CN107207322A - 玻璃 - Google Patents
玻璃 Download PDFInfo
- Publication number
- CN107207322A CN107207322A CN201680009894.8A CN201680009894A CN107207322A CN 107207322 A CN107207322 A CN 107207322A CN 201680009894 A CN201680009894 A CN 201680009894A CN 107207322 A CN107207322 A CN 107207322A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- glass
- less
- mgo
- content
- cao
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 110
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 28
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 11
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 28
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 13
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 9
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 7
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N SnO2 Inorganic materials O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910019603 Rh2O3 Inorganic materials 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N Arsenious Acid Chemical compound O1[As]2O[As]1O2 GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000006066 glass batch Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N oxo(oxolanthaniooxy)lanthanum Chemical compound O=[La]O[La]=O KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N antimony(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sb+3].[Sb+3] GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 229910052571 earthenware Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
- G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
- G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
- G09F9/301—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements flexible foldable or roll-able electronic displays, e.g. thin LCD, OLED
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
- H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
本发明提供一种耐热性高、热膨胀系数低、且生产性优异的玻璃,所述玻璃的特征在于,作为玻璃组成以摩尔%计含有SiO2 55~80%、Al2O3 12~30%、B2O3 0~3%、Li2O+Na2O+K2O 0~1%、MgO+CaO+SrO+BaO 5~35%,且在30~380℃的温度范围的热膨胀系数不足40×10-7/℃。
Description
技术领域
本发明涉及一种玻璃,尤其涉及适合于有机显示器、液晶显示器的基板的无碱玻璃。
背景技术
有机EL显示器等电子器件由于薄型、动画显示优异并且消耗电力也以及用于移动电话的显示器等用途。
作为有机EL显示器的基板,广泛使用玻璃基板。在该用途的玻璃基板中使用无碱玻璃(玻璃组成中的碱成分的含量为0.5摩尔%以下的玻璃)。由此可以防止碱离子扩散到利用热处理工序成膜的半导体物质中的情况。
发明内容
发明要解决的课题
对该用途的无碱玻璃要求例如以下的要求特性(1)~(3)。
(1)为了使玻璃基板低廉化,要求生产率优异、尤其是耐失透性或熔融性优异。
(2)在p-Si·TFT、尤其是高温p-Si等的制造工序中,为了降低玻璃基板的热收缩,要求应变点高。
(3)为了与在玻璃基板上所成膜的构件(例如p-Si)的热膨胀系数匹配,要求具有低热膨胀系数。
但是,不容易兼顾上述要求特性(1)和(2)。即,若要提高无碱玻璃的应变点,则耐失透性和熔融性容易降低,反之,若要提高无碱玻璃的耐失透性和熔融性,则应变点容易降低。
另外,还不容易兼顾上述要求特性(1)和(3)。即,若要降低无碱玻璃的热膨胀系数,则耐失透性和熔融性容易降低,反之,若要提高无碱玻璃的耐失透性和熔融性,则热膨胀系数容易上升。
另外,在显示器的薄型化中一般使用玻璃基板的化学蚀刻。该方法是通过使贴合有2片玻璃基板的显示器面板浸渍于HF(氢氟酸)系药液来薄化玻璃基板的方法。因此,在进行玻璃基板的化学蚀刻的情况下,除了要求特性(1)~(3)外,为了提高显示器面板的生产效率,还要求使利用HF的蚀刻速率较高。
进而,为了抑制因玻璃基板的挠曲所致的不良情况,还要求使杨氏模量(或比杨氏模量)较高。
本发明是鉴于上述情况完成的发明,其技术课题在于发明耐热性高、热膨胀系数低、而且生产率优异的玻璃。
