CN111056752A - 显示面板用的玻璃基板组件和玻璃基板组件的制备方法 - Google Patents
显示面板用的玻璃基板组件和玻璃基板组件的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111056752A CN111056752A CN201911311378.2A CN201911311378A CN111056752A CN 111056752 A CN111056752 A CN 111056752A CN 201911311378 A CN201911311378 A CN 201911311378A CN 111056752 A CN111056752 A CN 111056752A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- glass substrate
- mol
- thin glass
- layer
- elastic layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 372
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 371
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 8
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 4
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 309
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 34
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 34
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 34
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 34
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 34
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 34
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 34
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 18
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 18
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000013001 point bending Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
- C03C27/06—Joining glass to glass by processes other than fusing
- C03C27/10—Joining glass to glass by processes other than fusing with the aid of adhesive specially adapted for that purpose
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
- C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
本发明涉及显示面板制造技术领域，公开了一种显示面板用的玻璃基板组件和玻璃基板组件的制备方法，所述玻璃基板组件(10)包括薄玻璃基板(12)以及能够支撑所述薄玻璃基板(12)的载板(14)，所述载板(14)具有能够与所述薄玻璃基板(12)相贴合的弹性面。该显示面板用的玻璃基板组件中的载板具有能够与薄玻璃基板相贴合的弹性面，这样，二者之间不仅可以相贴合，而且在去除载板的时候不易损伤薄玻璃基板。
Description
技术领域
本发明涉及显示面板制造技术领域，具体地涉及一种显示面板用的玻璃基板组件和玻璃基板组件的制备方法。
背景技术
随着人们对移动终端轻薄化要求日益提高，如应用于手机、可穿戴设备以及车载显示器的显示面板的轻薄化也成为趋势，因此用于制备显示面板的玻璃基板的也需要轻薄化。目前，为了得到轻薄化的显示面板，首先对玻璃基板进行曝光、蚀刻等一系列工艺以制备得到显示面板，之后，对构成显示面板的两片玻璃基板的表面进行减薄以使得显示面板变薄。而由于通常会选用化学的方式进行减薄，从而对环境污染较大，并且减薄之后还需要再清洗等步骤，使得轻薄化的显示面板的制造成本较高。
由此，越来越多的面板厂将薄玻璃基板承载在载板上，然后进行曝光、蚀刻等一系列工艺以制备显示，最后再将载板去除。薄玻璃基板和载板在贴合的过程中，薄玻璃基板极易被划伤，并且为了薄玻璃基板和载板牢固连接，通常选用粘结剂将二者粘结在一起，这样，在去除载板的过程中极易残留在薄玻璃基板上，这不仅为去除载板的作业带来了困难，而且残留的粘结剂也会影响显示面板的显示效果。
发明内容
本发明的目的是为了克服现有技术存在的用于制备显示面板的薄玻璃基板粘贴在载板上后去除载板的过程较为困难且易于对薄玻璃基板造成损伤的问题，提供一种显示面板用的玻璃基板组件，该显示面板用的玻璃基板组件中的载板具有能够与薄玻璃基板相贴合的弹性面，这样，二者之间不仅可以相贴合，而且在去除载板的时候不易损伤薄玻璃基板。
为了实现上述目的，本发明一方面提供一种显示面板用的玻璃基板组件，所述玻璃基板组件包括薄玻璃基板以及能够支撑所述薄玻璃基板的载板，所述载板具有能够与所述薄玻璃基板相贴合的弹性面。
在上述技术方案中，通过将载板设置为具有弹性面，从而使得薄玻璃基板与载板在真空环境即使得二者之间形成为真空环境后利用大气压力的挤压作用或是在静电作用下能够彼此相互贴合，同时还能够减少贴合过程中对薄玻璃基板的损坏，此外，在薄玻璃基板上进行沉积膜层等工艺步骤制备得到显示面板后，可将所述玻璃基板组件放置在真空环境下或是去除所述薄玻璃基板和所述载板之间的静电吸附力，从而便可将所述载板去除，不仅方便、易于操作，而且大大降低了去除所述载板时对所述薄玻璃基板的损伤。
优选地，所述载板包括弹性层和能够支撑所述弹性层的支撑层，其中：所述弹性层能够与所述薄玻璃基板相贴合。
优选地，所述弹性层上设置有贯穿所述弹性层的微孔。
优选地，所述微孔的孔径为0.1mm-2mm。
优选地，所述薄玻璃基板的厚度为不大于0.2mm；和/或
所述弹性层的厚度为0.05mm-0.5mm，所述支撑层的厚度为不小于0.3mm。
优选地，其特征在于，所述载板为透明件。
本发明第二方面提供一种玻璃基板组件的制备方法，所述玻璃基板组件包括薄玻璃基板以及能够支撑所述薄玻璃基板的载板，所述载板具有能够与所述薄玻璃基板相贴合的弹性面；
