JP7124941B2 - メタルマスク用基材の製造方法、蒸着用メタルマスクの製造方法、および、メタルマスク用基材 - Google Patents

Description

本発明は、メタルマスク用基材の製造方法、蒸着用メタルマスクの製造方法、および、メタルマスク用基材に関する。

蒸着法を用いて製造される表示デバイスの１つとして有機ＥＬディスプレイが知られている。有機ＥＬディスプレイが備える有機層は、蒸着工程において昇華された有機分子の堆積物である。蒸着工程にて用いられるメタルマスクの有するマスク孔は、昇華された有機分子が通る通路であって、有機ＥＬディスプレイにおける画素の形状に応じた形状を有している（例えば、特許文献１参照）。

特開２００７－９５４１１号公報

ところで、表示デバイスの高精細化が進むことに伴って、上述した有機ＥＬディスプレイ、ひいては、画素のサイズを定めるメタルマスクにおいては、メタルマスクを用いた成膜に対して高精細化が望まれている。

メタルマスクを用いた成膜を高精細化するためには、メタルマスクが有するマスク孔の密度を高めることが必要とされる。メタルマスクが有するマスク孔は、通常、メタルマスク用基材のエッチングによって形成される。メタルマスク用基材が厚いほど、マスク孔のうち、マスク孔の延びる方向と直交する幅が広がるようにエッチングされる量も大きくなるため、メタルマスクのマスク孔を高密度に形成する上では、メタルマスク用基材を薄くすることが好ましい。

しかしながら、メタルマスク用基材を薄くすると、メタルマスク用基材を用いて形成されたメタルマスクの強度が小さくなる場合がある。それゆえに、メタルマスクを用いた成膜の高精細化と、メタルマスクの強度の低下を抑えることとを両立することのできるメタルマスクが求められている。

なお、こうした事項は、有機ＥＬディスプレイを含む表示デバイスの製造に用いられる蒸着用メタルマスクに限らず、各種のデバイスが備える配線の形成や、各種のデバイスが備える機能層などの蒸着に用いられる蒸着用メタルマスクにも共通している。

本発明は、蒸着用メタルマスクを用いた成膜を高精細化しつつ、蒸着用メタルマスクにおける強度の低下を抑えることを可能にしたメタルマスク用基材の製造方法、蒸着用メタルマスクの製造方法、および、メタルマスク用基材を提供することを目的とする。

上記課題を解決するためのメタルマスク用基材の製造方法は、各々が複数の画素を有する複数のパネル用の蒸着を一括して行うためのマスク領域と、蒸着用メタルマスクにおいて前記マスク領域以外の領域である周辺領域とを備える蒸着用メタルマスクを形成するための金属製の単一のシート状を有したメタルマスク用基材を製造する方法である。前記メタルマスク用基材の製造方法は、表面と、前記表面とは反対側の面である裏面と、を備える金属シートを準備することと、前記表面において区画されたｎ個（ｎは１以上の整数）の前記マスク領域と、前記表面において前記マスク領域以外の領域であるｎ個の前記周辺領域とを前記金属シートに形成することと、前記表面に複数のセンサーマークを形成することと、を備える。前記マスク領域の厚さは、前記周辺領域の厚さよりも薄く、前記マスク領域は、前記複数の画素を形成するための複数のマスク孔を有さず、かつ、前記裏面から前記表面に向けた高さ位置が前記周辺領域よりも低い領域である。

上記メタルマスク用基材の製造方法において、前記メタルマスク用基材の延びる方向が第１方向であり、前記第１方向と直交する方向が第２方向である。前記マスク領域は、前記第１方向および前記第２方向の各々に沿って所定の間隔を空けて並ぶ複数のマスク領域要素から構成され、前記周辺領域は、前記表面において格子状を有し、前記複数のセンサーマークを形成することでは、前記周辺領域のうち、前記表面の縁に沿い、かつ、前記第１方向に沿って延びる部分に、前記複数のセンサーマークが、前記第１方向に沿って等しい間隔を空けて並ぶように、前記複数のセンサーマークを形成してもよい。

上記メタルマスク用基材の製造方法において、前記センサーマークは、前記表面における前記センサーマーク以外の部分と比べて、表面粗さを大きくした部分であってよい。

上記メタルマスク用基材の製造方法において、前記メタルマスク用基材の形成材料は、インバーであってもよい。

上記課題を解決するための蒸着用メタルマスクの製造方法は、各々が複数の画素を有する複数のパネル用の蒸着を一括して行うためのマスク領域と、蒸着用メタルマスクにおいて前記マスク領域以外の領域である周辺領域とを備える金属製の単一のシート状を有した蒸着用メタルマスクを製造する方法である。蒸着用メタルマスクの製造方法は、表面と、前記表面とは反対側の面である裏面と、を備えるメタルマスク用基材の前記表面において区画された前記マスク領域に対して、厚さ方向に沿って前記マスク領域を貫通する複数のマスク孔を形成すること、を備える。前記周辺領域は、前記表面において前記マスク領域以外の領域である。前記マスク領域の厚さは、前記周辺領域の厚さよりも薄く、前記マスク領域は、前記裏面から前記表面に向けた高さ位置が前記周辺領域よりも低い領域である。前記表面は、前記マスク領域のなかで前記複数のマスク孔が形成された部分よりも外側の部分と、前記周辺領域との間において段差を有する。前記メタルマスク用基材は、複数のセンサーマークを前記表面に有する。

上記蒸着用メタルマスクの製造方法において、前記メタルマスク用基材の延びる方向が第１方向であり、前記第１方向と直交する方向が第２方向であり、前記マスク領域は、前記第１方向および前記第２方向の各々に沿って所定の間隔を空けて並ぶ複数のマスク領域要素から構成され、前記周辺領域は、前記表面において格子状を有し、前記複数のセンサーマークは、前記周辺領域のうち、前記表面の縁に沿い、かつ、前記第１方向に沿って延びる部分に、前記第１方向に沿って等しい間隔を空けて並び、前記複数のマスク孔を形成することは、前記表面にレジストを配置することと、前記センサーマークのピッチごとに前記メタルマスク基材を搬送すること、前記ピッチごとに前記レジストを露光すること、を含んでもよい。

上記課題を解決するためのメタルマスク用基材は、各々が複数の画素を有する複数のパネル用の蒸着を一括して行うためのマスク領域と、蒸着用メタルマスクにおいて前記マスク領域以外の領域である周辺領域とを備える蒸着用メタルマスクを形成するための金属製の単一のシート状を有する。メタルマスク用基材は、表面と、前記表面とは反対側の面である裏面と、を備え、前記表面において区画されたｎ個（ｎは１以上の整数）の前記マスク領域と、前記表面において前記マスク領域以外の領域であるｎ個の前記周辺領域と、を備え、前記マスク領域の厚さは、前記周辺領域の厚さよりも薄く、前記マスク領域は、前記複数の画素を形成するための複数のマスク孔を有さず、かつ、前記裏面から前記表面に向けた高さ位置が前記周辺領域よりも低い領域であり、前記表面に複数のセンサーマークを有する。

本発明によれば、蒸着用メタルマスクを用いた成膜を高精細化しつつ、蒸着用メタルマスクにおける強度の低下を抑えることができる。

本発明のメタルマスク用基材を具体化した第１実施形態におけるメタルマスク用基材の一部平面構造を示す部分平面図。 図１におけるＩ－Ｉ線に沿う断面構造を示す断面図。 本発明の蒸着用メタルマスクを具体化した第１実施形態における蒸着用メタルマスクの平面構造を示す平面図。 蒸着用メタルマスクの平面構造の一部を示す部分平面図。 本発明のメタルマスクユニットを具体化した第１実施形態におけるメタルマスクユニットの平面構造を示す平面図。 図５におけるＩＩ－ＩＩ線に沿う断面構造を示す断面図。 メタルマスク用基材の製造方法における金属シートを準備する工程を示す工程図。 メタルマスク用基材の製造方法における第１ドライフィルムレジストを露光する工程を示す工程図。 メタルマスク用基材の製造方法における第１ドライフィルムレジストを現像する工程を示す工程図。 メタルマスク用基材の製造方法における金属シートをエッチングする工程を示す工程図。 蒸着用メタルマスクの製造方法における第２ドライフィルムレジストを露光する工程を示す工程図。 蒸着用メタルマスクの製造方法における第２ドライフィルムレジストを現像する工程を示す工程図。 蒸着用メタルマスクの製造方法におけるメタルマスク用基材をエッチングする工程を示す工程図。 変形例におけるメタルマスク用基材の断面構造を示す断面図。 変形例におけるメタルマスク用基材の一部平面構造を示す部分平面図。 変形例におけるメタルマスク用基材の一部平面構造を示す部分平面図。 変形例におけるメタルマスク用基材の一部平面構造を示す部分平面図。 変形例におけるメタルマスク用基材の一部平面構造を示す部分平面図。 本発明のメタルマスク用基材を具体化した第２実施形態におけるメタルマスク用基材の一部断面構造を示す部分断面図。 メタルマスク用基材の製造方法における第３ドライフィルムレジストを露光する工程を示す工程図。 金属シートの表面と対向する平面視における第３マスクの平面構造を示す平面図。 メタルマスク用基材の製造方法における第３ドライフィルムレジストを現像する工程を示す工程図。 変形例におけるメタルマスク用基材の一部断面構造を示す部分断面図。 変形例におけるメタルマスク用基材の一部断面構造を示す部分断面図。