用于解决课题的手段
本发明人反复进行各种实验,结果发现可以通过将玻璃组成限制在规定范围来解决上述技术的课题,从而提出了本发明。即,本发明的玻璃,其特征在于,作为玻璃组成以摩尔%计含有SiO2 55~80%、Al2O3 12~30%、B2O3 0~3%、Li2O+Na2O+K2O 0~1%、MgO+CaO+SrO+BaO 5~35%,且在30~380℃的温度范围的热膨胀系数不足40×10-7/℃。在此,“Li2O+Na2O+K2O”是指Li2O、Na2O及K2O的总量。“MgO+CaO+SrO+BaO”是指MgO、CaO、SrO及BaO的总量。“在30~380℃的温度范围的热膨胀系数”是指利用热膨胀仪测定得到的平均值。
本发明的玻璃在玻璃组成中将Al2O3限制为12摩尔%以上、将玻璃组成中的B2O3的含量限制为3摩尔%以下、且将Li2O+Na2O+K2O的含量限制为1摩尔%以下。这样一来,应变点显著上升,可以大幅提高玻璃基板的耐热性。进而容易降低热膨胀系数。
另外,本发明的玻璃在玻璃组成中包含5~25摩尔%的MgO+CaO+SrO+BaO。这样一来,可以提高耐失透性。
第二,本发明的玻璃的B2O3的含量优选为不足1摩尔%。
第三,本发明的玻璃的Li2O+Na2O+K2O的含量优选为0.5摩尔%以下。
第四,本发明的玻璃的摩尔比(MgO+CaO+SrO+BaO)/Al2O3优选为0.3~3。在此,“(MgO+CaO+SrO+BaO)/Al2O3”为MgO、CaO、SrO及BaO的总量除以Al2O3的含量所得的值。
第五,本发明的玻璃的摩尔比MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)优选为0.5以上。在此,“MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)”为MgO的含量除以MgO、CaO、SrO及BaO的总量所得的值。
第六,本发明的玻璃的应变点优选为750℃以上。在此,“应变点”是指基于ASTMC336的方法测定得到的值。
第七,本发明的玻璃的应变点优选为800℃以上。
第八,本发明的玻璃的(在102.5dPa·s时的温度-应变点)优选为1000℃以下。在此,“在高温粘度102.5dPa·s时的温度”是指利用铂球上拉法测定得到的值。
第九,本发明的玻璃在102.5dPa·s的粘度时的温度优选为1800℃以下。
第十,本发明的玻璃优选为平板形状。
第十一,本发明的玻璃优选用于有机EL显示器的基板。
具体实施方式
本发明的玻璃作为玻璃组成以摩尔%计含有SiO2 55~80%、Al2O3 12~30%、B2O30~3%、Li2O+Na2O+K2O 0~3%、MgO+CaO+SrO+BaO 5~35%。以下对如上述那样限制各成分的含量的理由进行说明。予以说明,在各成分的说明中,下述的%表示是指摩尔%。
SiO2的适合的下限范围为55%以上、58%以上、60%以上、65%以上,尤其是68%以上,适合的上限范围优选为80%以下、75%以下、73%以下、72%以下、71%以下,特别优选为70%以下。若SiO2的含量过少,则容易产生由包含Al2O3的失透结晶所致的缺陷,并且应变点容易降低。另外,高温粘度降低,液相粘度容易降低。另一方面,若SiO2的含量过多,则热膨胀系数不当地降低,而且高温粘度变高,容易产生熔融性的降低,进而容易产生包含SiO2的失透结晶等。
Al2O3的适合的下限范围为11%以上、12%以上、13%以上、14%以上,尤其是15%以上,适合的上限范围为30%以下、25%以下、20%以下、17%以下,尤其是16%以下。若Al2O3的含量过少,则杨氏模量降低,或者应变点容易降低,或者高温粘性变高而使熔融性容易降低。另一方面,若Al2O3的含量过多,则容易产生包含Al2O3的失透结晶。
从兼顾高应变点和高耐失透性的观点出发,摩尔比SiO2/Al2O3优选为2~6、3~5.5、3.5~5.5、4~5.5、4.5~5.5,特别优选为4.5~5。予以说明,“SiO2/Al2O3”为SiO2的含量除以Al2O3的含量所得的值。
B2O3的适合的上限范围为3%以下、1%以下、不足1%,尤其是0.1%以下。若B2O3的含量过多,则存在使应变点大幅降低或杨氏模量大幅降低的风险。
Li2O+Na2O+K2O的适合的上限范围为1%以下、1%不足、0.5%以下,尤其是0.2%以下。若Li2O+Na2O+K2O的含量过多,则在高温p-Si工序等中碱离子扩散到半导体物质中而使半导体特性容易降低。予以说明,Li2O、Na2O及K2O的适合的上限范围分别为1%以下、不足1%、0.5%以下、0.3%以下,尤其是0.2%以下。
MgO+CaO+SrO+BaO的适合的下限范围为5%以上、7%以上、9%以上、11%以上、13%以上,尤其是14%以上,适合的上限范围为35%以下、30%以下、25%以下、20%以下、18%以下、17%以下,尤其是16%以下。若MgO+CaO+SrO+BaO的含量过少,则液相温度大幅上升而在玻璃中容易产生失透结晶,或者高温粘性变高而使熔融性容易降低。另一方面,若MgO+CaO+SrO+BaO的含量过多,则应变点容易降低,并且容易产生包含碱土元素的失透结晶。
MgO的适合的下限范围为0%以上、1%以上、2%以上、3%以上、4%以上、5%以上,尤其是6%以上,适合的上限范围为15%以下、10%以下、8%以下,尤其是7%以下。若MgO的含量过少,则熔融性容易降低,或者包含碱土元素的结晶的失透性容易变高。另一方面,若MgO的含量过多,则促进包含Al2O3的失透结晶的析出而使液相粘度降低,或者使应变点大幅降低。予以说明,MgO具有提高杨氏模量的效果,在碱土氧化物中,其效果最显著。
CaO的适合的下限范围为2%以上、3%以上、4%以上、5%以上、6%以上,尤其是7%以上,适合的上限范围为20%以下、15%以下、12%以下、11%以下、10%以下,尤其是9%以下。若CaO的含量过少,则熔融性容易降低。另一方面,若CaO的含量过多,则液相温度上升而在玻璃中容易产生失透结晶。予以说明,与其他碱土氧化物相比,CaO的不降低应变点而改善液相粘度的效果和提高熔融性的效果较大。另外,CaO虽然略逊色于MgO,但是是对高杨氏模量化有效的成分。
SrO的适合的下限范围为0%以上、1%以上,尤其是2%以上,适合的上限范围为10%以下、8%以下、7%以下、6%以下、5%以下,尤其是4%以下。若SrO的含量过少,则应变点容易降低。另一方面,若SrO的含量过多,则液相温度上升而在玻璃中容易产生失透结晶。另外,熔融性容易降低。进而,若在与CaO的共存下使SrO的含量增多,则存在使耐失透性降低的倾向。
