KR102205800B9 - 금속판, 금속판의 제조 방법, 및 금속판을 사용하여 증착 마스크를 제조하는 방법 - Google Patents

금속판, 금속판의 제조 방법, 및 금속판을 사용하여 증착 마스크를 제조하는 방법

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Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5455099B1 (ja) 2013-09-13 2014-03-26 大日本印刷株式会社 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いてマスクを製造する方法
JP5516816B1 (ja) 2013-10-15 2014-06-11 大日本印刷株式会社 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いて蒸着マスクを製造する方法
JP5641462B1 (ja) 2014-05-13 2014-12-17 大日本印刷株式会社 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いてマスクを製造する方法
US20180002803A1 (en) * 2015-01-05 2018-01-04 Sharp Kabushiki Kaisha Deposition mask, deposition device, and deposition mask manufacturing method
KR101857382B1 (ko) 2015-02-10 2018-05-11 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 증착 마스크의 제조 방법, 증착 마스크를 제작하기 위해 사용되는 금속판 및 그 제조 방법
JP6935829B2 (ja) * 2016-02-19 2021-09-15 凸版印刷株式会社 メタルマスク用基材の製造方法、蒸着用メタルマスクの製造方法、メタルマスクユニットの製造方法、および、メタルマスクユニット
JP6724407B2 (ja) * 2016-02-19 2020-07-15 凸版印刷株式会社 メタルマスク用基材、蒸着用メタルマスク、および、メタルマスクユニット
KR102115724B1 (ko) 2016-04-14 2020-05-27 도판 인사츠 가부시키가이샤 증착 마스크용 기재, 증착 마스크용 기재의 제조 방법, 및, 증착 마스크의 제조 방법
KR102640221B1 (ko) * 2016-09-22 2024-02-23 삼성디스플레이 주식회사 분할 마스크의 제조 방법
JP6376483B2 (ja) 2017-01-10 2018-08-22 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク装置の製造方法および蒸着マスクの良否判定方法
KR102333411B1 (ko) * 2017-01-10 2021-12-02 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 증착 마스크, 증착 마스크 장치의 제조 방법 및 증착 마스크의 제조 방법
KR102657827B1 (ko) 2017-01-17 2024-04-17 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 중간 제품
JP6428903B2 (ja) * 2017-01-17 2018-11-28 大日本印刷株式会社 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法
US10557191B2 (en) * 2017-01-31 2020-02-11 Sakai Display Products Corporation Method for producing deposition mask, deposition mask, and method for producing organic semiconductor device
JP6471200B1 (ja) * 2017-09-01 2019-02-13 株式会社アルバック マスクプレート及び成膜方法
JP6319505B1 (ja) 2017-09-08 2018-05-09 凸版印刷株式会社 蒸着マスク用基材、蒸着マスク用基材の製造方法、蒸着マスクの製造方法および表示装置の製造方法
JP6299921B1 (ja) 2017-10-13 2018-03-28 凸版印刷株式会社 蒸着マスク用基材、蒸着マスク用基材の製造方法、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法
JP6299922B1 (ja) * 2017-10-13 2018-03-28 凸版印刷株式会社 蒸着マスク用基材、蒸着マスク用基材の製造方法、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法
KR102479945B1 (ko) 2017-12-08 2022-12-22 삼성디스플레이 주식회사 마스크 시트 및 이의 제조 방법
CN210765478U (zh) * 2018-06-08 2020-06-16 大日本印刷株式会社 金属板的卷绕体、具备卷绕体的捆包体和金属板
EP3822387A4 (en) * 2018-07-09 2022-05-04 Dai Nippon Printing Co., Ltd. VAPOR DEPOSITION MASK DEFECT DETERMINATION METHOD, VAPOR DEPOSITION MASK PRODUCTION METHOD, VAPOR DEPOSITION MASK DEVICE MANUFACTURING METHOD, VAPOR DEPOSITION MASK SELECTION METHOD AND VAPOR DEPOSITION
