中，所述载板，以摩尔百分比计，包含如下组成：
SiO2：65-85％，B2O3：0-11％，Al2O3：10-20％，ZnO：0.1-3％，RO：4.8-30％，R2O：0-0.1％；
其中RO为MgO、CaO、SrO以及BaO中的任意一种或多种，R2O为Li2O、Na2O以及K2O中的任意一种或多种；
所述载板的杨氏模量大于60GPa，在50-350℃的膨胀系数小于43×10-7/℃。
在一个具体实施方式中，所述载板，以摩尔百分比计，包含如下组成：
SiO2：60-85％，B2O3：0-5％，P2O5：0-15％，Al2O3：10-25％，ZnO：0.01-3％，MgO：0-10％，R2O：2-29％；
其中R2O＝Li2O、Na2O以及K2O中的任意一种或多种；
所述载板的杨氏模量大于60GPa，在50-350℃的膨胀系数小于90×10-7/℃；优选地，所述载板可以进行化学强化；更进一步优选地，化学强化之后所述载板的离子交换深度DOL大于10μm且表面压缩应力CS大于500MPa。
在一个具体实施方式中，所述载板为玻璃载板。
为实现上述目的，根据本发明的另一个方面，提供了一种复合玻璃板的制备方法。
本发明提供的一种复合玻璃板的制造方法，包括如下步骤：
将玻璃基板的贴合面与载板的贴合面，贴合在一起；
将贴合在一起的玻璃基板与载板抽真空处理和/或静电处理，以使所述玻璃基板与所述载板吸附在一起，即形成所述复合玻璃板。
在一个具体实施方式中，所述抽真空处理的真空度高于-100mbar，优选为-200～-750mbar，更优选为-300～-550mbar。
在一个具体实施方式中，所述静电处理的静电电压为5～80KV，优选为10～60KV，更优选为12～50KV。
根据本发明所述的复合玻璃板，由于所述玻璃基板与所述载板之间的贴合面的吸附力较强，因此所述玻璃基板与所述载板不容易分开，从而可以满足了超薄玻璃基板的运输以及显示面板制造过程中所述玻璃基板与所述载板不会分离。
根据本发明所述的复合玻璃板，所述载板的厚度在0.3mm以上，具有一定的刚度，能够单独运输，当所述玻璃基板使用后将所述载板从所述玻璃基板上剥离之后，所述载板能够循环再利用。
根据本发明所述复合玻璃板的制造方法，简单、方便，不使用粘结材料，所述玻璃基板与所述载板直接贴合，而且所述复合玻璃板在显示面板制造过程成盒后，可以很容易的剥离所述载板，从而实现显示面板的薄化，不需要使用化学方法来薄化所述玻璃基板。
附图说明
附图用于更好地理解本发明，不构成对本发明的不当限定。其中：
图1是根据本发明的复合玻璃板的结构示意图；
图2是根据本发明的复合玻璃板的结构示意图。
附图标记列表
1-玻璃基板，2-载板。
发明的具体实施方式
以下结合附图对本发明的示范性实施例做出说明，其中包括本发明实施例的各种细节以助于理解，应当将它们认为仅仅是示范性的。因此，本领域普通技术人员应当认识到，可以对这里描述的实施例做出各种改变和修改，而不会背离本发明的范围和精神。同样，为了清楚和简明，以下的描述中省略了对公知功能和结构的描述。
参考图1及图2所示，本发明公开了一种复合玻璃板，包括相互贴合的玻璃基板1和载板2，其中，所述玻璃基板1和所述载板2之间的吸附力为单位面积所述玻璃基板1所受重力的2-25倍；所述玻璃基板1与所述载板2之间的吸附力可以保证所述玻璃基板1与所述载板2不会在运输过程中分开，而且，当使用所述复合玻璃板来制造显示面板时，所述玻璃基板1不会轻易从所述载板2上脱落，当所述玻璃基板1安装好之后，可以直接将所述载板2从所述玻璃基板1上剥离下来，不需要对所述复合玻璃板进行化学减薄，从而避免了现有技术中使用氢氟酸减薄玻璃的工艺，进而减少了氢氟酸的使用。
所述复合玻璃板层间吸附力为单位面积所述玻璃基板1所受重力的2-25倍，如果所述吸附力太小，所述复合玻璃板在搬运及加工过程中所述玻璃基板1和所述载板2之间会发生相对移动；如果吸附力太大会造成贴合或剥离过程中所述玻璃基板1或所述载板2的贴合面划伤，所述复合玻璃板在显示面板制程成盒后，放置在相应真空环境中或去除静电后，即可剥离载板2。
在一个具体实施方式中，所述载板2的贴合面的粗糙度不大于100nm。
在一个具体实施方式中，所述载板2的贴合面的粗糙度不大于95nm。
在一个具体实施方式中，所述载板2的贴合面的粗糙度不大于90nm。
在一个具体实施方式中，所述载板2的贴合面的粗糙度不大于85nm。
在一个具体实施方式中，所述载板2的贴合面的粗糙度不大于80nm。
在一个具体实施方式中，所述载板2的贴合面的粗糙度不大于75nm。
在一个具体实施方式中，所述载板2的贴合面的粗糙度不大于70nm。
在一个具体实施方式中，所述载板2的贴合面的粗糙度不大于65nm。
在一个具体实施方式中，所述载板2的贴合面的粗糙度不大于60nm。
在一个具体实施方式中，所述载板2的贴合面的粗糙度不大于50nm。