BaO的适合的下限范围为0%以上、1%以上、2%以上、3%以上,尤其是4%以上,适合的上限范围为15%以下、12%以下、11%以下,尤其是10%以下。若BaO的含量过少,则应变点或热膨胀系数容易降低。另一方面,若BaO的含量过多,则液相温度上升而在玻璃中容易产生失透结晶。另外,熔融性容易降低。予以说明,BaO是在碱土金属氧化物中降低杨氏模量的效果最高的元素,因此从高杨氏模量化的观点出发,需要尽可能地抑制含量或在含量多的情况下设计成与MgO共存。
从提高耐失透性的观点出发,摩尔比MgO/CaO的下限范围优选为0.1以上、0.2以上、0.3以上,特别优选为0.4以上,上限范围优选为2以下、1以下、0.8以下、0.7以下,特别优选为0.6以下。予以说明,“MgO/CaO”是指MgO的含量除以CaO的含量所得的值。
从提高耐失透性的观点出发,摩尔比BaO/CaO的下限范围优选为0.2以上、0.5以上、0.6以上、0.7以上,特别优选为0.8以上,上限范围优选为5以下、4.5以下、3以下、2.5以下,特别优选为2以下。予以说明,“BaO/CaO”是指BaO的含量除以CaO的含量所得的值。
若鉴于应变点与熔融性的平衡,则摩尔比(MgO+CaO+SrO+BaO)/Al2O3的下限范围优选为0.3以上、0.5以上、0.7以上,特别优选为0.8以上,上限范围优选为3.0以下、2.5以下、2.0以下、1.5以下、1.2以下,特别优选为1.1以下。
摩尔比MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)优选为0.1以上、0.2以上、0.3以上、0.4以上、0.5以上,特别优选为0.6以上。这样一来,熔融性容易提高。另一方面,MgO是大幅降低应变点的成分,在MgO的含量少的区域,降低应变点的效果显著。因此,优选使碱土金属氧化物中的MgO的含有比例较少的情况,摩尔比MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)优选为0.8以下,特别优选为0.7以下。
7×[MgO]+5×[CaO]+4×[SrO]+4×[BaO]优选为100%以下、90%以下、80%以下、70%以下、65%以下,特别优选为60%以下。碱土金属元素均具有降低应变点的效果,离子半径越小的元素,该影响越大。因此,若按照增大离子半径大的碱土元素的比例的方式限制7×[MgO]+5×[CaO]+4×[SrO]+4×[BaO]的上限范围,则可以优先提供应变点。予以说明,[MgO]是指MgO的含量,[CaO]是指CaO的含量,[SrO]是指SrO的含量,[BaO]是指BaO的含量。而且,“7×[MgO]+5×[CaO]+4×[SrO]+4×[BaO]”是指7倍的[MgO]、5倍的[CaO]、4倍的[SrO]及4倍的[BaO]的总量。
21×[MgO]+20×[CaO]+15×[SrO]+12×[BaO]优选为200%以上、210%以上、220%以上、230%以上、240%以上、250%以上,特别优选为300~1000%。碱土金属元素均具有提高熔融性的效果,离子半径越小的元素,该影响越大。因此,若按照减小离子半径小的碱土元素的比例的方式限制21×[MgO]+20×[CaO]+15×[SrO]+12×[BaO]的下限范围,则可以优先提高熔融性。但是,若21×[MgO]+20×[CaO]+15×[SrO]+12×[BaO]过大,则存在使应变点降低的风险。予以说明,“21×[MgO]+20×[CaO]+15×[SrO]+12×[BaO]”是指21倍的[MgO]、20倍的[CaO]、15倍的[SrO]及12倍的[BaO]的总量。
根据本发明人的调查,若Al2O3的含量多且增大离子半径小的碱土元素的比例(尤其增多MgO的含量且减少BaO的含量),则可以有效地提高杨氏模量。因此,9×[Al2O3]+7×[MgO]-4×[BaO]优选为95%以上、105%以上、115%以上、125%以上,特别优选为135%以上。予以说明,“9×[Al2O3]+7×[MgO]-4×[BaO]”是指从9倍的[Al2O3]与7倍的[MgO]的总量中减去4倍的[BaO]所得的量。
[MgO]+[CaO]+3×[SrO]+4×[BaO]优选为27%以下、26%以下、25%以下、24%以下,特别优选为23%以下。若[MgO]+[CaO]+3×[SrO]+4×[BaO]过大,则密度容易上升,因此比杨氏模量降低,由自重所致的挠曲量容易增大。予以说明,“[MgO]+[CaO]+3×[SrO]+4×[BaO]”是指[MgO]、[CaO]、3倍的[SrO]及4倍的[BaO]的总量。
除上述成分以外,还可以将以下的成分引入到玻璃组成中。
ZnO是提高熔融性的成分,但是,若在玻璃组成中含有大量ZnO,则玻璃容易失透,并且应变点容易降低。因此,ZnO的含量优选为0~5%、0~3%、0~0.5%、0~0.3%,特别优选为0~0.1%。
ZrO2是提高杨氏模量的成分。ZrO2的含量优选为0~5%、0~3%、0~0.5%、0~0.2%,特别优选为0~0.02%。若ZrO2的含量过多,则液相温度上升而容易析出锆石的失透结晶。
TiO2是降低高温粘性而提高熔融性的成分,并且是抑制暴晒作用(solarization)的成分,若在玻璃组成中含有大量TiO2,则玻璃容易着色。因此,TiO2的含量优选为0~5%、0~3%、0~1%、0~0.1%,特别优选为0~0.02%。
P2O5是提高耐失透性的成分,若在玻璃组成中含有大量P2O5,则玻璃容易分相而变得乳白,并且存在耐水性大幅降低的风险。因此,P2O5的含量优选为0~5%、0~4%、0~3%、0以上且不足2%、0~1%、0~0.5%,特别优选为0~0.1%。
SnO2是在高温区域具有良好的澄清作用的成分,并且是降低高温粘性的成分。SnO2的含量优选为0~1%、0.01~0.5%、0.01~0.3%,特别优选为0.04~0.1%。若SnO2的含量过多,则容易析出SnO2的失透结晶。
如上所述,本发明的玻璃适合添加SnO2作为澄清剂,但是,只要不损害玻璃特性,则也可以添加直至1%为止的CeO2、SO3、C、金属粉末(例如Al、Si等)作为澄清剂。
As2O3、Sb2O3、F、Cl也作为澄清剂有效地发挥作用,本发明的玻璃并不排除含有这些成分,但是从环境的观点出发,这些成分的含量分别优选为不足0.1%,特别优选为不足0.05%。
在包含0.01~0.5%SnO2的情况下,若Rh2O3的含量过多,则玻璃容易着色。予以说明,Rh2O3具有从铂的制造容器混入的可能性。Rh2O3的含量优选为0~0.0005%、更优选为0.00001~0.0001%。
