KR101494211B1

KR101494211B1 - 광학 렌즈

Info

Publication number: KR101494211B1
Application number: KR1020087029732A
Authority: KR
Inventors: 노리유키 카토; 도시아키 야마다; 에이지 고시이시; 스 요시다
Original assignee: 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤
Priority date: 2006-06-05
Filing date: 2007-06-01
Publication date: 2015-02-17
Also published as: EP2034337B1; WO2007142149A1; CN101467073A; US20100048855A1; EP2034337A4; CN103257376B; JPWO2007142149A1; TW200808899A; US8013106B2; KR20090026757A; EP2034337A1; JP5245824B2; TWI441870B; ES2432049T3; CN103257376A

Abstract

본 발명은 공업적으로 사출성형으로 생산 가능한, 고굴절율, 저아베수, 저복굴절, 고투명성 및 고유리전이온도를 갖는 광학 렌즈를 제공하는 것에 관한 것이다. 당해 광학 렌즈는 9,9-비스(4-(2-하이드록시에톡시)페닐)플루오렌 99 내지 51mol%와, 비스페놀 A 1 내지 49mol%로 이루어지는 디올 성분을 탄산디에스테르와 반응시켜 수득되는 폴리카보네이트 수지(바람직하게는 환원 점도가 0.2dl/g 이상, 유리전이온도가 120 내지 160℃임)를 사출성형하여 제조한다. 이에 따라, 바람직하게는 굴절율이 1.60 내지 1.65이고, 아베수가 30 이하, 복굴절 값이 300nm 이하, 전광선 투과율이 85.0% 이상인 광학 렌즈가 수득된다.

광학 렌즈

Description

광학 렌즈{Optical lens}

본 발명은 9,9-비스(4-(2-하이드록시에톡시)페닐)플루오렌으로부터 유도되는 구성 단위와, 비스페놀 A로부터 유도되는 구성 단위로 이루어지는 폴리카보네이트 수지에 의해 형성되는 광학 렌즈에 관한 것이다. 상세하게는, 본 발명은 고굴절율, 저아베수(Abbe's number), 저복굴절, 고투명성, 및 고유리전이온도(내열성)를 균형적으로 갖는 광학 렌즈에 관한 것이다.

카메라, 필름 일체형 카메라, 비디오 카메라 등의 각종 카메라의 광학계에 사용되는 광학 소자의 재료로서, 광학 유리 또는 광학용 투명 수지가 사용되고 있다. 광학 유리는 내열성이나 투명성, 치수 안정성, 내약품성 등이 우수하고, 여러 가지 굴절율(nD)이나 아베수(υD)를 갖는 다종류의 재료가 존재하고 있지만, 재료 비용이 고가인 데다가, 성형 가공성이 나쁘고, 또한 생산성이 낮은 문제가 있다. 특히, 수차 보정에 사용되는 비구면 렌즈로 가공하기 위해서는, 매우 고도의 기술과 높은 비용이 들기 때문에 실용상 큰 장해가 되고 있다.

한편, 광학용 투명 수지, 특히 열가소성 투명 수지로 이루어지는 광학 렌즈 는 사출성형에 의해 대량 생산이 가능하고, 또한 비구면 렌즈의 제조도 용이한 이점을 갖고, 현재 카메라용 렌즈 용도로서 사용되고 있다. 예를 들면, 비스페놀 A로 이루어지는 폴리카보네이트, 폴리스티렌, 폴리-4-메틸펜텐, 폴리메틸메타크릴레이트 또는 비정질 폴리올레핀 등이 예시된다.

그러나, 광학용 투명 수지를 광학 렌즈로서 사용하는 경우, 굴절율이나 아베수 이외에도, 투명성, 내열성, 저복굴절성이 요구되기 때문에, 수지의 균형적 특성에 좌우되어 사용되는 개소(part)가 한정되는 약점이 있다. 예를 들면, 폴리스티렌은 내열성이 낮고 복굴절이 크며, 폴리-4-메틸펜텐은 내열성이 낮으며, 폴리메틸메타크릴레이트는 유리전이온도가 낮고, 내열성이 낮고, 굴절율이 작기 때문에 사용 영역이 한정되고, 비스페놀 A로 이루어지는 폴리카보네이트는 복굴절이 큰 것 등의 약점을 갖기 때문에 사용되는 개소가 한정되어 바람직하지 못하다.

한편, 일반적으로 광학 재료의 굴절율이 높으면, 동일한 굴절율을 갖는 렌즈 엘레먼트를 보다 곡율이 작은 면에서 실현할 수 있기 때문에, 이 면에서 발생하는 수차량을 작게 할 수 있어 렌즈의 매수의 감소, 렌즈의 편심 감도의 감소, 렌즈 두께의 감소에 의한 렌즈계의 소형 경량화를 가능하게 할 수 있기 때문에, 고굴절율화는 유용하다.

또한, 광학 유닛의 광학 설계에 있어서는, 서로 아베수가 다른 복수의 렌즈를 조합하여 사용함으로써 색수차를 보정하는 것이 알려져 있다. 예를 들면, 아베수 45 내지 60의 지환식 폴리올레핀 수지제의 렌즈와 저아베수의 비스페놀 A로 이루어지는 폴리카보네이트(nD=1.59, υD=29) 수지제의 렌즈를 조합하여 색수차를 보 정한다. 이로 인해, 렌즈 재료의 저아베수화는 필요 불가결하다.

광학 렌즈 용도로 실용화되고 있는 광학용 투명 수지 중에서 굴절율이 높은 것으로서는, 비스페놀 A로 이루어지는 폴리카보네이트(nD=1.586, υD=29), 폴리스티렌(nD=1.578, υD=34)이 있다. 특히, 비스페놀 A로 이루어지는 폴리카보네이트 수지는 고굴절율이고 또한 우수한 내열성 및 우수한 기계 특성을 갖기 때문에 광학 렌즈 용도로 폭넓게 검토되어 왔다. 그러나, 비스페놀 A로 이루어지는 폴리카보네이트 수지, 폴리스티렌은 모두, 복굴절이 큰 약점이 있기 때문에 이의 용도에 한계가 있다. 이로 인해, 굴절율이 높고, 저복굴절이고, 물성이 균형적인 우수한 광학 렌즈용 수지의 개발이 폭넓게 이루어져 왔다. 특히, 최근의 디지탈 카메라에 있어서는, 화소수의 향상에 의한 해상도의 증가에 따라, 결상(結像) 성능(image formation property)이 높은, 보다 저복굴절의 카메라용 렌즈가 요구되고 있다.