所述载板2的贴合面的粗糙度可以为100nm、95nm、90nm、85nm、80nm、75nm、70nm、65nm、60nm、55nm、50nm等。当所述载板2贴合面上的粗糙度太大时，所述复合玻璃板在运输以及加工过程中容易划伤所述玻璃基板1。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1和所述载板2之间的吸附力为单位面积所述玻璃基板1所受重力的2-20倍。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1和所述载板2之间的吸附力为单位面积所述玻璃基板1所受重力的2-15倍。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1和所述载板2之间的吸附力为单位面积所述玻璃基板1所受重力的2-10倍。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1和所述载板2之间的吸附力为单位面积所述玻璃基板1所受重力的2-5倍。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1和所述载板2之间的吸附力为单位面积所述玻璃基板1所受重力的2倍、3倍、4倍、5倍、6倍、7倍、8倍、9倍、10倍、11倍、12倍、13倍、14倍、15倍、16倍、17倍、18倍、19倍、20倍中的一种。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1的贴合面的粗糙度不大于100nm。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1的贴合面的粗糙度不大于95nm。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1的贴合面的粗糙度不大于90nm。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1的贴合面的粗糙度不大于85nm。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1的贴合面的粗糙度不大于80nm。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1的贴合面的粗糙度不大于75nm。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1的贴合面的粗糙度不大于70nm。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1的贴合面的粗糙度不大于65nm。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1的贴合面的粗糙度不大于60nm。
所述玻璃基板1的贴合面的粗糙度可以为100nm、95nm、90nm、85nm、80nm、75nm、70nm、65nm、60nm等。当所述玻璃基板1贴合面上的粗糙度太大时，所述复合玻璃板在运输以及加工过程中容易划伤所述载板2。
在一个具体实施方式中，所述载板2的厚度不小于0.3mm
在一个具体实施方式中，所述载板2的厚度为0.3-1mm。
在一个具体实施方式中，所述载板2的厚度可以为0.3mm、0.35mm、0.4mm、0.45mm、0.5mm、0.55mm、0.6mm、0.65mm、0.7mm、0.75mm、0.8mm、0.85mm、0.9mm、0.95mm、1mm等。
所述载板2具有一定的厚度和一定的刚度，可以保证所述复合玻璃板在运输过程中不易损坏，而且在显示面板制程中起支撑作用。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1的厚度不大于0.2mm。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1的厚度为0.05-0.2mm。
所述玻璃基板1的尺寸可以满足平板显示器薄化的需求。所述玻璃基板1的厚度可以为0.2mm、0.15mm、0.1mm、0.07、0.05mm等。
本发明所述的复合玻璃板用于显示面板制程，其主要解决0.2mm及以下厚度玻璃基板1由于刚度太小无法满足玻璃基板1运输和显示面板制程中支撑要求的问题，所述玻璃载板2要求具有一定的刚度，其厚度不小于0.3mm，例如玻璃基板1+玻璃载板2的厚度为：0.1mm+0.3mm、0.1mm+0.4mm、0.1mm+0.5mm、0.2mm+0.3mm、0.2mm+0.4mm、0.2mm+0.5mm等。
所述玻璃基板1的长度和宽度尺寸小于所述载板2的长度和宽度尺寸。所述玻璃基板1贴合于所述载板2的一侧，所述载板2的尺寸比所述玻璃基板1的尺寸大，可以保护所述玻璃基板1在运输以及加工过程不被损坏。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1的长度和宽度尺寸均比所述载板2的长度和宽度小1-20mm。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1的长度和宽度尺寸均比所述载板2的长度和宽度可以小1mm、2mm、3mm、4mm、5mm、6mm、7mm、8mm、9mm、10mm、11mm、12,mm、13mm、14mm、15mm、16mm、17mm、18mm、19mm、20mm中的一种。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1，以摩尔百分比计，包含如下组成：