SO3是作为杂质从原料混入的成分,若SO3的含量过多,则在熔融或成形中产生被称作再沸的气泡,而存在在玻璃中产生缺陷的风险。SO3的适合的下限范围为0.0001%以上,适合的上限范围为0.005%以下、0.003%以下、0.002%以下,尤其为0.001%以下。
稀土氧化物(Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu等的氧化物)的含量优选为不足2%、1%以下,特别优选为不足1%。尤其是La2O3+Y2O3的含量优选为不足2%、不足1%、不足0.5%,特别优选为不足0.1%。La2O3的含量优选为不足2%、不足1%、不足0.5%,特别优选为不足0.1%。若稀土氧化物的含量过多,则批料成本容易增加。予以说明,“Y2O3+La2O3”为Y2O3与La2O3的总量。
本发明的玻璃优选具有以下的特性。
密度优选为2.80g/cm3以下、2.70g/cm3以下、2.60g/cm3以下,特别优选为2.50g/cm3以下。若密度过高,则难以达成显示器的轻质化。
在30~380℃的温度范围的热膨胀系数优选为不足40×10-7/℃、38×10-7/℃以下、36×10-7/℃以下、34×10-7/℃以下,特别优选为28×10-7~33×10-7/℃。若在30~380℃的温度范围的热膨胀系数过高,则难以与在玻璃基板上所成膜的构件(例如、p-Si)的热膨胀系数匹配,在玻璃基板上容易产生翘曲。
应变点优选为750℃以上、780℃以上、800℃以上、810℃以上、820℃以上,特别优选为830~1000℃。若应变点过低,则在热处理工序中玻璃基板容易发生热收缩。
杨氏模量优选超过75GPa、77GPa以上、78GPa以上、79GPa以上,特别优选为80GPa以上。若杨氏模量过低,则容易产生由玻璃基板的挠曲所致的不良情况、例如电子器件的图像面看似变形等的不良情况。
比杨氏模量优选为超过30GPa/(g/cm3)、30.2GPa/(g/cm3)以上、30.4GPa/(g/cm3)以上、30.6GPa/(g/cm3)以上,特别优选为30.8GPa/(g/cm3)以上。若比杨氏模量过低,则因玻璃基板的挠曲而在玻璃基板的运送时容易产生破裂等不良情况。
在10质量%HF水溶液中且室温下浸渍30分钟时的蚀刻深度优选为25μm以上、27μm以上、28μm以上、29~50μm,特别优选为30~45μm。该蚀刻深度成为蚀刻速率的指标。即,若蚀刻深度大,则蚀刻速率快,若蚀刻深度小,则蚀刻速率慢。予以说明,若减少SiO2的含量,则容易使蚀刻速率高速化,即使在碱土金属内优先引入离子半径大的元素,也容易使蚀刻速率高速化。
本发明的SiO2-Al2O3-RO(RO是指碱土金属氧化物)系玻璃一般难以熔融。因此,熔融性的提高成为课题。若提高熔融性,则减轻由气泡、异物等所致的不良率,因此可以大量且廉价地供给高品质的玻璃基板。另一方面,若高温粘度过高,则在熔融工序中难以促进脱泡。因此,在高温粘度102.5dPa·s时的温度优选为1800℃以下、1750℃以下、1700℃以下、1680℃以下、1670℃以下、1650℃以下,特别优选为1630℃以下。予以说明,在高温粘度102.5dPa·s时的温度相当于熔融温度,该温度越低,熔融性越优异。
从兼顾高应变点和低熔融温度的观点出发,(在102.5dPa·s时的温度-应变点)优选为1000℃以下、900℃以下、850℃以下,特别优选为800℃以下。
在成形为平板形状的情况下,耐失透性较为重要。若考虑本发明的SiO2-Al2O3-RO系玻璃的成形温度,则液相温度优选为1450℃以下、1400℃以下,特别优选为1300℃以下。另外,液相粘度优选为103.0dPa·s以上、103.5dPa·s以上,特别优选为104.0dPa·s以上。予以说明,“液相温度”是指:将通过标准筛30目(500μm)且残留在50目(300μm)的玻璃粉末放入铂舟中,在梯温炉中保持24小时,并对结晶析出的温度进行测定得到的值。“液相粘度”是指利用铂球上拉法测定在液相温度的玻璃的粘度所得的值。
本发明的玻璃可以利用各种成形方法来成形。例如可以利用溢流下拉法、流孔下引法、重新下引法、浮法、轧平法等成形玻璃基板。予以说明,若利用溢流下拉法成形玻璃基板,则容易制作表面平滑性高的玻璃基板。
在本发明的玻璃为平板形状的情况下,其板厚优选为1.0mm以下、0.7mm以下、0.5mm以下,特别优选为0.4mm以下。板厚越小,则容易将电子器件轻质化。另一方面,板厚越小,玻璃基板越容易挠曲,本发明的玻璃由于杨氏模量或比杨氏模量高,因此不易产生由挠曲所致的不良情况。予以说明,板厚可以利用成形时的流量或板提拉速度等来调整。
在本发明的玻璃中,若降低β-OH值,则可以提高应变点。β-OH值优选为0.45/mm以下、0.40/mm以下、0.35/mm以下、0.30/mm以下、0.25/mm以下、0.20/mm以下,特别优选为0.15/mm以下。若β-OH值过大,则应变点容易降低。予以说明,若β-OH值过小,则熔融性容易降低。因此β-OH值优选为0.01/mm以上,特别优选为0.05/mm以上。
作为降低β-OH值的方法,可列举以下的方法。(1)选择含水量低的原料。(2)添加使玻璃中的水分量减少的成分(Cl、SO3等)。(3)降低炉内气氛中的水分量。(4)在熔融玻璃中进行N2鼓泡。(5)采用小型熔融炉。(6)加快熔融玻璃的流量。(7)采用电熔融法。
在此,“β-OH值”是指:使用FT-IR测定玻璃的透射率,并使用下述的式子求得的值。
β-OH值=(1/X)log(T1/T2)
X:玻璃壁厚(mm)
T1:在参照波长3846cm-1下的透射率(%)
T2:在羟基吸收波长3600cm-1附近的最小透射率(%)
实施例
以下,基于实施例对本发明进行详细地说明。予以说明,以下的实施例仅仅为例示。本发明并不受以下实施例的任何限定。
表1~4表示本发明的实施例(试样No.1~58)。
【表1】
[表1]
[表2]
[表3]
[表4]
按照以下方式制作各试样。首先,将按照表中的玻璃组成调合玻璃原料的玻璃批料加入到铂坩堝中,在1600~1750℃下熔融24小时。在玻璃批料熔解时,使用铂搅拌器进行搅拌,并进行均质化。接着,将熔融玻璃流出至碳板上,成形为平板形状。对所得的各试样评价了密度ρ、热膨胀系数α、应变点Ps、退火点Ta、软化点Ts、在高温粘度104.0dPa·s时的温度、在高温粘度103.0dPa·s时的温度、在高温粘度102.5dPa·s时的温度、液相温度TL、液相粘度logηTL。