상기의 재료의 복굴절을 작게 하는 방법으로서, 서로 반대인 양음 부호의 복굴절을 갖는 조성물을 합하여 서로의 복굴절을 상쇄하는 수법을 들 수 있다. 복굴절의 양음은 고분자 주쇄 방향의 분극율과 고분자 측쇄 방향의 분극율의 차로 결정된다. 예를 들면, 고분자 주쇄 방향의 분극율이 고분자 측쇄 방향의 분극율보다 커지는 비스페놀 A로 이루어지는 폴리카보네이트 수지는 양의 복굴절이 되고, 고분자 측쇄 방향의 분극율이 커지는 플루오렌 구조를 갖는 비스페놀로 이루어지는 폴리카보네이트 수지는 음의 복굴절이 된다. 이로 인해, 이러한 다른 부호의 복굴절을 갖는 재료 조성물의 구성 비율은 대단히 중요해진다.

복굴절을 작게 하는 방법으로서, 고분자 측쇄 방향으로 분극율이 커지는 플 루오렌 구조를 갖는 비스페놀류가 보고되어 있다[참조: 특허문헌 1]. 그러나, 본 발명자들의 검토의 결과, 이러한 보고의 수지 조성물의 구성 비율에서는, 양음의 고유 복굴절을 상쇄하기에는 불충분하고, 의도되는 저복굴절성에 도달하지 않는 재료가 수득되었다.

또한, 별도로 플루오렌 구조를 갖는 폴리카보네이트 수지가 개시되어 있다[참조: 특허문헌 2 및 3]. 그러나, 이들 폴리카보네이트 수지는 단지 필름화되어 광탄성 계수를 조사하고 있는 것이며, 배향 복굴절 및 광탄성 복굴절 둘 다를 포함하는 소위 렌즈 성형체로서의 복굴절에 관해서는 조사하지 않았다. 실제로, 본 발명자들의 검토의 결과, 이러한 문헌[참조: 특허문헌 2 및 3]에 기재된 수지 조성물의 구성 비율에서는, 양음의 고유 복굴절을 상쇄하기에는 불충분하고, 소위 렌즈 성형체로서의 복굴절은 매우 큰 것이 밝혀졌다. 또한, 렌즈에 있어서 중요한 광학 물성인 굴절율 및 아베수에 관해서도 조사하지 않았다. 또한, 발명의 효과로서 광디스크와 같은 광학 재료 기재로서 사용하는 것을 추정하고 있을 뿐이다.

또한, 플루오렌 화합물을 단량체 단위로서 가지고, 반복 단위 중에 황 원자를 적어도 1개 갖는 중축합 또는 중부가 중합체를 함유하는 수지 조성물 및 당해 수지 조성물을 사출성형하여 이루어지는 광학 소자가 개시되어 있다[참조: 특허문헌 4]. 본 발명자들의 검토의 결과, 당해 특허문헌에 개시되는 수지 조성물은 nD=1.7 전후의 높은 굴절율을 갖고 있지만, 양음의 고유 복굴절을 상쇄하기에는 불충분하고, 소위 렌즈 성형체로서의 복굴절은 매우 크고, 또한, 렌즈 성형체는 낮은 내열성 때문에 착색되고, 전광선 투과율(total light transmittance)의 저하가 현 저하다. 또한, 연속하여 사출성형을 실시하면, 사출성형기 내부 또는 금형이 황을 포함하는 분해 가스에 의해 부식되어 공업적인 실시가 어려운 것이 명백하다.

이와 같이, 고굴절율, 저아베수, 저복굴절, 고투명성, 고유리전이온도(내열성)를 균형적으로 갖는 광학 렌즈는 지금까지 알려져 있지 않다.

특허문헌 1: 일본 공개특허공보 제(평) 7-109342호

특허문헌 2: 일본 공개특허공보 제(평)10-101786호

특허문헌 3: 일본 공개특허공보 제(평)10-101787호

특허문헌 4: 일본 공개특허공보 2001-106761호

발명의 개시

발명이 해결하고자 하는 과제

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 폴리카보네이트 수지로 이루어지는 공업적으로 사출성형으로 생산 가능한 광학 렌즈로서, 고굴절율, 저아베수, 저복굴절, 고투명성, 및 고유리전이온도(내열성)를 균형적으로 갖는 광학 렌즈를 제공하는 것이다.

과제를 해결하기 위한 수단

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 거듭한 결과, 9,9-비스(4-(2-하이드록시에톡시)페닐)플루오렌으로부터 유도되는 구성 단위 99 내지 51mol%와, 비스페놀 A로부터 유도되는 구성 단위 1 내지 49mol%로 이루어지는 폴리 카보네이트 수지에 의해 광학 렌즈를 형성함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 밝혀내고, 본 발명에 도달하였다.

즉, 본 발명은 하기에 기재된 광학 렌즈에 관한 것이다.

(1) 화학식 1의 9,9-비스(4-(2-하이드록시에톡시)페닐)플루오렌으로부터 유도되는 구성 단위 99 내지 51mol%와, 화학식 2의 비스페놀 A로부터 유도되는 구성 단위 1 내지 49mol%로 이루어지는 폴리카보네이트 수지로 이루어지는 광학 렌즈.

(2) 상기 화학식 1의 9,9-비스(4-(2-하이드록시에톡시)페닐)플루오렌으로부터 유도되는 구성 단위 95 내지 80mol%와, 상기 화학식 2의 비스페놀 A로부터 유도되는 구성 단위 5 내지 20mol%로 이루어지는 폴리카보네이트 수지로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 청구항 1에 기재된 광학 렌즈.

(3) 상기 폴리카보네이트 수지의, 염화메틸렌을 용매로 하는 0.5g/dl 농도의 용액의 20℃에서의 환원 점도가 0.2dl/g 이상인, 청구항 1 또는 2에 기재된 광학 렌즈.

(4) 상기 폴리카보네이트 수지의 유리전이온도가 120 내지 160℃인, 청구항 1 내지 3 중의 어느 한 항에 기재된 광학 렌즈.

