KR100729243B1

KR100729243B1 - 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법

Info

Publication number: KR100729243B1
Application number: KR1020050116151A
Authority: KR
Inventors: 요한네스 야코부스 마테우스 바젤만스; 쇼에르트 니콜라스 람베르투스 돈더스; 크리스티안 알렉산더 후겐담; 예뢴 요한네스 소피아 마리아 메르텐스; 요한네스 카타리누스 후베르투스 물켄스; 봅 스트리프케르크
Original assignee: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Priority date: 2004-12-02
Filing date: 2005-12-01
Publication date: 2007-06-15
Also published as: US20060119807A1; CN1782886B; EP1666973A1; TWI311693B; SG143284A1; EP1666973B1; KR20060061899A; CN101241316A; CN1782886A; DE602005020891D1; US7161654B2; JP2006165550A; US7812924B2; SG122937A1; TW200622514A; JP2009188421A; CN101241316B; US20070013886A1; US20110001944A1

Abstract

리소그래피 장치의 투영시스템과 기판 사이의 공간에 액체를 공급하도록 구성된 유입부 및 상기 액체의 적어도 일부를 제거하도록 구성된 유출부를 갖는 액체공급시스템을 포함하는 침지 리소그래피 장치에 대해 개시되어 있으며, 상기 액체공급시스템은 상기 유입부나 유출부 또는 둘 모두를 상기 기판의 노광 평면과 실질적으로 수직인 축선을 중심으로 회전시키도록 구성된다.

Description

리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법{Lithographic Apparatus and Device Manufacturing Method}

본 발명의 실시예들을 단지 예시의 방법으로 설명할 것이며, 대응되는 참조부호들이 대응되는 부분들을 나타내는 개략적인 첨부도면을 참조할 것이다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 장치를 도시한 도;

도 2 및 3은 리소그래피 투영장치에 사용하기 위한 액체공급시스템을 도시한 도;

도 4는 리소그래피 투영장치에 사용하기 위한 또 다른 액체공급시스템을 도시한 도;

도 5는 리소그래피 투영장치에 사용하기 위한 또 다른 액체공급시스템을 나타낸 도,

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 액체공급시스템의 평면도;

도 7은 도 6의 액체공급시스템의 측면도;

도 8a 내지 8c는 본 발명의 일 실시예에 따른 액체한정구조체(liquid confinement structure)의 다양한 회전을 나타낸 도;

도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 액체공급시스템의 측면도를 나타낸 도이다.

본 발명은 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법에 관한 것이다.

리소그래피 장치는 기판의 타겟부상에 원하는 패턴을 적용시키는 기계이다. 리소그래피 장치는, 예를 들어 집적회로(IC)의 제조시에 사용될 수 있다. 그 상황에서, 마스크 또는 레티클이라 지칭되기도 하는 패터닝장치가 IC의 개별층상에 형성될 회로 패턴을 생성하는데 사용될 수 있다. 이 패턴은 기판(예를 들어, 실리콘웨이퍼)상의 (예를 들어, 1 또는 수개의 다이의 부분을 포함하는) 타겟부상으로 전사(transfer)될 수 있다. 통상적으로, 패턴의 전사는 묘화를 통해 기판상에 제공되는 방사선 감응재(레지스트) 층상으로 이루어진다. 일반적으로, 단일 기판은 연속하여 노광되는 인접한 타겟부들의 네트워크를 포함할 것이다. 공지된 리소그래피 장치는, 한번에 타겟부상으로 전체패턴을 노광함으로써 각각의 타겟부가 조사되는, 소위 스테퍼, 및 방사선 빔을 통해 주어진 방향("스캐닝"- 방향)으로 패턴을 스캐닝하는 한편, 이 방향과 평행한 방향 또는 반대 방향으로 기판을 동기적으로 스캐닝함으로써 각각의 타겟부가 조사되는, 소위 스캐너를 포함한다. 또한, 패턴을 기판상으로 임프린팅(imprinting)함으로써 패터닝장치로부터의 패턴을 기판으로 전사하는 것도 가능하다.

리소그래피 투영장치에서, 투영시스템의 최종요소와 기판 사이의 공간을 채우기 위해 비교적 높은 굴절률을 가지는 액체, 예를 들어, 물에 기판을 침지 (immerse)시키는 방법이 제안되어 왔다. 이것의 핵심은, 노광 방사선이 액체내에서 보다 짧은 파장을 가지기 때문에 보다 작은 피처들을 묘화할 수 있다는 데에 있다. (또한, 액체의 효과는 상기 시스템의 유효 개구수(NA) 및 초점심도를 증가시키는 것으로도 간주될 수 있다.) 고체 입자들(예를 들어, 쿼츠)이 그 안에 부유(suspend)된 물을 포함하는 여타의 침지 액체들이 제안되어 왔다.

하지만, 액체의 바스(bath)내에 기판 또는 기판과 기판테이블을 담그는(submersing) 것(예를 들어, 본 명세서에서 전문이 인용참조되고 있는 US 제 4,509,852호 참조)은, 스캐닝 노광 중에 가속되어야만 하는 큰 몸체의 액체가 존재한다는 것을 의미한다. 이는 추가적인 또는 보다 강력한 모터들을 필요로 하며, 액체내에서의 난류가 바람직하지 않은 영향 및 예측할 수 없는 영향들을 초래할 수도 있다.