密度ρ为利用公知的阿基米德法测定得到的值。
热膨胀系数α是在30~380℃的温度范围利用热膨胀仪测定得到的平均值。
应变点Ps、退火点Ta、软化点Ts是依据ASTM C336或ASTM C338测定得到的值。
在高温粘度104.0dPa·s时的温度、在高温粘度103.0dPa·s时的温度、在高温粘度102.5dPa·s时的温度是利用铂球上拉法测定得到的值。
液相温度TL是:将粉碎各试样并通过标准筛30目(500μm)且残留在50目(300μm)的玻璃粉末加入到铂舟中,在梯温炉中保持24小时后,取出铂舟,在玻璃中确认到失透(失透结晶)的温度。液相粘度logηTL是利用铂球上拉法测定在液相温度TL的玻璃的粘度所得的值。
β-OH值是根据上述式计算所得的值。
由表1~4可知:在试样No.1~58中,应变点高,热膨胀系数低,具备能够批量生产的熔融性和耐失透性。因此认为试样No.1~58适合作为有机EL显示器的基板。
产业上的可利用性
就本发明的玻璃而言,应变点高,热膨胀系数低,并且具有能够批量生产的熔融性和耐失透性。因此,除有机EL显示器的基板以外,本发明的玻璃还适合于液晶显示器等的显示器用基板,尤其适合作为以LTPS、氧化物TFT驱动的显示器用基板。进而,本发明的玻璃还适合作为用于在高温下制作半导体物质的LED用基板。
Claims (11)
1.一种玻璃,其特征在于,作为玻璃组成以摩尔%计含有SiO2 55%~80%、Al2O3 12%~30%、B2O3 0%~3%、Li2O+Na2O+K2O 0%~1%以及MgO+CaO+SrO+BaO 5%~35%,且在30℃~380℃的温度范围的热膨胀系数不足40×10-7/℃。
2.根据权利要求1所述的玻璃,其特征在于,B2O3的含量不足1摩尔%。
3.根据权利要求1或2所述的玻璃,其特征在于,Li2O+Na2O+K2O的含量为0.5摩尔%以下。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的玻璃,其特征在于,摩尔比(MgO+CaO+SrO+BaO)/Al2O3为0.3~3。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的玻璃,其特征在于,摩尔比MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.5以上。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的玻璃,其特征在于,应变点为750℃以上。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的玻璃,其特征在于,应变点为800℃以上。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的玻璃,其特征在于,(在102.5dPa·s时的温度-应变点)为1000℃以下。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的玻璃,其特征在于,在102.5dPa·s的粘度时的温度为1800℃以下。
10.根据权利要求1~9中任一项所述的玻璃,其特征在于,其为平板形状。
11.根据权利要求1~10中任一项所述的玻璃,其特征在于,其用于有机EL显示器的基板。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310871279.XA CN117023980A (zh) | 2015-04-03 | 2016-04-01 | 玻璃 |
CN202110288211.XA CN113045197A (zh) | 2015-04-03 | 2016-04-01 | 玻璃 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015-076617 | 2015-04-03 | ||
JP2015076617 | 2015-04-03 | ||
JP2015164474 | 2015-08-24 | ||
JP2015-164474 | 2015-08-24 | ||
PCT/JP2016/060913 WO2016159344A1 (ja) | 2015-04-03 | 2016-04-01 | ガラス |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110288211.XA Division CN113045197A (zh) | 2015-04-03 | 2016-04-01 | 玻璃 |
CN202310871279.XA Division CN117023980A (zh) | 2015-04-03 | 2016-04-01 | 玻璃 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN107207322A true CN107207322A (zh) | 2017-09-26 |
Family
ID=57006116
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201680009894.8A Pending CN107207322A (zh) | 2015-04-03 | 2016-04-01 | 玻璃 |
CN202310871279.XA Pending CN117023980A (zh) | 2015-04-03 | 2016-04-01 | 玻璃 |
CN202110288211.XA Pending CN113045197A (zh) | 2015-04-03 | 2016-04-01 | 玻璃 |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202310871279.XA Pending CN117023980A (zh) | 2015-04-03 | 2016-04-01 | 玻璃 |
CN202110288211.XA Pending CN113045197A (zh) | 2015-04-03 | 2016-04-01 | 玻璃 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US10577277B2 (zh) |
JP (3) | JP7182871B2 (zh) |
KR (1) | KR20170137031A (zh) |