(5) 상기 폴리카보네이트 수지가, 화학식 1a의 9,9-비스(4-(2-하이드록시에톡시)페닐)플루오렌 99 내지 51mol%와, 화학식 2a의 비스페놀 A 1 내지 49mol%로 이루어지는 디올 성분을, 탄산디에스테르와 반응시켜 수득되는, 청구항 1 내지 4 중의 어느 한 항에 기재된 광학 렌즈.

(6) 굴절율이 1.60 내지 1.65이고, 아베수가 30 이하인, 청구항 1 내지 5 중의 어느 한 항에 기재된 광학 렌즈.

(7) 전광선 투과율이 85.0% 이상인, 청구항 1 내지 6 중의 어느 한 항에 기재된 광학 렌즈.

(8) 복굴절 값이 300nm 이하인, 청구항 1 내지 7 중의 어느 한 항에 기재된 광학 렌즈.

발명의 효과

본 발명에 의하면, 고굴절율, 저아베수, 고투명성, 및 고유리전이온도(내열성)를 균형적으로 가지며, 더구나 저복굴절로 실질적으로 광학 왜곡이 없는 우수한 고굴절율 광학 렌즈를 수득할 수 있다. 또한, 본 발명의 광학 렌즈는 사출성형으로 제조될 수 있고, 생산성이 높고, 저가이다.

발명을 실시하기 위한 최선의 양태

(1) 폴리카보네이트 수지

본 발명의 광학 렌즈는 화학식 1의 구성 단위(이하, 「구성 단위(1)」이라고 한다)와, 화학식 2의 구성 단위(이하, 「구성 단위(2)」라고 한다)로 이루어지는 폴리카보네이트 수지에 의해 형성된다.

화학식 1

화학식 2

상기 구성 단위(1)는 9,9-비스(4-(2-하이드록시에톡시)페닐)플루오렌으로부터 유도되는 구성 단위이다. 구성 단위(1)의 비율은, 본 발명의 폴리카보네이트 수지를 구성하는 카보네이트 단위 전량에 대하여, 99 내지 51mol%, 바람직하게는 95 내지 65mol%, 더욱 바람직하게는 95 내지 80mol%, 특히 바람직하게는 90 내지 85mol%이다.

상기 구성 단위(2)는, 2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로판(비스페놀 A)으로부터 유도되는 구성 단위이다. 구성 단위(2)의 비율은, 본 발명의 폴리카보네이트 수지를 구성하는 카보네이트 단위 전량에 대하여, 1 내지 49mol%, 바람직하게는 5 내지 35mol%, 더욱 바람직하게는 5 내지 20mol%, 특히 바람직하게는 10 내지 15mol%이다.

구성 단위(1)의 비율이 지나치게 적으면 본 발명의 폴리카보네이트 수지에 의해 형성되는 광학 렌즈의 양의 복굴절이 커지기 때문에 바람직하지 못하고, 구성 단위(1)의 비율이 지나치게 많아도 역시 양의 복굴절이 커지기 때문에 바람직하지 못하다.

본 발명에 사용되는 폴리카보네이트 수지의 바람직한 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량(Mw)은 20,000 내지 300,000이다. 또한, 상기 폴리카보네이트 수지의, 염화메틸렌을 용매로 하는 0.5g/dl 농도의 용액의 20℃에서의 환원 점도(ηsp/C)는 0.16dl/g 이상, 바람직하게는 0.16 내지 2.1dl/g이다.

보다 바람직하게는, 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량(Mw)은 30,000 내지 120,000이고, 환원 점도(ηsp/C)는 0.20dl/g 이상, 특히 바람직하게는 0.23 내지 0.84dl/g이다.

Mw가 20,000보다 작으면, 광학 렌즈가 깨지기 쉽기 때문에 바람직하지 못하다. Mw가 300,000보다 크면, 용융 점도가 높아지기 때문에 제조 후의 수지의 발취(take out)가 곤란해지고, 또한 유동성이 나빠져 용융 상태로 사출성형하기 어려워지기 때문에 바람직하지 못하다.

본 발명에 사용되는 폴리카보네이트 수지는 랜덤, 블록 및 교호 공중합 구조를 포함하는 폴리카보네이트 공중합체이다.

또한, 본 발명에 사용되는 폴리카보네이트 수지의 바람직한 유리전이온도(Tg)는 95 내지 180℃이고, 보다 바람직하게는 120 내지 160℃이다. Tg가 95℃보다 낮으면, 사용 온도 범위가 좁아지기 때문에 바람직하지 못하다. 또한, 180℃를 초과하면 사출성형을 실시할 때의 성형 조건이 엄격해지기 때문에 바람직하지 못하다.

또한 본 발명에 사용하는 폴리카보네이트 수지에는, 산화 방지제, 이형제, 자외선 흡수제, 유동성 개질제, 결정 핵제(crystal nuclear agent), 강화제, 염료, 대전 방지제 또는 항균제 등을 첨가하는 것이 적합하게 실시된다.

(2) 폴리카보네이트 수지의 제조방법

본 발명에 사용되는 폴리카보네이트 수지는 상기 구성 단위(1)와 구성 단위(2)를 유도하는 2종의 디올 성분을, 탄산디에스테르와, 염기성 화합물 촉매, 에스테르 교환 촉매 또는 이들로 이루어지는 혼합 촉매의 존재하에 반응시키는 공지된 용융 중축합법에 의해 제조할 수 있다.

상기 구성 단위(1)를 유도하는 디올 성분은 화학식 1a의 9,9-비스(4-(2-하이드록시에톡시)페닐)플루오렌이다. 구성 단위(2)를 유도하는 디올 성분은 화학식 2a의 2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로판(비스페놀 A)이다.

화학식 1a

화학식 2a

탄산디에스테르로서는 디페닐카보네이트, 디톨릴카보네이트, 비스(클로로페닐)카보네이트, m-크레딜카보네이트, 디메틸카보네이트, 디에틸카보네이트, 디부틸카보네이트, 디사이클로헥실카보네이트 등을 들 수 있다. 이 중에서도 특히 디페닐카보네이트가 바람직하다. 탄산디에스테르는, 디올 성분 1mol에 대하여 0.97 내지 1.20mol의 비율로 사용되는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.98 내지 1.10mol의 비율이다.

염기성 화합물 촉매로서는 알칼리 금속 화합물, 알칼리 토금속 화합물, 및 질소 함유 화합물 등을 들 수 있다.