제안된 해결책 중 하나는, 기판의 국부적인 영역에만 그리고 투영시스템의 최종요소와 기판 사이에 액체를 제공하는 액체공급시스템을 들 수 있다(일반적으로, 기판은 투영시스템의 최종요소보다 큰 표면적을 가진다). 이러한 구성을 위해 제안된 한가지 방법이 WO 99/49504호에 개시되어 있으며, 그 전문이 본 명세서에서 인용참조되고 있다. 도 2 및 도 3에 예시된 바와 같이, 액체는 1이상의 유입구(IN)에 의하여, 바람직하게는 최종요소에 대한 기판의 이동방향을 따라 기판상으로 공급되며, 투영시스템 아래를 통과한 후에는 1이상의 유출구(OUT)에 의하여 제거된다. 즉, 기판이 -X 방향으로 요소의 밑에서 스캐닝되기 때문에, 액체는 상기 요소의 +X 쪽에서 공급되고 -X 쪽에서 흡수(take up)된다. 도 2는, 액체가 유입구(IN) 를 통하여 공급되고 저압력원에 연결된 유출구(OUT)에 의하여 요소의 다른 쪽상에서 흡수되는 구성을 개략적으로 도시하고 있다. 도 2의 예시에서, 액체는 최종요소에 대한 기판의 이동방향을 따라 공급되나, 반드시 이와 같을 필요는 없다. 최종요소 주위에 위치된 유입구들 및 유출구들의 방위 및 개수는 다양할 수 있으며, 도 3에는 양쪽에 유출구를 갖는 유입구의 4개의 세트들이 최종요소 주위에 규칙적인 패턴으로 제공되는 일례가 예시되어 있다.

예를 들어, 리소그래피 장치의 투영시스템과 기판사이에서 액체의 유동 방향을 전환시키기 않고 기판이 상이한 방향들로 이동될 수 있는 액체공급시스템을 구비한 리소그래피 장치를 제공하는 것이 유리하다.

본 발명의 일 실시형태에 따르면,

방사선 빔을 콘디셔닝하도록 구성된 조명시스템;

상기 빔의 단면에 패턴을 부여하도록 구성된 패터닝장치를 잡아주도록 구성된 지지구조체;

기판을 잡아주도록 구성된 기판테이블;

상기 패터닝된 빔을 상기 기판의 타겟부상으로 투영하도록 구성된 투영시스템; 및

상기 투영시스템과 상기 기판사이의 공간으로 액체를 공급하도록 구성된 유입부 및 상기 액체의 적어도 일부를 제거하도록 구성된 유출부를 포함하고, 상기 유입부나 상기 유출부, 또는 둘 모두를 상기 기판의 노광 평면에 대해 실질적으로 수직인 축선을 중심으로 회전시키도록 구성된 액체공급시스템을 포함하는 리소그래피 장치가 제공된다.

본 발명의 일 실시형태에 따르면,

방사선 빔을 콘디셔닝하도록 구성된 조명시스템;

기판을 잡아주도록 구성된 기판테이블;

상기 투영시스템과 상기 기판사이의 공간으로 액체를 공급하도록 구성된 유입부 및 상기 액체의 적어도 일부를 제거하도록 구성된 유출부를 포함하고, 상기 유입부 및 상기 유출부를, 상기 기판의 이동 변화에 따라 상기 투영시스템의 광학 축선과 실질적으로 평행한 축선을 중심으로 직렬로 회전시키도록 구성된 액체공급시스템을 포함하는 리소그래피 장치가 제공된다.

본 발명의 추가 실시형태에 따르면,

리소그래피 장치의 투영시스템과 기판 사이의 공간에 액체를 공급하는 단계;

상기 액체를 상기 공간으로 공급하도록 구성된 유입부나, 상기 액체를 제거하도록 구성된 유출부, 또는 둘 모두를 상기 기판의 노광 평면에 대해 실질적으로 수직인 축선을 중심으로 회전시키는 단계; 및

상기 투영시스템을 사용하여, 상기 액체를 통해 상기 패터닝된 방사선 빔을 상기 기판의 타겟부상으로 투영하는 단계를 포함하는 디바이스 제조방법이 제공된다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 투영장치를 개략적으로 도시하고 있다. 상기 장치는:

- 방사선 빔(PB)(예를 들어, UV 또는 DUV 방사선)을 콘디셔닝하도록 구성된 조명시스템(일루미네이터)(IL);

- 패터닝장치(MA)(예를 들어, 마스크)를 지지하고, 특정 파라미터들에 따라 패터닝장치를 정확히 위치시키도록 구성되는 제1위치설정수단(PM)에 연결되도록 이루어지는 지지구조체(예를 들어, 마스크테이블)(MT);

- 기판(W)(예를 들어, 레지스트코팅된 웨이퍼)을 잡아주고, 특정 파라미터들에 따라 기판을 정확히 위치시키도록 구성된 제2위치설정수단(PW)에 연결되도록 이루어진 기판테이블(예를 들어, 웨이퍼테이블)(WT); 및

- 패터닝장치(MA)에 의하여 방사선 빔(PB)에 부여된 패턴을 기판(W)의 타겟부(C)(예를 들어, 하나 이상의 다이를 포함함)상에 투영하도록 구성된 투영시스템(PL)(예를 들어, 굴절형 투영렌즈 시스템)을 포함한다.

조명시스템은 방사선을 지향, 성형 또는 제어시키기 위하여 굴절, 반사, 자기, 전자기, 정전기 및 여타 유형의 광학 구성요소와 같은 다양한 종류의 광학 구성요소를 포함할 수도 있다.