CN (3) | CN107207322A (zh) |
TW (3) | TWI768502B (zh) |
WO (1) | WO2016159344A1 (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108658454A (zh) * | 2018-07-31 | 2018-10-16 | 中南大学 | 一种低热膨胀系数无碱高铝硼硅酸盐玻璃及其制备方法 |
CN111164056A (zh) * | 2018-01-31 | 2020-05-15 | 日本电气硝子株式会社 | 玻璃 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI768502B (zh) * | 2015-04-03 | 2022-06-21 | 日商日本電氣硝子股份有限公司 | 玻璃 |
JP6983377B2 (ja) * | 2016-12-19 | 2021-12-17 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス |
CN115572060A (zh) * | 2017-06-05 | 2023-01-06 | Agc株式会社 | 强化玻璃 |
US11214512B2 (en) | 2017-12-19 | 2022-01-04 | Owens Coming Intellectual Capital, LLC | High performance fiberglass composition |
WO2020071193A1 (ja) * | 2018-10-05 | 2020-04-09 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス板 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102471134A (zh) * | 2009-07-02 | 2012-05-23 | 旭硝子株式会社 | 无碱玻璃及其制造方法 |
CN103168012A (zh) * | 2010-11-02 | 2013-06-19 | 日本电气硝子株式会社 | 无碱玻璃 |
CN103201228A (zh) * | 2010-11-08 | 2013-07-10 | 日本电气硝子株式会社 | 无碱玻璃 |
CN104039727A (zh) * | 2011-12-29 | 2014-09-10 | 日本电气硝子株式会社 | 无碱玻璃 |
Family Cites Families (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4180618A (en) * | 1977-07-27 | 1979-12-25 | Corning Glass Works | Thin silicon film electronic device |
JPS6042246A (ja) * | 1983-08-18 | 1985-03-06 | Toshiba Corp | 基板用ガラス |
JPS6144732A (ja) * | 1984-08-06 | 1986-03-04 | Toshiba Corp | 基板用ガラス |
JPS61236631A (ja) * | 1985-04-10 | 1986-10-21 | Ohara Inc | 耐火・耐熱性ガラス |
JPS61261232A (ja) * | 1985-05-13 | 1986-11-19 | Ohara Inc | 耐火・耐熱性ガラス |
US4634684A (en) * | 1985-10-23 | 1987-01-06 | Corning Glass Works | Strontium aluminosilicate glass substrates for flat panel display devices |
JPH0818845B2 (ja) * | 1987-11-11 | 1996-02-28 | 日本板硝子株式会社 | 電子機器用ガラス基板 |
US5508237A (en) * | 1994-03-14 | 1996-04-16 | Corning Incorporated | Flat panel display |
US5489558A (en) * | 1994-03-14 | 1996-02-06 | Corning Incorporated | Glasses for flat panel display |
JP3804112B2 (ja) * | 1996-07-29 | 2006-08-02 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラス、無アルカリガラスの製造方法およびフラットディスプレイパネル |
US6809050B1 (en) | 2000-10-31 | 2004-10-26 | Owens Corning Fiberglas Technology, Inc. | High temperature glass fibers |
JP3897170B2 (ja) * | 2002-01-21 | 2007-03-22 | 日本板硝子株式会社 | 赤外発光体および光増幅媒体 |
JP4790300B2 (ja) * | 2005-04-14 | 2011-10-12 | 株式会社日立製作所 | ガラス |
US7833919B2 (en) | 2006-02-10 | 2010-11-16 | Corning Incorporated | Glass compositions having high thermal and chemical stability and methods of making thereof |
JP4947486B2 (ja) * | 2006-05-18 | 2012-06-06 | 日本電気硝子株式会社 | 平面画像表示装置用ガラスおよびそれを用いたガラス基板並びにその製造方法 |
TWI414502B (zh) * | 2008-05-13 | 2013-11-11 | Corning Inc | 含稀土元素之玻璃材料及基板及含該基板之裝置 |
JP5292028B2 (ja) * | 2008-09-10 | 2013-09-18 | 株式会社オハラ | ガラス |