본원 발명에 사용되는 알칼리 금속 화합물로서는 예를 들면 알칼리 금속의 유기산염, 무기염, 산화물, 수산화물, 수소화물 또는 알콕사이드 등을 들 수 있다. 구체적으로 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화세슘, 수산화리튬, 탄산수소나트륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산세슘, 탄산리튬, 아세트산나트륨, 아세트산칼륨, 아세트산세슘, 아세트산리튬, 스테아르산나트륨, 스테아르산칼륨, 스테아르산세슘, 스테아르산리튬, 수소화붕소나트륨, 페닐화붕소나트륨, 벤조산나트륨, 벤조산칼륨, 벤조산세슘, 벤조산리튬, 인산수소2나트륨, 인산수소2칼륨, 인산수소2리튬, 페닐인산2나트륨, 비스페놀 A의 2나트륨염, 2칼륨염, 2세슘염, 2리튬염, 페놀의 나트륨염, 칼륨염, 세슘염, 리튬염 등이 사용된다.

알칼리 토금속 화합물로서는 예를 들면 알칼리 토금속 화합물의 유기산염, 무기염, 산화물, 수산화물, 수소화물 또는 알콕사이드 등을 들 수 있다. 구체적으로, 수산화마그네슘, 수산화칼슘, 수산화스트론튬, 수산화바륨, 탄산수소마그네슘, 탄산수소칼슘, 탄산수소스트론튬, 탄산수소바륨, 탄산마그네슘, 탄산칼슘, 탄산스트론튬, 탄산바륨, 아세트산마그네슘, 아세트산칼슘, 아세트산스트론튬, 아세트산바륨, 스테아르산마그네슘, 스테아르산칼슘, 벤조산칼슘, 페닐인산마그네슘 등이 사용된다.

질소 함유 화합물로서는 예를 들면 4급 암모늄하이드록사이드 및 이들의 염, 아민류 등을 들 수 있다. 구체적으로, 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라에틸암모늄하이드록사이드, 테트라프로필암모늄하이드록사이드, 테트라부틸암모늄하이드록사이드, 트리메틸벤질암모늄하이드록사이드 등의 알킬, 아릴 그룹 등을 갖는 4급 암모늄하이드록사이드류; 트리에틸아민, 디메틸벤질아민, 트리페닐아민 등의 3급 아민류; 디에틸아민, 디부틸아민 등의 2급 아민류; 프로필아민, 부틸아민 등의 1급 아민류; 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 벤조이미다졸 등의 이미다졸류; 또는, 암모니아, 테트라메틸암모늄보로하이드라이드, 테트라부틸암모늄보로하이드라이드, 테트라부틸암모늄테트라페닐보레이트, 테트라페닐암모늄테트라페닐보레이트 등의 염기 또는 염기성 염 등이 사용된다.

에스테르 교환 촉매로서는 아연, 주석, 지르코늄, 납의 염이 바람직하게 사용되고, 이들은 단독 또는 조합하여 사용할 수 있다.

에스테르 교환 촉매로서는 구체적으로 아세트산아연, 벤조산아연, 2-에틸헥산산아연, 염화주석(II), 염화주석(IV), 아세트산주석(II), 아세트산주석(IV),디부틸주석디라우레이트, 디부틸주석옥사이드, 디부틸주석디메톡사이드, 지르코늄아세틸아세토네이트, 옥시아세트산지르코늄, 지르코늄테트라부톡사이드, 아세트산납(II), 아세트산납(IV) 등이 사용된다.

이러한 촉매는, 디하이드록시 화합물의 총 1mol에 대하여, 10^-9 내지 10^-3mol의 비율이고, 바람직하게는 10^-7 내지 10^-4mol의 비율로 사용된다.

용융 중축합법은 상기의 원료 및 촉매를 사용하여, 가열하에 상압 또는 감압 하에 에스테르 교환 반응에 의해 부생성물을 제거하면서 용융 중축합을 실시하는 것이다. 반응은 일반적으로 2단계 이상의 다단계 공정으로 실시된다.

구체적으로, 제1단계의 반응을 120 내지 260℃, 바람직하게는 180 내지 240℃의 온도에서 0.1 내지 5시간, 바람직하게는 0.5 내지 3시간 동안 반응시킨다. 이어서 반응계의 감압 정도를 증가시키면서 반응 온도를 높여 디하이드록시 화합물과 탄산디에스테르의 반응을 실시하고, 최종적으로 1mmHg 이하의 감압하에, 200 내지 350℃의 온도에서 0.05 내지 2시간 동안 중축합 반응을 실시한다. 이러한 반응은 연속식으로 실시해도 양호하고, 또한 배치식으로 실시해도 양호하다. 상기의 반응을 실시할 때에 사용되는 반응 장치는 닻형 교반 블레이드, 맥스블렌드 교반 블레이드, 나선리본형 교반 블레이드 등을 장착한 직립형 또는, 패들 블레이드, 격자 블레이드, 안경 블레이드 등을 장착한 수평형 또는 스크류를 장착한 압출기형이 양호하며, 또한, 중합체의 점도를 감안하여 적절하게 조합되는 반응 장치를 사용하여 적합하게 실시된다.