玻璃基板组件的制备方法包括：
步骤S10：将所述薄玻璃基板贴合在所述载板的所述弹性面上。
优选地，在所述步骤S10中，在真空氛围中，将所述薄玻璃基板和所述载板放置在真空氛围中以使得所述薄玻璃基板和所述弹性面之间形成真空环境，之后，将所述玻璃基板组件放置在常压下，所述薄玻璃基板和所述载板在大气压的挤压作用下彼此相互贴合。
优选地，真空氛围的真空度为不低于-80mbar。
优选地，在所述步骤S10中，使得所述薄玻璃基板和所述载板的所述弹性面进行静电贴合。
附图说明
图1是本发明优选实施方式的显示面板用的玻璃基板组件的正视结构示意图；
图2是本发明优选实施方式的显示面板用的玻璃基板组件的俯视结构示意图。
附图标记说明
10-玻璃基板组件；12-薄玻璃基板；14-载板；140-弹性层；142-支撑层。
具体实施方式
在本发明中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、左、右”通常是指结合附图和实际应用中所示的方位理解，“内、外”是指部件的轮廓的内、外。
本发明提供了一种显示面板用的玻璃基板组件，玻璃基板组件10包括薄玻璃基板12以及能够支撑薄玻璃基板12的载板14，载板14具有能够与薄玻璃基板12相贴合的弹性面。所述弹性面优选设置为在外力作用下能够与薄玻璃基板12相贴合，进一步的优选地，所述弹性面设置为在大气压力的挤压作用下或是在静电作用下能够与薄玻璃基板12相贴合，优选地，可将玻璃基板组件10置于真空氛围中后放置到常压下以受到大气压力。通过将载板14设置为具有弹性面，从而使得薄玻璃基板12与载板14在真空环境即使得二者之间形成为真空环境后利用大气压力的挤压作用或是在静电作用下能够彼此相互贴合，同时还能够减少贴合过程中对薄玻璃基板12的损坏，此外，在薄玻璃基板12上进行沉积膜层等工艺步骤制备得到显示面板后，可将玻璃基板组件10放置在真空环境下或是去除薄玻璃基板12和载板14之间的静电吸附力，从而便可将载板14去除，不仅方便、易于操作，而且大大降低了去除载板14时对薄玻璃基板12的损伤。其中，薄玻璃基板12的厚度优选为不大于0.2mm。另外，薄玻璃基板12可与载板14的形状尺寸相匹配或是载板14的尺寸大于薄玻璃基板12尺寸，从而使得载板14能够对薄玻璃基板12起到更好的支撑作用，更具体来讲，薄玻璃基板12可与所述弹性面的形状尺寸相匹配或是所述弹性面的尺寸大于薄玻璃基板12尺寸以使得二者之间进行更好的贴合。
需要说明的是，薄玻璃基板12可包括以下摩尔百分数的成分：60-70mol％的SiO2、1-8mol的％B2O3、5-15mol％的Al2O3、0.2-3mol％的ZnO、10-25mol％的碱土金属氧化物RO，其中RO为MgO、CaO、SrO、BaO中的一种或多种。薄玻璃基板12的杨氏模量优选大于65GPa，另外，在50-350℃的温度条件下时，膨胀系数小于43×10-7/℃。
为了使得薄玻璃基板12与载板14贴合的更加牢固并且使得薄玻璃基板12的表面平整，可使得薄玻璃基板12与载板14彼此之间的吸附力为薄玻璃基板12的单位面积即平方米上的所受重力的1.5-20倍；优选地，可使得薄玻璃基板12与载板14彼此之间的吸附力为薄玻璃基板12的单位面积即平方米上的所受重力的3-15倍；进一步优选地，可使得薄玻璃基板12与载板14彼此之间的吸附力为薄玻璃基板12的单位面积即平方米上的所受重力的5-10倍。需要说明的是，薄玻璃基板12的表面平整可利于显示面板的制备。
另外，需要说明的是，载板14优选为透明件，载板14的透光率优选为不小于90％，以便于显示面板的制备。还需要说明的是，薄玻璃基板12的透光率优选为不小于90％。为了显示面板的制备，玻璃基板组件10整体上优选为透明件，玻璃基板组件10的透光率优选为不小于90％。
结合图1和图2中所示，载板14可包括弹性层140和能够支撑弹性层140的支撑层142，其中：弹性层140能够与薄玻璃基板12相贴合，由此，可以理解的是，弹性层140的表面形成为所述弹性面，弹性层140的弹性模量优选为2-4GPa。需要指出的是，支撑层142的外边缘可超出弹性层140的外边缘2-10mm，弹性层140的外边缘可超出薄玻璃基板12的外边缘1-5mm。其中，弹性层140可由弹性材料制备获得，例如弹性层140可为无色透明的聚酰亚胺材料或硅树脂制备获得，弹性层140需在450℃下不变形。需要指出的是，薄玻璃基板12和弹性层140之间具有第一吸附力，弹性层140和支撑层142之间具有第二吸附力，第一吸附力可与第二吸附力相等。
优选地，支撑层142为玻璃材质。支撑层142可包括以下摩尔百分数的成分：65-78mol％的SiO2、1-8mol的％B2O3、5-20mol％的Al2O3、0.2-3mol％的ZnO、10-30mol％的碱土金属氧化物RO，其中：RO为MgO、CaO、SrO、BaO中的一种或多种。支撑层142的杨氏模量优选大于65GPa，另外，在50-350℃的温度条件下时，膨胀系数小于43×10-7/℃。
另外，弹性层140的厚度可优选为0.05mm-0.5mm，这样，保证了薄玻璃基板12与载板14之间能够贴合的更加牢固，进一步地，弹性层140的厚度可优选为0.05mm-0.3mm，进一步地，弹性层140的厚度可优选为0.05mm-0.2mm；另外，支撑层142的厚度可优选为不小于0.3mm，这样，能够使得载板14具有良好的支撑力以保证玻璃基板组件10的整体的强度。
为了使得薄玻璃基板12和载板14彼此之间能够更好的贴合，可在弹性层140上设置在厚度方向上贯穿弹性层140的微孔。
优选地，所述微孔的孔径为0.1mm-2mm；进一步优选地，所述微孔的孔径为0.1mm-1.5mm；更优选地，所述微孔的孔径为0.1mm-1mm。另外，所开设的微孔的总面积优选为弹性层140的总面积的0.01-1％，进一步优选地，所开设的微孔的总面积优选为弹性层140的总面积的0.01-0.3％。
本发明还提供了一种玻璃基板组件的制备方法，玻璃基板组件10包括薄玻璃基板12以及能够支撑薄玻璃基板12的载板14，载板14具有能够与薄玻璃基板12相贴合的弹性面，优选地，玻璃基板组件10为本发明所提供的玻璃基板组件10；玻璃基板组件的制备方法包括：步骤S10：将薄玻璃基板12贴合在载板14的所述弹性面上，优选地，可通过外力作用将薄玻璃基板12贴合在载板14的所述弹性面上。具体来讲，可将薄玻璃基板12贴合在弹性层140的贴合面即可，弹性层140的与薄玻璃基板12相贴合的面即为贴合面。其中，贴合的方式并不受到特别的限制，只要能够将薄玻璃基板12贴合在载板14的所述弹性面上即可。