지지구조체는, 패터닝장치의 무게를 지지, 즉 지탱한다. 지지구조체는, 패터 닝장치의 방위, 리소그래피 장치의 디자인 및 예를 들어 패터닝장치가 진공 환경내에서 유지되는지의 여부와 같은 여타 조건들에 종속적인 방식으로 패터닝장치를 유지시킨다. 지지구조체는 패터닝장치를 유지시키기 위하여 기계적, 진공, 정전기 또는 여타의 클램핑 기술을 사용할 수 있다. 지지구조체는 필요에 따라 고정되거나 이동할 수 있는 프레임 또는 테이블일 수 있다. 상기 지지구조체는, 패터닝장치가 예를 들어 투영시스템에 대해 원하는 위치에 있을 수 있도록 한다. 본 명세서의 "레티클" 또는 "마스크"라는 어떠한 용어의 사용도 "패터닝장치"와 같은 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있다.

여기서 사용되는 "패터닝장치(patterning device)"라는 용어는 기판의 타겟부에 패턴을 생성하기 위해서, 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여하는데 사용될 수 있는 장치를 의미하는 것으로 폭넓게 해석되어야 한다. 예를 들어, 패턴이 위상-시프팅 피처 또는 소위 어시스트 피처들을 포함하는 경우 방사선 빔에 부여된 패턴은 기판의 타겟부내의 원하는 패턴과 정확히 일치하지 않을 수도 있다는 것에 유의해야 한다. 일반적으로, 투영빔에 부여된 패턴은 집적회로와 같이 타겟부에 생성될 디바이스내의 특정기능층에 해당할 것이다.

패터닝장치는 투과형 또는 반사형일 수 있다. 패터닝장치의 예로는 마스크, 프로그램가능한 거울 어레이 및 프로그램가능한 LCD 패널을 포함한다. 마스크는 리소그래피 분야에서 잘 알려져 있으며, 바이너리형, 교번 위상-시프트형 및 감쇠 위상-시프트형 마스크와 다양한 하이브리드 마스크형식도 포함한다. 프로그램가능한 거울 어레이의 일례는 작은 거울들의 매트릭스 구성을 채택하며, 그 각각은 입사하 는 방사선 빔을 상이한 방향으로 반사시키도록 개별적으로 기울어질 수 있다. 기울어진 거울은 거울 매트릭스에 의해 반사되는 방사선 빔에 패턴을 부여한다.

본 명세서에서 사용되는 "투영시스템"이라는 용어는, 예를 들어 사용되는 노광방사선에 대하여, 또는 침지 유체(immersion fluid)의 사용 또는 진공의 사용과 같은 여타의 인자에 대하여 적절하다면, 굴절광학시스템, 반사광학시스템, 카타디옵트릭시스템, 자기시스템, 전자기시스템 및 정전기 광학시스템 또는 그들의 조합을 포함하는 소정 형태의 투영시스템을 내포하는 것으로서 폭넓게 해석되어야 한다. "투영 렌즈"라는 용어의 어떠한 사용도 "투영시스템"과 같은 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있다.

도시된 바와 같이, 상기 장치는 (예를 들어, 투과형 마스크를 채용한) 투과형이다. 대안적으로는, 상기 장치는 (예를 들어, 상술된 바와 같이 소정 형태의 프로그램가능한 거울 어래이를 채용한 또는 반사 마스크를 채용한) 반사형일 수도 있다.

리소그래피 장치는 2개(듀얼스테이지)이상의 기판테이블(및/또는 2이상의 마스크테이블)을 갖는 형태로 구성될 수도 있다. 이러한 "다수 스테이지" 기계에서는 추가 테이블이 병행하여 사용될 수 있으며, 1이상의 테이블이 노광에서 사용되고 있는 동안 1이상의 다른 테이블에서는 준비작업 단계가 수행될 수 있다.

도 1을 참조하면, 일루미네이터(IL)는 방사선소스(S0)로부터 방사선의 빔을 수용한다. 예를 들어, 상기 소스가 엑시머 레이저인 경우, 상기 소스 및 리소그래피 장치는 별도의 개체일 수 있다. 이러한 경우, 상기 소스는 리소그래피장치의 부 분을 형성하는 것으로 간주되지는 않으며, 상기 방사선 빔은 예를 들어, 적절한 지향 거울 및/또는 빔 익스펜더를 포함하는 빔 전달 시스템(BD)의 도움으로, 상기 소스(SO)로부터 일루미네이터(IL)로 통과된다. 여타의 경우, 예를 들어 상기 방사선 소스가 수은 램프인 경우, 상기 소스는 리소그래피 장치의 통합부일 수 있다. 상기 소스(SO) 및 일루미네이터(IL)는, 필요하다면 빔 전달 시스템(BD)과 함께 방사선 시스템이라 칭해질 수도 있다.

일루미네이터(IL)는 방사선 빔의 각도세기분포를 조정하는 조정기구(AD)를 포함할 수도 있다. 일반적으로, 일루미네이터의 퓨필평면내의 세기분포의 적어도 외반경 및/또는 내반경 크기(통상적으로, 각각 외측-σ 및 내측-σ라 함)가 조정될 수 있다. 또한, 일루미네이터(IL)는 인티그레이터(IN) 및 콘덴서(CO)와 같은 다양한 다른 구성요소들을 포함할 수도 있다. 일루미네이터(IL)는 그 단면에 원하는 균일성과 세기 분포를 갖도록 방사선 빔을 콘디셔닝하는데 사용될 수도 있다.

상기 방사선 빔(PB)은 지지구조체(예를 들어, 마스크테이블(MT))상에서 유지되어 있는 패터닝장치(예를 들어, 마스크(MA))상에 입사되며, 패터닝장치에 의해 패터닝된다. 상기 방사선 빔(PB)은, 마스크(MA)를 가로질러 투영시스템(PL)을 통과하여 기판(W)의 타겟부(C)상에 상기 빔을 포커스한다. 보다 상세히 후술되는 액체한정구조체(IH)는 투영시스템(PL)의 최종요소와 기판(W) 사이의 공간으로 침지 액체를 공급한다.