SiO2：60-75％，B2O3：0-11％，Al2O3：3-20％，ZnO：0.1-3％，RO：10-30％，R2O：0-0.1％；
其中RO为MgO、CaO、SrO以及BaO中的任意一种或多种，R2O为Li2O、Na2O以及K2O中的任意一种或多种。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1，以摩尔百分比计，包含如下组成：
SiO2：60-70％，B2O3：0-8％，Al2O3：5-20％，ZnO：0.1-3％，RO：10-30％，R2O：0-0.1％；
其中RO为MgO、CaO、SrO以及BaO中的任意一种或多种，R2O为Li2O、Na2O以及K2O中的任意一种或多种。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1，以摩尔百分比计，SiO2可以为60％、61％、62％、63％、64％、65％、66％、67％、68％、69％、70％、71％、72％、73％、74％、75％。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1，以摩尔百分比计，B2O3可以为0％、1％、2％、3％、4％、5％、6％、7％、8％、9％、10％、11％。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1，以摩尔百分比计，Al2O3可以为3％、4％、5％、6％、7％、8％、9％、10％、11％、12％、13％、14％、15％、16％、17％、18％、19％、20％。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1，以摩尔百分比计，ZnO可以为0.1％、0.2％、0.3％、0.4％、0.5％、0.6％、0.7％、0.8％、0.9％、1％、1.1％、1.2％、1.3％、1.4％、1.5％、1.6％、1.7％、1.8％、1.9％、2％、2.1％、2.2％、2.3％、2.4％、2.5％、2.6％、2.7％、2.8％、2.9％、3％。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1，以摩尔百分比计，MgO可以为10％、11％、12％、13％、14％、15％、16％、17％、18％、19％、20％、21％、22％、23％、24％、25％、26％、27％、28％、29％、30％。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1，以摩尔百分比计，CaO可以为10％、11％、12％、13％、14％、15％、16％、17％、18％、19％、20％、21％、22％、23％、24％、25％、26％、27％、28％、29％、30％。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1，以摩尔百分比计，SrO可以为10％、11％、12％、13％、14％、15％、16％、17％、18％、19％、20％、21％、22％、23％、24％、25％、26％、27％、28％、29％、30％。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1，以摩尔百分比计，BaO可以为10％、11％、12％、13％、14％、15％、16％、17％、18％、19％、20％、21％、22％、23％、24％、25％、26％、27％、28％、29％、30％。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1，以摩尔百分比计，Li2O可以为0％、0.01％、0.02％、0.03％、0.04％、0.05％、0.06％、0.07％、0.08％、0.09％、0.1％。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1，以摩尔百分比计，Na2O可以为0％、0.01％、0.02％、0.03％、0.04％、0.05％、0.06％、0.07％、0.08％、0.09％、0.1％。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1，以摩尔百分比计，K2O可以为0％、0.01％、0.02％、0.03％、0.04％、0.05％、0.06％、0.07％、0.08％、0.09％、0.1％。
