KR101276587B1

KR101276587B1 - 유리판

Info

Publication number: KR101276587B1
Application number: KR1020137005568A
Authority: KR
Inventors: 토모키 야나세; 타카시 무라타
Original assignee: 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤
Priority date: 2009-07-08
Filing date: 2010-07-07
Publication date: 2013-06-19
Also published as: CN103922581A; JP5557174B1; EP2452926B1; JP2011213568A; JP5652698B2; US20120114904A1; JP5578494B2; TWI527782B; TW201345863A; JP5582461B2; KR20140018387A; KR20130028808A; TWI418526B; JP2014111539A; WO2011004844A1; KR101393474B1; KR20130027589A; JP2014208586A; US9670089B2; TW201345862A

Abstract

본 발명의 유리판은 판두께가 2㎜ 이하이며, 또한 굴절률(nd)이 1.55 이상이다. 본 발명의 유리판은 유기 발광층으로부터 발생된 광을 효율적으로 외부로 인출할 수 있음과 아울러 높은 가스 배리어성을 갖는다.

Description

유리판{GLASS PLATE}

본 발명은 조명 디바이스, 유기 EL 디바이스 등에 바람직한 유리판에 관한 것으로, 특히 유기 EL 조명에 바람직한 유리판에 관한 것이다. 또한, 이 유리판에는 얇고 필름 형상의 형태를 이루는 유리 필름, 구체적으로는 두께 150㎛ 이하의 유리 필름도 포함된다.

예를 들면, 자발광형 EL 소자는 EL{일렉트로루미네선스(electroluminescence)} 현상을 이용하고 있으므로 발열이 거의 없고, 또한 경량, 박형이며, 또한 구동 전압이 낮고, 전력 절약인 등의 여러가지 이점을 갖고 있다.

종래, 이들의 이점을 살려 유기 EL 디스플레이에 관한 연구 개발이 왕성히 행해져 왔지만, 최근에는 조명 용도의 연구 개발도 활발화되고 있다.

유기 EL 조명은 약 0.5∼0.7㎜ 두께의 기판 상에 ITO, IZO 등의 투명전극, 유기 발광층, 광반사용 금속막으로 이루어지는 배면전극이 순차 적층된 구성을 갖고 있다.

유기 EL 조명의 효율을 높이기 위해서는 유기 발광층으로부터 발생되는 광을 효율적으로 외부로 인출하는 것이 중요하다. 그러나, 유기 발광층으로부터 발생된 광은 기판-투명전극 계면에서 반사되어 유기 발광층 내로 되돌아오기 쉽다. 이 때문에 외부로 인출할 수 있는 광은 겨우 15∼20%인 것이 알려져 있다.

또한, 유기 발광층은 수분 등에 의해 현저하게 특성이 저하되는 것이 알려져 있다. 이 때문에 이 용도의 기판은 수분 등이 디바이스 내에 투과하지 않도록 높은 가스 배리어성을 갖는 것이 요구된다.

또한, 유기 EL 조명은 평면부분 이외에 만곡된 부분에 설치하는 것이 검토되고 있으며, 만곡된 부분에 설치하기 위해서 가요성(플렉서빌리티성)을 갖는 것도 요구된다. 종래, 기판의 가요성을 높이기 위해서 기판재료로서 수지 필름을 사용하는 것이 검토되어 왔다. 그러나, 수지 필름은 높은 가스 배리어성을 부여하는 것이 곤란했다.

본 발명의 과제는 유기 발광층으로부터 발생된 광을 효율적으로 외부로 인출할 수 있음과 아울러 높은 가스 배리어성을 갖는 기판재료를 제공하고, 유기 EL 조명 등의 광의 인출 효율 및 신뢰성을 높이는 것이다.

본 발명의 다른 과제는 높은 가스 배리어성을 가짐과 아울러 만곡된 부분에도 설치할 수 있는 가요성을 갖는 기판재료를 제공하는 것이다.

본 발명자는 예의 노력의 결과, 기판재료로서 유리판을 채용하여 가스 배리어성을 높임과 아울러 유리판의 판두께와 굴절률을 소정 범위로 규제하면 유기 발광층으로부터 발생된 광이 기판-투명전극 계면에서 반사되기 어려워지고, 유기 EL 조명 등의 광의 인출 효율이 향상되는 것을 발견하여 본 발명으로서 제안하는 것이다. 즉, 본 발명의 유리판은 판두께가 2㎜ 이하이며, 또한 굴절률(nd)이 1.55 이상인 것을 특징으로 한다. 유리판의 판두께가 2㎜ 이하인 것에 의해 광의 투과율이 높아지고, 또한, 유리판의 굴절률(nd)이 1.55 이상인 것에 의해 유기 발광층으로부터 발생된 광이 기판-투명전극 계면에서 반사되기 어려워진다. 여기에서, 「굴절률(nd)」은 시판의 굴절률 측정기(예를 들면, 칼뉴사제의 굴절률 측정기 KPR-200)에 의해 측정할 수 있다. 측정 시료로서, 예를 들면 다이싱에 의해 유리판을 25㎜×25㎜로 잘라내고, 이어서 이 유리판 사이에 굴절률(nd)이 정합되는 침액을 침투시킨 상태에서 유리판을 적층하여 25㎜×25㎜×약 3㎜ 두께의 직육면체로 한 것을 사용할 수 있다. 또한, 유리판이 얇고, 유리 필름의 형태를 이루는 경우에는 측정 시료로서, 예를 들면, 레이저 스크라이버를 사용해서 25㎜×25㎜의 유리 필름을 복수매 잘라내고, 이어서 이 유리 필름 사이에 굴절률(nd)이 정합되는 침액을 침투시킨 상태에서 유리 필름을 적층하여 25㎜×25㎜×약 3㎜ 두께의 직육면체로 한 것을 사용할 수 있다.

본 발명의 유리판은 굴절률(nd)이 1.60 이상이며, 또한 두께 0.7㎜, 400㎚에 있어서의 투과율이 75% 이상인 것이 바람직하다. 또한, 투과율의 측정에 있어서 단락 <0066>에 기재된 방법 등에 의해 두께 0.7㎜의 유리판을 별도 제작해서 측정 시료로 할 수 있다.

본 발명의 유리판은 판두께가 150㎛ 이하인 유리 필름의 형태인 것이 바람직하다. 이것에 의해, 유리판은 가요성이 우수한 것이 된다.

본 발명의 유리판은 유리 조성으로서 BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+ZnO+ZrO₂(BaO, TiO₂, Nb₂O₅, La₂O₃, ZnO, 및 ZrO₂의 합량)를 10∼60질량% 함유하는 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명의 유리판은 유리 조성으로서 BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+Gd₂O₃+WO₃+Ta₂O₅+ZrO₂(BaO, TiO₂, Nb₂O₅, La₂O₃, Gd₂O₃, WO₃, Ta₂O₅,및 ZrO₂의 합량)를 10∼70질량% 함유하는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 내실투성의 저하를 억제하면서 굴절률(nd)을 높일 수 있다.

본 발명의 유리판은 유리 조성으로서 TiO₂를 0∼10질량%(단, 10질량%는 포함하지 않음) 함유하는 것이 바람직하다. TiO₂는 310㎚ 부근에 흡수가 있다. 이 때문에, TiO₂ 함유량이 10질량% 이상이면 400㎚에 있어서의 투과율이 저하되므로 광인출 효율이 저하되기 쉬워진다.

또한, 본 발명의 유리판은 유리 조성으로서 Fe₂O₃를 0∼0.1질량%(단, 0.1질량%는 포함하지 않음) 함유하고 있어도 좋다. Fe₂O₃는 230㎚ 부근에 흡수가 있다. 이 때문에, Fe₂O₃의 함유량이 0.1질량% 이상이면 400㎚에 있어서의 투과율이 저하되므로 광인출 효율이 저하되기 쉬워진다. 또한, 본 발명에 있어서, 유리 조성 중의 산화철의 함유량은 Fe₂O₃로 환산해서 표기하는 것으로 한다.

본 발명의 유리판은 적어도 한쪽 표면(표면과 이면이 구별되는 경우에는 표면 및 이면 중 적어도 한쪽 면)이 미연마면이며, 또한 미연마면의 표면 조도(Ra)가 1㎚ 미만인 것이 바람직하다. 적어도 한쪽 표면을 미연마면으로 하면 유리판이 파괴되기 어려워진다. 또한, 미연마면의 표면 조도(Ra)를 1㎚ 미만으로 하면 미연마면에 형성되는 ITO의 품위가 향상되므로 면 내의 전계 분포를 균일하게 유지하기 쉬워져, 결과적으로 면 내에 휘도 불균일이 발생하기 어려워진다. 또한, 수지판은 표면 평활성이 떨어져 ITO의 품위를 높이는 것이 곤란하다. 여기에서, 「표면 조도(Ra)」는 JIS B0601:2001에서 정의된 산술 평균 조도이다.

상기 구성에 있어서, 다른쪽 표면의 표면 조도(Ra)는 1㎚ 이상이어도 좋다. 특히, 다른쪽 표면은 조면화 처리가 실시됨으로써 그 표면 조도가 1㎚ 이상으로 조정된 것이어도 좋다. 유기 발광층으로부터 발생된 광은 유리판과 공기의 굴절률차에 기인해서 유리판-공기 계면에서 반사되어 유기 발광층이나 투명전극 내에 갇히기 쉽다. 그 결과, 광의 인출 효율이 저하되기 쉬워진다. 조면화 처리 등에 의해 공기에 접하는 측의 표면의 표면 조도(Ra)를 1㎚ 이상으로 조정함으로써 그러한 사태를 방지하여 광의 인출 효율을 높이기 쉬워진다. 또한, 본 발명의 유리판은 적어도 한쪽 유리판의 표면에 표면의 표면 조도(Ra)가 1㎚ 이상이며, 또한 굴절률이 정합된 유리 필름(필름 두께 150㎛ 이하) 또는 수지 필름을 붙여도 좋고, 적어도 한쪽 유리판의 표면에 표면의 표면 조도(Ra)가 1㎚ 이상이며, 또한 굴절률이 정합된 막을 성막해도 좋다. 이렇게 하면, 광의 인출 효율을 높이기 쉬워진다.

본 발명의 유리판은 액상 점도가 10^3.5dPa·s 이상인 것이 바람직하다. 여기에서, 「액상 점도」는 액상 온도에 있어서의 유리의 점도를 백금구 인상법으로 측정한 값을 가리킨다. 또한, 「액상 온도」는 표준체 30메시(500㎛)를 통과하고, 50메시(300㎛)에 남는 유리 분말을 백금 보트에 넣은 후, 온도 구배로 중에 24시간 유지하여 결정이 석출되는 온도를 측정한 값을 가리킨다. 또한, 액상 점도가 높고, 액상 온도가 낮을수록 내실투성이나 성형성이 우수하다. 종래, 고굴절률의 유리판은 액상 점도가 낮아 판 형상으로 성형하기 어려웠다. 그러나, 유리판의 유리 조성을 적정하게 조정해서 액상 점도를 10^3.5dPa·s 이상으로 규제하면 판 형상으로 성형하기 쉬워진다.

본 발명의 유리판은 조명 디바이스나 유기 EL 디바이스의 기판, 그 밖의 구성 요소로서 바람직하다.

또한, 본 발명의 유리판은 조명 디바이스나 유기 EL 디바이스의 밀봉(밀봉 기판)에 바람직하다.

본 발명에 의하면, 유기 발광층으로부터 발생된 광을 효율적으로 외부로 인출할 수 있음과 아울러 높은 가스 배리어성을 갖는 기판재료를 제공할 수 있고, 이것에 의해, 유기 EL 조명 등의 광의 인출 효율 및 신뢰성을 높일 수 있다.

또한, 유리판을 얇은 유리 필름의 형태로 함으로써 높은 가스 배리어성을 가짐과 아울러 만곡된 부분에도 설치할 수 있는 가요성을 갖는 기판재료를 제공할 수 있다.

본 발명의 유리판에 있어서, 굴절률(nd)은 1.55 이상이며, 1.58 이상, 1.60 이상, 1.62 이상, 1.65 이상, 1.68 이상, 1.70 이상, 1.72 이상, 특히 1.75 이상인 것이 바람직하다. 굴절률(nd)이 1.55 미만이 되면 ITO-유리판 계면에 있어서의 반사에 의해 유기 발광층 또는 ITO에 광이 갇히는 확률이 높아지고, 결과적으로 광인출 효율이 저하된다. 한편, 굴절률(nd)이 2.3 이상이 되면 공기-유리판 계면에 있어서의 반사에 의해 광의 인출 효율이 저하되기 쉬워진다. 따라서, 굴절률(nd)은 2.3 이하, 2.2 이하, 2.1 이하, 특히 2.0 이하가 바람직하다. 또한, 굴절률(nd)은 유리 조성을 조정함으로써 높일 수 있다.

본 발명의 유리판에 있어서, 판두께는 2㎜ 이하, 1.5㎜ 이하, 1㎜ 이하, 0.7㎜ 이하, 특히 0.5㎜ 이하인 것이 바람직하다. 또한, 유리판에 가요성을 부여하고 싶은 경우에는 유리판을 얇은 유리 필름의 형태로 하는 것이 바람직하고, 이 경우의 유리판의 판두께는 200㎛ 이하, 특히 150㎛ 이하가 바람직하다. 또한, 유리판의 판두께는 100㎛ 이하, 80㎛ 이하, 특히 50㎛ 이하가 보다 바람직하고, 30 ㎛ 이하, 20㎛ 이하, 특히 10㎛ 이하가 가장 바람직하다. 판두께가 작을수록 디바이스를 경량화하기 쉬워짐과 아울러 유리판의 가요성을 높일 수 있지만, 판두께를 극단적으로 지나치게 작게 하면 유리판이 파손되기 쉬워지므로, 유리판의 판두께는 1㎛ 이상, 3㎛ 이상, 특히 5㎛ 이상인 것이 바람직하다. 유리 필름의 형태에 있어서, 유리판이 취할 수 있는 최소 곡률 반경은 200㎜ 이하, 150㎜ 이하, 100㎜ 이하, 50㎜ 이하, 특히 30㎜ 이하가 바람직하다. 또한, 취할 수 있는 최소 곡률 반경이 작을수록 가요성이 우수하므로 유기 EL 조명 등의 설치의 자유도가 높아진다.

본 발명의 유리판에 있어서, 두께 0.7㎜, 400㎚에 있어서의 투과율은 75% 이상, 78% 이상, 80% 이상, 85% 이상, 특히 90% 이상인 것이 바람직하다. 400㎚에 있어서의 투과율이 낮아지면 유기 발광층에서 발생된 광이 유리판에 흡수되어 광인출 효율이 저하되기 쉬워진다. 또한, 본 발명의 유리판은 가시 전역에 걸쳐 투과율이 높은 것이 바람직하다. 400㎚에 있어서의 투과율을 상기 범위로 규제하면 가시 전역에 있어서의 투과율도 향상시킬 수 있다. 또한, 유리 조성, 특히 Fe₂O₃, TiO₂의 함유량을 조정하면 400㎚에 있어서의 투과율을 향상시킬 수 있다.

본 발명의 유리판은 유리 조성으로서 BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+Gd₂O₃+WO₃+Ta₂O₅+ZrO₂를 10∼70질량%, 10∼60질량%, 30∼70질량% 함유하는 것이 바람직하다. BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+Gd₂O₃+WO₃+Ta₂O₅+ZrO₂의 함유량이 많아지면 유리 조성의 밸런스가 손상되어 유리가 실투되기 쉬워진다. 따라서, BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+Gd₂O₃+WO₃+Ta₂O₅+ZrO₂의 함유량의 상한은 65질량% 이하, 특히 60질량% 이하, 58질량% 이하가 바람직하다. 또한, BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+Gd₂O₃+WO₃+Ta₂O₅+ZrO₂의 함유량이 적어지면 내실투성의 저하를 억제한 상태에서 굴절률(nd)을 높이기 어려워진다. 따라서, BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+Gd₂O₃+WO₃+Ta₂O₅+ZrO₂의 함유량의 하한은 20질량% 이상, 30질량% 이상, 35질량% 이상, 40질량% 이상, 45질량% 이상, 특히 50질량% 이상이 바람직하다. 한편, BaO, TiO₂, Nb₂O₅, La₂O₃, Gd₂O₃, WO₃, Ta₂O₅, ZrO₂ 중 2종 이상, 바람직하게는 3종 이상, 보다 바람직하게는 4종 이상을 혼합해서 첨가하면 상기 효과를 더욱 향수하기 쉬워진다.

또한, BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+ZnO+ZrO₂는 내실투성의 저하를 억제하면서 굴절률(nd)을 높이는 성분이다. BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+ZnO+ZrO₂의 함유량이 많아지면 유리 조성의 밸런스가 손상되어서 유리가 실투되기 쉬워진다. 따라서, BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+ZnO+ZrO₂의 함유량은 70% 이하, 60% 이하, 특히 58% 이하가 바람직하다. 또한, BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+ZnO+ZrO₂는 내실투성의 저하를 억제하면서 굴절률(nd)을 높이는 성분이다. 따라서, BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+ZnO+ZrO₂의 함유량은 10% 이상, 20% 이상, 30% 이상, 35% 이상, 40% 이상, 45% 이상, 특히 50% 이상이 바람직하다. 또한, BaO, TiO₂, Nb₂O₅, La₂O₃, ZnO, ZrO₂ 중 2종 이상을 혼합해서 첨가하면 상기 효과를 더욱 향수하기 쉬워진다.

본 발명의 유리판은 유리 조성으로서 TiO₂를 0∼10질량%(단, 10질량%는 포함하지 않음), 0∼9.5질량%, 0∼8질량%, 특히 0∼7질량% 함유하는 것이 바람직하다. TiO₂ 함유량이 적을수록 400㎚에 있어서의 투과율이 상승하지만, 그 함유량이 적어지면 굴절률(nd)이 저하되기 쉬워진다. 따라서, TiO₂ 함유량은 1질량% 이상, 2질량% 이상, 특히 3질량% 이상이 바람직하다.

본 발명의 유리판은 유리 조성으로서 Fe₂O₃을 0∼0.1질량%(단, 0.1질량%는 포함하지 않음), 0∼0.05질량%, 0∼0.03질량%, 0∼0.02질량%, 0∼0.01질량%, 0∼0.005질량% 함유하고 있어도 좋다. Fe₂O₃의 함유량이 많아지면 400㎚에 있어서의 투과율이 저하되므로 광인출 효율이 저하되기 쉬워진다. 한편, 유리 조성 중에의 Fe₂O₃의 함유를 완전히 배제하기 위해서는 고순도의 유리 원료를 사용하고, 또한 원료 조합 설비 등으로부터 원료에 Fe₂O₃가 혼입되지 않는 특별히 설계된 제조 설비를 사용할 필요가 있으므로 유리판의 제조 비용이 높아져 현실적이지 않다. 따라서, Fe₂O₃의 함유량은 0.001질량% 이상, 특히 0.004질량% 이상이 바람직하다. 또한, 시판의 유리판은 통상 유리 조성 중에 Fe₂O₃를 0.05질량% 이상 함유하고 있다.

본 발명의 유리판은 적어도 한쪽 표면이 미연마면인 것이 바람직하다. 유리의 이론 강도는 본래 매우 높은 것이지만, 이론 강도보다 훨씬 낮은 응력이어도 파괴에 이르는 경우가 많다. 그 이유는 유리의 표면에 그리피스 플로우라고 불리는 작은 결함이 성형 후의 공정, 예를 들면 연마 공정 등에서 발생되기 때문이다. 그래서, 유리판에 있어서 적어도 한쪽 표면을 미연마면으로 하면 유리 본래의 기계적 강도를 손상시키기 어려워져, 결과적으로 유리판이 파괴되기 어려워진다. 또한, 유리판의 양면을 미연마면으로 하면 유리판이 더욱 파괴되기 어려워짐과 아울러 연마 공정이 생략되어 있는 것에 기인해서 유리판의 제조 비용을 저렴화할 수 있다.

본 발명의 유리판에 있어서, 미연마면의 표면 조도(Ra)는 1㎚ 이하, 5Å 이하, 3Å 이하, 특히 2Å 이하가 바람직하다. 미연마면의 표면 조도(Ra)가 1㎚ 이상이면 미연마면에 형성되는 ITO의 품위가 저하되어 면 내에 휘도 불균일이 발생하기 쉬워진다.

본 발명의 유리판은 다른쪽 표면의 표면 조도(Ra)가 1㎚ 이상이어도 좋고, 특히, 조면화 처리가 실시됨으로써 그 표면 조도가 1㎚ 이상으로 조정된 것이어도 좋다. 다른쪽 표면의 표면 조도(Ra)는 2㎚ 이상, 3㎚ 이상, 특히 5㎚ 이상이 바람직하다. 이 조면화된 다른쪽 표면을 유기 EL 조명 등의 공기와 접하는 측으로 하면 조면화된 표면이 무반사 구조로 되므로 유기 발광층으로부터 발생된 광이 유기 발광층 내로 되돌아오기 어려워져, 결과적으로 광의 인출 효율을 높일 수 있다. 조면화 처리로서 HF 등에 의한 에칭, 연마, 샌드 블라스트, 리프레스(나노임프린트를 포함), 대기압 플라즈마 프로세스 등을 들 수 있다. 한편, 다른쪽 표면의 표면 조도(Ra)가 20㎛ 이상이 되면 다른쪽 표면에서 광산란되어 반대로 광의 인출 효율이 저하될 우려가 있다. 이 때문에, 다른쪽 표면의 표면 조도(Ra)는 20㎛ 이하, 15㎛ 이하, 10㎛ 이하, 5㎛ 이하, 3㎛ 이하, 특히 2㎛ 이하가 바람직하다. 또한, 조면화 처리로서 적어도 한쪽 표면의 표면 조도(Ra)가 1㎚ 이상이며, 또한 굴절률이 정합된 얇은 유리 필름, 수지 필름, 또는 막을 한쪽 표면을 위로 해서 유리판의 다른쪽 표면에 붙이거나 또는 성막해서 복합화해도 좋다.

리프레스 등의 열가공에 의해 조면화 처리하면 유리판의 표면에 광의 인출에 최적인 반사 구조(요철 형상)를 정확하게 형성할 수 있다. 또한, 요철 형상은 유리판의 굴절률(nd)을 고려하면서 그 간격과 깊이를 조정하면 좋다.

대기압 플라즈마 프로세스에 의해 조면화 처리하면 유리판의 한쪽 표면의 표면상태를 유지한 상태에서 유리판의 다른쪽 표면을 균일하게 조면화할 수 있다. 또한, 대기압 플라즈마 프로세스의 소스로서 F를 함유하는 가스(예를 들면, SF₆, CF₄)를 사용하는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, HF계 가스를 함유한 플라즈마를 발생시킬 수 있고, 이 플라즈마에 의해 유리판의 표면을 효율적으로 조면화할 수 있다.

또한, 성형시에 유리판의 표면에 무반사 구조(예를 들면, 한쪽 표면의 표면 조도(Ra) 1㎚ 이상)를 형성할 경우, 조면화 처리하지 않아도 같은 효과를 향수할 수 있다.

본 발명의 유리판은 오버플로우 다운드로우법으로 성형되어 이루어지는 것이 바람직하다. 여기에서, 「오버플로우 다운드로우법」은 퓨전법이라고도 불리우고 있으며, 내열성의 홈통 형상 구조물의 양측으로부터 용융 유리를 넘치게 하고, 넘친 용융 유리를 홈통 형상 구조물의 하단에서 합류시키면서 하방으로 연신 성형해서 유리판을 제조하는 방법이다. 이렇게 하면, 미연마로 표면 품위가 양호한 유리판을 성형할 수 있다. 그 이유는 오버플로우 다운드로우법의 경우, 유리판의 표면이 되어야 할 면은 홈통 형상 내화물에 접촉하지 않고 자유 표면의 상태로 성형되기 때문이다. 홈통 형상 구조물의 구조나 재질은 소망의 치수나 표면 품위를 실현할 수 있으면 특별히 한정되지 않는다. 또한, 하방으로의 연신 성형을 행하기 위해서 유리판에 대해서 힘을 인가하는 방법은 소망의 치수나 표면 품위를 실현할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 충분히 큰 폭을 갖는 내열성 롤을 유리판에 접촉시킨 상태로 회전시켜서 연신하는 방법을 채용해도 좋고, 복수의 쌍으로 된 내열성 롤을 유리판의 끝면 근방에만 접촉시켜서 연신하는 방법을 채용해도 좋다.

본 발명의 유리판은 슬롯 다운드로우법으로 성형되어 이루어지는 것도 바람직하다. 슬롯 다운드로우법은 오버플로우 다운드로우법과 마찬가지로 해서 유리판의 치수 정밀도를 높일 수 있다. 또한, 슬롯 다운드로우법은 슬롯의 형상을 변경함으로써 유리판의 표면을 조면화할 수 있다.

본 발명의 유리판의 성형 방법으로서 오버플로우 다운드로우법, 슬롯 다운드로우법 이외에도 여러 방법을 채용할 수 있다. 예를 들면, 플로트법, 롤아웃법, 리드로우법 등을 채용할 수 있다.

본 발명의 유리판에 있어서, 액상 온도는 1150℃ 이하, 1110℃ 이하, 1090℃ 이하, 1070℃ 이하, 1050℃ 이하, 1020℃ 이하, 1000℃ 이하, 980℃ 이하, 특히 960℃ 이하가 바람직하다. 또한, 액상 점도는 10^3.5dPa·s 이상, 10^3.8dPa·s 이상, 10^4.0dPa·s 이상, 10^4.3dPa·s 이상, 10^4.5dPa·s 이상, 10^4.8dPa·s 이상, 10^5.0dPa·s 이상, 10^5.6dPa·s 이상, 10^5.8dPa·s 이상, 특히 10^6.0dPas 이상이 바람직하다. 이렇게 하면, 성형시에 유리가 실투되기 어려워지므로 오버플로우 다운드로우법으로 판 형상으로 성형하기 쉬워져, 결과적으로 유리판의 표면 품위를 높일 수 있다.

본 발명의 유리판에 있어서, 밀도는 5g/㎤ 이하, 4.8g/㎤ 이하, 4.5g/㎤ 이하, 4.3g/㎤ 이하, 3.7g/㎤ 이하, 3.6g/㎤ 이하, 3.4g/㎤ 이하, 3.3g/㎤ 이하, 특히 3.0g/㎤ 이하가 바람직하다. 밀도가 작을수록 디바이스를 경량화하기 쉬워진다. 여기에서, 「밀도」는 주지의 아르키메데스법으로 측정한 값을 가리킨다.

본 발명의 유리판에 있어서, 10^2.5dPa·s에 있어서의 온도는 1350℃ 이하, 1300℃ 이하, 1270℃ 이하, 특히 1250℃ 이하가 바람직하다. 10^2.5dPa·s에 있어서의 온도가 낮을수록 저온에서 용융되기 쉬워져 유리판의 제조 비용을 저렴화하기 쉬워진다. 여기에서, 「10^2.5dPa·s에 있어서의 온도」는 백금구 인상법으로 측정한 값을 가리킨다.

본 발명의 유리판에 있어서, 열팽창계수는 50×10^-7/℃∼120×10^-7/℃, 60×10^-7/℃∼120×10^-7/℃, 70×10^-7/℃∼110×10^-7/℃, 70×10^-7/℃∼100×10^-7/℃, 특히 70×10^-7/℃∼95×10^-7/℃가 바람직하다. 이렇게 하면, 유리판의 열팽창계수가 유리판의 표면 상에 형성되는 각종 금속막의 열팽창계수에 정합되기 쉬워지므로 금속막의 휘어짐 등을 방지하기 쉬워진다. 여기에서, 「열팽창계수」는 30∼380℃의 온도범위에 있어서 딜라토미터에 의해 측정한 평균값을 가리킨다.

본 발명의 유리판에 있어서, 수증기의 투과도는 온도 40℃, 습도 90%의 환경 하에서 1g/(㎡·day) 이하, 0.1g/(㎡·day) 이하, 0.01g/(㎡·day) 이하, 0.001g/(㎡·day) 이하, 0.0001g/(㎡·day) 이하, 0.00001g/(㎡·day) 이하, 0.000001g/(㎡·day) 이하, 특히 0.0000001g/(㎡·day) 이하가 바람직하다. 이렇게 하면, 유기 발광층 등의 특성 열화를 방지하기 쉬워지고, 유기 EL 조명 등의 신뢰성을 높이기 쉬워진다.

본 발명의 유리판에 있어서, 산소의 투과도는 온도 40℃, 습도 90%의 환경 하에서 1cc/(㎡·day) 이하, 0.1cc/(㎡·day) 이하, 0.01cc/(㎡·day) 이하, 0.001cc/(㎡·day) 이하, 0.0001cc/(㎡·day) 이하, 0.00001cc/(㎡·day) 이하, 0.000001cc/(㎡·day) 이하, 특히 0.0000001cc/(㎡·day) 이하가 바람직하다. 이렇게 하면, 유기 발광층 등의 특성 열화를 방지하기 쉬워지고, 유기 EL 조명 등의 신뢰성을 높이기 쉬워진다.

본 발명의 유리판은 유리 조성으로서 질량%로 SiO₂ 0∼55%, Al₂O₃ 0∼10%, B₂O₃0∼20%, MgO+CaO+SrO(MgO, CaO, 및 SrO의 합량) 0∼25%, BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+Gd₂O₃+WO₃+Ta₂O₅+ZrO₂(또는, BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+ZnO+ZrO₂) 10∼70%, Fe₂O₃ 0∼0.1%(단, 0.1%는 포함하지 않음)를 함유하는 것이 바람직하다. 상기한 바와 같이 유리 조성 범위를 한정한 이유를 이하에 설명한다. 또한, 이하의 유리 조성 범위의 설명에 있어서 % 표시는 질량%를 의미한다.

SiO₂의 함유량은 0∼55%이다. SiO₂의 함유량이 많아지면 용융성이나 성형성이 저하되고, 또한 굴절률(nd)이 저하되기 쉬워진다. 따라서, SiO₂의 함유량은 50% 이하, 45% 이하, 42% 이하, 40% 이하, 38% 이하, 특히 35% 이하가 바람직하다. 한편, SiO₂의 함유량이 적어지면 유리 망목 구조를 형성하기 어려워지므로 유리화가 곤란해지고, 또한 유리의 점성이 지나치게 저하되어 액상 점도를 높이기 어려워진다. 따라서, SiO₂의 함유량은 2% 이상, 5% 이상, 7% 이상, 특히 10% 이상이 바람직하다.

Al₂O₃의 함유량은 0∼10%이다. Al₂O₃의 함유량이 10%보다 많아지면 유리에 실투 결정이 석출되기 쉬워져 액상 점도가 저하되기 쉬워진다. 또한, Al₂O₃의 함유량이 적어지면 유리 조성의 밸런스가 손상되어서 유리가 실투되기 쉬워진다. 따라서, Al₂O₃의 함유량은 0.1∼8%, 0.5∼6%, 특히 1∼5%가 바람직하다.

B₂O₃의 함유량은 0∼20%이다. B₂O₃의 함유량이 많아지면 굴절률(nd)이나 영률이 저하되기 쉬워진다. 따라서, B₂O₃의 함유량은 17% 이하, 15% 이하, 특히 11% 이하가 바람직하다. 또한, B₂O₃를 첨가하면 내실투성을 높일 수 있다. 따라서, 내실투성이 불충분한 경우는 B₂O₃를 1% 이상, 2% 이상, 3% 이상, 특히 5% 이상 첨가해도 좋다.

MgO+CaO+SrO는 굴절률(nd)을 높이면서 액상 점도를 높이는 성분이며, 그 함유량은 0∼25%이다. MgO+CaO+SrO의 함유량이 많아지면 액상 점도를 높이기 어려워진다. 따라서, MgO+CaO+SrO의 함유량은 22% 이하, 20% 이하, 16% 이하, 특히 13% 이하이다. 한편, MgO+CaO+SrO의 함유량이 적어지면 굴절률(nd)을 높이기 어려워진다. 따라서, MgO+CaO+SrO의 함유량은 3% 이상, 5% 이상, 특히 8% 이상이 바람직하다.

MgO는 굴절률(nd), 영률, 왜점을 높이고, 고온 점도를 저하시키는 성분이지만, 다량으로 첨가하면 액상 온도가 상승되어 내실투성이 저하되거나, 밀도나 열팽창계수가 지나치게 높아진다. 따라서, MgO의 함유량은 10% 이하, 8% 이하, 5% 이하, 3% 이하, 2% 이하, 1.5% 이하, 1% 이하, 특히 0.5% 이하가 바람직하다.

CaO의 함유량은 0∼15%가 바람직하다. CaO의 함유량이 많아지면 굴절률(nd), 밀도, 열팽창계수가 상승하는 경향이 있지만, 그 함유량이 15%보다 많아지면 유리 조성의 밸런스가 손상되어 유리가 실투되기 쉬워진다. 따라서, CaO의 함유량은 12% 이하, 10% 이하, 9% 이하, 특히 8.5% 이하가 바람직하다. 한편, CaO의 함유량이 적어지면 용융성, 영률, 굴절률(nd)이 저하되기 쉬워진다. 따라서, CaO의 함유량은 0.5% 이상, 1% 이상, 2% 이상, 3% 이상, 특히 5% 이상이 바람직하다.

SrO의 함유량은 0∼15%가 바람직하다. SrO의 함유량이 많아지면 굴절률(nd), 밀도, 열팽창계수가 상승하는 경향이 있지만, 그 함유량이 15%보다 많아지면 유리 조성의 밸런스가 손상되어서 유리가 실투되기 쉬워진다. 따라서, SrO의 함유량은 12% 이하, 10% 이하, 9% 이하, 특히 8.5% 이하가 바람직하다. 한편, SrO의 함유량이 적어지면 용융성이나 굴절률(nd)이 저하되기 쉬워진다. 따라서, SrO의 함유량은 0.5% 이상, 1% 이상, 2% 이상, 3% 이상, 특히 3.5% 이상이 바람직하다.

BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+Gd₂O₃+WO₃+Ta₂O₅+ZrO₂는 내실투성의 저하를 억제하면서 굴절률(nd)을 높이는 성분이다. 또한, BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+Gd₂O₃+WO₃+Ta₂O₅+ZrO₂의 바람직한 함유 범위 등은 상기와 같다.

BaO는 알칼리 토류 금속 산화물 중에서는 유리의 점성을 극단적으로 저하시키지 않고 굴절률(nd)을 높이는 효과가 가장 큰 성분이며, 그 함유량은 0∼40%가 바람직하다. BaO의 함유량이 많아지면 굴절률(nd), 밀도, 열팽창계수가 상승하기 쉬워지고, 그 함유량이 40%보다 많아지면 유리 조성의 밸런스가 손상되어서 유리가 실투되기 쉬워진다. 따라서, BaO의 함유량은 35% 이하가 바람직하다. 한편, BaO의 함유량이 적어지면 소망의 굴절률(nd)을 얻기 어려워지는 데다가 액상 점도를 높이기 어려워진다. 따라서, BaO의 함유량은 0.5% 이상, 1% 이상, 2% 이상, 5% 이상, 10% 이상, 15% 이상, 20% 이상, 특히 25% 이상이 바람직하다.

TiO₂는 굴절률(nd)을 높이는 성분이지만, 400㎚에 있어서의 투과율을 저하시키는 성분이기도 하다. 또한, TiO₂의 바람직한 함유 범위 등은 상기와 같다.

Nb₂O₅ _, La₂O₃, Gd₂O₃, WO₃, Ta₂O₅, ZrO₂는 굴절률(nd)을 높이는 성분이다. 따라서, Nb₂O₅, La₂O₃, Gd₂O₃, WO₃, Ta₂O₅, ZrO₂의 함유량은 각각 1% 이상, 특히 3% 이상이 바람직하다. 특히, La₂O₃의 함유량은 4% 이상이 바람직하다. 그러나, Nb₂O₅, La₂O₃, Gd₂O₃, WO₃, Ta₂O₅, ZrO₂의 함유량이 많아지면 밀도, 열팽창계수가 상승하고, 또 유리 조성의 밸런스가 손상되어서 내실투성이 극단적으로 저하될 우려가 있다. 따라서, Nb₂O₅, La₂O₃, Gd₂O₃, WO₃, Ta₂O₅, ZrO₂의 함유량은 각각 35% 이하, 30% 이하, 25% 이하, 20% 이하, 15% 이하, 특히 12% 이하가 바람직하다.

굴절률(nd)과 400㎚에 있어서의 투과율의 밸런스를 고려하면 질량비 TiO₂/La₂O₃의 값은 0.01∼2.45가 바람직하다.

Fe₂O₃는 자외역에 있어서의 투과율을 저하시키는 성분이다. 또한, Fe₂O₃의 바람직한 함유 범위 등은 상기와 같다.

상기 성분 이외에 ZnO를 함유시켜도 좋고, 이 경우 ZnO의 함유량은 0∼15%가 바람직하다. ZnO의 함유량이 많아지면 굴절률(nd), 밀도, 열팽창계수가 상승하는 경향이 있지만, 그 함유량이 15%보다 많아지면 유리 조성의 밸런스가 손상되어서 유리가 실투되기 쉬워진다. 따라서, ZnO의 함유량은 12% 이하, 10% 이하, 9% 이하, 특히 8.5% 이하가 바람직하다. 한편, ZnO의 함유량이 적어지면 용융성, 영률, 굴절률(nd)이 저하되기 쉬워진다. 따라서, ZnO의 함유량은 0.5% 이상, 1% 이상, 2% 이상, 3% 이상, 특히 5% 이상이 바람직하다. 또한, MgO+CaO+SrO+ZnO의 함유량은 0∼25%가 바람직하다. MgO+CaO+SrO+ZnO의 함유량이 많아지면 액상 점도를 높이기 어려워진다. MgO+CaO+SrO+ZnO의 함유량은 22% 이하, 20% 이하, 16% 이하, 특히 13% 이하가 바람직하다. 한편, MgO+CaO+SrO+ZnO의 함유량이 적어지면 굴절률(nd)을 높이기 어려워진다. 따라서, MgO+CaO+SrO+ZnO의 함유량은 3% 이상, 5% 이상, 특히 8% 이상이 바람직하다. 또한, BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+ZnO+ZrO₂는 내실투성의 저하를 억제하면서 굴절률(nd)을 높이는 성분이다. 또한, BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+ZnO+ZrO₂의 바람직한 함유 범위 등은 상기와 같다.

또한, 상기 성분 이외에도, 예를 들면 이하의 성분을 30%까지 첨가할 수 있다.

Li₂O+Na₂O+K₂O(Li₂O, Na₂O, 및 K₂O의 합량)는 유리의 점성을 저하시키는 성분이며, 또한 열팽창계수를 조정하는 성분이지만, 다량으로 첨가하면 유리의 점성이 지나치게 저하되어 액상 점도를 높이기 어려워진다. 따라서, Li₂O+Na₂O+K₂O의 함유량은 15% 이하, 10% 이하, 5% 이하, 2% 이하, 1% 이하, 0.5% 이하, 특히 0.1% 이하가 바람직하다.

Bi₂O₃, Y₂O₃는 굴절률(nd)을 높이는 성분이다. 그러나, Bi₂O₃, Y₂O₃의 함유량이 많아지면 밀도, 열팽창계수가 상승되어 내실투성이 극단적으로 저하될 우려가 있다. 따라서, Bi₂O₃, Y₂O₃의 함유량은 각각 0∼30%, 0∼25%, 0∼20%, 1∼15%, 특히 3∼12%가 바람직하다. PbO에도 굴절률을 높이는 효과가 있지만, 환경면에서 함유하지 않는 것이 바람직하다.

청징제로서 As₂O₃, Sb₂O₃, CeO₂, SnO₂, F, Cl, SO₃의 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상을 0∼3% 첨가할 수 있다. 단, As₂O₃, Sb₂O₃, F, 특히 As₂O₃, Sb₂O₃는 환경적 관점에서 그 사용을 최대한 삼가해야 해서 각각의 함유량은 0.1% 미만이 바람직하다. 환경적 관점에서 보면 청징제로서 SnO₂, Cl, SO₃가 바람직하다. SnO₂+Cl+SO₃(SnO₂, Cl, 및 SO₃의 합량)의 함유량은 0.001∼1%, 0.01∼0.5%, 특히 0.01∼0.3%가 바람직하다.

SnO₂는 청징제로서 작용함과 아울러 Fe₂O₃의 광흡수를 방해하는 효과(Fe의 가수를 3가로부터 2가로 변화시키는 효과)를 갖는다. SnO₂의 함유량은 0∼1%, 0∼0.5%, 특히 0.01∼0.4%가 바람직하다. 또한, SnO₂의 함유량이 많아지면 내실투성이 저하되기 쉬워진다.

본 발명의 유리판은 소망의 유리 조성이 되도록 유리 원료를 조합한 후, 이 유리 원료를 용융한 후에 용융 유리를 판 형상으로 성형함으로써 제작할 수 있다.

실시예 1

이하, 실시예에 의거해서 본 발명을 상세하게 설명한다.

표 1, 표 2는 본 발명의 실시예(시료 No.1∼11)를 나타내고 있다.

우선, 표 중에 기재된 유리 조성이 되도록 유리 원료를 조합한 후, 유리 용융로에 공급해서 1300∼1500℃에서 용융했다. 이어서, 용융 유리를 오버플로우 다운드로우 성형 장치에 공급해서 폭이 1000㎜, 판두께가 0.5㎜가 되도록 성형했다. 또한, 유리판의 표면 조도(Ra)는 양면 모두 0.2㎚였다.

이렇게 해서 얻어진 유리판에 대해서 각종 특성을 평가했다. 그 결과를 표 1, 표 2에 나타낸다.

굴절률(nd)은 칼뉴사제의 굴절률 측정기 KPR-200으로 측정한 값이다. 측정 시료로서 시판의 다이서를 사용해서 유리판을 25㎜×25㎜로 잘라내고, 이어서, 이 유리판 사이에 굴절률(nd)이 정합되는 침액을 침투시킨 상태에서 유리판을 적층하여 25㎜×25㎜×약 3㎜ 두께의 직육면체로 한 것을 사용했다.

400㎚에 있어서의 투과율(T)은 시마즈 세이사쿠쇼제 UV-3100으로 측정한 값이다. 또한, 투과율(T)의 측정에 있어서, 단락 <0066>에 기재된 방법에 의해 제작한 두께 0.7㎜의 유리판을 사용했다.

밀도(ρ)는 주지의 아르키메데스법으로 측정한 값이다.

열팽창계수(α)는 30∼380℃의 온도범위에 있어서 딜라토미터에 의해 측정한 평균값이다. 또한, 측정 시료로서 복수매의 유리판을 백금 보트에 넣어서 1400∼1450℃에서 30분 리멜팅한 후, φ5㎜×20㎜의 원기둥 형상(끝면에 R가공을 갖는다)으로 가공한 것을 사용했다.

왜점(Ps), 서냉점(Ta)은 ASTM C336-71의 방법에 의거해서 측정한 값이다.

연화점(Ts)은 ASTM C338-93의 방법에 의거해서 측정한 값이다.

10^4.0dPa·s, 10^3.0dPa·s, 10^2.5dPa·s, 10^2.0dPa·s에 있어서의 온도는 백금구 인상법으로 측정한 값이다.

액상 온도(TL)는 표준체 30메시(500㎛)를 통과하고 50메시(300㎛)에 남는 유리 분말을 백금 보트에 넣은 후, 온도 구배로 중에 24시간 유지하여 결정이 석출되는 온도를 측정한 값이다.

액상 점도(logηTL)는 액상 온도에 있어서의 유리의 점도를 백금구 인상법으로 측정한 값이다.

실시예 2

또한, 표 1, 표 2의 시료 No.1∼11에 대해서 소정의 샌드 블라스트 프로세스에 의해 유리판의 한쪽 표면을 조면화 처리한 결과, 그 표면의 표면 조도(Ra)가 0.2㎚로부터 2㎛로 되었다. 따라서, 조면화 처리한 표면을 공기에 접하는 측에 적용하면 유기 EL 조명 등의 광의 인출 효율이 향상된다고 생각된다.

실시예 3

또한, 표 1, 표 2의 시료 No.1∼11에 대해서 소정의 대기압 플라즈마 프로세스에 의해 유리판의 한쪽 표면을 조면화 처리한 결과, 그 표면의 표면 조도(Ra)가 0.2㎚로부터 0.5㎚로 되었다. 따라서, 조면화 처리한 표면을 공기에 접하는 측에 적용하면 유기 EL 조명 등의 광의 인출 효율이 향상된다고 생각된다. 또한, 대기압 플라즈마 프로세스의 소스로서 F를 함유하는 가스를 사용했다.

실시예 4

이하, 실시예에 의거해서 본 발명을 상세하게 설명한다.

표 3∼표 10은 본 발명의 실시예(시료 No.12∼78)를 나타내고 있다.

우선, 표 중에 기재된 유리 조성이 되도록 유리 원료를 조합한 후, 유리 용융로에 공급해서 1500∼1600℃에서 용융했다. 이어서, 용융 유리를 오버플로우 다운드로우 성형 장치에 공급해서 폭이 1000㎜, 판두께가 30㎛가 되도록 성형했다. 또한, 유리판(유리 필름)의 표면의 평균 표면 조도(Ra)는 양면 모두 0.2㎚였다.

이렇게 해서 얻어진 유리판(유리 필름)에 대해서 각종 특성을 평가했다. 그 결과를 표 3∼표 10에 나타낸다.

굴절률(nd)은 우선 레이저 스크라이버를 사용해서 25㎜×25㎜의 유리 필름을 100매 잘라내고, 이어서 이 유리 필름 사이에 굴절률(nd)이 정합되는 침액을 침투시킨 상태에서 유리 필름을 적층하여 25㎜×25㎜×약 3㎜ 두께의 직육면체의 측정 시료를 제작한 후에 칼뉴사제의 굴절률 측정기 KPR-200을 사용함으로써 산출한 값이다.

밀도(ρ)는 왜점(Ps), 서냉점(Ta), 연화점(Ts), 10^4.0dPa·s, 10^3.0dPa·s, 10^2.5dPa·s에 있어서의 온도, 열팽창계수(α)는 액상 온도(TL), 액상 점도(logηTL)는 각각 상술한 방법을 사용해서 측정한 값이다.

또한, 시료 No.12∼78의 유리 필름에 대해서 CF₄ 가스를 사용한 대기압 플라즈마 프로세스에 의해 한쪽 면을 조면화 처리한 결과, 그 면의 평균 표면 조도(Ra)가 2Å로부터 5㎚로 되었다.

Claims

판두께는 2㎜ 이하이며, 또한 굴절률(nd)은 1.55 이상이며, 적어도 한쪽 유리판의 표면에 표면의 표면 조도(Ra)가 1㎚ 이상이며, 또한 굴절률이 정합된 유리 필름이 부착되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 유리판.
제 1 항에 있어서,
굴절률(nd)은 1.60 이상이며, 또한 두께 0.7㎜, 400㎚에 있어서의 투과율은 75% 이상인 것을 특징으로 하는 유리판.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
판두께는 150㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 유리판.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
유리 조성으로서 BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+ZnO+ZrO₂를 10∼60질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 유리판.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
유리 조성으로서 BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+Gd₂O₃+WO₃+Ta₂O₅+ZrO₂를 10∼70질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 유리판.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
TiO₂를 0∼10질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 유리판.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
유리 조성으로서 Fe₂O₃를 0∼0.1질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 유리판.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
적어도 한쪽 표면은 미연마면이며, 또한 그 미연마면의 표면 조도(Ra)는 1㎚ 미만인 것을 특징으로 하는 유리판.
제 8 항에 있어서,
다른쪽 표면의 표면 조도(Ra)는 1㎚ 이상인 것을 특징으로 하는 유리판.
제 9 항에 있어서,
상기 다른쪽 표면에 조면화 처리가 실시되어 있는 것을 특징으로 하는 유리판.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
액상 점도는 10^3.5dPa·s 이상인 것을 특징으로 하는 유리판.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
유리 조성으로서 질량%로 SiO₂ 0∼55%, Al₂O₃ 0∼10%, B₂O₃0∼20%, MgO+CaO+SrO 0∼25%, BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+Gd₂O₃+WO₃+Ta₂O₅+ZrO₂ 10∼70%, Fe₂O₃ 0∼0.1%미만을 함유하는 것을 특징으로 하는 유리판.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
유리 조성으로서 질량%로 SiO₂ 0∼55%, Al₂O₃ 0∼10%, B₂O₃0∼20%, MgO+CaO+SrO 0∼25%, BaO+TiO₂+Nb₂O₅+La₂O₃+ZnO+ZrO₂ 10∼70%, Fe₂O₃ 0∼0.1%미만을 함유하는 것을 특징으로 하는 유리판.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
조명 디바이스 또는 유기 EL 디바이스의 기판에 사용하는 것을 특징으로 하는 유리판.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
조명 디바이스 또는 유기 EL 디바이스의 밀봉에 사용하는 것을 특징으로 하는 유리판.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 유리판을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 조명 디바이스.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 유리판을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 유기 EL 디바이스.