在所述步骤S10中，优选地，将薄玻璃基板12和载板14放置在真空氛围中以使得薄玻璃基板12和所述弹性面之间形成真空环境，如前述内容中所述，载板14可包括弹性层140和能够支撑弹性层140的支撑层142，这样，将弹性层140叠放在支撑层142上，再将薄玻璃基板12放置在弹性层140上，在真空氛围中，彼此相邻的二者之间形成真空环境，可以理解的是，维持真空氛围即在持续抽真空的条件下，弹性层140和支撑层142以及薄玻璃基板12和弹性层140之间可形成真空环境；之后，将玻璃基板组件10放置在常压下，薄玻璃基板12和载板14在大气压的挤压作用下彼此可相互贴合，具体来讲，薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142在大气压的挤压作用下彼此相邻的二者之间可相互贴合。其中，薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142的材质以及厚度等参数在前述内容中被提及，此处不再一一赘述。可以理解的是，将薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142叠放在真空环境下，可使得相邻的二者之间形成为真空环境，这样，将玻璃基板组件10再放置在常压下后，在大气压力的作用下，相邻的二者之间可彼此相互贴合。
为了提高贴合效果并且不影响薄玻璃基板12的表面平整度，真空氛围的真空度优选为不低于-80mbar；进一步优选地，真空氛围的真空度为-550～-100mbar；更进一步优选地，真空氛围的真空度为-350～-200mbar。
另外，在所述步骤S10中，还可使得薄玻璃基板12和载板14的所述弹性面进行静电贴合，具体来讲，二者可在静电发生器的作用下进行贴合，如前述内容中所述，载板14可包括弹性层140和能够支撑弹性层140的支撑层142，这样，在静电发生器的作用下相邻的二者之间发生静电吸附从而使得相邻的二者之间彼此相互贴合。其中，向薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142所施加的静电电压优选为5-60KV，进一步优选地，所施加的静电电压可为10-50KV，更进一步优选地，所施加的静电电压可为12-40KV。
另外，为了提高贴合效果，玻璃基板组件的制备方法还包括步骤S00，在所述步骤S10之前，即在贴合之前，洁净薄玻璃基板12、弹性层140和支撑弹性层140的支撑层142，使得三者的贴合面的单位面积上的1μm的颗粒均不大于25个/m2。
下面将结合实施例进一步说明本申请的效果。
实施例
实施例1
利用下述步骤制备玻璃基板组件10，玻璃基板组件10的结构如图1中所示：
(1)将薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142放置在真空氛围中并将三者叠放好，其中，支撑层142位于底部，薄玻璃基板12位于顶部，弹性层140位于薄玻璃基板12和支撑层142之间；其中：薄玻璃基板12为透明的玻璃基板，薄玻璃基板12的厚度为0.1mm，薄玻璃基板12包括以下摩尔百分数的成分：69mol％的SiO2、5mol％的B2O3、11.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3mol％的MgO、7mol％的CaO、1mol％的SrO、3mol％的BaO，薄玻璃基板12的杨氏模量为78.4GPa，50-350℃温度下膨胀系数37.3×10-7/℃；弹性层140为透明的聚酰亚胺弹性层，弹性层140的厚度为0.05mm；支撑层142为透明的玻璃基板，支撑层142的组成成分、杨氏模量和膨胀系数与薄玻璃基板12相同，支撑层142的厚度为0.3mm；
(2)将叠放好的玻璃基板组件10放置在常压下，薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142彼此之间相互贴合。
实施例2
利用下述步骤制备玻璃基板组件10，玻璃基板组件10的结构如图1中所示：
(1)将薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142放置在真空氛围中并将三者叠放好，其中，支撑层142位于底部，薄玻璃基板12位于顶部，弹性层140位于薄玻璃基板12和支撑层142之间；其中：薄玻璃基板12为透明的玻璃基板，薄玻璃基板12的厚度为0.1mm，薄玻璃基板12包括以下摩尔百分数的成分：69mol％的SiO2、5mol％的B2O3、11.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3mol％的MgO、7mol％的CaO、1mol％的SrO、3mol％的BaO，薄玻璃基板12的杨氏模量为78.4GPa，50-350℃温度下膨胀系数37.3×10-7/℃；弹性层140为透明的聚酰亚胺弹性层，弹性层140的厚度为0.1mm；支撑层142为透明的玻璃基板，支撑层142包括以下摩尔百分数的成分：70.5mol％的SiO2、5.5mol的％B2O3、10.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3.5mol％的MgO、5.5mol％的CaO、1.5mol％的SrO、2.5mol％的BaO，支撑层142的杨氏模量为77GPa，在50-350℃温度下膨胀系数为38.2×10-7/℃，支撑层142的厚度为0.4mm；
(2)将叠放好的玻璃基板组件10放置在常压下，薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142彼此之间相互贴合。
实施例3
利用下述步骤制备玻璃基板组件10，玻璃基板组件10的结构如图1中所示：
(1)将薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142放置在真空氛围中并将三者叠放好，其中，支撑层142位于底部，薄玻璃基板12位于顶部，弹性层140位于薄玻璃基板12和支撑层142之间；其中：薄玻璃基板12为透明的玻璃基板，薄玻璃基板12的厚度为0.1mm，薄玻璃基板12包括以下摩尔百分数的成分：69mol％的SiO2、5mol％的B2O3、11.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3mol％的MgO、7mol％的CaO、1mol％的SrO、3mol％的BaO，薄玻璃基板12的杨氏模量为78.4GPa，50-350℃温度下膨胀系数37.3×10-7/℃；弹性层140为透明的聚酰亚胺弹性层，弹性层140的厚度为0.3mm；支撑层142为透明的玻璃基板，支撑层142包括以下摩尔百分数的成分：71mol％的SiO2、7.5mol的％B2O3、10.5mol％的Al2O3、1mol％的ZnO、4.5mol％的MgO、2.0mol％的CaO、2.0mol％的SrO、1.5mol％的BaO，支撑层142的杨氏模量为80GPa，在50-350℃温度下膨胀系数为39.8×10-7/℃，支撑层142的厚度为0.5mm；
(2)将叠放好的玻璃基板组件10放置在常压下，薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142彼此之间相互贴合。
实施例4
利用下述步骤制备玻璃基板组件10，玻璃基板组件10的结构如图1中所示：