［第１実施形態］
図１から図１３を参照して、本発明のメタルマスク用基材、蒸着用メタルマスク、および、メタルマスクユニットを具体化した第１実施形態を説明する。以下では、メタルマスク用基材の構成、蒸着用メタルマスクの構成、メタルマスクユニットの構成、および、メタルマスク用基材の製造方法を含む蒸着用メタルマスクの製造方法を説明する。

なお、第１実施形態では、蒸着用メタルマスク、および、メタルマスクユニットの一例として、有機ＥＬディスプレイが備えるパネルに対して有機層を形成するときに用いられる蒸着用メタルマスク、および、メタルマスクユニットを説明する。

［メタルマスク用基材の構成］
図１および図２を参照して、メタルマスク用基材の構成を説明する。

図１が示すように、メタルマスク用基材１０は金属製であり、マスク領域と、マスク領域以外の領域である周辺領域とを備える蒸着用メタルマスクを形成するための単一のシート基材である。蒸着用メタルマスクにおいて、マスク領域は、複数のパネル用の蒸着を一括して行うための領域であり、各パネルは複数の画素を有する。

メタルマスク用基材１０は、表面１０Ｓと、表面１０Ｓとは反対側の面である裏面を備え、表面１０Ｓにおいて段差によって区画されたｎ個のマスク領域１１と、表面１０Ｓにおいてマスク領域１１以外の領域であるｎ個の周辺領域１２とを備えている。なお、ｎは１以上の整数である。

各マスク領域１１は、メタルマスク用基材１０が複数の蒸着用メタルマスクに加工されるとき、メタルマスク用基材１０の厚さ方向に沿ってマスク領域１１を貫通する複数のマスク孔が形成される領域である。各マスク孔は、蒸着用メタルマスクを用いて有機層を形成するときに、蒸着源から放出された有機材料を成膜対象に向けて通す孔である。

有機層が形成されるとき、マスク領域１１は、複数のパネル用の蒸着を一括して行うことが可能である。マスク領域１１は、複数のパネルを形成するための１つの成膜対象に対向する状態で用いられてもよいし、各々が１つのパネルに対応する複数の成膜対象に対向する状態で用いられてもよい。

これに対して、周辺領域１２は、メタルマスク用基材１０の中でマスク領域１１以外の領域、すなわち、蒸着用メタルマスクの備える複数のマスク孔が形成されない領域である。

メタルマスク用基材１０の延びる方向が第１方向Ｄ１であり、第１方向Ｄ１と直交する方向が第２方向Ｄ２である。メタルマスク用基材１０において、ｎ個の周辺領域１２は、第１方向Ｄ１に沿って連なっている。メタルマスク用基材１０において、１つのマスク領域１１と１つの周辺領域１２とから構成される領域が、１つの蒸着用メタルマスクに相当する。

蒸着用メタルマスクの製造には、製造装置としてロールツーロール装置が用いられる。第１方向Ｄ１は、メタルマスク用基材１０が複数の蒸着用メタルマスクに加工されるときに、メタルマスク用基材１０がロールツーロール装置において搬送される搬送方向に平行な方向である。

メタルマスク用基材１０は、第１方向Ｄ１に沿って延び、第２方向Ｄ２に沿って所定の幅を有するシート状を有している。メタルマスク用基材１０において、第１方向Ｄ１に沿う長さは、第２方向Ｄ２に沿う幅に比べて大幅に大きい。

表面１０Ｓにおいて、マスク領域１１は、第１方向Ｄ１および第２方向Ｄ２の各々に沿って所定の間隔を空けて並ぶ複数のマスク領域要素１１ａから構成され、周辺領域１２は、表面１０Ｓにおいて格子状を有している。

各マスク領域１１は、例えば６つのマスク領域要素１１ａから構成されている。表面１０Ｓと対向する平面視において、各マスク領域要素１１ａは四角形状を有し、Ｘ方向およびＹ方向に沿って等しい間隔を空けて並んでいる。複数のマスク領域要素１１ａは、表面１０Ｓの縁よりも内側であって、縁から所定の間隔だけ離れた部分に位置している。

周辺領域１２は、表面１０Ｓのうち、マスク領域１１以外の部分を埋める四方格子状を有し、周辺領域１２は、各マスク領域要素１１ａにおける周方向の全体を囲んでいる。

図２が示すように、各マスク領域要素１１ａでの厚さは、周辺領域１２での厚さよりも薄く、各マスク領域要素１１ａは、裏面１０Ｒから表面１０Ｓ向けた高さ位置が周辺領域１２よりも低い領域である。

こうしたメタルマスク用基材１０によれば、一様な厚さを有するメタルマスク用基材と比べて、周辺領域１２によって蒸着用メタルマスクにおける強度の低下を抑えることができ、かつ、マスク領域１１に対してマスク孔を高密度に形成することができる。そのため、蒸着用メタルマスクを用いた成膜を高精細化しつつ、蒸着用メタルマスクの強度の低下を抑えることができる。

メタルマスク用基材１０に対するマスク孔の形成は、ウェットエッチングによって行われる。ウェットエッチングはメタルマスク用基材１０において等方的に進行するエッチングであるため、メタルマスク用基材１０の厚さが厚いほど、メタルマスク用基材１０を貫通するためのエッチング量が大きい。それゆえに、マスク孔が延びる方向と直交する方向において、マスク孔が有する最小幅を所定の大きさとする前提では、最小幅以外の幅がマスク孔において大きくなる。

この点で、メタルマスク用基材１０によれば、マスク領域１１における厚さが周辺領域１２における厚さよりも薄い。そのため、メタルマスク用基材１０の全体が周辺領域１２と同じ厚さを有する構成と比べて、最小幅以外の幅が小さく、マスク孔を高密度に形成することができる。

一方で、メタルマスク用基材１０では、メタルマスク用基材１０が薄いほど、メタルマスク用基材１０の強度、ひいては、メタルマスク用基材１０を用いて形成された蒸着用メタルマスクの強度が低くなる。

この点で、メタルマスク用基材１０によれば、周辺領域１２における厚さがマスク領域１１における厚さよりも厚いため、メタルマスク用基材１０の全体がマスク領域１１と同じ厚さを有する構成と比べて、蒸着用メタルマスクの強度が低下することを抑えられる。

上述したように、表面１０Ｓと対向する平面視において、周辺領域１２は格子状を有している。そのため、各マスク領域１１の周りが周辺領域１２によって囲まれることによって、蒸着用メタルマスクの強度がマスク領域１１の周方向において高められる。

メタルマスク用基材１０において、マスク領域１１の厚さＴ１は、例えば１０μｍ以上３５μｍ以下であることが好ましく、周辺領域１２の厚さＴ２は、例えば１５μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましい。そして、マスク領域１１の厚さＴ１と周辺領域１２の厚さＴ２との差が段差（Ｔ２－Ｔ１）であり、段差（Ｔ２－Ｔ１）は、例えば２μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。

マスク領域１１の厚さＴ１が１０μｍ以上３５μｍ以下であれば、２５０ｐｐｉ以上７００ｐｐｉ以下の有機ＥＬディスプレイに対応する有機層を形成することが可能な蒸着用メタルマスクを形成することができる。

周辺領域１２の厚さＴ２は、周辺領域１２の全体においてほぼ一定であり、各マスク領域１１の厚さＴ１は、各マスク領域１１の全体においてほぼ一定である。

メタルマスク用基材１０の形成材料は、インバーであることが好ましい。インバーはニッケル鉄合金であって、３６質量％のニッケルを含む。インバーの熱膨張係数、すなわちメタルマスク用基材１０の熱膨張係数は、１．２×１０^－６／℃程度である。