본 발명에 사용되는 폴리카보네이트 수지의 제조방법에서는, 중합 반응 종료후, 열안정성 및 가수분해 안정성을 유지하기 위해서, 촉매를 제거 또는 불활성화시킨다. 일반적으로, 공지된 산성 물질의 첨가에 의한 촉매의 불활성화가 적합하게 실시된다. 이러한 물질로서는 구체적으로 벤조산부틸 등의 에스테르류; p-톨루엔설폰산 등의 방향족 설폰산류; p-톨루엔설폰산부틸, p-톨루엔설폰산헥실 등의 방향족 설폰산에스테르류; 아인산, 인산, 포스폰산 등의 인산류; 아인산트리페닐, 아인산모노페닐, 아인산디페닐, 아인산디에틸, 아인산디-n-프로필, 아인산디-n-부틸, 아인산디-n-헥실, 아인산디옥틸, 아인산모노옥틸 등의 아인산에스테르류; 인산트리페닐, 인산디페닐, 인산모노페닐, 인산디부틸, 인산디옥틸, 인산모노옥틸 등의 인산에스테르류; 디페닐포스폰산, 디옥틸포스폰산, 디부틸포스폰산 등의 포스폰산류; 페닐포스폰산디에틸 등의 포스폰산에스테르류; 트리페닐포스핀, 비스(디페닐포스피노)에탄 등의 포스핀류; 붕산, 페닐붕산 등의 붕산류; 도데실벤젠설폰산테트라부틸포스포늄염 등의 방향족 설폰산염류; 스테아르산클로라이드, 염화벤조일, p-톨루엔설폰산클로라이드 등의 유기 할로겐화물; 디메틸황산 등의 알킬황산, 염화벤질 등의 유기 할로겐화물 등이 적합하게 사용된다. 이러한 불활성화제는 촉매량에 대하여, 0.01 내지 50배 몰, 바람직하게는 0.3 내지 20배 몰 사용된다. 촉매량에 대하여, 0.01배 몰보다 적으면, 불활성화 효과가 불충분해져 바람직하지 못하다. 또한, 촉매량에 대하여, 50배 몰보다 많으면, 내열성이 저하되고, 성형체가 착색되기 쉽기 때문에 바람직하지 못하다.

촉매 불활성화 후, 중합체중의 저비점 화합물을 0.1 내지 1mmHg의 압력, 200 내지 350℃의 온도에서 탈휘(脫揮) 제거하는 공정을 마련해도 양호하며, 이를 위해서는, 패들 블레이드, 격자 블레이드, 안경 블레이드 등의 표면 갱신능이 우수한 교반 블레이드를 구비한 수평형 장치, 또는 박막 증발기가 적합하게 사용된다.

본 발명에서 사용되는 폴리카보네이트 수지는 화학식 1a의 디하이드록시 화합물과, 화학식 2a의 디하이드록시 화합물로 이루어지는 2종의 디올 성분을, 탄산디에스테르와 반응시켜 카보네이트 결합을 형성하는 폴리카보네이트 수지이다. 전체 디올 성분 중에 차지하는 화학식 1a의 디하이드록시 화합물의 비율은 99 내지 51mol%인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 65 내지 95mol%이고, 특히 바람직하게는 80 내지 95mol%이고, 가장 바람직하게는 85 내지 90mol%이다. 화학식 1a의 디하이드록시 화합물의 함유량이 51mol%보다 작아지면, 폴리카보네이트 수지로부터 수득되는 광학 렌즈의 양의 복굴절이 커지기 때문에 바람직하지 못하다. 99mol%보다 많으면, 역시 양의 복굴절이 커지기 때문에 바람직하지 못하다.

본 발명에 사용하는 폴리카보네이트 수지는 이물질 함량이 매우 적은 것이 요청되고, 용융 원료의 여과, 촉매액의 여과가 적합하게 실시된다. 필터의 메쉬는 5㎛ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1㎛ 이하이다. 또한, 생성되는 수지의 중합체 필터에 의한 여과가 적합하게 실시된다. 중합체 필터의 메쉬는 100㎛ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30㎛ 이하이다. 또한, 수지 펠렛을 수득하는 공정은 당연히 저분진 환경이어야 하고, 등급 1000 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 등급 100 이하이다.

(3) 광학 렌즈

본 발명의 광학 렌즈는, 상기한 본 발명의 폴리카보네이트 수지를 사출성형기 또는 사출 압축 성형기에 의해 렌즈 형상으로 사출성형함으로써 수득할 수 있다. 사출성형의 성형 조건은 특별히 한정되지 않지만, 성형 온도는 바람직하게는 180 내지 280℃이다. 또한, 사출 압력은 바람직하게는 50 내지 1700kg/㎠이다.

광학 렌즈로의 이물질의 혼입을 가능한 피하기 위해서, 성형 환경도 당연히 저분진 환경이어야 하고, 등급 1000 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 등급 100 이하이다.

이렇게 하여 수득되는 본 발명의 광학 렌즈는, JIS-K-7142의 방법으로 측정한 굴절율이 1.60 내지 1.65, 바람직하게는 1.62 내지 1.64이다.

또한, JIS-K-7142의 방법으로 측정한 아베수가 30 이하, 바람직하게는 27 이하이다.

또한, 엘립소메트리(Ellipsometry): PEM 듀얼록인(dual lock-in)의 방법으로 측정한 복굴절 값이 300nm 이하, 바람직하게는 100nm 이하, 특히 바람직하게는 30nm 이하이다.

또한, 적분구식 광전광도법(intergrating shpere photoelectric photometry)으로 측정한 전광선 투과율이 85.0% 이상, 바람직하게는 87.0% 이상이다.

이와 같이, 본 발명의 광학 렌즈는 고굴절율, 저아베수, 저복굴절율 및 고투명성을 갖는 것이다.

본 발명의 광학 렌즈는, 필요에 따라서 비구면 렌즈의 형태로 사용하는 것이 적합하게 실시된다. 비구면 렌즈는, 1장의 렌즈로 구면 수차를 실질적으로 제로로 하는 것이 가능하기 때문에, 복수의 구면 렌즈의 조합으로 구면 수차를 제거할 필요가 없어, 경량화 및 생산 비용의 절감화가 가능하게 된다. 따라서, 비구면 렌즈는, 광학 렌즈 중에서도 특히 카메라 렌즈로서 유용하다. 비구면 렌즈의 비점수차(astigmatism)는 0 내지 15mλ인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0 내지 10mλ이다.

본 발명의 광학 렌즈의 두께는, 용도에 따라서 광범위하게 설정 가능하고 특 별히 제한은 없지만, 바람직하게는 0.01 내지 30mm, 보다 바람직하게는 0.1 내지 15mm이다.

본 발명의 광학 렌즈의 표면에는, 필요에 따라서 반사 방지층 또는 하드코팅층과 같은 코팅층이 형성될 수 있다. 반사 방지층은 단층 또는 다층이 양호하며, 유기물 또는 무기물인 것도 상관없지만, 무기물인 것이 바람직하다. 구체적으로 산화규소, 산화알루미늄, 산화지르코늄, 산화티타늄, 산화세륨, 산화마그네슘, 플루오르화마그네슘 등의 산화물 또는 플루오르화물이 예시된다. 이 중에서 보다 바람직한 것은 산화규소, 산화지르코늄이고, 더욱 바람직한 것은 산화규소와 산화지르코늄의 조합물이다.