(1)将薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142放置在真空氛围中并将三者叠放好，其中，支撑层142位于底部，薄玻璃基板12位于顶部，弹性层140位于薄玻璃基板12和支撑层142之间；其中：薄玻璃基板12为透明的玻璃基板，薄玻璃基板12的厚度为0.2mm，薄玻璃基板12包括以下摩尔百分数的成分：69mol％的SiO2、5mol％的B2O3、11.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3mol％的MgO、7mol％的CaO、1mol％的SrO、3mol％的BaO，薄玻璃基板12的杨氏模量为78.4GPa，50-350℃温度下膨胀系数37.3×10-7/℃；弹性层140为透明的聚酰亚胺弹性层，弹性层140的厚度为0.1mm；支撑层142为透明的玻璃基板，支撑层142的组成成分、杨氏模量和膨胀系数与薄玻璃基板12相同，支撑层142的厚度为0.3mm；
(2)将叠放好的玻璃基板组件10放置在常压下，薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142彼此之间相互贴合。
实施例5
利用下述步骤制备玻璃基板组件10，玻璃基板组件10的结构如图1中所示：
(1)将薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142放置在真空氛围中并将三者叠放好，其中，支撑层142位于底部，薄玻璃基板12位于顶部，弹性层140位于薄玻璃基板12和支撑层142之间；其中：薄玻璃基板12为透明的玻璃基板，薄玻璃基板12的厚度为0.2mm，薄玻璃基板12包括以下摩尔百分数的成分：69mol％的SiO2、5mol％的B2O3、11.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3mol％的MgO、7mol％的CaO、1mol％的SrO、3mol％的BaO，薄玻璃基板12的杨氏模量为78.4GPa，50-350℃温度下膨胀系数37.3×10-7/℃；弹性层140为透明的聚酰亚胺弹性层，弹性层140的厚度为0.05mm；支撑层142为透明的玻璃基板，支撑层142包括以下摩尔百分数的成分：70.5mol％的SiO2、5.5mol的％B2O3、10.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3.5mol％的MgO、5.5mol％的CaO、1.5mol％的SrO、2.5mol％的BaO，支撑层142的杨氏模量为77GPa，在50-350℃温度下膨胀系数为38.2×10-7/℃，支撑层142的厚度为0.4mm；
(2)将叠放好的玻璃基板组件10放置在常压下，薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142彼此之间相互贴合。
实施例6
利用下述步骤制备玻璃基板组件10，玻璃基板组件10的结构如图1中所示：
(1)将薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142放置在真空氛围中并将三者叠放好，其中，支撑层142位于底部，薄玻璃基板12位于顶部，弹性层140位于薄玻璃基板12和支撑层142之间；其中：薄玻璃基板12为透明的玻璃基板，薄玻璃基板12的厚度为0.2mm，薄玻璃基板12包括以下摩尔百分数的成分：69mol％的SiO2、5mol％的B2O3、11.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3mol％的MgO、7mol％的CaO、1mol％的SrO、3mol％的BaO，薄玻璃基板12的杨氏模量为78.4GPa，50-350℃温度下膨胀系数37.3×10-7/℃；弹性层140为透明的聚酰亚胺弹性层，弹性层140的厚度为0.05mm；支撑层142为透明的玻璃基板，支撑层142包括以下摩尔百分数的成分：71mol％的SiO2、7.5mol的％B2O3、10.5mol％的Al2O3、1mol％的ZnO、4.5mol％的MgO、2.0mol％的CaO、2.0mol％的SrO、1.5mol％的BaO，支撑层142的杨氏模量为80GPa，在50-350℃温度下膨胀系数为39.8×10-7/℃，支撑层142的厚度为0.5mm；
(2)将叠放好的玻璃基板组件10放置在常压下，薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142彼此之间相互贴合。
实施例7
利用下述步骤制备玻璃基板组件10，玻璃基板组件10的结构如图1中所示：
(1)将薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142放置在真空氛围中并将三者叠放好，其中，支撑层142位于底部，薄玻璃基板12位于顶部，弹性层140位于薄玻璃基板12和支撑层142之间；其中：薄玻璃基板12为透明的玻璃基板，薄玻璃基板12的厚度为0.2mm，薄玻璃基板12包括以下摩尔百分数的成分：69mol％的SiO2、5mol％的B2O3、11.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3mol％的MgO、7mol％的CaO、1mol％的SrO、3mol％的BaO，薄玻璃基板12的杨氏模量为78.4GPa，50-350℃温度下膨胀系数37.3×10-7/℃；弹性层140为透明的聚酰亚胺弹性层，弹性层140的厚度为0.05mm，弹性层140上设置有微孔，微孔的总面积为弹性层140的总面积的0.01％，微孔的孔径为0.1mm；支撑层142为透明的玻璃基板，支撑层142包括以下摩尔百分数的成分：71mol％的SiO2、7.5mol的％B2O3、10.5mol％的Al2O3、1mol％的ZnO、4.5mol％的MgO、2.0mol％的CaO、2.0mol％的SrO、1.5mol％的BaO，支撑层142的杨氏模量为80GPa，在50-350℃温度下膨胀系数为39.8×10-7/℃，支撑层142的厚度为0.5mm；
(2)将叠放好的玻璃基板组件10放置在常压下，薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142彼此之间相互贴合。
实施例8
利用下述步骤制备玻璃基板组件10，玻璃基板组件10的结构如图1中所示：
(1)将薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142放置在真空氛围中并将三者叠放好，其中，支撑层142位于底部，薄玻璃基板12位于顶部，弹性层140位于薄玻璃基板12和支撑层142之间；其中：薄玻璃基板12为透明的玻璃基板，薄玻璃基板12的厚度为0.2mm，薄玻璃基板12包括以下摩尔百分数的成分：69mol％的SiO2、5mol％的B2O3、11.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3mol％的MgO、7mol％的CaO、1mol％的SrO、3mol％的BaO，薄玻璃基板12的杨氏模量为78.4GPa，50-350℃温度下膨胀系数37.3×10-7/℃；弹性层140为透明的聚酰亚胺弹性层，弹性层140的厚度为0.05mm，弹性层140上设置有微孔，微孔的总面积为弹性层140的总面积的0.1％，微孔的孔径为1mm；支撑层142为透明的玻璃基板，支撑层142包括以下摩尔百分数的成分：71mol％的SiO2、7.5mol的％B2O3、10.5mol％的Al2O3、1mol％的ZnO、4.5mol％的MgO、2.0mol％的CaO、2.0mol％的SrO、1.5mol％的BaO，支撑层142的杨氏模量为80GPa，在50-350℃温度下膨胀系数为39.8×10-7/℃，支撑层142的厚度为0.5mm；