蒸着用メタルマスクを用いて有機層を形成するときには、成膜対象に対する成膜の精度を高める上で、成膜対象の熱膨張係数と、蒸着用メタルマスクの熱膨張係数との差が小さいことが好ましい。

蒸着用メタルマスクを用いた成膜における成膜対象がガラス基板であれば、メタルマスク用基材１０の形成材料がインバーであることによって、他の金属や合金で形成された蒸着用メタルマスクと比べて、蒸着用メタルマスクとガラス基板との間における熱膨張係数の差が小さくなる。そのため、蒸着用メタルマスクを用いた成膜に際して、蒸着用メタルマスクおよびガラス基板が加熱されても、蒸着用メタルマスクとガラス基板との間にずれが生じにくくなり、結果として、ガラス基板に対する成膜の精度が高く保たれる。

［蒸着用メタルマスクの構成］
図３および図４を参照して、蒸着用メタルマスクの構成を説明する。なお、図３では、蒸着用メタルマスクが有する複数のマスク孔を図示する便宜上から、蒸着用メタルマスクにおけるマスク領域にドットが付されている。

図３が示すように、蒸着用メタルマスク２０は金属製であり、表面２０Ｓと、表面２０Ｓとは反対側の面である裏面とを備えている。蒸着用メタルマスク２０は、表面２０Ｓにおいて段差によって区画されたマスク領域２１と、表面２０Ｓにおいて、マスク領域２１以外の領域である周辺領域２２とを備えている。各マスク領域２１は、厚さ方向に沿って蒸着用メタルマスク２０を貫通する複数のマスク孔を有している。マスク領域２１は、複数のマスク領域要素２１ａから構成されている。

蒸着用メタルマスク２０において、表面２０Ｓがメタルマスク用基材１０の表面１０Ｓにおける一部に相当し、各マスク領域２１が、メタルマスク用基材１０の中の１つのマスク領域１１に相当し、各マスク領域要素２１ａが、メタルマスク用基材１０のうち、１つのマスク領域要素１１ａに相当する。周辺領域２２が、１つの周辺領域１２に相当する。

蒸着用メタルマスク２０において、マスク領域２１での厚さは、周辺領域２２での厚さよりも薄く、マスク領域２１は、裏面から表面２０Ｓに向けた高さ位置が周辺領域２２よりも低い領域である。

こうした蒸着用メタルマスク２０によれば、蒸着用メタルマスク２０がマスク領域２１と周辺領域２２とを備えるため、蒸着用メタルマスク２０を用いた成膜を高精細化しつつ、蒸着用メタルマスク２０の強度が低下することが抑えられる。

図４は、各マスク領域要素２１ａを裏面から見た平面構造を示している。
図４が示すように、各マスク領域要素２１ａは、複数のマスク孔２３を有している。蒸着用メタルマスク２０の裏面２０Ｒと対向する平面視において、各マスク孔２３は、第１方向Ｄ１に沿って延びる矩形状の領域を区画している。

複数のマスク孔２３は、裏面２０Ｒにおいて千鳥状に並んでいる。すなわち、第１方向Ｄ１に沿って並ぶ複数のマスク孔２３が１つの列を構成し、第１方向Ｄ１において、複数のマスク孔２３は、所定のピッチで並んでいる。そして、各列を構成する複数のマスク孔２３において、第１方向Ｄ１における位置が１列おきに互いに重なる。

一方で、第２方向Ｄ２において互いに隣り合う列では、一方の列を構成する複数のマスク孔２３における第１方向Ｄ１での位置に対して、他方の列を構成する複数のマスク孔２３における第１方向Ｄ１での位置が、１／２ピッチ程度ずれている。

［メタルマスクユニットの構成］
図５および図６を参照して、メタルマスクユニットの構成を説明する。なお、図５では、蒸着用メタルマスクが有する複数のマスク孔を図示する便宜上から、蒸着用メタルマスクにおけるマスク領域にドットが付されている。また、図６では、図示の便宜状から、複数のマスク孔の図示が省略されている。

図５が示すように、メタルマスクユニット３０は、蒸着用メタルマスク２０、支持部材３１、および、締結部材３２を備えている。

蒸着用メタルマスク２０は、上述した蒸着用メタルマスク２０であり、表面２０Ｓにおいて、マスク領域２１と、マスク領域２１以外の領域である周辺領域２２とを備えている。周辺領域２２は、表面２０Ｓの縁に位置する縁部分２２ａを含み、縁部分２２ａは、表面２０Ｓの縁における全体に位置している。

図６が示すように、縁部分２２ａは、厚さ方向に沿って縁部分２２ａを貫通する複数のマスク側貫通孔２２ｂを有している。複数のマスク側貫通孔２２ｂは、縁部分２２ａのうち、第１方向Ｄ１に沿って延びる部分に、所定の間隔を空けて並んでいる。

支持部材３１は、表面２０Ｓと対向する平面視において、縁部分２２ａと重なることによって蒸着用メタルマスク２０を支持している。支持部材３１は、各マスク側貫通孔２２ｂと１つずつ重なるように位置する複数の支持側貫通孔３１ａを有している。

支持部材３１は金属製であり、表面２０Ｓと対向する平面視において矩形枠状を有している。蒸着用メタルマスク２０がインバー製であるとき、支持部材３１もインバー製であることが好ましい。支持部材３１の厚さは例えば１００μｍであり、支持部材３１が１００μｍの厚さを有することによって、支持部材３１が蒸着用メタルマスク２０を支持する上で、支持部材３１の強度が好ましい大きさになる。

支持部材３１の縁は、表面２０Ｓの周方向の全体にわたって、表面２０Ｓの縁よりも外側に位置している。支持部材３１は開口３１ｂを有し、表面２０Ｓと対向する平面視において、開口３１ｂは、全てのマスク領域要素２１ａと重なっている。複数の支持側貫通孔３１ａは、表面２０Ｓと対向する平面視において、開口３１ｂの周りのうち、第１方向Ｄ１に沿って延びる部分に沿って所定の間隔を空けて並んでいる。

各締結部材３２は、１つのマスク側貫通孔２２ｂと、表面２０Ｓと対向する平面視において、そのマスク側貫通孔２２ｂと重なる支持側貫通孔３１ａとを通り、蒸着用メタルマスク２０と支持部材３１とを締結している。

各締結部材３２は、マスク側貫通孔２２ｂと支持側貫通孔３１ａとを通ることによって、蒸着用メタルマスク２０と支持部材３１とを締結するように構成された部材であればよい。マスク側貫通孔２２ｂおよび支持側貫通孔３１ａの各々は、支持部材３１に対して蒸着用メタルマスク２０を位置決めするための孔である。

蒸着用メタルマスク２０が、蒸着用メタルマスク２０と支持部材３１とを締結するための締結部材３２が通るマスク側貫通孔２２ｂを縁部分２２ａに有するため、蒸着用メタルマスク２０に対して締結用の貫通孔が形成されることによって、蒸着用メタルマスク２０の強度が低くなることが抑えられる。

なお、メタルマスクユニット３０が複数のパネル用の蒸着に用いられるとき、蒸着用メタルマスク２０の裏面２０Ｒが成膜対象と対向する状態で、メタルマスクユニット３０が用いられる。

［蒸着用メタルマスクの製造方法］
図７から図１３を参照して、蒸着用メタルマスク２０の製造方法を説明する。なお、以下では、図７から図１０を参照して、蒸着用メタルマスク２０の製造に用いられるメタルマスク用基材１０の製造方法を説明した後、図１１から図１３を参照して、メタルマスク用基材１０を用いた蒸着用メタルマスク２０の製造方法を説明する。また、図８および図９は、図７におけるＩＩＩ－ＩＩＩ線に沿う断面に対応する工程図であり、図１１から図１３は、図１０における領域Ａに対応する工程図である。

図７が示すように、メタルマスク用基材１０を製造するときには、まず、金属シート４０を準備する。金属シート４０はインバー製の金属シート４０であることが好ましい。金属シート４０は、例えば金属製の母材を圧延することによって、所定の厚さを有するように形成された金属圧延シートである。金属シート４０の厚さは、例えば１５μｍ以上４０μｍ以下である。

金属シート４０は表面４０Ｓを有し、表面４０Ｓにおいて仮想的に区画された複数のマスク区画４１と、マスク区画４１以外の領域である周辺区画４２とを備えている。各マスク区画４１は、メタルマスク用基材１０における１つのマスク領域要素１１ａに対応し、周辺区画４２は、メタルマスク用基材１０におけるｎ個の周辺領域１２に対応している。