제2위치설정장치(PW) 및 위치센서(IF2)(예를 들어, 간섭계 디바이스, 선형 인코더(linear encoder) 또는 캐퍼서티 센서(capacitive sensor))의 도움으로, 기 판테이블(WT)은, 방사선 빔(PB)의 경로내에 상이한 타겟부(C)를 위치시키도록 정확하게 이동될 수 있다. 이와 유사하게, 제1위치설정장치(PM) 및 또 다른 위치센서(도 1에 명확히 도시되지는 않음)는, 예를 들어 마스크 라이브러리로부터의 기계적인 회수 후에, 또는 스캔하는 동안, 방사선 빔(PB)의 경로에 대하여 마스크(MA)를 정확히 위치시키는데 사용될 수 있다. 일반적으로, 마스크 테이블(MT)의 이동은, 긴 행정 모듈(long stroke module)(개략 위치설정) 및 짧은 행정 모듈(미세 위치설정)의 도움을 받아 실현될 것이며, 이는 제1위치설정장치(PM)의 일부를 형성한다. 이와 유사하게, 기판테이블(WT)의 이동은 제2위치설정장치(PW)의 일부를 형성하는 긴 행정 모듈 및 짧은 행정 모듈을 사용하여 실현될 수도 있다. (스캐너와는 대조적으로) 스테퍼의 경우, 상기 마스크테이블(MT)은 단지 짧은 행정액츄에이터에만 연결되거나 고정될 수도 있다. 마스크(MA) 및 기판(W)은 마스크 정렬마크(M1, M2) 및 기판 정렬마크(P1, P2)를 이용하여 정렬될 수도 있다. 예시된 바와 같이 기판 정렬 마크들이 할당된 타겟부를 점유하기는 하나, 그들은 타겟부들 사이의 공간들에 배치될 수도 있다(이들은 스크라이브-레인(scribe-lane) 정렬 마크로 알려져 있음). 이와 유사하게, 마스크(MA)상에 1이상의 다이가 제공되는 상황에서는, 다이들 사이에 마스크 정렬 마크들이 배치될 수도 있다.

상술된 장치는 다음의 바람직한 모드들 중 1이상에서 사용될 수 있다.

1. 스텝 모드에서는, 마스크테이블(MT) 및 기판테이블(WT)은 기본적으로 정지상태로 유지되며, 방사선 빔에 부여되는 전체 패턴은 한번에 타겟부(C)상에 투영된다{즉, 단일 정적 노광(single static exposure)}. 그런 후, 기판테이블(WT)은 X 및/또는 Y 방향으로 시프트되어 다른 타겟부(C)가 노광될 수 있다. 스텝 모드에서, 노광필드의 최대 크기는 단일 정적 노광시에 묘화되는 타겟부(C)의 크기를 제한한다.

2. 스캔 모드에서는, 마스크테이블(MT)과 기판테이블(WT)은 방사선 빔에 부여되는 패턴이 타겟부(C)상에 투영되는 동안에 동기적으로 스캐닝된다{즉, 단일 동적 노광(single dynamic exposure)}. 마스크테이블(MT)에 대한 기판테이블(WT)의 속도 및 방향은 확대(축소) 및 투영시스템(PS)의 이미지 반전 특성에 의하여 판정된다. 스캔 모드에서, 노광필드의 최대크기는 단일 동적노광시 타켓부의 (스캐닝되지 않는 방향으로의) 폭을 제한하는 반면, 스캐닝 동작의 길이는 타겟부의 (스캐닝 방향으로의) 높이를 결정한다.

3. 또 다른 모드에서는, 마스크테이블(MT)은 프로그램가능한 패터닝장치를 유지하여 기본적으로 정지된 상태로 유지되며, 방사선 빔에 부여되는 패턴이 타겟부(C)상에 투영되는 동안, 기판테이블(WT)이 이동되거나 스캐닝된다. 이 모드에서는, 일반적으로 펄스 방사선 소스(pulsed radiation source)가 채용되며, 프로그램가능한 패터닝장치는 기판테이블(WT)이 각각 이동한 후, 또는 스캔중에 계속되는 방사선펄스 사이에서 필요에 따라 업데이트된다. 이 작동 모드는 상기 언급된 바와 같은 종류의 프로그램가능한 거울 어레이와 같은 프로그램가능한 패터닝장치를 이용하는 마스크없는 리소그래피(maskless lithography)에 용이하게 적용될 수 있다.

또한, 상술된 모드들의 조합 및/또는 변형, 또는 완전히 다른 상이한 사용 모드들이 채용될 수도 있다.

국부화된 액체공급시스템을 갖는 추가 침지 리소그래피가 도시되어 있다. 액체는 투영시스템(PL)의 어느 한 측면상의 2개의 홈 유입구(IN)에 의해 공급되고, 상기 유입구(IN)의 반경방향 바깥쪽으로 배치되는 복수의 별도 유출부(OUT)에 의해 제거된다. 상기 유입부(IN) 및 유출부(OUT)는 중앙에 홀을 갖는 플레이트와 같은 액체한정구조체에 배치될 수 있으며, 그를 통해 투영빔이 투영된다. 액체는 투영시스템의 일 측면상의 하나의 홈 유입부(IN)에 의해 공급되고 투영시스템의 다른 측면상의 복수의 별도 유출부(OUT)에 의해 제거되어, 투영시스템과 기판 사이에 액체의 얇은 막의 유동을 야기한다. 유입부(IN) 및 유출부(OUT)의 어떤 조합을 사용할지에 대한 선택은 기판의 이동 방향에 달려있다(유입부(IN) 및 유출부(OUT)의 여타 조합은 불활성(inactive)임).