(2)将叠放好的玻璃基板组件10放置在常压下，薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142彼此之间相互贴合。
实施例9
利用下述步骤制备玻璃基板组件10，玻璃基板组件10的结构如图1中所示：
(1)将薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142放置在真空氛围中并将三者叠放好，其中，支撑层142位于底部，薄玻璃基板12位于顶部，弹性层140位于薄玻璃基板12和支撑层142之间；其中：薄玻璃基板12为透明的玻璃基板，薄玻璃基板12的厚度为0.2mm，薄玻璃基板12包括以下摩尔百分数的成分：69mol％的SiO2、5mol％的B2O3、11.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3mol％的MgO、7mol％的CaO、1mol％的SrO、3mol％的BaO，薄玻璃基板12的杨氏模量为78.4GPa，50-350℃温度下膨胀系数37.3×10-7/℃；弹性层140为透明的聚酰亚胺弹性层，弹性层140的厚度为0.05mm，弹性层140上设置有微孔，微孔的总面积为弹性层140的总面积的0.2％，微孔的孔径为2mm；支撑层142为透明的玻璃基板，支撑层142包括以下摩尔百分数的成分：71mol％的SiO2、7.5mol的％B2O3、10.5mol％的Al2O3、1mol％的ZnO、4.5mol％的MgO、2.0mol％的CaO、2.0mol％的SrO、1.5mol％的BaO，支撑层142的杨氏模量为80GPa，在50-350℃温度下膨胀系数为39.8×10-7/℃，支撑层142的厚度为0.5mm；
(2)将叠放好的玻璃基板组件10放置在常压下，薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142彼此之间相互贴合。
实施例10
利用下述步骤制备玻璃基板组件10，玻璃基板组件10的结构如图1中所示：
利用静电发生器使得薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142彼此之间产生静电吸附并使得彼此之间相互贴合，其中，支撑层142位于底部，薄玻璃基板12位于顶部，弹性层140位于薄玻璃基板12和支撑层142之间；其中：薄玻璃基板12为透明的玻璃基板，薄玻璃基板12的厚度为0.1mm，薄玻璃基板12包括以下摩尔百分数的成分：69mol％的SiO2、5mol％的B2O3、11.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3mol％的MgO、7mol％的CaO、1mol％的SrO、3mol％的BaO，薄玻璃基板12的杨氏模量为78.4GPa，50-350℃温度下膨胀系数37.3×10-7/℃；弹性层140为透明的聚酰亚胺弹性层，弹性层140的厚度为0.05mm；支撑层142为透明的玻璃基板，支撑层142的组成成分、杨氏模量和膨胀系数与薄玻璃基板12相同，支撑层142的厚度为0.3mm。
实施例11
利用下述步骤制备玻璃基板组件10，玻璃基板组件10的结构如图1中所示：
利用静电发生器使得薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142彼此之间产生静电吸附并使得彼此之间相互贴合，其中，支撑层142位于底部，薄玻璃基板12位于顶部，弹性层140位于薄玻璃基板12和支撑层142之间；其中：薄玻璃基板12为透明的玻璃基板，薄玻璃基板12的厚度为0.1mm，薄玻璃基板12包括以下摩尔百分数的成分：69mol％的SiO2、5mol％的B2O3、11.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3mol％的MgO、7mol％的CaO、1mol％的SrO、3mol％的BaO，薄玻璃基板12的杨氏模量为78.4GPa，50-350℃温度下膨胀系数37.3×10-7/℃；弹性层140为透明的聚酰亚胺弹性层，弹性层140的厚度为0.1mm；支撑层142为透明的玻璃基板，支撑层142包括以下摩尔百分数的成分：70.5mol％的SiO2、5.5mol的％B2O3、10.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3.5mol％的MgO、5.5mol％的CaO、1.5mol％的SrO、2.5mol％的BaO，支撑层142的杨氏模量为77GPa，在50-350℃温度下膨胀系数为38.2×10-7/℃，支撑层142的厚度为0.4mm。
实施例12
利用下述步骤制备玻璃基板组件10，玻璃基板组件10的结构如图1中所示：
利用静电发生器使得薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142彼此之间产生静电吸附并使得彼此之间相互贴合，其中，支撑层142位于底部，薄玻璃基板12位于顶部，弹性层140位于薄玻璃基板12和支撑层142之间；其中：薄玻璃基板12为透明的玻璃基板，薄玻璃基板12的厚度为0.2mm，薄玻璃基板12包括以下摩尔百分数的成分：69mol％的SiO2、5mol％的B2O3、11.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3mol％的MgO、7mol％的CaO、1mol％的SrO、3mol％的BaO，薄玻璃基板12的杨氏模量为78.4GPa，50-350℃温度下膨胀系数37.3×10-7/℃；弹性层140为透明的聚酰亚胺弹性层，弹性层140的厚度为0.05mm；支撑层142为透明的玻璃基板，支撑层142包括以下摩尔百分数的成分：71mol％的SiO2、7.5mol的％B2O3、10.5mol％的Al2O3、1mol％的ZnO、4.5mol％的MgO、2.0mol％的CaO、2.0mol％的SrO、1.5mol％的BaO，支撑层142的杨氏模量为80GPa，在50-350℃温度下膨胀系数为39.8×10-7/℃，支撑层142的厚度为0.5mm。
实施例13
利用下述步骤制备玻璃基板组件10，玻璃基板组件10的结构如图1中所示：