WO2020067537A1 (ja) 2018-09-27 2020-04-02 日鉄ケミカル＆マテリアル株式会社 メタルマスク材料及びその製造方法とメタルマスク
CN110879916B (zh) * 2019-11-05 2023-07-11 中国石油集团科学技术研究院有限公司 一种基于生态的碳酸盐岩沉积数值模拟方法及系统
JP2021175824A (ja) * 2020-03-13 2021-11-04 大日本印刷株式会社 有機デバイスの製造装置の蒸着室の評価方法、評価方法で用いられる標準マスク装置及び標準基板、標準マスク装置の製造方法、評価方法で評価された蒸着室を備える有機デバイスの製造装置、評価方法で評価された蒸着室において形成された蒸着層を備える有機デバイス、並びに有機デバイスの製造装置の蒸着室のメンテナンス方法
JP7124941B2 (ja) * 2020-06-19 2022-08-24 凸版印刷株式会社 メタルマスク用基材の製造方法、蒸着用メタルマスクの製造方法、および、メタルマスク用基材
KR20220004893A (ko) * 2020-07-03 2022-01-12 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법
KR20220056914A (ko) * 2020-10-28 2022-05-09 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 및 이를 포함하는 증착 장치
KR102269904B1 (ko) * 2021-02-25 2021-06-28 (주)세우인코퍼레이션 Oled 증착용 대면적 오픈 메탈 마스크의 제조 방법
KR102405552B1 (ko) * 2021-11-16 2022-06-07 (주)세우인코퍼레이션 Oled 증착용 메탈 마스크의 제조 방법
CN114959242A (zh) * 2022-05-27 2022-08-30 天津市新天钢冷轧薄板有限公司 一种防止连退机组支撑辊边部损伤的方法

Family Cites Families (110)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1517633A (en) 1920-06-28 1924-12-02 Junkers Hugo Corrugated sheet metal
JPS5295410A (en) 1976-02-04 1977-08-11 Hitachi Ltd Air spring height control device for vehicles
JPS52144882A (en) 1976-05-28 1977-12-02 Mitsuo Okamoto Device for determining position in material working device
JPS5374569A (en) 1976-12-15 1978-07-03 Kayaba Industry Co Ltd Apparatus for compensating length of parison in hollow plastic molding machine
JPS5641331A (en) * 1979-09-12 1981-04-18 Nec Corp Manufacture of ferromagnetic, long continuous material having uniform initial magnetic permeability
JPS57109512A (en) 1980-12-26 1982-07-08 Nippon Steel Corp Rolling method
CA1204143A (en) * 1982-08-27 1986-05-06 Kanemitsu Sato Textured shadow mask
JPS59149635A (ja) 1983-01-31 1984-08-27 Toshiba Corp カラー受像管用シャドウマスク及びその製造方法
JPS62139863A (ja) * 1985-12-12 1987-06-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd スパツタ装置の基板マスク
DE69111002T2 (de) 1990-09-20 1995-11-02 Dainippon Screen Mfg Verfahren zur Herstellung von kleinen Durchgangslöchern in dünne Metallplatten.
JP3149379B2 (ja) 1990-09-20 2001-03-26 大日本スクリーン製造株式会社 金属薄板への微細透孔形成方法
JP3009076B2 (ja) 1990-09-20 2000-02-14 大日本スクリーン製造 株式会社 金属薄板への微細透孔形成方法
EP0561120B1 (en) * 1992-01-24 1996-06-12 Nkk Corporation Thin Fe-Ni alloy sheet for shadow mask and method for manufacturing thereof
JP2955420B2 (ja) 1992-01-31 1999-10-04 日新製鋼株式会社 極薄ステンレス鋼帯の製造方法および装置
JP3268369B2 (ja) 1993-02-23 2002-03-25 株式会社河合楽器製作所 高精度板厚の圧延金属板の製造装置
JP2812869B2 (ja) 1994-02-18 1998-10-22 株式会社神戸製鋼所 ハーフエッチング用電気電子部品用板条材及びその製造方法
JPH0867914A (ja) * 1994-08-25 1996-03-12 Sumitomo Metal Ind Ltd Ｉｃリ−ドフレ−ム材の製造方法
JP3178266B2 (ja) 1994-09-28 2001-06-18 凸版印刷株式会社 フラット型シャドウマスクの製造方法及びフラット型シャドウマスク用枚葉状金属板
JPH0987741A (ja) 1995-09-25 1997-03-31 Nkk Corp 板形状および耐熱収縮性に優れたシャドウマスク用Ｆｅ ーＮｉ系アンバー合金薄板の製造方法
JP3379301B2 (ja) 1995-10-02 2003-02-24 日本鋼管株式会社 板形状および耐熱収縮性に優れたシャドウマスク用低熱膨張合金薄板の製造方法
JPH09123011A (ja) 1995-10-30 1997-05-13 Hitachi Metals Ltd Ｆｅ−Ｎｉ系薄板およびその製造方法
US6042952A (en) 1996-03-15 2000-03-28 Kawasaki Steel Corporation Extremely-thin steel sheets and method of producing the same
JPH1053858A (ja) 1996-08-09 1998-02-24 Best:Kk 多孔金属板及びその製造方法
JPH1060525A (ja) 1996-08-26 1998-03-03 Nkk Corp 板形状および耐熱収縮性に優れた低熱膨張合金薄板の製 造方法
JPH10214562A (ja) 1997-01-30 1998-08-11 Toppan Printing Co Ltd シャドウマスクの製造方法
JPH10263615A (ja) 1997-03-25 1998-10-06 Kawasaki Steel Corp 圧延方法
MY123398A (en) * 1997-05-09 2006-05-31 Toyo Kohan Co Ltd Invar alloy steel sheet for shadow mask, method for producing same, shadow mask, and color picture tube
JP4060407B2 (ja) 1997-08-22 2008-03-12 日新製鋼株式会社 モ−タ−ヨ−ク用軟磁性ステンレス鋼板の製造方法
JPH11229040A (ja) * 1998-02-16 1999-08-24 Nkk Corp Ｆｅ−Ｎｉ合金鋼ストリップの形状矯正を伴なう焼鈍方法及び焼鈍装置
KR100259300B1 (en) * 1998-04-16 2000-06-15 Lg Electronics Inc Shadow mask for color cathode ray tube
JP2000256800A (ja) 1999-03-05 2000-09-19 Nkk Corp 低熱膨張性合金薄板および電子部品
JP2000319728A (ja) 1999-05-07 2000-11-21 Sumitomo Metal Ind Ltd シャドウマスク用金属板の製造方法
KR100429360B1 (ko) 1999-05-07 2004-04-29 마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤 섀도우마스크 제조방법
JP2000345242A (ja) 1999-05-31 2000-12-12 Nkk Corp 長手方向の板厚精度に優れたシャドウマスク用鋼板の製造方法
JP2001131707A (ja) 1999-10-29 2001-05-15 Dainippon Printing Co Ltd カラーブラウン管用シャドウマスク
JP3573047B2 (ja) 2000-02-10 2004-10-06 住友金属工業株式会社 エッチング後の平坦性に優れたステンレス鋼板の製造方法
JP2001234385A (ja) 2000-02-24 2001-08-31 Tohoku Pioneer Corp メタルマスク及びその製造方法
JP2001247939A (ja) 2000-03-07 2001-09-14 Hitachi Metals Ltd 黒化処理性に優れたシャドウマスク用合金薄板及びそれを用いてなるシャドウマスク
JP3881493B2 (ja) * 2000-04-19 2007-02-14 日鉱金属株式会社 エッチング穿孔性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク用素材およびその製造方法
JP2001325881A (ja) 2000-05-16 2001-11-22 Toshiba Corp 透孔形成方法及び透孔形成装置
JP3557395B2 (ja) * 2000-12-27 2004-08-25 日鉱金属加工株式会社 プレス成形型フラットマスク用Ｆｅ−Ｎｉ系合金材の製造方法
JP2002237254A (ja) * 2001-02-07 2002-08-23 Dainippon Printing Co Ltd 展張型シャドウマスク用材料および展張型シャドウマスク
JP3651432B2 (ja) 2001-09-25 2005-05-25 セイコーエプソン株式会社 マスク及びその製造方法並びにエレクトロルミネッセンス装置の製造方法
TW529317B (en) 2001-10-16 2003-04-21 Chi Mei Electronic Corp Method of evaporating film used in an organic electro-luminescent display
JP2003272839A (ja) 2002-03-14 2003-09-26 Dainippon Printing Co Ltd 蒸着処理用のマスキング部材の製造方法
JP2003272838A (ja) * 2002-03-14 2003-09-26 Dainippon Printing Co Ltd マスキング部材
TW589919B (en) * 2002-03-29 2004-06-01 Sanyo Electric Co Method for vapor deposition and method for making display device
JP2003286527A (ja) 2002-03-29 2003-10-10 Dowa Mining Co Ltd 低収縮率の銅又は銅合金とその製造方法
JP4126648B2 (ja) 2002-07-01 2008-07-30 日立金属株式会社 メタルマスク用部材の製造方法
JP2004063375A (ja) 2002-07-31 2004-02-26 Toppan Printing Co Ltd 架張型の色識別マスク微小変形評価方法
JP2004185890A (ja) 2002-12-02 2004-07-02 Hitachi Metals Ltd メタルマスク
JP4170179B2 (ja) 2003-01-09 2008-10-22 株式会社 日立ディスプレイズ 有機ｅｌパネルの製造方法および有機ｅｌパネル
JP4471646B2 (ja) * 2003-01-15 2010-06-02 株式会社豊田自動織機 複合材及びその製造方法
EP1449596A1 (en) 2003-02-24 2004-08-25 Corus Technology BV A method for processing a steel product, and product produced using said method
CN1874629A (zh) 2003-03-07 2006-12-06 精工爱普生株式会社 掩膜及其制法、掩膜制造装置、发光材料的成膜方法
JP4089632B2 (ja) 2003-03-07 2008-05-28 セイコーエプソン株式会社 マスクの製造方法、マスクの製造装置、発光材料の成膜方法
JP4463492B2 (ja) 2003-04-10 2010-05-19 株式会社半導体エネルギー研究所 製造装置
JP2004362908A (ja) 2003-06-04 2004-12-24 Hitachi Metals Ltd メタルマスク及びメタルマスクの製造方法
US7524792B2 (en) 2003-06-04 2009-04-28 Basf Aktiengesellschaft Preparation of catalytically active multielement oxide materials which contain at least one of the elements Nb and W and the elements Mo, V and Cu
MY143553A (en) 2003-06-04 2011-05-31 Basf Ag PREPARATION OF CATALYTICALLY ACTIVE MULTIELEMENT OXIDE MATERIALS WHICH CONTAIN AT LEAST ONE THE ELEMENTS Nb AND W AND THE ELEMENTS Mo, V, Cu
JP2005042147A (ja) 2003-07-25 2005-02-17 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 蒸着用マスクの製造方法および蒸着用マスク
JP2005105406A (ja) 2003-09-10 2005-04-21 Nippon Seiki Co Ltd 蒸着用マスク
JP2005154879A (ja) 2003-11-28 2005-06-16 Canon Components Inc 蒸着用メタルマスク及びそれを用いた蒸着パターンの製造方法
JP2005183153A (ja) * 2003-12-18 2005-07-07 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 蒸着用マスクの製造方法
JP4708735B2 (ja) 2004-05-31 2011-06-22 キヤノン株式会社 マスク構造体の製造方法
JP4164828B2 (ja) * 2004-09-29 2008-10-15 日立金属株式会社 Ｆｅ−Ｎｉ系合金薄板材の製造方法
KR100708654B1 (ko) 2004-11-18 2007-04-18 삼성에스디아이 주식회사 마스크 조립체 및 이를 이용한 마스크 프레임 조립체
JP5151004B2 (ja) 2004-12-09 2013-02-27 大日本印刷株式会社 メタルマスクユニット及びその製造方法
JP2006247721A (ja) 2005-03-11 2006-09-21 Jfe Steel Kk 凹凸状金属板挟圧用ロールを用いた金属板の形状矯正方法および形状矯正装置
KR100623419B1 (ko) 2005-06-29 2006-09-13 엘지.필립스 엘시디 주식회사 쉐도우 마스크 및 그의 제조 방법
JP4438710B2 (ja) 2005-07-20 2010-03-24 セイコーエプソン株式会社 マスク、マスクチップ、マスクの製造方法及びマスクチップの製造方法
JP2007095324A (ja) 2005-09-27 2007-04-12 Hitachi Displays Ltd 有機ｅｌ表示パネルの製造方法、及びこの製造方法により製造した有機ｅｌ表示パネル
JP2008041553A (ja) * 2006-08-09 2008-02-21 Sony Corp 蒸着用マスク及び蒸着用マスクの製造方法
CN200989993Y (zh) 2006-12-22 2007-12-12 上海集成电路研发中心有限公司 一种两次曝光用长掩模版
KR100796617B1 (ko) 2006-12-27 2008-01-22 삼성에스디아이 주식회사 마스크 장치와 마스크 장치의 제조방법 및 이를 이용한유기전계발광표시장치의 제조방법
JP2008255449A (ja) 2007-04-09 2008-10-23 Kyushu Hitachi Maxell Ltd 蒸着マスクとその製造方法
JP5081516B2 (ja) 2007-07-12 2012-11-28 株式会社ジャパンディスプレイイースト 蒸着方法および蒸着装置
JP5262226B2 (ja) 2007-08-24 2013-08-14 大日本印刷株式会社 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法
JP5251078B2 (ja) 2007-11-16 2013-07-31 新日鐵住金株式会社 容器用鋼板とその製造方法
JP2009215625A (ja) * 2008-03-12 2009-09-24 Seiko Epson Corp 蒸着用マスク部材、マスク蒸着方法、および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法
JP5294072B2 (ja) 2009-03-18 2013-09-18 日立金属株式会社 エッチング加工用素材の製造方法及びエッチング加工用素材
JP2011034681A (ja) 2009-07-29 2011-02-17 Hitachi Displays Ltd 金属加工方法、金属マスク製造方法及び有機ｅｌ表示装置製造方法
US9325007B2 (en) * 2009-10-27 2016-04-26 Applied Materials, Inc. Shadow mask alignment and management system
JP5486951B2 (ja) 2010-02-12 2014-05-07 株式会社アルバック 蒸着マスク、蒸着装置、薄膜形成方法
JP5379717B2 (ja) 2010-02-24 2013-12-25 株式会社アルバック 蒸着用マスク
JP2011190509A (ja) 2010-03-15 2011-09-29 Seiko Instruments Inc マスク材、圧電振動子、圧電振動子の製造方法、発振器、電子機器および電波時計
JP2012059631A (ja) 2010-09-10 2012-03-22 Hitachi Displays Ltd 有機エレクトロルミネッセンス用マスク
JP5751810B2 (ja) 2010-11-26 2015-07-22 日立マクセル株式会社 メタルマスクの製造方法、枠部材及びその製造方法
KR20120105292A (ko) * 2011-03-15 2012-09-25 삼성디스플레이 주식회사 증착 마스크 및 증착 마스크 제조 방법
JP2013002924A (ja) * 2011-06-15 2013-01-07 Hitachi Plant Technologies Ltd 橋型クレーン、原子力発電所の解体方法
JP5823741B2 (ja) * 2011-06-15 2015-11-25 中国電力株式会社 試験用コンセントアダプタ
KR20130004830A (ko) 2011-07-04 2013-01-14 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
CN105322102B (zh) 2012-01-12 2018-12-07 大日本印刷株式会社 蒸镀掩模装置的制造方法
CN103205701A (zh) 2012-01-16 2013-07-17 昆山允升吉光电科技有限公司 蒸镀掩模板及其制作方法
CN202576545U (zh) * 2012-01-16 2012-12-05 昆山允升吉光电科技有限公司 蒸镀用沟槽掩模板
JP2013153920A (ja) * 2012-01-30 2013-08-15 Yasue Tsutsumi ファスナー開閉補助器具
JP5498517B2 (ja) * 2012-02-08 2014-05-21 株式会社東芝 サーバ装置、家電機器制御方法およびプログラム
CN202786401U (zh) 2012-08-29 2013-03-13 四川虹视显示技术有限公司 Oled蒸镀用掩膜板
KR101707345B1 (ko) 2012-09-04 2017-02-15 신닛테츠스미킨 카부시키카이샤 정밀 가공용 스테인리스 강판 및 그 제조 방법
JP5935628B2 (ja) 2012-09-24 2016-06-15 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法
CN103031578B (zh) 2012-11-29 2016-08-31 烟台晨煜电子有限公司 一种生产镍箔的电解方法
JP5459632B1 (ja) 2013-01-08 2014-04-02 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク
JP5382259B1 (ja) 2013-01-10 2014-01-08 大日本印刷株式会社 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いて蒸着マスクを製造する方法
JP5382257B1 (ja) 2013-01-10 2014-01-08 大日本印刷株式会社 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いて蒸着マスクを製造する方法
JP6217197B2 (ja) 2013-07-11 2017-10-25 大日本印刷株式会社 蒸着マスク、樹脂層付き金属マスク、および有機半導体素子の製造方法
JP5455099B1 (ja) 2013-09-13 2014-03-26 大日本印刷株式会社 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いてマスクを製造する方法
JP5516816B1 (ja) 2013-10-15 2014-06-11 大日本印刷株式会社 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いて蒸着マスクを製造する方法
JP5626491B1 (ja) 2014-03-06 2014-11-19 大日本印刷株式会社 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いて蒸着マスクを製造する方法
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