제안되어 온 국부화된 액체공급시스템을 구비한 또 다른 침지 리소그래피 해법은 투영시스템의 최종요소와 기판테이블 사이의 공간 경계부의 적어도 일부를 따라 연장되는 액체한정구조체를 액체공급시스템에 제공하는 것이다. 이러한 해법이 도 5에 개략적으로 예시되어 있다. 액체한정구조체는 Z방향(광학축선의 방향)으로 일부 상대적인 이동이 존재하기는 하나 X-Y 평면에서 투영시스템에 대해 실질적으로 정치식(stationary)이다. 액체한정구조체와 기판의 표면 사이에는 시일이 형성된다.

도 5를 참조하면, 저장소(10)가, 기판의 표면과 투영시스템의 최종요소 사이의 공간을 채우기 위해 액체가 한정되도록 투영시스템의 이미지 필드 주위의 기판에 대해 무접촉 시일을 형성한다. 상기 저장소는 투영시스템(PL)의 최종요소 아래 와 그를 둘러싸 위치되는 액체한정구조체(12)에 의해 형성된다. 액체는 투영시스템 아래의 공간과 액체한정구조체내로 나아간다. 액체한정구조체는 투영시스템의 최종요소 위에서 약간 연장되고, 액체의 버퍼가 제공되도록 액체의 레벨은 최종요소 위로 상승한다. 액체한정구조체는, 일 실시예의 상단부에서 투영시스템 또는 그것의 최종요소의 형상과 밀접하게 순응하고, 예를 들어 라운드질 수도 있는 내주부를 갖는다. 저부에서, 내주부는, 반드시 그러해야 하는 것은 아니지만 이미지 필드의 형상, 예를 들어 직사각형과 밀접하게 순응하는 내주부를 갖는다.

액체는 액체한정구조체와 기판(W)의 표면 사이에서 가스 시일(16)에 의해 저장소내에 한정된다. 가스 시일은 압력하에서 유입구(15)를 통해 액체한정구조체(12)와 기판 사이의 갭으로 제공되며, 제1유출부(14)를 통해 추출되는 가스, 예를 들어 공기, 합성공기, N₂ 또는 불활성 가스에 의해 형성된다. 유입부(15)상의 과도압력, 제1유출부(14)상의 진공 레벨 및 갭의 기하학적 형상은, 액체를 한정하는 안쪽으로의 고속 가스유동이 존재하도록 구성된다. 이러한 시스템은 본 명세서에서 인용참조하고 있는 미국특허출원 제10/705,783호에 개시되어 있다.

도 5의 액체한정구조체에서, 액체는, 포트(13)에 의해 투영시스템과 기판/기판테이블 사이의 공간으로 공급되고 및/또는 상기 공간으로부터 제거될 수도 있다. 일 실시예에서, 포트(13)는 상기 공간으로 액체를 공급하는 (예를 들어, 노광 필드의 대향 측상의) 1쌍의 유입부(13)를 포함한다. 유입부(들)(13)에 의해 공급되는 액체는 노광 필드의 주변부를 둘러싸는 유출부(14)에 의해 제거될 수 있다(여기서 사용되는 바와 같이, 노광 필드는 투영빔이 통과하는 영역뿐만 아니라 추가적 또는 대안적으로 측정 방사선 빔에 의한 측정이 취해질 수 있는 영역을 포함할 수도 있다). 유출부(14)로 인하여, 액체는 기판/기판테이블의 이동 방향과는 무관하게 상기 공간 및 노광 필드내에 한정된다. 액체의 유동은 유입부(들)(13) 및 유출부(14)의 적절한 구조에 걸친 공간내에서 성립되거나 및/또는 유지될 수도 있다. 하지만, 시일(16)만이 사용되는 경우에는, 유입부(들)에 의하여 상기 공간 및 노광 필드내로 공급되는 액체는 간신히(only just) 상기 공간내에서 액체의 유동없이 유지될 수 있다.

일 실시예에서, 포트(13)는 (예를 들어, 노광 필드의 대향하는 측면들상에) 유입부 및 유출부를 포함한다. 노광 필드를 둘러싸는 시일(16)은 액체 유출부에 대한 필요성 없이 상기 공간 및 노광 필드내에 액체를 한정한다. 상기 공간을 통과한 액체의 유동이 바람직한 경우에는, 유입부/유출부(13)가 상기 유동을 조성 및/또는 유지시키도록 적절히 구성될 수도 있다.

일 실시예에서, 포트(13)는 노광 필드의 주변부 주위에서 연장되며, 따라서 회전방향으로 대칭인 액체 유입부를 제공한다. 포트(13)가 유입부만을 포함하는 경우에, 유출부(14)는 노광 필드의 주변부 주위에 제공되어 기판/기판테이블이 어떠한 방향으로 이동하는 동안에도 그내부에 액체를 한정할 수 있다. 추가적 또는 대안적으로는, 노광 필드의 주변부 주위에 제공되는 시일(16)이 기판/기판테이블이 어떠한 방향으로 이동하는 동안에도 노광 필드내에 액체를 한정시킬 수 있다. 그리고, 포트(13)가 유출부를 더 포함하고 포트(13)의 유입부와 유출부 사이에 액체의 유동이 조성되는 경우에는, 노광 필드 주변부 주위에 제공되는 시일(16)이 기판/기판테이블이 어떠한 방향으로 이동하는 동안에도 노광 필드내에 액체를 한정할 수 있다.

따라서, 도 5의 액체공급시스템에 의하면, 특정 유입부(들) 및/또는 유출부(들)를 턴 오프나 턴 온할 필요없이 또는 기판/기판테이블의 이동 방향에 상관없이, 투영시스템과 기판/기판테이블 사이의 공간 및 노광 필드내에 액체가 한정된다.