図８が示すように、金属シート４０の表面４０Ｓにおける全体に、第１ドライフィルムレジストＤＲ１を貼り付け、第１ドライフィルムレジストＤＲ１のうち、金属シート４０に接する面とは反対側の面に、第１マスクＭ１を載せる。そして、第１マスクＭ１を用いて、第１ドライフィルムレジストＤＲ１を露光する。

第１ドライフィルムレジストＤＲ１の形成材料は、例えばネガ型のレジスト材料である。第１マスクＭ１は、金属シート４０の表面４０Ｓと対向する平面視において、複数の遮蔽部Ｍ１ａと、遮蔽部Ｍ１ａ以外の部分である透過部Ｍ１ｂとを備えている。遮蔽部Ｍ１ａは、第１ドライフィルムレジストＤＲ１に対する露光光を遮蔽し、透過部Ｍ１ｂは露光光を透過する。

金属シート４０の表面４０Ｓと対向する平面視において、金属シート４０のうち、各遮蔽部Ｍ１ａと重なる部分にマスク区画４１が位置し、透過部Ｍ１ｂと重なる位置に周辺区画４２が位置している。

図９が示すように、露光後の第１ドライフィルムレジストＤＲ１を現像し、第１レジストパターンＲＰ１を形成する。金属シート４０の表面４０Ｓと対向する平面視において、金属シート４０のうち、第１レジストパターンＲＰ１に重なる部分が周辺区画４２である。

図１０が示すように、第１レジストパターンＲＰ１を用いて金属シート４０をエッチングする。金属シート４０がインバー製であるとき、金属シート４０のエッチングには、例えば塩化第二鉄水溶液などを用いる。

これにより、表面１０Ｓを有するメタルマスク用基材１０であって、表面１０Ｓにおいて段差によって区画されたｎ個のマスク領域１１と、ｎ個の周辺領域１２とを備えるメタルマスク用基材１０を得ることができる。

図１１が示すように、メタルマスク用基材１０を用いて蒸着用メタルマスク２０を製造するときには、まず、メタルマスク用基材１０の表面１０Ｓに、第２ドライフィルムレジストＤＲ２を貼り付ける。そして、第２ドライフィルムレジストＤＲ２のうち、メタルマスク用基材１０に接する面とは反対側の面に、第２マスクＭ２を載せ、第２マスクＭ２を用いて第２ドライフィルムレジストＤＲ２を露光する。第２ドライフィルムレジストＤＲ２の形成材料は、第１ドライフィルムレジストＤＲ１と同様、例えばネガ型のレジスト材料である。

第２マスクＭ２は、複数の遮蔽部Ｍ２ａと、遮蔽部Ｍ２ａ以外の部分である透過部Ｍ２ｂとを備えている。遮蔽部Ｍ２ａは、第２ドライフィルムレジストＤＲ２の露光光を遮蔽し、透過部Ｍ２ｂは露光光を透過する。

第２マスクＭ２とメタルマスク用基材１０とが重なる方向において、メタルマスク用基材１０のうち、各遮蔽部Ｍ２ａと重なる位置にメタルマスク用基材１０を貫通する貫通孔が位置する。

上述したように、マスク領域１１と周辺領域１２との段差（Ｔ２－Ｔ１）は、２μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。段差（Ｔ２－Ｔ１）がこうした範囲に含まれることにより、メタルマスク用基材１０の表面１０Ｓが段差面であっても、段差において、第２ドライフィルムレジストＤＲ２とメタルマスク用基材１０の表面１０Ｓとの間の隙間が、過度に大きくなることが抑えられる。

第２ドライフィルムレジストＤＲ２の厚さは、例えば５μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。

第２ドライフィルムレジストＤＲ２がメタルマスク用基材１０に貼り付けられるとき、第２ドライフィルムレジストＤＲ２は、ロールによってメタルマスク用基材１０に押し付けられる。このとき、第２ドライフィルムレジストＤＲ２が有する柔軟性によって、メタルマスク用基材１０における段差（Ｔ２－Ｔ１）が吸収される。そのため、第２ドライフィルムレジストＤＲ２のうち、メタルマスク用基材１０に接する面とは反対側の面がほぼ平坦になる。それゆえに、第２ドライフィルムレジストＤＲ２に第２マスクＭ２を密着させた状態で、第２ドライフィルムレジストＤＲ２の露光を行うことができる。

図１２が示すように、露光後の第２ドライフィルムレジストＤＲ２を現像し、第２レジストパターンＲＰ２を形成する。マスク領域１１のうち、第２レジストパターンＲＰ２の開口ＲＰ２ａと重なる位置に貫通孔が形成される。

図１３が示すように、第２レジストパターンＲＰ２を用いてメタルマスク用基材１０をエッチングする。メタルマスク用基材１０がインバー製であるとき、メタルマスク用基材１０のエッチングには、例えば塩化第二鉄水溶液などを用いる。

これにより、メタルマスク用基材１０の厚さ方向に沿って、メタルマスク用基材１０を貫通する複数の貫通孔１３が形成される。貫通孔１３では、第２方向Ｄ２に沿う幅が、裏面１０Ｒにおいて最も小さく、かつ、裏面１０Ｒから表面１０Ｓに向かう方向に沿って次第に大きくなる。

そして、メタルマスク用基材１０から第２レジストパターンＲＰ２を除去し、メタルマスク用基材１０の一部を所定の形状を有するように、メタルマスク用基材１０から第２方向Ｄ２に沿って切り離すことによって、図３を用いて先に説明した蒸着用メタルマスク２０を得ることができる。

以上説明したように、メタルマスク用基材、蒸着用メタルマスク、および、メタルマスクユニットの第１実施形態によれば、以下に列挙する効果を得ることができる。

（１）一様な厚さを有するメタルマスク用基材１０と比べて、周辺領域１２によって蒸着用メタルマスク２０における強度の低下を抑えることができ、かつ、マスク領域１１に対してマスク孔２３を高密度に形成することができる。そのため、蒸着用メタルマスク２０を用いた成膜を高精細化しつつ、蒸着用メタルマスク２０の強度の低下を抑えることができる。

（２）各マスク領域要素１１ａの周りが周辺領域１２によって囲まれるため、蒸着用メタルマスク２０の強度が各マスク領域要素１１ａの周方向において高められる。

（３）メタルマスク用基材１０がインバー製であれば、ガラス基板に対する成膜の精度が高く保たれる。

（４）蒸着用メタルマスク２０と支持部材３１とを締結するための締結部材３２が通るマスク側貫通孔２２ｂを蒸着用メタルマスク２０が縁部分２２ａに有するため、蒸着用メタルマスク２０に対して締結用の貫通孔が形成されることによって、蒸着用メタルマスク２０の強度が低くなることが抑えられる。

［第１実施形態の変形例］
なお、上述した第１実施形態は、以下のように適宜変更して実施することもできる。
・金属シート４０の形成材料、ひいては、メタルマスク用基材１０および蒸着用メタルマスク２０の形成材料は、インバー以外の金属であってもよく、例えば、ニッケル鉄合金であって、インバーとは異なる割合でニッケルと鉄とを含む合金であってもよい。あるいは、金属シート４０の形成材料は、ニッケルおよび鉄以外の金属であってもよいし、ニッケルおよび鉄以外の２種類以上の金属を含む合金であってもよい。

・図１４が示すように、メタルマスク用基材５０において、マスク領域５１は、裏面５０Ｒから表面５０Ｓに向けた高さ位置に加えて、表面５０Ｓから裏面５０Ｒに向けた高さ位置が周辺領域５２よりも低い領域であってもよい。すなわち、各マスク領域要素５１ａは、裏面５０Ｒから表面５０Ｓに向けた高さ位置に加えて、表面５０Ｓから裏面５０Ｒに向けた高さ位置が周辺領域５２よりも低い領域であってもよい。

こうした構成によれば、以下に記載の効果を得ることができる。
（５）メタルマスク用基材５０の表面５０Ｓおよび裏面５０Ｒの両方が段差面であるため、メタルマスク用基材５０においてエッチングの対象となる面を誤ることによって、メタルマスク用基材５０が所望の形状にエッチングされないことを抑えることが可能である。それゆえに、蒸着用メタルマスク２０の製造における歩留まりが低くなることを抑えることができる。

（６）メタルマスク用基材５０の表面５０Ｓおよび裏面５０Ｒの両方をエッチングすることによって、メタルマスク用基材５０の厚さをより薄くすることが可能になり、結果として、メタルマスク用基材５０を用いた蒸着用メタルマスクをより高精細化することが可能にもなる。