在一个具体实施方式中，所述玻璃基板1的杨氏模量大于60GPa，在50-350℃的膨胀系数小于43×10-7/℃。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，包含如下组成：
SiO2：65-85％，B2O3：0-11％，Al2O3：10-20％，ZnO：0.1-3％，RO：4.8-30％，R2O：0-0.1％；
其中RO为MgO、CaO、SrO以及BaO中的任意一种或多种，R2O为Li2O、Na2O以及K2O中的任意一种或多种。
所述载板2的杨氏模量大于60GPa，在50-350℃的膨胀系数小于43×10-7/℃。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，包含如下组成：
SiO2：66-82％，B2O3：0.5-6％，Al2O3：10-16％，ZnO：0.1-2％，RO：7-23％，R2O：0-0.1％；
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，包含如下组成：
SiO2：68.5％，B2O3：1％，Al2O3：12％，ZnO：0.2％，MgO：9.5％，CaO：4.5％，SrO：4％，BaO：0.3％；
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，SiO2可以为65％、66％、67％、68％、69％、70％、71％、72％、73％、74％、75％、76％、77％、78％、79％、80％、81％、82％、83％、84％、85％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，B2O3可以为0％、1％、2％、3％、4％、5％、6％、7％、8％、9％、10％、11％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，Al2O3可以为10％、11％、12％、13％、14％、15％、16％、17％、18％、19％、20％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，ZnO可以为0.1％、0.2％、0.3％、0.4％、0.5％、0.6％、0.7％、0.8％、0.9％、1％、1.1％、1.2％、1.3％、1.4％、1.5％、1.6％、1.7％、1.8％、1.9％、2％、2.1％、2.2％、2.3％、2.4％、2.5％、2.6％、2.7％、2.8％、2.9％、3％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，MgO可以为4.8％、5％、6％、7％、8％、9％、10％、11％、12％、13％、14％、15％、16％、17％、18％、19％、20％、21％、22％、23％、24％、25％、26％、27％、28％、29％、30％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，CaO可以为4.8％、5％、6％、7％、8％、9％、10％、11％、12％、13％、14％、15％、16％、17％、18％、19％、20％、21％、22％、23％、24％、25％、26％、27％、28％、29％、30％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，SrO可以为4.8％、5％、6％、7％、8％、9％、10％、11％、12％、13％、14％、15％、16％、17％、18％、19％、20％、21％、22％、23％、24％、25％、26％、27％、28％、29％、30％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，BaO可以为4.8％、5％、6％、7％、8％、9％、10％、11％、12％、13％、14％、15％、16％、17％、18％、19％、20％、21％、22％、23％、24％、25％、26％、27％、28％、29％、30％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，Li2O可以为0％、0.01％、0.02％、0.03％、0.04％、0.05％、0.06％、0.07％、0.08％、0.09％、0.1％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，Na2O可以为0％、0.01％、0.02％、0.03％、0.04％、0.05％、0.06％、0.07％、0.08％、0.09％、0.1％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，K2O可以为0％、0.01％、0.02％、0.03％、0.04％、0.05％、0.06％、0.07％、0.08％、0.09％、0.1％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，包含如下组成：