도 6 및 7을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 액체공급시스템의 평면도 및 측면도가 개략적으로 도시되어 있다. 액체공급시스템은 투영시스템과 기판 및/또는 기판테이블(W) 사이의 공간(22)에 대해 적어도 부분적으로 액체를 한정하도록 구성되는 액체한정구조체(20)를 포함한다. 액체한정구조체(20)는 상기 공간으로 액체를 공급하도록 구성되는 유입부(24) 및 상기 액체를 제거하도록 구성되는 유출부(26)를 포함한다. 기판/기판테이블은 상기 액체한정구조체(및 투영시스템)에 대해 상기 액체한정구조체의 평면과 실질적으로 평행한 X-Y 평면으로 이동한다. 도 6 및 7에서, (예를 들어, X방향으로의) 화살표(28)는 이러한 이동의 일 예시를 나타내고 있으나, 기판/기판테이블이 (회전을 포함하여) 다른 방향으로도 이동할 수 있다는 것은 명백하다.

액체한정구조체는 프레임(30)을 통해 베이스나 그라운드(도시 안됨)에 연결된다. 일 실시예에서, 투영시스템과 액체한정구조체가 기계적으로 고립되어 투영시스템과 액체한정구조체간의 진동 및 힘의 전달이 최소화되거나 저감될 수 있도록, 투영시스템은 액체한정구조체와는 상이한 프레임(도시 안됨)에 연결된다. 투영시스 템을 위한 상이한 프레임은 베어스나 그라운드에 연결될 수도 있고 또는 액체한정구조체를 위한 프레임에 연결되지만 그로부터 고립될 수도 있다. 액체한정구조체는 실질적으로 X 및 Y 방향으로는 정치적이며 Z방향으로는 이동할 수도 있다. 도 6에서는, 투영시스템의 최상부(예를 들어 도 7 참조)가 생략되어 액체한정구조체를 명확히 확인할 수 있다.

일 실시예에서, 도 2, 3 및 4의 액체공급시스템과 같이, 기판(W)/기판테이블(WT)의 이동은 상기 공간 및 노광 필드내에서의 액체의 한정 및 배분을 촉진한다. 특히, 액체는 유입부에 의하여 노광 필드 일 측의 공간으로 공급되고, 기판/기판테이블의 이동은 노광 필드내에서의 액체의 배분 및 노광 필드 대향 측상의 유출부로의 액체의 배분을 촉진한다. 따라서, 투영시스템 및 액체한정구조체는 공간 최상부에 대한 한정을 제공하고, 기판/기판테이블은 공간 저부에 대한 한정을 제공하며, 유입부로부터 유출부까지의 방향으로의 기판/기판테이블의 이동과 조합하여 노광 필드 대향 측상의 유입부 및 유출부는 상기 공간내에서 측방향으로의 배분 및 한정을 제공한다. 기판/기판테이블의 이동 및 노광 필드 대향 측상에서의 유입부 및 유출부의 위치설정의 조합은 상기 공간내의 액체의 얇은 막의 유동을 조성 및 유지시키도록 촉진한다. (예를 들어, X 방향으로 연장되는) 화살표(32)는 상기 공간에서의 액체 유동의 일 예시를 나타내고 있으나, 액체의 유동은 유입부 및 유출부의 위치설정 및 기판/기판테이블의 이동에 따라 (회전을 포함하는) 다른 방향으로 이동할 수도 있다는 것은 분명하다.

도 2, 3 및 4의 공급시스템에서, 기판/기판테이블의 이동 방향의 변화가 존 재하는 경우에, 상기 공간 및 노광 필드내에서의 액체의 한정 및 배분은 노광 필드 주변부상이나 그 외측의 1이상의 특정 유입부 및 유출부를 활성화/활성억제(deactivate)시킴으로써 촉진된다. 예를 들어, 도 2, 3 및 4의 경우에, 기판/기판테이블이 제1유입부(IN)로부터 제2유출부(OUT)을 향하여 이동할 때 노광 필드의 일 측상의 제1유입부(IN)는 액체를 노광 필드의 또 다른 측상의 제1유출부(OUT) 및 상기 공간으로 공급한다. 기판/기판테이블이 제1방향에 대해 제2방향으로 180°이동하는 경우에는, 제2유입부(IN) 및 제2유출부(OUT)는 활성화되고 제1유입부(IN) 및 제1유출부(OUT)는 활성억제된다. 제2유입부(IN)는 (제1유출부(OUT)와 인접한) 제1유입부(IN)와 대향되는 위치에 위치되고 제2유출부(OUT)는 (제1유입부(IN)에 인접한) 제1유출부(OUT)와 대향되는 위치에 위치된다. 따라서, 이러한 구조에서는, 기판/기판테이블의 제2방향은 제2유입부(IN)로부터 제2유출부(OUT)를 향하는 방향이 된다. 일 실시예에서, 제1유입부(IN)는 예를 들어, 액체 소스로부터 저압 소스로 전환시킴으로써 제2유출부(OUT)로 전환될 수 있으며, 제1유출부(OUT)는 예를 들어, 저압 소스를 액체공급부로 전환시킴으로써 제2유입부(IN)로 전환될 수 있다. 유입부 및 유출부들은 또한 다른 방향으로의 기판/기판테이블의 이동을 위해 제공될 수도 있다(예를 들어, 도 3 참조). 따라서, 도 2, 3 및 4의 액체공급시스템은 비-회전 대칭 액체 유입부 및 유출부 시스템을 채용하여, 1이상의 액체 유입부 및 유출부의 활성화/활성억제를 통한 (예를 들어, 스캔 방향으로의) 기판/기판테이블의 이동에 따라 노광 필드 주변부상이나 그 외측의 액체 유입부 및 유출부를 전환시킨다.