・各マスク領域要素１１ａは、表面１０Ｓと対向する平面視において、四角形状以外の多角形形状や円形状を有してもよい。また、第１方向Ｄ１におけるマスク領域要素１１ａ間の距離、および、第２方向Ｄ２におけるマスク領域要素１１ａ間の距離の少なくとも一方には、互いに異なる２つ以上の値が含まれてもよい。こうした構成であっても、メタルマスク用基材１０が、マスク領域１１と周辺領域１２とを備える以上は、上述した（１）と同等の効果を得ることはできる。

・図１５が示すように、メタルマスク用基材６０の表面６０Ｓにおいて、マスク領域６１は、第２方向Ｄ２に沿って延びるとともに、第１方向Ｄ１において間隔を空けて並ぶ複数のマスク領域要素６１ａから構成されてもよい。周辺領域６２は、第２方向Ｄ２に沿って延びるとともに、第１方向Ｄ１において間隔を空けて並ぶ複数の周辺領域要素６２ａから構成されてもよい。そして、マスク領域要素６１ａと周辺領域要素６２ａとは、第１方向Ｄ１において交互に並んでいてもよい。すなわち、メタルマスク用基材６０を用いて形成された蒸着用メタルマスクにおいて、表面の縁の一部のみに周辺領域要素が位置してもよい。

表面６０Ｓと対向する平面視において、マスク領域要素６１ａは、矩形状を有して第１方向Ｄ１において等間隔で並び、全てのマスク領域要素６１ａにおいて、第１方向Ｄ１に沿う長さが等しい。１つのマスク領域６１は、例えば２つのマスク領域要素６１ａから構成され、かつ、１つの周辺領域６２は、例えば３つの周辺領域要素６２ａから構成されている。

マスク領域６１のうち、有機層が形成されるときに１つのパネルに対応する部分が仮想的な領域であるパネル領域６１ｐであり、各マスク領域要素６１ａは、３つのパネル領域６１ｐを含んでいる。なお、各マスク領域要素６１ａは、３以外の複数のパネル領域６１ｐを含んでもよい。

金属シートを用いたメタルマスク用基材６０の製造や、メタルマスク用基材６０を用いた蒸着用メタルマスクの製造には、上述したように、ロールツーロール装置が用いられる。メタルマスク用基材６０は、メタルマスク用基材６０が完成した直後や、メタルマスク用基材６０を用いて蒸着用メタルマスクを製造する複数の工程間において、巻芯に巻き取られることがある。

メタルマスク用基材６０が巻芯に巻き取られるときには、メタルマスク用基材６０が巻芯に巻き取られるに従って、巻芯とメタルマスク用基材６０とを含む柱状体の直径が大きくなる。そのため、各周辺領域要素６２ａが、メタルマスク用基材６０の延びる方向である第１方向Ｄ１と直交する第２方向Ｄ２に沿って延びていれば、巻芯の周方向において、各周辺領域要素６２ａが他の周辺領域要素６２ａと重なりにくくなる。

こうした構成によれば、以下に記載の効果を得ることができる。
（７）周辺領域要素６２ａが第２方向Ｄ２に沿って延びるため、蒸着用メタルマスクの製造においてメタルマスク用基材６０が巻芯に巻き取られるとき、巻芯の周方向において各周辺領域要素６２ａが他の周辺領域要素６２ａに重なりにくく、それゆえに、巻芯に対するメタルマスク用基材６０の巻きずれを抑えることができる。ひいては、巻きずれによってメタルマスク用基材６０が損傷することが抑えられる。

・図１５を用いて先に説明したメタルマスク用基材６０において、第１方向Ｄ１におけるマスク領域要素６１ａ間の距離には、互いに異なる２つ以上の距離が含まれてもよく、言い換えれば、第１方向Ｄ１に沿う周辺領域要素６２ａの長さには、互いに異なる２つ以上の距離が含まれてもよい。また、複数のマスク領域要素６１ａには、第１方向Ｄ１に沿う長さが互いに異なる２種以上のマスク領域要素６１ａが含まれてもよい。こうした構成であっても、各周辺領域要素６２ａが第２方向Ｄ２に沿って延びる以上は、上述した（７）と同等の効果を得ることはできる。

・図１６が示すように、メタルマスク用基材７０の表面７０Ｓにおいて、マスク領域７１は、第１方向Ｄ１に沿って延びるとともに、第２方向Ｄ２において間隔を空けて並ぶ複数のマスク領域要素７１ａから構成されてもよい。そして、周辺領域７２は、第１方向Ｄ１に沿って延びるとともに、第２方向Ｄ２において間隔を空けて並ぶ複数の周辺領域要素７２ａから構成され、第２方向Ｄ２において、マスク領域要素７１ａと周辺領域要素７２ａとが交互に並んでいてもよい。すなわち、メタルマスク用基材７０を用いて形成された蒸着用メタルマスクにおいて、表面の縁の一部のみに周辺領域要素が位置してもよい。

表面７０Ｓにおいて、複数のマスク領域要素７１ａは、矩形状を有して第２方向Ｄ２に沿って等間隔で並び、全てのマスク領域要素７１ａにおいて、第２方向Ｄ２に沿う幅が等しい。また、表面７０Ｓにおいて、複数の周辺領域要素７２ａも、矩形状を有して第２方向Ｄ２に沿って等間隔で並び、全ての周辺領域要素７２ａにおいて、第２方向Ｄ２に沿う長さが等しい。

各マスク領域要素７１ａは、仮想的な領域である２つのパネル領域７１ｐを含んでいるが、２以外の複数のパネル領域７１ｐを含んでもよい。

こうした構成であっても、メタルマスク用基材７０が周辺領域７２を有する以上は、上述した（１）と同等の効果を得ることはできる。ただし、メタルマスク用基材７０が巻芯に巻き取られるときには、巻芯の回転軸が延びる方向において、各周辺領域要素７２ａの位置が固定される。そのため、巻芯の回転軸が延びる方向において、柱状体のうち、周辺領域要素７２ａを含む部分における直径が、マスク領域要素７１ａを含む部分における直径よりも大きくなる。

それゆえに、巻芯に巻かれたメタルマスク用基材７０に対して、巻芯の回転軸が延びる方向に沿う力が作用すると、巻芯に対するメタルマスク用基材７０の巻きずれが生じる場合がある。

図１５を用いて先に説明したメタルマスク用基材６０によれば、上述したように、こうした巻芯に対するメタルマスク用基材６０の巻きずれが抑えられる点で、メタルマスク用基材７０よりも好ましい。

・図１６を用いて先に説明したメタルマスク用基材７０において、第２方向Ｄ２におけるマスク領域要素７１ａ間の距離には、互いに異なる２つ以上の距離が含まれていてもよい。言い換えれば、複数の周辺領域要素７２ａには、第２方向Ｄ２に沿う長さが互いに異なる２種類以上の周辺領域要素７２ａが含まれてもよい。また、複数のマスク領域要素７１ａには、第２方向Ｄ２に沿う長さが互いに異なる２種以上のマスク領域要素７１ａが含まれてもよい。

・第１実施形態におけるメタルマスク用基材１０、図１５を用いて先に説明したメタルマスク用基材６０、および、図１６を用いて先に説明したメタルマスク用基材７０では、第１方向Ｄ１および第２方向Ｄ２の両方に沿って、メタルマスク用基材から蒸着用メタルマスクを切り離してもよい。

言い換えれば、第１実施形態におけるメタルマスク用基材１０において、例えば、第１方向Ｄ１に沿って一列に並ぶ複数のマスク領域要素１１ａが１つのマスク領域１１として設定されてもよい。そして、表面１０Ｓと対向する平面視において、各マスク領域要素１１ａを囲む領域であって、第１方向Ｄ１に沿って延びるはしご状を有する部分が周辺領域１２として設定されてもよい。

また、図１５を用いて先に説明したメタルマスク用基材６０において、例えば、第１方向Ｄ１に沿って一列に並ぶ複数のマスク領域要素６１ａが１つのマスク領域６１として設定されてもよい。そして、第１方向Ｄ１においてマスク領域６１を挟む２つの周辺領域要素６２ａが周辺領域として設定されてもよい。

さらにまた、図１６を用いて先に説明したメタルマスク用基材７０において、例えば、第１方向Ｄ１に沿って並ぶ複数のパネル領域７１ｐを含む１つのマスク領域要素７１ａが１つのマスク領域７１として設定されてもよい。そして、第２方向Ｄ２においてマスク領域７１を挟む周辺領域要素７２ａが、周辺領域７２として設定されてもよい。