利用静电发生器使得薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142彼此之间产生静电吸附并使得彼此之间相互贴合，其中，支撑层142位于底部，薄玻璃基板12位于顶部，弹性层140位于薄玻璃基板12和支撑层142之间；其中：薄玻璃基板12为透明的玻璃基板，薄玻璃基板12的厚度为0.2mm，薄玻璃基板12包括以下摩尔百分数的成分：69mol％的SiO2、5mol％的B2O3、11.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3mol％的MgO、7mol％的CaO、1mol％的SrO、3mol％的BaO，薄玻璃基板12的杨氏模量为78.4GPa，50-350℃温度下膨胀系数37.3×10-7/℃；弹性层140为透明的聚酰亚胺弹性层，弹性层140的厚度为0.1mm；支撑层142为透明的玻璃基板，支撑层142的组成成分、杨氏模量和膨胀系数与薄玻璃基板12相同，支撑层142的厚度为0.3mm。
实施例14
利用静电发生器使得薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142彼此之间产生静电吸附并使得彼此之间相互贴合，其中，支撑层142位于底部，薄玻璃基板12位于顶部，弹性层140位于薄玻璃基板12和支撑层142之间；其中：薄玻璃基板12为透明的玻璃基板，薄玻璃基板12的厚度为0.2mm，薄玻璃基板12包括以下摩尔百分数的成分：69mol％的SiO2、5mol％的B2O3、11.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3mol％的MgO、7mol％的CaO、1mol％的SrO、3mol％的BaO，薄玻璃基板12的杨氏模量为78.4GPa，50-350℃温度下膨胀系数37.3×10-7/℃；弹性层140为透明的聚酰亚胺弹性层，弹性层140的厚度为0.05mm；支撑层142为透明的玻璃基板，支撑层142包括以下摩尔百分数的成分：70.5mol％的SiO2、5.5mol的％B2O3、10.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3.5mol％的MgO、5.5mol％的CaO、1.5mol％的SrO、2.5mol％的BaO，支撑层142的杨氏模量为77GPa，在50-350℃温度下膨胀系数为38.2×10-7/℃，支撑层142的厚度为0.4mm。
实施例15
利用静电发生器使得薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142彼此之间产生静电吸附并使得彼此之间相互贴合，其中，支撑层142位于底部，薄玻璃基板12位于顶部，弹性层140位于薄玻璃基板12和支撑层142之间；其中：薄玻璃基板12为透明的玻璃基板，薄玻璃基板12的厚度为0.2mm，薄玻璃基板12包括以下摩尔百分数的成分：69mol％的SiO2、5mol％的B2O3、11.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3mol％的MgO、7mol％的CaO、1mol％的SrO、3mol％的BaO，薄玻璃基板12的杨氏模量为78.4GPa，50-350℃温度下膨胀系数37.3×10-7/℃；弹性层140为透明的聚酰亚胺弹性层，弹性层140的厚度为0.05mm；支撑层142为透明的玻璃基板，支撑层142包括以下摩尔百分数的成分：71mol％的SiO2、7.5mol的％B2O3、10.5mol％的Al2O3、1mol％的ZnO、4.5mol％的MgO、2.0mol％的CaO、2.0mol％的SrO、1.5mol％的BaO，支撑层142的杨氏模量为80GPa，在50-350℃温度下膨胀系数为39.8×10-7/℃，支撑层142的厚度为0.5mm。
实施例16
利用静电发生器使得薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142彼此之间产生静电吸附并使得彼此之间相互贴合，其中，支撑层142位于底部，薄玻璃基板12位于顶部，弹性层140位于薄玻璃基板12和支撑层142之间；其中：薄玻璃基板12为透明的玻璃基板，薄玻璃基板12的厚度为0.2mm，薄玻璃基板12包括以下摩尔百分数的成分：69mol％的SiO2、5mol％的B2O3、11.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3mol％的MgO、7mol％的CaO、1mol％的SrO、3mol％的BaO，薄玻璃基板12的杨氏模量为78.4GPa，50-350℃温度下膨胀系数37.3×10-7/℃；弹性层140为透明的聚酰亚胺弹性层，弹性层140的厚度为0.05mm，弹性层140上设置有微孔，微孔的总面积为弹性层140的总面积的0.01％，微孔的孔径为0.1mm；支撑层142为透明的玻璃基板，支撑层142包括以下摩尔百分数的成分：71mol％的SiO2、7.5mol的％B2O3、10.5mol％的Al2O3、1mol％的ZnO、4.5mol％的MgO、2.0mol％的CaO、2.0mol％的SrO、1.5mol％的BaO，支撑层142的杨氏模量为80GPa，在50-350℃温度下膨胀系数为39.8×10-7/℃，支撑层142的厚度为0.5mm。
实施例17
利用静电发生器使得薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142彼此之间产生静电吸附并使得彼此之间相互贴合，其中，支撑层142位于底部，薄玻璃基板12位于顶部，弹性层140位于薄玻璃基板12和支撑层142之间；其中：薄玻璃基板12为透明的玻璃基板，薄玻璃基板12的厚度为0.2mm，薄玻璃基板12包括以下摩尔百分数的成分：69mol％的SiO2、5mol％的B2O3、11.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3mol％的MgO、7mol％的CaO、1mol％的SrO、3mol％的BaO，薄玻璃基板12的杨氏模量为78.4GPa，50-350℃温度下膨胀系数37.3×10-7/℃；弹性层140为透明的聚酰亚胺弹性层，弹性层140的厚度为0.05mm，弹性层140上设置有微孔，微孔的总面积为弹性层140的总面积的0.1％，微孔的孔径为1mm；支撑层142为透明的玻璃基板，支撑层142包括以下摩尔百分数的成分：71mol％的SiO2、7.5mol的％B2O3、10.5mol％的Al2O3、1mol％的ZnO、4.5mol％的MgO、2.0mol％的CaO、2.0mol％的SrO、1.5mol％的BaO，支撑层142的杨氏模量为80GPa，在50-350℃温度下膨胀系数为39.8×10-7/℃，支撑层142的厚度为0.5mm。
实施例18
利用静电发生器使得薄玻璃基板12、弹性层140和支撑层142彼此之间产生静电吸附并使得彼此之间相互贴合，其中，支撑层142位于底部，薄玻璃基板12位于顶部，弹性层140位于薄玻璃基板12和支撑层142之间；其中：薄玻璃基板12为透明的玻璃基板，薄玻璃基板12的厚度为0.2mm，薄玻璃基板12包括以下摩尔百分数的成分：69mol％的SiO2、5mol％的B2O3、11.5mol％的Al2O3、0.5mol％的ZnO、3mol％的MgO、7mol％的CaO、1mol％的SrO、3mol％的BaO，薄玻璃基板12的杨氏模量为78.4GPa，50-350℃温度下膨胀系数37.3×10-7/℃；弹性层140为透明的聚酰亚胺弹性层，弹性层140的厚度为0.05mm，弹性层140上设置有微孔，微孔的总面积为弹性层140的总面积的0.2％，微孔的孔径为2mm；支撑层142为透明的玻璃基板，支撑层142包括以下摩尔百分数的成分：71mol％的SiO2、7.5mol的％B2O3、10.5mol％的Al2O3、1mol％的ZnO、4.5mol％的MgO、2.0mol％的CaO、2.0mol％的SrO、1.5mol％的BaO，支撑层142的杨氏模量为80GPa，在50-350℃温度下膨胀系数为39.8×10-7/℃，支撑层142的厚度为0.5mm。