SiO2：60-85％，B2O3：0-5％，P2O5：0-15％，Al2O3：10-25％，ZnO：0.01-3％，MgO：0-10％，R2O：2-29％；
其中R2O＝Li2O、Na2O以及K2O中的任意一种或多种。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，包含如下组成：
SiO2：65％-80％，B2O3：2-4％，P2O5：3-12％，Al2O3：10％-22％，ZnO：0.1％-3％，MgO：0-10％，R2O：4.8-19％；
其中R2O＝Li2O、Na2O以及K2O中的任意一种或多种。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，包含如下组成：
SiO2：65％-74％，B2O3：2-3％，P2O5：3-4.5％，Al2O3：10％-12.7％，ZnO：0.1％-1.5％，MgO：0-2％，R2O：4.8-14.9％；
其中R2O＝Li2O、Na2O以及K2O中的任意一种或多种。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，SiO2可以为60％、61％、62％、63％、64％、65％、66％、67％、68％、69％、70％、71％、72％、73％、74％、75％、76％、77％、78％、79％、80％、81％、82％、83％、84％、85％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，B2O3可以为0％、1％、2％、3％、4％、5％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，Al2O3可以为10％、11％、12％、13％、14％、15％、16％、17％、18％、19％、20％、21％、22％、23％、24％、25％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，P2O5可以为0％、1％、2％、3％、4％、5％、6％、7％、8％、9％、10％、11％、12％、13％、14％、15％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，ZnO可以为0.01％、0.02％、0.03％、0.04％、0.05％、0.06％、0.07％、0.08％、0.09％、0.1％、0.2％、0.3％、0.4％、0.5％、0.6％、0.7％、0.8％、0.9％、1％、1.1％、1.2％、1.3％、1.4％、1.5％、1.6％、1.7％、1.8％、1.9％、2％、2.1％、2.2％、2.3％、2.4％、2.5％、2.6％、2.7％、2.8％、2.9％、3％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，MgO可以为0、1％、2％、3％、4％、5％、6％、7％、8％、9％、10％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，Li2O可以为10％、11％、12％、13％、14％、15％、16％、17％、18％、19％、20％、21％、22％、23％、24％、25％、26％、27％、28％、29％、30％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，Na2O可以为4.8％、5％、6％、7％、8％、9％、10％、11％、12％、13％、14％、15％、16％、17％、18％、19％、20％、21％、22％、23％、24％、25％、26％、27％、28％、29％。
在一个具体实施方式中，所述载板2，以摩尔百分比计，K2O可以为4.8％、5％、6％、7％、8％、9％、10％、11％、12％、13％、14％、15％、16％、17％、18％、19％、20％、21％、22％、23％、24％、25％、26％、27％、28％、29％。
所述载板2的杨氏模量大于60GPa，在50-350℃的膨胀系数小于90×10-7/℃。优选地，所述载板2可以进行化学强化；更进一步优选地，化学强化之后所述载板2的离子交换深度DOL大于10μm且表面压缩应力CS大于500MPa。
SiO2在玻璃中构成硅氧三维骨架，在玻璃结构中以硅氧四面体(SiO2)4-作为基本结构单元存在，一方面赋予玻璃良好的化学稳定性，热稳定性，透明性，较高的软化温度，硬度和机械强度，另一方面与(AlO3)5-形成铝硅氧阴离子团，能在后期的化学强化处理提供结构性支撑。如SiO2含量低，会出现玻璃热膨胀系数变大、耐擦伤性变差、玻璃化温度下降等情况，同时会影响后期化学强化处理效果；如SiO2含量高，则玻璃中其他组分含量相对降低，除了SiO2本身带来的粘性增高、玻璃难以熔化的因素外，玻璃其他性能由于其他组分的变化出现不可预期变化，通常会降低玻璃性能。。