こうした構成のいずれであっても、メタルマスク用基材がマスク領域と周辺領域とを備える以上は、上述した（１）と同等の効果を得ることはできる。

・図１７が示すように、メタルマスク用基材８０は、第１方向Ｄ１に沿って並ぶｎ個のマスク領域８１と、各マスク領域８１の周りを囲むｎ個の周辺領域８２とを備えてもよい。

表面８０Ｓと対向する平面視において、各マスク領域８１は矩形状を有し、第１方向Ｄ１に沿って等しい間隔を空けて並んでいる。周辺領域８２は、表面８０Ｓと対向する平面視において、矩形環状を有している。各マスク領域８１は、仮想的な領域である例えば６つのパネル領域８１ｐを含んでいるが、６以外の複数のパネル領域８１ｐを含んでもよい。
こうした構成によっても、上述した（１）および（２）と同等の効果を得ることはできる。

・図１８が示すように、メタルマスク用基材１０は、複数のセンサーマーク１４を表面１０Ｓに有してもよい。各センサーマーク１４は、例えば、表面１０Ｓにおける他の部分と比べて、表面粗さを大きくした部分である。

周辺領域１２のうち、表面１０Ｓの縁に位置する部分が縁部分１２ａであり、複数のセンサーマーク１４は、縁部分１２ａにおいて、第１方向Ｄ１に沿って等しい間隔を空けて並んでいる。第１方向Ｄ１において、複数のセンサーマーク１４の並ぶピッチがマークピッチＰである。

蒸着用メタルマスク２０を製造するためのロールツーロール装置は、センサーマーク１４を検出する検出部と、第２ドライフィルムレジストＤＲ２に対して露光光を照射する露光部とを備えている。

第２ドライフィルムレジストＤＲ２を露光する工程において、露光部は、１回の露光によって、第１方向Ｄ１における所定の長さに含まれる第２ドライフィルムレジストＤＲ２にのみ露光光を照射することができる。マークピッチＰは、第１方向Ｄ１において、１回の露光によって光を照射することが可能な長さに等しい。

検出部は、蒸着用メタルマスクに対して光を当てる照射部と、蒸着用メタルマスクから射出された光を受ける受光部とを備えている。検出部において、照射部と受光部とは同軸上に位置してもよく、照射部と受光部とが位置する軸は、メタルマスク用基材１０の表面１０Ｓと所定の角度を形成している。または、照射部の位置する軸と、受光部の位置する軸とは、メタルマスク用基材１０の表面１０Ｓと形成する角度が互いに異なってもよく、この場合には、受光部は、照射部がメタルマスク用基材１０に向けて照射した光の正反射方向に重ならないように位置する必要がある。

照射部と受光部とが同軸上に位置する構成では、照射部が、メタルマスク用基材１０のうち、センサーマーク１４以外の部分に光を当てたときには、メタルマスク用基材１０に当たった光はほぼ正反射するため、受光部は、メタルマスク用基材１０の射出した光のほとんどを受けることができない。これに対して、照射部がセンサーマークに光を当てたときには、センサーマーク１４に当たった光が散乱するため、受光部が受ける光の光量が、照射部がセンサーマーク以外の部分に光を当てたときよりも大きくなる。検出部は、こうした光量の違いに基づき、センサーマーク１４を検出することができる。

ロールツーロール装置は、第２ドライフィルムレジストＤＲ２を露光する工程において、露光部に対して、マークピッチＰごとにメタルマスク用基材１０を搬送する。これにより、露光部は、第１方向Ｄ１に沿って隙間が形成されないように第２ドライフィルムレジストＤＲ２に対して露光光を照射することができる。

・複数のマスク孔２３は、第１方向Ｄ１および第２方向Ｄ２の各々に沿って等間隔で並んでいてもよい。

・各マスク領域要素２１ａにおいて、蒸着用メタルマスク２０における他の部分よりも厚さの薄い領域における縁が、マスク領域要素２１ａの縁である。マスク領域要素２１ａの縁と、そのマスク領域要素２１ａ内に位置するマスク孔２３との間の距離は、マスク孔２３の繰り返される距離であるピッチよりも大きいことが好ましい。また、マスク領域要素２１ａの縁と、そのマスク領域要素２１ａ内に位置するマスク孔２３との間の距離は、マスク孔２３の繰り返される距離であるピッチの２倍よりも大きいことが好ましい。

ここで、マスク領域要素１１ａの縁やその周辺は、上述したように、ドライフィルムレジストの剥がれや、マスク領域要素１１ａと周辺領域１２との段差に追従したドライフィルムレジストの折れなどが生じやすい部位であり、マスク領域要素１１ａの中央などと比べて、そこにおける加工の精度も低くなりやすい。

この点で、マスク領域要素２１ａの縁と、そのマスク領域要素２１ａ内に位置するマスク孔２３との間の距離が、マスク孔２３の繰り返される距離であるピッチよりも大きい、さらには、ピッチの２倍よりも大きい構成であれば、マスク孔２３における加工精度の低下を抑えることが可能ともなる。

・複数のマスク側貫通孔２２ｂは、蒸着用メタルマスク２０の縁における周方向の全体に位置してもよい。あるいは、複数のマスク側貫通孔２２ｂは、蒸着用メタルマスク２０の縁のうち、表面２０Ｓと対向する平面視において、第２方向Ｄ２において向かい合う部分のみに位置してもよい。
こうした構成においても、複数のマスク側貫通孔２２ｂが縁部分２２ａに位置する以上は、上述した（４）と同等の効果を得ることはできる。

・支持部材３１は、矩形枠状を有する構成に限らず、例えば、第１方向Ｄ１に沿って並ぶ２つの部材から構成されてもよいし、第２方向Ｄ２に沿って並ぶ２つの部材から構成されてもよい。あるいは、支持部材３１は、第１方向Ｄ１と交差する方向に沿って並ぶ２つの部材によって構成されてもよい。

・金属シート４０は、圧延によって所定の厚さを有するように引き延ばされたシートに限らず、他の方法、例えばウェットエッチングによって所定の厚さを有するようにエッチングされた金属シートであってもよい。また、金属シート４０は、電気鋳造製の金属シートであってもよいし、電解めっき製の金属シートであってもよい。

・メタルマスク用基材１０をエッチングするときには、マスク領域要素１１ａごとに１枚のドライフィルムレジストを貼り付けてもよい。こうした構成であれば、ドライフィルムレジストの厚さが、上述した段差（Ｔ２－Ｔ１）以下であることによって、ドライフィルムレジストが貼り付けられた後において、メタルマスク用基材１０の表面１０Ｓにおける段差を小さくすることができる。

なお、マスク領域要素１１ａごとにドライフィルムレジストを貼り付ける場合であれば、段差（Ｔ２－Ｔ１）は、５μｍ以上１５μｍ以下の範囲であってもよい。こうした場合でも、ドライフィルムレジストが貼り付けられたメタルマスク用基材１０において、メタルマスク用基材１０の表面１０Ｓの一部とドライフィルムレジストとによって構成される面をほぼ平坦な面とすることが可能になる。そのため、ドライフィルムレジストとマスクとを密着させた状態で、ドライフィルムレジストを露光することが可能にもなる。

・第１ドライフィルムレジストＤＲ１の形成材料、および、第２ドライフィルムレジストＤＲ２の形成材料は、ポジ型のレジスト材料であってもよい。また、金属シート４０およびメタルマスク用基材１０の各々のエッチングに用いられるレジストは、ドライフィルムレジストに限らず、金属シート４０の表面４０Ｓ、および、メタルマスク用基材１０の表面１０Ｓに対して、レジスト材料を含む塗液が塗布されることによって形成されてもよい。

［第２実施形態］
図１９から図２２を参照して、本発明のメタルマスク用基材、蒸着用メタルマスク、および、メタルマスクユニットの第２実施形態を説明する。なお、第２実施形態は、第１実施形態と比べて、メタルマスク用基材におけるマスク領域と周辺領域との境界の形状が異なり、ひいては、蒸着用メタルマスクにおけるマスク領域と周辺領域との境界の形状が異なっている。

そのため、以下では、こうした相違点を詳しく説明し、メタルマスク用基材、蒸着用メタルマスク、および、メタルマスクユニットの各々におけるそれ以外の部分の説明を省略する。また、蒸着用メタルマスクにおけるマスク領域と周辺領域との境界の形状は、メタルマスク用基材におけるマスク領域と周辺領域との境界の形状に相当するため、以下では、メタルマスク用基材の構成と、メタルマスク用基材の製造方法とのみを詳しく説明する。