测试例
利用三点弯曲法和力学试验机测量不同厚度的单层玻璃基板以及上述各个实施例中的玻璃基板组件10的变形量，各个实施例中的玻璃基板组件10在不同真空度下贴合以及不同静电电压下贴合时的吸附力，以及各个部件的贴合面的1μm以上的颗粒数如下表1、表2和表3中所示，其中，薄玻璃基板12和弹性层140之间的吸附力与弹性层140和支撑层142之间的吸附力相同。
表1
| 单层玻璃基板厚度 | 三点弯曲变形量/mm |
| 0.3mm | 9.8 |
| 0.4mm | 8.2 |
| 0.5mm | 7.1 |
| 0.6mm | 5.3 |
| 0.7mm | 4.3 |
表2
表3
由此可以得知，玻璃基板组件10与厚度相近的单层玻璃基板的刚性基本相同，这样，玻璃基板组件10整体上满足显示面板的制备需求，当制备完显示面板后，将显示面板放在真空下或是除去静电以将载板14除去，去除过程方便，且不会对薄玻璃基板10造成损伤。
以上结合附图详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于此。在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，包括各个具体技术特征以任何合适的方式进行组合。为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。但这些简单变型和组合同样应当视为本发明所公开的内容，均属于本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种显示面板用的玻璃基板组件，其特征在于，所述玻璃基板组件(10)包括薄玻璃基板(12)以及能够支撑所述薄玻璃基板(12)的载板(14)，所述载板(14)具有能够与所述薄玻璃基板(12)相贴合的弹性面。
2.根据权利要求1所述的显示面板用的玻璃基板组件，其特征在于，所述载板(14)包括弹性层(140)和能够支撑所述弹性层(140)的支撑层(142)，其中：所述弹性层(140)能够与所述薄玻璃基板(12)相贴合。
3.根据权利要求2所述的显示面板用的玻璃基板组件，其特征在于，所述弹性层(140)上设置有贯穿所述弹性层(140)的微孔。
4.根据权利要求3所述的显示面板用的玻璃基板组件，其特征在于，所述微孔的孔径为0.1mm-2mm。
5.根据权利要求2所述的显示面板用的玻璃基板组件，其特征在于，所述薄玻璃基板(12)的厚度为不大于0.2mm；和/或
所述弹性层(140)的厚度为0.05mm-0.5mm，所述支撑层(142)的厚度为不小于0.3mm。
6.根据权利要求1所述的显示面板用的玻璃基板组件，其特征在于，其特征在于，所述载板(14)为透明件。
7.一种玻璃基板组件的制备方法，其特征在于，所述玻璃基板组件(10)包括薄玻璃基板(12)以及能够支撑所述薄玻璃基板(12)的载板(14)，所述载板(14)具有能够与所述薄玻璃基板(12)相贴合的弹性面；
玻璃基板组件的制备方法包括：
步骤S10：将所述薄玻璃基板(12)贴合在所述载板(14)的所述弹性面上。
8.根据权利要求7所述的玻璃基板组件的制备方法，其特征在于，在所述步骤S10中，将所述薄玻璃基板(12)和所述载板(14)放置在真空氛围中以使得所述薄玻璃基板(12)和所述弹性面之间形成真空环境，之后，将所述玻璃基板组件(10)放置在常压下，所述薄玻璃基板(12)和所述载板(14)在大气压的挤压作用下彼此相互贴合。
9.根据权利要求8所述的玻璃基板组件的制备方法，其特征在于，真空氛围的真空度为不低于-80mbar。
10.根据权利要求7所述的玻璃基板组件的制备方法，其特征在于，在所述步骤S10中，使得所述薄玻璃基板(12)和所述载板(14)的所述弹性面进行静电贴合。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201911311378.2A CN111056752B (zh) | 2019-12-18 | 2019-12-18 | 显示面板用的玻璃基板组件和玻璃基板组件的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201911311378.2A CN111056752B (zh) | 2019-12-18 | 2019-12-18 | 显示面板用的玻璃基板组件和玻璃基板组件的制备方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN111056752A true CN111056752A (zh) | 2020-04-24 |
| CN111056752B CN111056752B (zh) | 2023-12-22 |
Family
ID=70302299
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201911311378.2A Active CN111056752B (zh) | 2019-12-18 | 2019-12-18 | 显示面板用的玻璃基板组件和玻璃基板组件的制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN111056752B (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114436547A (zh) * | 2022-03-09 | 2022-05-06 | 长沙汇意圆科技有限公司 | 一种柔性玻璃制品制作加工方法 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102452207A (zh) * | 2010-10-28 | 2012-05-16 | 山太士股份有限公司 | 贴合光学基板与载板的方法及使用该方法的软性基板制程 |
| CN202753538U (zh) * | 2012-05-14 | 2013-02-27 | 浙江金徕镀膜有限公司 | 一种面板贴合工艺中使用的基板承载装置 |
| CN103270549A (zh) * | 2010-12-22 | 2013-08-28 | 优泊公司 | 静电吸附片材 |
| CN105271835A (zh) * | 2015-11-17 | 2016-01-27 | 湖南普照爱伯乐平板显示器件有限公司 | 一种柔性玻璃贴合方法 |
| CN106660855A (zh) * | 2014-09-03 | 2017-05-10 | 日本电气硝子株式会社 | 支承玻璃基板及使用其的层叠体 |