또한, 반사 방지층에 관해서는, 단층/다층의 조합, 또한 이들의 성분의 조합, 두께 등에 관해서 특별히 한정은 되지 않지만, 바람직하게는 2층 구성 또는 3층 구성, 특히 바람직하게는 3층 구성이다. 또한, 당해 반사 방지층 전체로서, 광학 렌즈 두께의 0.00017 내지 3.3%이고, 구체적으로 0.05 내지 3㎛, 특히 바람직하게는 1 내지 2㎛이 되는 두께로 형성되는 것이 양호하다.

이하에 본 발명을 실시예에 의해 설명하지만, 본 발명은 이러한 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시예 중의 측정치는 이하의 방법 또는 장치를 사용하여 측정하였다.

1) 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량(Mw): GPC를 사용하고, 클로로포름을 전개 용매(developing solvent)로 하여, 공지된 분자량(분자량 분포=1)의 표준 폴리스티렌을 사용하여 검량선을 작성하였다. 이러한 검량선에 기초하여, GPC의 체류 시간으로부터 산출하였다.

2) 유리전이온도(Tg): 시차 열주사 열량 분석계(DSC)에 의해 측정하였다.

3) 굴절율(nD), 아베수(υ): 폴리카보네이트 수지를 3mm의 두께×8mm×8mm의 직방체로 압축성형하여, ATAGO(주) 제조의 굴절율계에 의해 측정하였다.

4) 복굴절: 니혼분코 가부시키가이샤 제조의 엘립소미터에 의해 측정하였다.

5) 사출성형기: 스미토모주기카이고교 가부시키가이샤 제조의 SH50를 사용하였다.

6) 전광선 투과율: 니혼덴쇼쿠고교 가부시키가이샤 제조의 MODEL 1001DP에 의해 측정하였다.

또한, 복굴절 및 전광선 투과율은 하기 실시예에서 수득된 광학 렌즈(렌즈 중심부 두께; 9mm)에 관해서 측정하였다.

<실시예 1>

9,9-비스(4-(2-하이드록시에톡시)페닐)플루오렌 22.41kg(51.11mol), 비스페놀 A 0.1179kg(0.5162mol), 디페닐카보네이트 8.869kg(52.66mol), 및 탄산수소나트륨 0.02602g(3.097×10^-4mol)을 교반기 및 유출(溜出) 장치가 장착된 50리터들이 반응기에 넣고, 질소 분위기 760Torr하에서 1시간에 걸쳐 215℃로 가열하고, 교반하였다.

그 후, 15분에 걸쳐 감압 정도를 150Torr로 조정하고, 215℃, 150Torr의 조건하에서 20분간 유지하고, 에스테르 교환 반응을 실시하였다. 또한 37.5℃/hr의 속도로 240℃까지 승온시키고, 240℃, 150Torr에서 10분간 유지하였다. 그 후, 10분에 걸쳐 120Torr로 조정하고, 240℃, 120Torr에서 70분간 유지하였다. 그 후, 10분에 걸쳐 100Torr로 조정하고, 240℃, 100Torr에서 10분간 유지하였다. 또한, 40분에 걸쳐 1Torr 이하로 하고, 240℃, 1Torr 이하의 조건하에서 10분간 교반하에 중합 반응을 실시하였다. 반응 종료후, 반응기 내에 질소를 주입하고 가압하여, 생성된 폴리카보네이트 수지를 펠렛화하면서 추출하였다.

수득된 폴리카보네이트 수지는 Mw=49,600, 환원 점도=0.44dg/g, Tg=160℃이었다. 이러한 폴리카보네이트 수지 10.0kg를 100℃에서 24시간 동안 진공 건조시키고, 수지에 대하여, 촉매 정지제(아인산 1.5ppm, 아인산디페닐 50ppm), 산화 방지제[상품명「ADK STAB PEP-36」(아사히덴카고교 가부시키가이샤 제조) 500ppm, 「HP-136」(시바스페셜티케미칼즈 가부시키가이샤 제조) 200ppm)], 산화 방지제(글리세린모노스테아레이트 300ppm)를 첨가하고 압출기에 의해 250℃에서 혼련하고 펠렛화하여 펠렛을 수득하였다. 이러한 펠렛은 Mw=49,100이었다.

당해 펠렛을 100℃에서 24시간 동안 진공 건조시킨 후, 실린더 온도 250℃, 금형 온도 120℃에서 사출성형하고, 직경이 9.4mm이고, 양 볼록면의 곡율 반경이 5.0mm인 양 볼록 렌즈(double convex lens)(렌즈 중심부 두께; 9mm)를 수득하였다. 당해 볼록 렌즈의 굴절율을 측정한 결과 nD=1.64이고, 아베수 υ=23이었다. 또한, 당해 수지 렌즈의 복굴절을 측정한 결과, 56nm이고, 복굴절이 극히 작고 실질적인 광학 왜곡이 없는 렌즈인 것이 확인되었다. 또한, 전광선 투과율을 측정한 결과, 90%이었다.

<실시예 2>

9,9-비스(4-(2-하이드록시에톡시)페닐)플루오렌 15.46kg(35.26mol), 비스페놀 A 1.203kg(5.269mol), 디페닐카보네이트 8.900kg(41.55mol), 및 탄산수소나트륨 0.02043g(2.432×10^-4mol)을 교반기 및 유출 장치가 장착된 50리터들이 반응기에 넣고, 질소 분위기 760Torr하에서 1시간에 걸쳐 215℃로 가열하고 교반하였다.

그 후, 15분에 걸쳐 감압 정도를 150Torr로 조정하고, 215℃, 150Torr의 조건하에서 20분간 유지하고 에스테르 교환 반응을 실시하였다. 또한 37.5℃/hr의 속도로 240℃까지 승온시키고, 240℃, 150Torr에서 10분간 유지하였다. 그 후, 10분에 걸쳐 120Torr로 조정하고, 240℃, 120Torr에서 70분간 유지하였다. 그 후, 10분에 걸쳐 100Torr로 조정하고, 240℃, 100Torr에서 10분간 유지하였다. 또한 40분에 걸쳐 1Torr 이하로 하고, 240℃, 1Torr 이하의 조건하에서 10분간 교반하에 중합 반응을 실시하였다. 반응 종료후, 반응기 내에 질소를 주입하고 가압하여, 생성된 폴리카보네이트 수지를 펠렛화하면서 추출하였다.