［メタルマスク用基材の構成］
図１９を参照してメタルマスク用基材の構成を説明する。
図１９が示すように、メタルマスク用基材９０は、第１実施形態のメタルマスク用基材１０と同様、表面９０Ｓにおいて段差によって区画されたｎ個のマスク領域９１と、ｎ個の周辺領域９２を備えている。

各マスク領域９１は、裏面９０Ｒから表面９０Ｓに向けた高さ位置が周辺領域９２よりも低い領域である。周辺領域９２の中で、マスク領域９１に繋がる部分は傾斜領域９２ａであり、傾斜領域９２ａにおいて、マスク領域９１に近い部位ほど厚さが薄い。周辺領域９２の中で、傾斜領域９２ａ以外の領域が平坦領域９２ｂであり、平坦領域９２ｂの厚さは、平坦領域９２ｂの全体においてほぼ等しい。

メタルマスク用基材９０では、マスク領域９１と周辺領域９２との間の段差において、周辺領域９２の厚さがマスク領域９１の厚さに向けて徐々に小さくなる。そのため、蒸着用メタルマスクの製造に際して、メタルマスク用基材９０をエッチングするときにドライフィルムレジストを用いても、マスク領域９１と周辺領域９２との段差において、ドライフィルムレジストとメタルマスク用基材９０との間に隙間が生じることが抑えられる。それゆえに、メタルマスク用基材９０がエッチングされる間に、ドライフィルムレジストの一部がメタルマスク用基材９０から剥がれることが抑えられる。

傾斜領域９２ａにおける厚さの変化量は、傾斜領域９２ａのうち、マスク領域９１に近い部位ほど大きい。そのため、傾斜領域９２ａにおける厚さの変化量が、傾斜領域９２ａのうち、平坦領域９２ｂに近い部位ほど大きい構成と比べて、周辺領域９２からマスク領域９１に向かう方向において、平坦領域９２ｂと傾斜領域９２ａとの境界において、傾斜領域９２ａの厚さが急激に変わりにくい。それゆえに、マスク領域９１と周辺領域９２との段差において、ドライフィルムレジストとメタルマスク用基材９０との間に隙間がより形成されにくくなる。

［メタルマスク用基材の製造方法］
図２０および図２２を参照して、メタルマスク用基材９０の製造方法を説明する。以下では、メタルマスク用基材の製造方法のうち、ドライフィルムレジストを露光する工程と、ドライフィルムレジストを現像する工程とを説明する。

図２０が示すように、メタルマスク用基材９０を製造する際には、まず、金属シート１００を準備し、金属シート１００の表面１００Ｓに第３ドライフィルムレジストＤＲ３を貼り付ける。第３ドライフィルムレジストＤＲ３の形成材料は、第１ドライフィルムレジストと同様、ネガ型のレジスト材料である。そして、第３ドライフィルムレジストＤＲ３のうち、金属シート１００に接する面とは反対側の面に第３マスクＭ３を載せる。

第３マスクＭ３は、複数の遮蔽部Ｍ３ａ、複数の網点部Ｍ３ｂ、および、透過部Ｍ３ｃを備えている。金属シート１００の表面１００Ｓと対向する平面視において、金属シート１００のうち、第３マスクＭ３の遮蔽部Ｍ３ａと重なる部分がマスク区画１０１であり、網点部Ｍ３ｂと重なる部分が傾斜区画１０２であり、透過部Ｍ３ｃと重なる部分が平坦区画１０３である。

図２１には、金属シート１００の表面１００Ｓと対向する平面視における第３マスクＭ３の平面構造が示されている。なお、図２１では、第３マスクＭ３の各部分における光の透過度合いの違いを図示する便宜上から、第３マスクＭ３の一部にドットが付されている。

図２１が示すように、第３マスクＭ３は、複数の遮蔽部Ｍ３ａ、複数の網点部Ｍ３ｂ、および、透過部Ｍ３ｃを有している。金属シート１００の表面１００Ｓと対向する平面視において、複数の遮蔽部Ｍ３ａは、第１方向Ｄ１および第２方向Ｄ２の各々に沿って等間隔で並び、各網点部Ｍ３ｂは、他の全ての網点部Ｍ３ｂとは異なる１つの遮蔽部Ｍ３ａの周りを囲んでいる。第３マスクＭ３において、遮蔽部Ｍ３ａおよび網点部Ｍ３ｂ以外の部分が透過部Ｍ３ｃである。

網点部Ｍ３ｂは、金属シート１００の表面１００Ｓと対向する平面視において、複数の遮蔽部分と、複数の遮蔽部分以外の透過部分とを備えている。各遮蔽部分と透過部分とは第３マスクＭ３の厚さ方向の全体にわたって位置している。網点部Ｍ３ｂにおいて、遮蔽部Ｍ３ａに近い部位ほど、網点部Ｍ３ｂに占める遮蔽部分の密度が高い。

第３マスクＭ３を用いて第３ドライフィルムレジストＤＲ３を露光すると、金属シート１００の表面１００Ｓと対向する平面視において、第３ドライフィルムレジストＤＲ３のうち、網点部Ｍ３ｂと重なる部分では、遮蔽部Ｍ３ａと重なる部分に近い部位ほど、単位面積当たりの光の照射量が小さくなる。

図２２が示すように、第３ドライフィルムレジストＤＲ３を現像すると、第３レジストパターンＲＰ３が形成される。第３レジストパターンＲＰ３は、第３マスクＭ３の網点部Ｍ３ｂを介して露光された部分である網点レジスト部ＲＰ３ａと、第３マスクＭ３の透過部Ｍ３ｃを介して露光された部分であるレジスト部ＲＰ３ｂとを備えている。

網点レジスト部ＲＰ３ａでは、レジスト部ＲＰ３ｂに近い部位ほど、金属シート１００の表面１００Ｓと対向する平面視において、単位面積当たりにおけるレジスト材料の占める面積が大きい。

そのため、こうした第３レジストパターンＲＰ３を用いて金属シート１００をエッチングすることによって、図１９を用いて先に説明したメタルマスク用基材９０、すなわち、傾斜領域９２ａを含む周辺領域９２を有したメタルマスク用基材９０を形成することができる。

また、こうしたメタルマスク用基材９０を用いて蒸着用メタルマスクを製造することによって、周辺領域の中で、マスク領域に繋がる部分に傾斜領域を有した蒸着用メタルマスクを製造することができる。

以上説明したように、メタルマスク用基材、蒸着用メタルマスク、および、メタルマスクユニットの第２実施形態によれば、上述した第１実施形態の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。

（８）マスク領域９１と周辺領域９２との段差において、ドライフィルムレジストとメタルマスク用基材９０との間に隙間が生じることが抑えられるため、メタルマスク用基材９０がエッチングされる間に、ドライフィルムレジストの一部がメタルマスク用基材９０から剥がれることが抑えられる。

［第２実施形態の変形例］
なお、上述した第２実施形態は、以下のように適宜変更して実施することもできる。
・図２３が示すように、メタルマスク用基材１１０の備える周辺領域１１２のうち、マスク領域１１１に繋がる傾斜領域１１２ａは、以下の構成であってもよい。すなわち、傾斜領域１１２ａにおいて、マスク領域１１１に近い部位ほど厚さが薄く、かつ、平坦領域１１２ｂに近い部位ほど、厚さの変化量が大きい構成であってもよい。

こうした構成であっても、メタルマスク用基材１１０が傾斜領域１１２ａを有する以上は、上述した（８）と同等の効果を得ることはできる。ただし、上述したように、マスク領域と周辺領域との段差において、ドライフィルムレジストの剥がれを抑える上では、傾斜領域において、平坦領域に近い部位ほど、厚さの変化量が小さいことが好ましい。

・図２４が示すように、メタルマスク用基材１２０の備える周辺領域１２２のうち、マスク領域１２１に繋がる傾斜領域１２２ａは、以下の構成であってもよい。すなわち、傾斜領域１２２ａにおいて、マスク領域１２１に近い部位ほど厚さが薄く、かつ、平坦領域１２２ｂに繋がる部分からマスク領域１２１に繋がる部分までにわたって、厚さの変化量が一定であってもよい。こうした構成であっても、メタルマスク用基材１０が傾斜領域１２２ａを有する以上は、上述した（８）と同等の効果を得ることはできる。