JP2011011933A (ja) * | 2009-06-30 | 2011-01-20 | Hitachi Automotive Systems Ltd | 耐熱性及び耐食性を有するガラス |
JP5655293B2 (ja) * | 2009-11-19 | 2015-01-21 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス繊維用ガラス組成物、ガラス繊維及びガラス製シート状物 |
US8796165B2 (en) * | 2010-11-30 | 2014-08-05 | Corning Incorporated | Alkaline earth alumino-borosilicate crack resistant glass |
KR101752033B1 (ko) * | 2010-12-07 | 2017-06-28 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 무알칼리 유리 및 무알칼리 유리의 제조 방법 |
US8993465B2 (en) * | 2011-01-25 | 2015-03-31 | Corning Incorporated | Glass composition having high thermal and chemical stability |
JP5831838B2 (ja) | 2011-03-08 | 2015-12-09 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
JP5935471B2 (ja) * | 2011-04-25 | 2016-06-15 | 日本電気硝子株式会社 | 液晶レンズ |
EP2789587A1 (en) * | 2011-12-06 | 2014-10-15 | Asahi Glass Company, Limited | Method for manufacturing alkali-free glass |
WO2013129368A1 (ja) * | 2012-02-27 | 2013-09-06 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラスの製造方法 |
US9162919B2 (en) | 2012-02-28 | 2015-10-20 | Corning Incorporated | High strain point aluminosilicate glasses |
JP5186610B1 (ja) | 2012-05-23 | 2013-04-17 | 太平洋セメント株式会社 | 焼成物 |
EP2860160A1 (en) * | 2012-05-31 | 2015-04-15 | Asahi Glass Company, Limited | Alkali-free glass substrate and method for reducing thickness of alkali-free glass substrate |
KR20200003272A (ko) * | 2012-06-05 | 2020-01-08 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 무알칼리 유리 및 그 제조 방법 |
KR20150029632A (ko) * | 2012-06-05 | 2015-03-18 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 무알칼리 유리 및 그 제조 방법 |
CN105164068A (zh) * | 2012-12-21 | 2015-12-16 | 康宁股份有限公司 | 具有改进的总节距稳定性的玻璃 |
JP5914453B2 (ja) | 2012-12-28 | 2016-05-11 | AvanStrate株式会社 | ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法 |
CN105121370B (zh) * | 2013-04-23 | 2017-08-08 | 旭硝子株式会社 | 无碱玻璃基板及其制造方法 |
JP6308044B2 (ja) * | 2013-06-27 | 2018-04-11 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用無アルカリガラス、および、これを用いた磁気記録媒体用ガラス基板 |
JP2015027931A (ja) * | 2013-06-27 | 2015-02-12 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用無アルカリガラス、および、これを用いた磁気記録媒体用ガラス基板 |
JP2015027932A (ja) * | 2013-06-27 | 2015-02-12 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用無アルカリガラス、および、これを用いた磁気記録媒体用ガラス基板 |
JP6299472B2 (ja) * | 2013-06-27 | 2018-03-28 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用無アルカリガラス、および、これを用いた磁気記録媒体用ガラス基板 |
WO2016069821A1 (en) * | 2014-10-31 | 2016-05-06 | Corning Incorporated | Dimensionally stable fast etching glasses |
TWI768502B (zh) * | 2015-04-03 | 2022-06-21 | 日商日本電氣硝子股份有限公司 | 玻璃 |
JP6144732B2 (ja) | 2015-08-06 | 2017-06-07 | 東洋製罐株式会社 | 装飾積層フィルム、及びこの装飾積層フィルムを有する袋状容器並びにシール材 |
US20180319700A1 (en) * | 2015-12-01 | 2018-11-08 | Kornerstone Materials Technology Company, Ltd. | Low-boron, barium-free, alkaline earth aluminosilicate glass and its applications |