수득된 폴리카보네이트 수지는 Mw=56,800, 환원 점도=0.57dg/g, Tg=158℃이었다. 이러한 폴리카보네이트 수지 10.0kg를 100℃에서 24시간 동안 진공 건조시키고, 수지에 대하여, 촉매 정지제(아인산 1.5ppm, 아인산디페닐 50ppm), 산화 방지제[상품명「ADK STAB PEP-36」(아사히덴카고교 가부시키가이샤 제조) 500ppm, 「 HP-136」(시바스페셜티케미칼즈 가부시키가이샤 제조) 200ppm)], 산화 방지제(글리세린모노스테아레이트 300ppm)를 첨가하고 압출기에 의해 250℃에서 혼련하고 펠렛화하여 펠렛을 수득하였다. 이러한 펠렛은 Mw=56,100이었다.

당해 펠렛을 100℃에서 24시간 동안 진공 건조시킨 후, 실린더 온도 250℃, 금형 온도 120℃에서 사출성형하고, 직경이 9.4mm이고, 양 볼록면의 곡율 반경이 5.0mm인 양 볼록 렌즈(렌즈 중심부 두께; 9mm)를 수득하였다. 당해 볼록 렌즈의 굴절율을 측정한 결과 nD=1.63이고, 아베수 υ=24이었다. 또한, 당해 수지 렌즈의 복굴절을 측정한 결과, 2nm이고, 복굴절이 극히 작고 실질적인 광학 왜곡이 없는 렌즈인 것이 확인되었다. 또한, 전광선 투과율을 측정한 결과, 90%이었다.

<실시예 3>

9,9-비스(4-(2-하이드록시에톡시)페닐)플루오렌 9.167kg(20.90mol), 비스페놀 A 4.585kg(20.084mol), 디페닐카보네이트 9.000kg(42.01mol), 및 탄산수소나트륨 0.02066g(2.459×10^-4mol)을 교반기 및 유출 장치가 장착된 50리터들이 반응기에 넣고, 질소 분위기 760Torr하에서 1시간에 걸쳐 215℃로 가열하고 교반하였다.

그 후, 15분에 걸쳐 감압 정도를 150Torr로 조정하고, 215℃, 150Torr의 조건하에서 20분간 유지하고, 에스테르 교환 반응을 실시하였다. 또한 37.5℃/hr의 속도로 240℃까지 승온시키고, 240℃, 150Torr에서 10분간 유지하였다. 그 후, 10분에 걸쳐 120Torr로 조정하고, 240℃, 120Torr에서 70분간 유지하였다. 그 후, 10분에 걸쳐 100Torr로 조정하고, 240℃, 100Torr에서 10분간 유지하였다. 또한 40분에 걸쳐 1Torr 이하로 하고, 240℃, 1Torr 이하의 조건하에서 10분간 교반하에 중합 반응을 실시하였다. 반응 종료후, 반응기 내에 질소를 주입하고 가압하여, 생성된 폴리카보네이트 수지를 펠렛화하면서 추출하였다.

수득된 폴리카보네이트 수지는 Mw=40,800, 환원 점도=0.37dg/g, Tg=152℃이었다. 이러한 폴리카보네이트 수지 10.0kg를 100℃에서 24시간 동안 진공 건조시키고, 수지에 대하여, 촉매 정지제(아인산 1.5ppm, 아인산디페닐 50ppm), 산화 방지제[상품명「ADK STAB PEP-36」(아사히덴카고교 가부시키가이샤 제조) 500ppm, 「HP-136」(시바스페셜티케미칼즈 가부시키가이샤 제조) 200ppm)], 산화 방지제(글리세린모노스테아레이트 300ppm)를 첨가하고 압출기에 의해 250℃에서 혼련하고 펠렛화하여 펠렛을 수득하였다. 이러한 펠렛은 Mw=40,600이었다.

당해 펠렛을 100℃에서 24시간 동안 진공 건조시킨 후, 실린더 온도 250℃, 금형 온도 120℃에서 사출성형하고, 직경이 9.4mm이고, 양 볼록면의 곡율 반경이 5.0mm인 양 볼록 렌즈(렌즈 중심부 두께; 9mm)를 수득하였다. 당해 볼록 렌즈의 굴절율을 측정한 결과 nD=1.62이고, 아베수 υ=26이었다. 또한, 당해 수지 렌즈의 복굴절을 측정한 결과, 89nm이고, 복굴절이 극히 작고 실질적인 광학 왜곡이 없는 렌즈인 것이 확인되었다. 또한, 전광선 투과율을 측정한 결과, 90%이었다.

<비교예 1>

9,9-비스(4-(2-하이드록시에톡시)페닐)플루오렌 12.04kg(27.46mol), 디페닐카보네이트 6.000kg(28.01mol), 및 탄산수소나트륨 0.01384g(1.648×10^-4mol)을 교 반기 및 유출 장치가 장착된 50리터들이 반응기에 넣고, 질소 분위기 760Torr하에서 1시간에 걸쳐 215℃로 가열하고 교반하였다.

그 후, 15분에 걸쳐 감압 정도를 150Torr로 조정하고, 215℃, 150Torr의 조건하에서 20분간 유지하여 에스테르 교환 반응을 실시하였다. 또한 37.5℃/hr의 속도로 240℃까지 승온시키고, 240℃, 150Torr에서 10분간 유지하였다. 그 후, 10분에 걸쳐 120Torr로 조정하고, 240℃, 120Torr에서 70분간 유지하였다. 그 후, 10분에 걸쳐 100Torr로 조정하고, 240℃, 100Torr에서 10분간 유지하였다. 또한 40분에 걸쳐 1Torr 이하로 하고, 240℃, 1Torr 이하의 조건하에서 10분간 교반하에 중합 반응을 실시하였다. 반응 종료후, 반응기 내에 질소를 주입하고 가압하여, 생성된 폴리카보네이트 수지를 펠렛화하면서 추출하였다.