Al2O3因Al3+配位数不固定，或4或6，在结构网络中以铝氧四面体(AlO4)4-和铝氧八面体(AlO6)8-存在，而在碱金属氧化物R2O或碱土金属氧化物RO存在的情况下，其以(AlO3)5-存在，由于(AlO3)5-体积约为41cm3/mol，比(SiO2)4-体积27.24cm3/mol大，故当Al2O3含量增加时，玻璃体机构网络空间扩大，有利于离子扩散交换。同时Al2O3具有稳定和抗析晶作用，含量较高时玻璃高温粘度会增加。组分中Al2O3含量优选为13.5％～17.5％，使得玻璃具有较好的离子交换能力，同时高温粘度不至于过大而无法满足生产。
MgO能够有效控制玻璃液的硬化速度和析晶性能，主要是玻璃的高温物理性能，同时改善玻璃的熔化性能，起助熔作用。控制硬化速度，以适应高速成型需求，在较短时间内粘度加大变硬；控制析晶性能，防止玻璃液在冷却过程中变成晶体而不透明或退火时炸裂。
Na2O与K2O具有助熔作用，玻璃中需保证足够的Na2O含量，一方面促进玻璃熔化效率，另一方面在后期的化学强化处理时由于网络结构中的Na+更多，能更好地参与离子交换，使化学强化效果更好，同时，Na2O含量不能过高，如果Na2O过高玻璃，会出现热膨胀系数变大、耐候性变差等性能劣化趋势。
所述载板2可以为玻璃载板2。所述载板2不限于玻璃材质，也可以采用其它的无色透明耐高温材质。
所述玻璃基板1为透明玻璃板，是平板显示器件的显示面板的重要组件之一。
本发明的一种复合玻璃板的制造方法，包括如下步骤：
步骤一：将玻璃基板1的贴合面与载板2的贴合面，贴合在一起；
步骤二：然后在将贴合在一起的玻璃基板1与载板2抽真空处理和/或静电处理，以使所述玻璃基板1与所述载板2吸附在一起，即形成所述复合玻璃板。
在步骤二中，所述抽真空处理的真空度高于-100mbar，优选为-200～-750mbar，更优选为-300～-550mbar。
在步骤二中，所述静电处理的静电电压为5～80KV，优选为10～60KV，更优选为12～50KV。
实施例1
提供的玻璃基板1
本发明所述的玻璃基板1化学组成，以摩尔百分比计，包括69％的SiO2、5％的B2O3、11.5％的Al2O3、0.5％的ZnO、3％的MgO、7％的CaO、1％的SrO、3％的BaO，杨氏模量78.4GPa，50-350℃膨胀系数为37.3×10-7/℃。
所述玻璃基板1的制备工艺为常规的玻璃板制备工艺，例如溢流下拉法、狭缝下拉法、浮法等。在实施例1中所述玻璃基板1的厚度为0.1mm。
提供的载板2
所述载板2的化学组成，以摩尔百分比计，包括70％的SiO2、2％的B2O3、3％的P2O5、10％的Al2O3、0.1％的ZnO、5％的Na2O、0.1％的K2O、9.8％的Li2O，杨氏模量78.4GPa，50-350℃膨胀系数为37.3×10-7/℃；所述载板2的制备工艺为常规的玻璃板的制备工艺，例如溢流下拉法、狭缝下拉法、浮法等。在实施例1中所述载板2的厚度为0.4mm。
所述复合玻璃板的制备方法
步骤一：将所述玻璃基板1的贴合面与所述载板2的贴合面，贴合在一起；
步骤二：然后在将贴合在一起的所述玻璃基板1与所述载板2抽真空处理，以使所述玻璃基板1与所述载板2吸附在一起，即形成所述复合玻璃板。
在步骤二中，所述抽真空处理的真空度为-120mbar。所述复合玻璃板的性能参数及性能如表1和表2所示。
对比例1
在本对比例1中玻璃基板与实施例1中的玻璃基板相同。
对比例2
在本对比例1中玻璃基板的化学组成与实施例1中玻璃基板的组成相同，不同之处在于厚度，玻璃基板的厚度为0.5mm。
对比例3
在本对比例1中玻璃基板的化学组成与实施例1中玻璃基板的组成相同，不同之处在于厚度，玻璃基板的厚度为0.6mm。
对比例4
在本对比例1中玻璃基板的化学组成与实施例1中玻璃基板的组成相同，不同之处在于厚度，玻璃基板的厚度为0.7mm。
对比例5
在本对比例1中玻璃基板的化学组成与实施例1中玻璃基板的组成相同，不同之处在于厚度，玻璃基板的厚度为1.1mm。
对比例6-对比例8与实施例1的不同之处在于，玻璃基板与载板之间的吸附力、玻璃基板贴合面以及载板贴合面的粗糙度，具体参数及性能如表1和表2所示。
对比例9与实施例1不同之处在于，载板的化学组成、玻璃基板贴合面以及载板贴合面的粗糙度，具体参数及性能如表1和表2所示。
实施例2-实施例10与实施例1的不同之处在于载板的化学组成、玻璃基板与载板之间的吸附力、玻璃基板贴合面以及载板贴合面的粗糙度，具体参数及性能如表1和表2所示。
实施例11-实施例14中的玻璃基板与实施例1的不同之处在于载板的厚度、玻璃基板与载板之间的吸附力、玻璃基板贴合面以及载板贴合面的粗糙度，具体参数及性能如表1和表2所示。
实施例15-实施例17中的玻璃基板与实施例1的不同之处在于玻璃基板的厚度、载板的厚度、玻璃基板与载板之间的吸附力、玻璃基板贴合面以及载板贴合面的粗糙度，具体参数及性能如表1和表2所示。
实施例18-实施例20中的玻璃基板与实施例1的不同之处在于载板的化学组成、载板的厚度、玻璃基板与载板之间的吸附力、玻璃基板贴合面以及载板贴合面的粗糙度，具体参数及性能如表1和表2所示。