US10045422B2 (en) * | 2016-02-24 | 2018-08-07 | Leviton Manufacturing Co., Inc. | System and method for light-based activation of an occupancy sensor wireless transceiver |
-
2016
- 2016-04-01 TW TW109135079A patent/TWI768502B/zh active
- 2016-04-01 CN CN201680009894.8A patent/CN107207322A/zh active Pending
- 2016-04-01 JP JP2017510248A patent/JP7182871B2/ja active Active
- 2016-04-01 WO PCT/JP2016/060913 patent/WO2016159344A1/ja active Application Filing
- 2016-04-01 KR KR1020177016879A patent/KR20170137031A/ko not_active Application Discontinuation
- 2016-04-01 CN CN202310871279.XA patent/CN117023980A/zh active Pending
- 2016-04-01 TW TW111118157A patent/TW202235393A/zh unknown
- 2016-04-01 CN CN202110288211.XA patent/CN113045197A/zh active Pending
- 2016-04-01 US US15/562,459 patent/US10577277B2/en active Active
- 2016-04-01 TW TW105110597A patent/TWI710537B/zh active
-
2020
- 2020-01-28 US US16/774,259 patent/US11261123B2/en active Active
-
2021
- 2021-07-13 JP JP2021115465A patent/JP7421171B2/ja active Active
-
2022
- 2022-01-14 US US17/575,936 patent/US20220135465A1/en active Pending
-
2024
- 2024-01-10 JP JP2024001573A patent/JP2024032755A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102471134A (zh) * | 2009-07-02 | 2012-05-23 | 旭硝子株式会社 | 无碱玻璃及其制造方法 |
CN103168012A (zh) * | 2010-11-02 | 2013-06-19 | 日本电气硝子株式会社 | 无碱玻璃 |
CN103201228A (zh) * | 2010-11-08 | 2013-07-10 | 日本电气硝子株式会社 | 无碱玻璃 |
CN104039727A (zh) * | 2011-12-29 | 2014-09-10 | 日本电气硝子株式会社 | 无碱玻璃 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111164056A (zh) * | 2018-01-31 | 2020-05-15 | 日本电气硝子株式会社 | 玻璃 |
CN108658454A (zh) * | 2018-07-31 | 2018-10-16 | 中南大学 | 一种低热膨胀系数无碱高铝硼硅酸盐玻璃及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20220135465A1 (en) | 2022-05-05 |
WO2016159344A1 (ja) | 2016-10-06 |
TWI768502B (zh) | 2022-06-21 |
JP7421171B2 (ja) | 2024-01-24 |
TW202104116A (zh) | 2021-02-01 |
KR20170137031A (ko) | 2017-12-12 |
US10577277B2 (en) | 2020-03-03 |
JP2024032755A (ja) | 2024-03-12 |
JPWO2016159344A1 (ja) | 2018-02-01 |
US20180086660A1 (en) | 2018-03-29 |
TW202235393A (zh) | 2022-09-16 |
JP2021183560A (ja) | 2021-12-02 |
CN117023980A (zh) | 2023-11-10 |
JP7182871B2 (ja) | 2022-12-05 |
TW201700424A (zh) | 2017-01-01 |
CN113045197A (zh) | 2021-06-29 |
US20200239353A1 (en) | 2020-07-30 |
US11261123B2 (en) | 2022-03-01 |
TWI710537B (zh) | 2020-11-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110668694B (zh) | 无碱玻璃板 | |
CN107207322A (zh) | 玻璃 | |
CN103201228B (zh) | 无碱玻璃 | |
CN103313948B (zh) | 无碱玻璃 | |
JP5874316B2 (ja) | 無アルカリガラス | |
CN109437553A (zh) | 无碱玻璃 | |
JP7307407B2 (ja) | 無アルカリガラス | |
CN107406300A (zh) | 玻璃 | |
JP6787872B2 (ja) | 無アルカリガラス板 | |
JP6631942B2 (ja) | 無アルカリガラス板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20170926 |