수득된 폴리카보네이트 수지는 Mw=76,900, 환원 점도=0.69dg/g, Tg=161℃이었다. 이러한 폴리카보네이트 수지 10.0kg를 100℃에서 24시간 동안 진공 건조시키고, 수지에 대하여, 촉매 정지제(아인산 1.5ppm, 아인산디페닐 50ppm), 산화 방지제[상품명「ADK STAB PEP-36」(아사히덴카고교 가부시키가이샤 제조) 500ppm, 「HP-136」(시바스페셜티케미칼즈 가부시키가이샤 제조) 200ppm)], 산화 방지제(글리세린모노스테아레이트 300ppm)를 첨가하고 압출기에 의해 250℃에서 혼련하고 펠렛화하여 펠렛을 수득하였다. 이러한 펠렛은 Mw=75,800이었다.

당해 펠렛을 100℃에서 24시간 동안 진공 건조시킨 후, 실린더 온도 250℃, 금형 온도 120℃에서 사출성형하고, 직경이 9.4mm이고, 양 볼록면의 곡율 반경이 5.0mm인 양 볼록 렌즈(렌즈 중심부 두께; 9mm)를 수득하였다. 당해 수지 렌즈의 복굴절을 측정한 결과, 350nm이고, 당해 복굴절 볼록 렌즈는 복굴절이 크고, 광학 왜곡이 큰 렌즈인 것이 확인되었다.

<비교예 2>

9,9-비스(4-(2-하이드록시에톡시)페닐)플루오렌 6.944kg(15.84mol), 비스페놀 A 5.422kg(23.75mol), 디페닐카보네이트 8.650kg(40.38mol), 및 탄산수소나트륨 0.01995g(2.375×10^-4mol)을 교반기 및 유출 장치가 장착된 50리터들이 반응기에 넣고, 질소 분위기 760Torr하에서 1시간에 걸쳐 215℃로 가열하고 교반하였다.

수득된 폴리카보네이트 수지는 Mw=59,800, 환원 점도=0.54dg/g, Tg=153℃이었다. 이러한 폴리카보네이트 수지 10.0kg를 100℃에서 24시간 동안 진공 건조시키고, 수지에 대하여, 촉매 정지제(아인산 1.5ppm, 아인산디페닐 50ppm), 산화 방지제[상품명「ADK STAB PEP-36」(아사히덴카고교 가부시키가이샤 제조) 500ppm, 「 HP-136」(시바스페셜티케미칼즈 가부시키가이샤 제조) 200ppm)], 산화 방지제(글리세린모노스테아레이트 300ppm)를 첨가하고 압출기에 의해 250℃에서 혼련하고 펠렛화하여 펠렛을 수득하였다. 이러한 펠렛은 Mw=59,000이었다.

당해 펠렛을 100℃에서 24시간 동안 진공 건조시킨 후, 실린더 온도 250℃, 금형 온도 120℃에서 사출성형하여 직경이 9.4mm이고, 양 볼록면의 곡율 반경이 5.0mm인 양 볼록 렌즈(렌즈 중심부 두께; 9mm)를 수득하였다. 당해 수지 렌즈의 복굴절을 측정한 결과, 850nm이고, 당해 복굴절 볼록 렌즈는 복굴절이 크고, 광학 왜곡이 큰 렌즈인 것이 확인되었다.

<비교예 3>

비스페놀 A로 이루어지는 폴리카보네이트 수지로서, 상품명「유피론(Iupilon) H-4000」(미쓰비시엔지니어링플라스틱스 가부시키가이샤 제조; Mw=33,000, 환원 점도=0.43dg/g, Tg=144℃)를 사용하였다.

당해 펠렛을 100℃에서 24시간 동안 진공 건조시킨 후, 실린더 온도 255℃, 금형 온도 120℃에서 사출성형하고, 직경이 9.4mm이고, 양 볼록면의 곡율 반경이 5.0mm인 양 볼록 렌즈(렌즈 중심부 두께; 9mm)를 수득하였다. 당해 수지 렌즈의 복굴절을 측정한 결과, 1240nm이고, 당해 복굴절 볼록 렌즈는 복굴절이 크고, 광학 왜곡이 큰 렌즈인 것이 확인되었다.

상기한 실시예와 비교예의 결과를 정리하여, 표 1, 2, 3에 기재하였다. 또한, 표 3에 있어서의 광학 왜곡의 평가 기준을 표 4에 기재하였다.

본 발명에 의해, 저복굴절이고 실질적으로 광학 왜곡이 없는 우수한 고굴절율 광학 렌즈를 수득할 수 있다. 본 발명의 광학 렌즈는, 사출성형 가능하고 생산성이 높고 저가이기 때문에, 카메라, 망원경, 쌍안경, 텔레비전 프로젝터 등, 종래의 고가의 고굴절율 유리 렌즈가 사용되고 있던 분야에 사용할 수 있어 매우 유용하다. 또한, 본 발명에 의해, 유리 렌즈에서는 기술적으로 가공이 곤란한 고굴절율 저복굴절 비구면 렌즈를 사출성형에 의해 간편하게 수득할 수 있어 매우 유용하다.

Claims

화학식 1의 9,9-비스(4-(2-하이드록시에톡시)페닐)플루오렌으로부터 유도되는 구성 단위 95 내지 80mol%와, 화학식 2의 비스페놀 A로부터 유도되는 구성 단위 5 내지 20mol%로 이루어지는 폴리카보네이트 수지로 이루어지는 광학 렌즈.

화학식 1

화학식 2
삭제
제1항에 있어서, 상기 폴리카보네이트 수지의, 염화메틸렌을 용매로 하는 0.5g/dl 농도의 용액의 20℃에서의 환원 점도가 0.2dl/g 이상인, 광학 렌즈.
제1항에 있어서, 상기 폴리카보네이트 수지의 유리전이온도가 120 내지 160℃인, 광학 렌즈.
제1항에 있어서, 상기 폴리카보네이트 수지가, 화학식 1a의 9,9-비스(4-(2-하이드록시에톡시)페닐)플루오렌 95 내지 80mol%와, 화학식 2a의 비스페놀 A 5 내지 20mol%로 이루어지는 디올 성분을, 탄산디에스테르와 반응시켜 수득되는, 광학 렌즈.

화학식 1a

화학식 2a
제1항에 있어서, 굴절율이 1.60 내지 1.65이고, 아베수(Abbe's number)가 30 이하인, 광학 렌즈.
제1항에 있어서, 전광선 투과율(total light transmittance)이 85.0% 이상인, 광학 렌즈.
제1항에 있어서, 복굴절 값이 30nm 이하인, 광학 렌즈.