・メタルマスク用基材は、傾斜領域として、第２実施形態にて説明した傾斜領域、図２３を用いて先に説明した傾斜領域、および、図２４を用いて先に説明した傾斜領域のうちの２つ以上を備えてもよい。こうした構成であっても、メタルマスク用基材が傾斜領域を有する以上は、上述した（８）と同等の効果を得ることはできる。

・第２実施形態におけるメタルマスク用基材９０、図２３を用いて先に説明したメタルマスク用基材１１０、および、図２４を用いて先に説明したメタルマスク用基材１２０の各々では、傾斜領域と傾斜領域に繋がるマスク領域要素との境界が、マスク領域要素の縁である。そして、メタルマスク用基材９０，１１０，１２０を用いて形成された蒸着用メタルマスクにおいても、第１実施形態の蒸着用メタルマスク２０と同様、マスク領域要素の縁と、そのマスク領域要素内に位置するマスク孔との間の距離は、マスク孔の繰り返される距離であるピッチよりも大きいことが好ましい。また、マスク領域要素の縁と、そのマスク領域要素内に位置するマスク孔との間の距離は、マスク孔の繰り返される距離であるピッチの２倍よりも大きいことが好ましい。

・第３ドライフィルムレジストＤＲ３の形成材料は、ポジ型のレジスト材料であってもよい。また、メタルマスク用基材９０のエッチングに用いられるレジストは、ドライフィルムレジストに限らず、メタルマスク用基材９０に対して、レジスト材料を含む塗液が塗布されることによって形成されてもよい。
・第２実施形態の構成、および、第２実施形態の変形例の構成の各々は、第１実施形態の変形例の構成と適宜組み合わせて実施することもできる。

１０，５０，６０，７０，８０，９０，１１０，１２０…メタルマスク用基材、１０Ｓ，２０Ｓ，４０Ｓ，５０Ｓ，６０Ｓ，７０Ｓ，８０Ｓ，９０Ｓ，１００Ｓ…表面、１０Ｒ，２０Ｒ，５０Ｒ，９０Ｒ…裏面、１１，２１，５１，６１，７１，８１，９１，１１１，１２１…マスク領域、１１ａ，２１ａ，５１ａ，６１ａ，７１ａ…マスク領域要素、１２，２２，５２，６２，７２，８２，９２，１１２，１２２…周辺領域、１２ａ，２２ａ…縁部分、１３…貫通孔、１４…センサーマーク、２０…蒸着用メタルマスク、２２ｂ…マスク側貫通孔、２３…マスク孔、３０…メタルマスクユニット、３１…支持部材、３１ａ…支持側貫通孔、３１ｂ，ＲＰ２ａ…開口、３２…締結部材、４０，１００…金属シート、４１，１０１…マスク区画、４２…周辺区画、６１ｐ，７１ｐ，８１ｐ…パネル領域、６２ａ，７２ａ…周辺領域要素、９２ａ，１１２ａ，１２２ａ…傾斜領域、９２ｂ，１１２ｂ，１２２ｂ…平坦領域、１０２…傾斜区画、１０３…平坦区画、ＤＲ１…第１ドライフィルムレジスト、ＤＲ２…第２ドライフィルムレジスト、ＤＲ３…第３ドライフィルムレジスト、Ｍ１…第１マスク、Ｍ２…第２マスク、Ｍ３…第３マスク、Ｍ１ａ，Ｍ２ａ，Ｍ３ａ…遮蔽部、Ｍ１ｂ，Ｍ２ｂ，Ｍ３ｃ…透過部、Ｍ３ｂ…網点部、ＲＰ１…第１レジストパターン、ＲＰ２…第２レジストパターン、ＲＰ３…第３レジストパターン、ＲＰ３ａ…網点レジスト部、ＲＰ３ｂ…レジスト部。

Claims (7)

1. 各々が複数の画素を有する複数のパネル用の蒸着を一括して行うためのマスク領域と、蒸着用メタルマスクにおいて前記マスク領域以外の領域である周辺領域とを備える蒸着用メタルマスクを形成するための金属製の単一のシート状を有したメタルマスク用基材の製造方法であって、
   表面と、前記表面とは反対側の面である裏面と、を備える金属シートを準備することと、
   前記表面において区画されたｎ個（ｎは１以上の整数）の前記マスク領域と、前記表面において前記マスク領域以外の領域であるｎ個の前記周辺領域とを前記金属シートに形成することと、
   前記表面に複数のセンサーマークを形成することと、を備え、
   前記マスク領域の厚さは、前記周辺領域の厚さよりも薄く、
   前記マスク領域は、前記複数の画素を形成するための複数のマスク孔を有さず、かつ、前記裏面から前記表面に向けた高さ位置が前記周辺領域よりも低い領域である
   メタルマスク用基材の製造方法。
2. 前記メタルマスク用基材の延びる方向が第１方向であり、
   前記第１方向と直交する方向が第２方向であり、
   前記マスク領域は、前記第１方向および前記第２方向の各々に沿って所定の間隔を空けて並ぶ複数のマスク領域要素から構成され、
   前記周辺領域は、前記表面において格子状を有し、
   前記複数のセンサーマークを形成することでは、
   前記周辺領域のうち、前記表面の縁に沿い、かつ、前記第１方向に沿って延びる部分に、前記複数のセンサーマークが、前記第１方向に沿って等しい間隔を空けて並ぶように、前記複数のセンサーマークを形成する
   請求項１に記載のメタルマスク用基材の製造方法。
3. 前記センサーマークは、前記表面における前記センサーマーク以外の部分と比べて、表面粗さを大きくした部分である
   請求項１または２に記載のメタルマスク用基材の製造方法。
4. 前記メタルマスク用基材の形成材料は、インバーである
   請求項１から３のいずれか一項に記載のメタルマスク用基材の製造方法。
5. 各々が複数の画素を有する複数のパネル用の蒸着を一括して行うためのマスク領域と、蒸着用メタルマスクにおいて前記マスク領域以外の領域である周辺領域と
   を備える金属製の単一のシート状を有した蒸着用メタルマスクの製造方法であって、
   表面と、前記表面とは反対側の面である裏面と、を備えるメタルマスク用基材の前記表面において区画された前記マスク領域に対して、厚さ方向に沿って前記マスク領域を貫通する複数のマスク孔を形成すること、を備え、
   前記周辺領域は、前記表面において前記マスク領域以外の領域であり、
   前記マスク領域の厚さは、前記周辺領域の厚さよりも薄く、
   前記マスク領域は、前記裏面から前記表面に向けた高さ位置が前記周辺領域よりも低い領域であり、
   前記表面は、前記マスク領域のなかで前記複数のマスク孔が形成された部分よりも外側の部分と、前記周辺領域との間において段差を有し、
   前記メタルマスク用基材は、複数のセンサーマークを前記表面に有する
   蒸着用メタルマスクの製造方法。
6. 前記メタルマスク用基材の延びる方向が第１方向であり、
   前記第１方向と直交する方向が第２方向であり、
   前記マスク領域は、前記第１方向および前記第２方向の各々に沿って所定の間隔を空けて並ぶ複数のマスク領域要素から構成され、
   前記周辺領域は、前記表面において格子状を有し、
   前記複数のセンサーマークは、
   前記周辺領域のうち、前記表面の縁に沿い、かつ、前記第１方向に沿って延びる部分に、前記第１方向に沿って等しい間隔を空けて並び、
   前記複数のマスク孔を形成することは、
   前記表面にレジストを配置することと、
   前記センサーマークのピッチごとに前記メタルマスク用基材を搬送すること、
   前記ピッチごとに前記レジストを露光すること、を含む
   請求項５に記載の蒸着用メタルマスクの製造方法。
7. 各々が複数の画素を有する複数のパネル用の蒸着を一括して行うためのマスク領域と、蒸着用メタルマスクにおいて前記マスク領域以外の領域である周辺領域とを備える蒸着用メタルマスクを形成するための金属製の単一のシート状を有したメタルマスク用基材であって、
   表面と、前記表面とは反対側の面である裏面と、を備え、
   前記表面において区画されたｎ個（ｎは１以上の整数）の前記マスク領域と、
   前記表面において前記マスク領域以外の領域であるｎ個の前記周辺領域と、を備え、
   前記マスク領域の厚さは、前記周辺領域の厚さよりも薄く、
   前記マスク領域は、前記複数の画素を形成するための複数のマスク孔を有さず、かつ、前記裏面から前記表面に向けた高さ位置が前記周辺領域よりも低い領域であり、
   前記表面に複数のセンサーマークを有する
   メタルマスク用基材。

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