일 실시예에서, 1이상의 액체 유입부 및 유출부들의 활성화/활성억제를 통한 액체 유입부 및 유출부 위치의 전환은, 1이상의 유입부 및 유출부가 기판의 노광 평면에 대해 실질적으로 수직인 축선, 예를 들어 Z 축선이나 투영시스템의 광학 축선 주위를 회전하는 경우에는 회피될 수도 있다. 도 6 및 7을 참조하면, 1이상의 모터(34)는 유입부 및 유출부를 포함하는 액체한정구조체를 프레임에 대해 그리고 상기 축선을 중심으로 회전시켜, 유입부 및 유출부 둘 모두를 직렬로 이동시킨다. 만곡된 화살표(38)는 액체한정구조체가 어떻게 회전되는지를 나타내고 있다. 제어기(40)는 기판/기판테이블의 이동 방향을 토대로 모터(들)을 제어한다. 특히, 제어기는, 유입부로부터 유출부로의 방향이 실질적으로 평행하고 기판/기판테이블의 이동과 동일한 방향이 될 수 있게 액체한정구조체가 위치되도록 모터(들)을 제어한다. 이러한 방식으로, 유입부 및 유출부는 액체한정구조체가 기판/기판테이블의 이동의 변화를 가지고 회전함에 따라 활성화/활성억제될 필요없이, 투영시스템과 기판/기판테이블 사이의 공간에 한정되는 액체를 유지시키고 기판/기판테이블의 이동과 동일한 방향으로의 공간내의 액체의 유동을 유지시킨다. 유입부 및 유출부의 적절한 회전에 의하면, 기판/기판테이블의 이동은 유입부로부터 유입부까지 기판/기판테이블의 모든 이동 방향으로 액체를 자동적으로 이송할 수 있다. 제어기는 피드-포워드 또는 피드백 방식으로 작동될 수도 있다.

일 실시예에서, 액체공급시스템은 유입부나 유출부 또는 둘 모두를 기판의 노광 평면에 대해 실질적으로 수직인 축선을 중심으로 회전시키도록 구성된다. 액체공급시스템은 이들 모든 회전 기능들을 제공할 수 있으나, 실시예들에 따라 액체 공급시스템은 (유출부를 회전시키는 능력 없이) 단지 유입부만의 회전이나 (유입부를 회전시키는 능력 없이) 유출부만의 회전, 또는 유입부 또는 유출부 둘 모두의 회전을 제공할 수도 있다. 다시 말해, 액체공급시스템은 이들 모든 회전 능력들을 제공할 필요없이 단 한가지 타입의 회전만을 제공할 수도 있다.

도 8a 내지 8c를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따라 액체공급시스템의 작동을 설명하기 위하여 상이한 회전에서의 액체한정구조체가 개략적으로 도시되어 있다. 하지만, 이 예시에서는, 액체한정구조체가 도 4 및 5에 도시된 것과 같은 프레임의 사용 없이 투영시스템(또는 투영시스템을 지지하는 프레임)에 연결된다. 이경우에는, 1이상의 모터(도시 안됨)가 투영시스템에 대한 액체한정구조체를 투영시스템의 광학 축선과 실질적으로 평행한 축선을 중심으로 이동시킨다. 액체한정구조체와 투영시스템간의 진동 및/또는 힘들의 전달은 아이솔레이터(isolator)나 감쇠기구의 사용을 통해 저감 또는 회피될 수 있다. 이 예시적인 액체한정구조체의 회전은 도 4 및 5의 예시적인 액체한정구조체의 회전과 실질적으로 유사하다.

도 8a를 참조하면, 액체한정구조체는, (화살표로 나타낸) 액체한정구조체의 유입부로부터 유출부로의 방향이 (화살표로 나타낸) 기판/기판테이블의 이동과 실질적으로 평행하고 동일한 방향이 되도록 위치된다. 도 8a에서, 기판/기판테이블의 이동은 스캐닝 방향으로 되어 있다. 기판/기판테이블의 이동이, 예를 들어 도 8b에 나타낸 바와 같이 스테핑 방향으로 변하는 경우, 액체한정구조체는 시계방향으로 대략 90°회전되어, (화살표로 나타낸) 액체한정구조체의 유입부로부터 유출부로의 방향이 (화살표로 나타낸) 기판/기판테이블의 이동과 실질적으로 평행하고 동일한 방향이 되도록 한다. 기판/기판테이블의 이동이, 예를 들어 도 8c에 도시된 바와 같이 (도 8a에서의 스캐닝 방향과는 반대의 부호를 갖기는 하지만) 다시 스캐닝 방향으로 변하는 경우, 액체한정구조체는 시계방향으로 90°더 회전되어, (화살표로 나타낸) 액체한정구조체의 유입부로부터 유출부로의 방향이 (화살표로 나타낸) 기판/기판테이블의 이동과 실질적으로 평행하고 동일한 방향이 되도록 한다. 기판/기판테이블의 이동이, 예를 들어 도 8b에 나타낸 것과 같은 스테핑 방향으로 다시 변한다면, 액체한정구조체는 단지 반시계방향으로 대략 90°회전되어, (화살표로 나타낸) 액체한정구조체의 유입부로부터 유출부로의 방향이 (화살표로 나타낸) 기판/기판테이블의 이동과 실질적으로 평행하고 동일한 방향이 되도록 할 필요가 있다. 따라서, 1이상의 유입부 및/또는 유출부들은 일 실시예에서 소정의 각도(예를 들어 0 내지 360°)로 회전될 수 있는 한편, 1이상의 유입부 및/또는 유출부들은 단지 0 내지 200°의 범위내에서만 외전될 수도 있다.