本发明所述的复合玻璃板刚度测试方法为三点弯曲法。试样长度、宽度分别为150mm、65mm，跨距为110mm，荷载为1000g，试样变形量表征所述复合玻璃板的刚度，变形量越大刚度越低。
所述玻璃基板、载板的粗糙度测试方法为GB T32642-2016。
表1 为载板的化学组成
表2 为性能测试结果
小结：根据本发明实施例1-实施例20所述的复合玻璃板，与现有技术中同等厚度的玻璃基板相比具有更小的三点弯曲变形量，因此本发明所述的复合玻璃板不易损坏刚度较强。另外，随着玻璃基板与所述载板之间的粗糙度增加，所述复合玻璃板的三点弯曲变形量增大，所述复合玻璃板的刚度减小。
现有技术中显示面板的薄化，由于厚度在0.2mm以下的玻璃基板刚度较小，不利于运输，通常将一定厚度的玻璃基板使用大量的氢氟酸侵蚀减薄之后在进行显示面板的制备。本发明所述的复合玻璃板可以用于制备显示面板，当所述复合玻璃板在完成显示面板成盒制程后，在真空或去除静电条件即可轻易的将所述载板从所述玻璃基板上取下，从而实现显示面板的薄化。所述载板从所述玻璃基板取下后还可以循环再利用，继续制备复合玻璃板。这样不仅节约成本，而且无需使用大量的氢氟酸，保证了工作人员的安全。
尽管以上结合附图对本发明的实施方案进行了描述，但本发明并不局限于上述的具体实施方案和应用领域，上述的具体实施方案仅仅是示意性的、指导性的，而不是限制性的。本领域的普通技术人员在本说明书的启示下和在不脱离本发明权利要求所保护的范围的情况下，还可以做出很多种的形式，这些均属于本发明保护之列。

Claims (12)

1.一种复合玻璃板，其特征在于，包括相互贴合的玻璃基板和载板，其中，所述玻璃基板和所述载板之间的吸附力为单位面积所述玻璃基板所受重力的2-25倍；优选为2-20倍，更优选为2-15倍。
所述载板的贴合面的粗糙度不大于100nm。
2.根据权利要求1所述的复合玻璃板，其特征在于，所述玻璃基板的贴合面的粗糙度不大于100nm。
3.根据权利要求1所述的复合玻璃板，其特征在于，所述载板的厚度不小于0.3mm，优选0.3-1mm。
4.根据权利要求1所述的复合玻璃板，其特征在于，所述玻璃基板的厚度不大于0.2mm，优选0.05-0.2mm。
5.根据权利要求1所述的复合玻璃板，其特征在于，所述玻璃基板的长度和宽度尺寸均小于所述载板的长度和宽度尺寸。
6.根据权利要求1所述的复合玻璃板，其特征在于，所述玻璃基板，以摩尔百分比计，包含如下组成：
SiO2：60-75％，B2O3：0-11％，Al2O3：3-20％，ZnO：0.1-3％，RO：10-30％，R2O：0-0.1％；
其中RO为MgO、CaO、SrO以及BaO中的任意一种或多种，R2O为Li2O、Na2O以及K2O中的任意一种或多种；
所述玻璃基板的杨氏模量大于60GPa，在50-350℃的膨胀系数小于43×10-7/℃。
7.根据权利要求1所述的复合玻璃板，其特征在于，所述载板，以摩尔百分比计，包含如下组成：
SiO2：65-85％，B2O3：0-11％，Al2O3：10-20％，ZnO：0.1-3％，RO：4.8-30％，R2O：0-0.1％；
其中RO为MgO、CaO、SrO以及BaO中的任意一种或多种，R2O为Li2O、Na2O以及K2O中的任意一种或多种；
所述载板的杨氏模量大于60GPa，在50-350℃的膨胀系数小于43×10-7/℃。
8.根据权利要求1所述的复合玻璃板，其特征在于，所述载板，以摩尔百分比计，包含如下组成：
SiO2：60-85％，B2O3：0-5％，P2O5：0-15％，Al2O3：10-25％，ZnO：0.01-3％，MgO：0-10％，R2O：2-29％；
其中R2O＝Li2O、Na2O以及K2O中的任意一种或多种；
所述载板的杨氏模量大于60GPa，在50-350℃的膨胀系数小于90×10-7/℃；优选地，所述载板可以进行化学强化；更进一步优选地，化学强化之后所述载板的离子交换深度DOL大于10μm且表面压缩应力CS大于500MPa。
9.根据权利要求1-8中任一项所述的复合玻璃板，其特征在于，所述载板为玻璃载板。
10.一种复合玻璃板的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：
将玻璃基板的贴合面与载板的贴合面，贴合在一起；
将贴合在一起的玻璃基板与载板抽真空处理和/或静电处理，以使所述玻璃基板与所述载板吸附在一起，即形成所述复合玻璃板。
11.根据权利要求10所述的复合玻璃板的制造方法，其特征在于，所述抽真空处理的真空度高于-100mbar，优选为-200～-750mbar，更优选为-300～-550mbar。
12.根据权利要求10所述的复合玻璃板的制造方法，其特征在于，所述静电处理的静电电压为5～80KV，优选为10～60KV，更优选为12～50KV。
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