| JP2018014535A (ja) * | 2017-10-03 | 2018-01-25 | ショット グラス テクノロジーズ （スゾウ） カンパニー リミテッドＳｃｈｏｔｔ Ｇｌａｓｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ （Ｓｕｚｈｏｕ） Ｃｏ．， Ｌｔｄ． | 支持基板上の薄いガラスの結合物品、その製造方法およびその使用 |
| CN110497667A (zh) * | 2019-08-19 | 2019-11-26 | 东旭科技集团有限公司 | 一种复合玻璃板及其制造方法 |
-
2019
- 2019-12-18 CN CN201911311378.2A patent/CN111056752B/zh active Active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102452207A (zh) * | 2010-10-28 | 2012-05-16 | 山太士股份有限公司 | 贴合光学基板与载板的方法及使用该方法的软性基板制程 |
| CN103270549A (zh) * | 2010-12-22 | 2013-08-28 | 优泊公司 | 静电吸附片材 |
| CN202753538U (zh) * | 2012-05-14 | 2013-02-27 | 浙江金徕镀膜有限公司 | 一种面板贴合工艺中使用的基板承载装置 |
| CN106660855A (zh) * | 2014-09-03 | 2017-05-10 | 日本电气硝子株式会社 | 支承玻璃基板及使用其的层叠体 |
| CN105271835A (zh) * | 2015-11-17 | 2016-01-27 | 湖南普照爱伯乐平板显示器件有限公司 | 一种柔性玻璃贴合方法 |
| JP2018014535A (ja) * | 2017-10-03 | 2018-01-25 | ショット グラス テクノロジーズ （スゾウ） カンパニー リミテッドＳｃｈｏｔｔ Ｇｌａｓｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ （Ｓｕｚｈｏｕ） Ｃｏ．， Ｌｔｄ． | 支持基板上の薄いガラスの結合物品、その製造方法およびその使用 |
| CN110497667A (zh) * | 2019-08-19 | 2019-11-26 | 东旭科技集团有限公司 | 一种复合玻璃板及其制造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114436547A (zh) * | 2022-03-09 | 2022-05-06 | 长沙汇意圆科技有限公司 | 一种柔性玻璃制品制作加工方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN111056752B (zh) | 2023-12-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5029523B2 (ja) | ガラス積層体、支持体付き表示装置用パネル、表示装置用パネル、表示装置およびこれらの製造方法 | |
| JP5500076B2 (ja) | ガラス基板積層装置及び積層ガラス基板の製造方法 | |
| JP5794325B2 (ja) | 電子デバイス用ガラス基板の製造方法、及び、電子デバイス用カバーガラスの製造方法 | |
| JP5360073B2 (ja) | 電子デバイスの製造方法およびこれに用いる剥離装置 | |
| JP5887946B2 (ja) | 電子デバイスの製造方法、およびガラス積層体の製造方法 | |
| JP5842821B2 (ja) | 積層体、支持板付き表示装置用パネル、表示装置用パネル、および表示装置 | |
| JP6287070B2 (ja) | ガラスフィルム積層体を製造する方法及び電子・電気デバイスの製造方法 | |
| JP2014019597A (ja) | ガラスフィルムの製造方法及びガラスフィルム積層体 | |
| CN106935547B (zh) | 一种柔性显示装置的制作方法及柔性显示装置 | |
| US8023246B2 (en) | Electrostatic chuck and method of manufacturing the same | |
| US8785292B2 (en) | Anodic bonding method and method of producing acceleration sensor | |
| JPWO2010110087A1 (ja) | 電子デバイスの製造方法 | |
| WO2015046490A1 (ja) | フィルム状ガラスの製造方法、電子デバイスの製造方法、及びガラスフィルム積層体の製造方法 | |
| KR20230044023A (ko) | 유리 적층체, 전자 디바이스의 제조 방법, 유리 적층체의 제조 방법, 유리판 곤포체 | |
| CN111056752A (zh) | 显示面板用的玻璃基板组件和玻璃基板组件的制备方法 | |
| TW201628856A (zh) | 用於處理薄玻璃之方法及裝置 | |
| CN112046100B (zh) | 层叠基板、电子设备的制造方法、以及层叠基板的制造方法 | |
| KR102133780B1 (ko) | 적층판의 가공 방법, 가공된 적층판 | |
| JP7103163B2 (ja) | 積層体、導通チェック方法、および、電子デバイスの製造方法 | |
| CN112297586B (zh) | 显示面板用的层叠玻璃组件的分离方法 | |
| JP2015223810A (ja) | 樹脂層付き支持基板およびガラス積層体 | |
| KR20150138048A (ko) | 유리 적층체 및 그 제조 방법, 전자 디바이스의 제조 방법 | |
| CN117021705A (zh) | 一种超薄玻璃贴合玻璃板及其制备方法 | |
| CN115985986A (zh) | 一种宽温域柔性太阳电池组件及制备方法 | |
| KR20090111390A (ko) | 진공척용 진공패드 및 그 제작방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |
Denomination of invention: Glass substrate components for display panels and their preparation methods Granted publication date: 20231222 Pledgee: Hengshui Bank Co.,Ltd. Pledgor: TUNGHSU GROUP Co.,Ltd. Registration number: Y2024980031973 |
|
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |