JP2008255449A - 蒸着マスクとその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】蒸着通孔5からなる蒸着パターンを備えるマスク層2に低熱線膨張係数の材質から成る支持層3を蒸着通孔5と重ならないように積層しているため、マスク自体の強度アップはもちろんのこと、熱の影響による形状変化の抑制、つまり、蒸着作業時における高温環境下での蒸着マスク1と被蒸着基板20との位置ずれを顕著に低減できる。
【選択図】図8
Description
2 マスク層
3 支持層
5 蒸着通孔
20 被蒸着基板
30 母型
33、34 パターンレジスト
33a、34a レジスト体
35 電着層
36、37 カバーレジスト
Claims (5)
- 蒸着通孔5からなる蒸着パターンを備えるマスク層2に低熱線膨張係数の材質から成る支持層3を積層した蒸着マスクであって、前記支持層3は前記蒸着通孔5と重ならないように形成したことを特徴とする蒸着マスク。
- 前記支持層3は各蒸着通孔5を囲むように形成したことを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスク。
- 前記マスク層2の線膨張係数が前記支持層3の線膨張係数よりも大きいことを特徴とする請求項1又は2に記載の蒸着マスク。
- 低熱線膨張係数の材質からなる母型30の一方の面にレジスト体33aを有するパターンレジスト33を形成する工程と、
前記母型30の他方の面にレジスト体34aを有するパターンレジスト34を形成する工程と、
前記パターンレジスト33を用いて前記母型30の一方の面に電着層35を形成する工程と、
前記パターンレジスト34を用いて前記母型30の他方の面をエッチングする工程とを含むことを特徴とする蒸着マスクの製造方法。 - 前記電着層35を形成する工程においては、前記母型の熱線膨張係数よりも大きな熱線膨張係数の材質を用いていることを特徴とする請求項4に記載の蒸着マスクの製造方法。
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Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20130240870A1 (en) * | 2010-12-21 | 2013-09-19 | Sharp Kabushiki Kaisha | Vapor deposition device, vapor deposition method and organic el display device |
JP2013216978A (ja) * | 2012-01-12 | 2013-10-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 蒸着マスク、蒸着マスク装置の製造方法、及び有機半導体素子の製造方法 |
CN103668052A (zh) * | 2012-09-07 | 2014-03-26 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种复合掩模板组件 |
CN103682171A (zh) * | 2012-09-07 | 2014-03-26 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种复合掩模板 |
CN103668049A (zh) * | 2012-09-07 | 2014-03-26 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种大尺寸oled蒸镀用掩模板组件 |
CN103668048A (zh) * | 2012-09-07 | 2014-03-26 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种复合掩模板组件的制作方法 |
CN103938153A (zh) * | 2013-01-22 | 2014-07-23 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种蒸镀用掩模组件及相应的掩模板安装方法 |
JP2015067885A (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 |
CN105063552A (zh) * | 2015-08-22 | 2015-11-18 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种蒸镀用磁性掩模板 |
CN105063553A (zh) * | 2015-08-22 | 2015-11-18 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种蒸镀用磁性掩模板的制作方法 |
CN105154822A (zh) * | 2015-08-22 | 2015-12-16 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种小开口蒸镀用掩模板 |
JP2016148111A (ja) * | 2015-02-10 | 2016-08-18 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクを作製するために用いられる金属板およびその製造方法 |
KR20170084471A (ko) | 2016-01-12 | 2017-07-20 | (주)포인트엔지니어링 | 유기발광다이오드용 마스크 및 유기발광다이오드용 증착장비 및 유기발광다이오드의 제조방법 및 이를 이용한 유기발광다이오드 |
US10170731B2 (en) | 2016-04-22 | 2019-01-01 | Point Engineering Co., Ltd. | Mask and masking assembly |
WO2019014947A1 (zh) * | 2017-07-21 | 2019-01-24 | 深圳市柔宇科技有限公司 | 掩膜板的制造方法和掩膜板 |
US10233546B2 (en) | 2013-09-13 | 2019-03-19 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Metal plate, method of manufacturing metal plate, and method of manufacturing mask by use of metal plate |
CN110079762A (zh) * | 2019-04-11 | 2019-08-02 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 掩膜板及蒸镀oled器件的方法 |
US10600963B2 (en) | 2014-05-13 | 2020-03-24 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Metal plate, method of manufacturing metal plate, and method of manufacturing mask by using metal plate |
CN113490761A (zh) * | 2019-02-19 | 2021-10-08 | 株式会社日本显示器 | 蒸镀掩模 |
US11486031B2 (en) | 2013-10-15 | 2022-11-01 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Metal plate |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003045657A (ja) * | 2001-05-24 | 2003-02-14 | Kyushu Hitachi Maxell Ltd | 有機el素子用蒸着マスクと有機el素子用蒸着マスクの製造方法 |
JP2004039628A (ja) * | 2003-06-04 | 2004-02-05 | Hitachi Metals Ltd | メタルマスク |
JP2004183023A (ja) * | 2002-12-02 | 2004-07-02 | Hitachi Metals Ltd | メタルマスク |
JP2004185890A (ja) * | 2002-12-02 | 2004-07-02 | Hitachi Metals Ltd | メタルマスク |
JP2004190057A (ja) * | 2002-12-09 | 2004-07-08 | Nippon Filcon Co Ltd | パターニングされたマスク被膜と支持体からなる積層構造の薄膜パターン形成用マスク及びその製造方法 |
JP2004235138A (ja) * | 2003-01-09 | 2004-08-19 | Hitachi Ltd | 有機elパネルの製造方法および有機elパネル |
JP2004232025A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着用マスクおよびその製造方法 |
JP2005154879A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-16 | Canon Components Inc | 蒸着用メタルマスク及びそれを用いた蒸着パターンの製造方法 |
JP2005314787A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Kenseidou Kagaku Kogyo Kk | メタルマスクの製作方法 |
-
2007
- 2007-04-09 JP JP2007101262A patent/JP2008255449A/ja active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003045657A (ja) * | 2001-05-24 | 2003-02-14 | Kyushu Hitachi Maxell Ltd | 有機el素子用蒸着マスクと有機el素子用蒸着マスクの製造方法 |
JP2004183023A (ja) * | 2002-12-02 | 2004-07-02 | Hitachi Metals Ltd | メタルマスク |
JP2004185890A (ja) * | 2002-12-02 | 2004-07-02 | Hitachi Metals Ltd | メタルマスク |
JP2004190057A (ja) * | 2002-12-09 | 2004-07-08 | Nippon Filcon Co Ltd | パターニングされたマスク被膜と支持体からなる積層構造の薄膜パターン形成用マスク及びその製造方法 |
JP2004235138A (ja) * | 2003-01-09 | 2004-08-19 | Hitachi Ltd | 有機elパネルの製造方法および有機elパネル |
JP2004232025A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着用マスクおよびその製造方法 |
JP2004039628A (ja) * | 2003-06-04 | 2004-02-05 | Hitachi Metals Ltd | メタルマスク |
JP2005154879A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-16 | Canon Components Inc | 蒸着用メタルマスク及びそれを用いた蒸着パターンの製造方法 |
JP2005314787A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Kenseidou Kagaku Kogyo Kk | メタルマスクの製作方法 |
Cited By (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20130240870A1 (en) * | 2010-12-21 | 2013-09-19 | Sharp Kabushiki Kaisha | Vapor deposition device, vapor deposition method and organic el display device |
JP2013216978A (ja) * | 2012-01-12 | 2013-10-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 蒸着マスク、蒸着マスク装置の製造方法、及び有機半導体素子の製造方法 |
CN103668052A (zh) * | 2012-09-07 | 2014-03-26 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种复合掩模板组件 |
CN103682171A (zh) * | 2012-09-07 | 2014-03-26 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种复合掩模板 |
CN103668049A (zh) * | 2012-09-07 | 2014-03-26 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种大尺寸oled蒸镀用掩模板组件 |
CN103668048A (zh) * | 2012-09-07 | 2014-03-26 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种复合掩模板组件的制作方法 |
CN103938153A (zh) * | 2013-01-22 | 2014-07-23 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种蒸镀用掩模组件及相应的掩模板安装方法 |
US10233546B2 (en) | 2013-09-13 | 2019-03-19 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Metal plate, method of manufacturing metal plate, and method of manufacturing mask by use of metal plate |
US10731261B2 (en) | 2013-09-13 | 2020-08-04 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Metal plate, method of manufacturing metal plate, and method of manufacturing mask by use of metal plate |
JP2015067885A (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 |
US11486031B2 (en) | 2013-10-15 | 2022-11-01 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Metal plate |
US10600963B2 (en) | 2014-05-13 | 2020-03-24 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Metal plate, method of manufacturing metal plate, and method of manufacturing mask by using metal plate |
US11217750B2 (en) | 2014-05-13 | 2022-01-04 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Metal plate, method of manufacturing metal plate, and method of manufacturing mask by using metal plate |
US10570498B2 (en) | 2015-02-10 | 2020-02-25 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Manufacturing method for deposition mask, metal plate used for producing deposition mask, and manufacturing method for said metal sheet |
US10612124B2 (en) | 2015-02-10 | 2020-04-07 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Manufacturing method for deposition mask, metal plate used for producing deposition mask, and manufacturing method for said metal sheet |
JP2016148111A (ja) * | 2015-02-10 | 2016-08-18 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクを作製するために用いられる金属板およびその製造方法 |
CN105154822A (zh) * | 2015-08-22 | 2015-12-16 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种小开口蒸镀用掩模板 |
CN105063553A (zh) * | 2015-08-22 | 2015-11-18 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种蒸镀用磁性掩模板的制作方法 |
CN105063552A (zh) * | 2015-08-22 | 2015-11-18 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种蒸镀用磁性掩模板 |
KR20170084471A (ko) | 2016-01-12 | 2017-07-20 | (주)포인트엔지니어링 | 유기발광다이오드용 마스크 및 유기발광다이오드용 증착장비 및 유기발광다이오드의 제조방법 및 이를 이용한 유기발광다이오드 |
KR102466211B1 (ko) * | 2016-01-12 | 2022-11-14 | (주)포인트엔지니어링 | 유기발광다이오드용 마스크 및 유기발광다이오드용 증착장비 및 유기발광다이오드의 제조방법 |
US10170731B2 (en) | 2016-04-22 | 2019-01-01 | Point Engineering Co., Ltd. | Mask and masking assembly |
WO2019014947A1 (zh) * | 2017-07-21 | 2019-01-24 | 深圳市柔宇科技有限公司 | 掩膜板的制造方法和掩膜板 |
CN113490761A (zh) * | 2019-02-19 | 2021-10-08 | 株式会社日本显示器 | 蒸镀掩模 |
CN110079762A (zh) * | 2019-04-11 | 2019-08-02 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 掩膜板及蒸镀oled器件的方法 |
CN110079762B (zh) * | 2019-04-11 | 2021-06-01 | Tcl华星光电技术有限公司 | 掩膜板及蒸镀oled器件的方法 |
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