일 실시예에서, 1이상의 유입부 및/또는 유출부들은, 액체한정구조체의 유입부로부터 유출부로의 방향이 기판/기판테이블의 스캐닝 이동과 실질적으로 평행하고 동일한 방향인 위치에 대해서만 회전될 수도 있다. 이 경우에, 제한된 수의 회전이 필요할 수도 있다.

일 실시예에서는, 회전되는 액체한정구조체 대신에, 개별적인 유입부 및/또는 유출부, 또는 유입부들 및/또는 유출부들의 그룹이 액체한정구조체 자체내에서 회전될 수도 있다. 예를 들어, 노광 필드의 주변부 주위에 유출부가 제공되는 경우에는, 단순히 노광 필드 주변부 모두나 그 일부 주위에서 1이상의 유입부들을 회전 시키는 것이 유리할 수도 있다.

액체한정구조체 또는 1이상의 유입부 및/또는 유출부들을 회전시키기 위한 1이상의 모터들에 대해 상술되었으나, 어떠한 이동기구도 사용될 수 있다. 모터(들)는 1이상의 선형 모터 또는 1이상의 기계적 액추에이터일 수도 있다. 프레임 및/또는 액체한정구조체는 1이상의 유입부 및/또는 유출부나 액체한정구조체의 회전을 안내하기 위한 트랙을 포함한다. 1이상의 적절한 베어링이 제공될 수도 있다.

유입부 및/또는 유입부들 중 1이상의 회전은 1이상의 유입부 및/또는 유출부들의 활성화/활성억제를 회피할 수 있는 장점을 갖는다. 이러한 활성화/활성억제는 액체의 품질에 대한 악영향을 가질 수도 있다. 예를 들어, 1이상의 유입부 및/또는 유출부들의 활성화/활성억제를 통해 액체 유입부 및 유출부들의 위치가 전환되는 경우, 액체공급시스템내의 밸브들이 오염되고, 따라서 액체내에 오염물을 도입시킬 수도 있다. 입자 필터 및/또는 디버블러(de-bubbler)를 통해 액체의 유동 방향을 변화시키거나 상기 유동을 정지시키는 것은, 1이상의 유입부 및/또는 유출부들의 활성화/활성억제를 통해 액체 유입부 및 유출부의 위치를 전환시킬 때 오염물 및/또는 기포들의 도입을 야기할 수도 있다. 나아가, 액체공급시스템이 단일 액체 유입부 및 단일 액체 유출부, 또는 (예를 들어, 도 4에 도시된 것과 같은) 2개의 대향되는 위치 각각에 유입부/유출부 조합을 구비하는 경우, 회전은, 특정한 기판/기판테이블의 이동 방향, 예를 들어 단일 액체 유입부와 단일 액체 유출부간의 라인에 수직이거나 대향되는 위치의 유입부/유출부 조합들간의 라인에 수직인 방향으로의 액체의 누출을 회피 또는 저감시키는 것을 돕는다. 또한, 회전은 1이상의 유입 부 및/또는 유출부의 활성화/활성억제에 의해 야기되는 리소그래피 장치에 있어서의 해로운 진동들을 회피 또는 저감시키는 것을 도울 수도 있다.

일 실시예에서, 유입부나 유출부 또는 둘 모두는 액체의 유동을 기판의 이동방향과 실질적으로 수직인 방향으로 유지시키기 위해 회전될 수도 있다. 노광 필드에서 액체를 유지시키기 위하여, (표면장력이 실질적으로 노광 필드에 액체를 유지시킬 수 있는 기판의 이동 방향과 동일한 방향으로의 액체의 유동과 구별되는 것으로서) 노광 필드의 주변부 주위에는 시일 또는 유출부가 제공되어, 노광 필드에서의 액체 유동의 방향에 수직인 기판의 이동이 액체를 노광 필드로부터 끌어들이고 액체가 바람직하지 않은 장치의 부분으로 인도함으로써 액체를 포함 또는 제거한다. 도 9를 참조하면, 본 실시예의 액체공급시스템은, 노광 필드로부터 벗어나는 액체를 제거하기 위하여 유출부(42)가 노광 필드의 주변부 주위에 제공된다는 점을 제외하고는 도 7에 도시된 것과 실질적으로 동일하다. 액체공급시스템의 구성, 액체의 유동 및/또는 기판의 이동에 따라, 유출부(42)가 노광 필드를 완전히 둘러쌀 필요는 없다.

일 실시예에서, 유입부나 유출부, 또는 둘 모두는, 상이한 시각 또는 지점에서 기판의 이동 방향과 실질적으로 수직인 방향 또는 기판의 이동 방향과 실질적으로 평행한 방향으로 액체의 유동을 유지시키기 위해 회전될 수도 있다.

듀얼 스테이지 침지 리소그래피 장치에서는, 각각 기판을 지지하기 위한 2개의 테이블이 제공된다. 레벨링 측정은 침지 액체 없이 제1위치의 테이블로 수행되며, 노광은 침지 액체가 존재하는 제2위치의 테이블로 수행된다. 대안적으로, 상기 장치는 단 하나의 테이블만을 가질 수도 있으며, 별개의 레벨링 및 노광 위치 사이에서 이동한다.

본 명세서에서는 IC의 제조에 있어서 리소그래피장치의 사용례에 대하여 언급하였으나, 상기 리소그래피장치는 집적 광학 시스템, 자기 도메인 메모리용 유도 및 검출패턴, 평판 디스플레이, 액정 디스플레이(LCD), 박막 자기 헤드의 제조와 같이 여타의 응용례를 가질 수도 있다는 것을 이해하여야 한다. 당업자라면, 이러한 대안적인 적용례와 관련하여, 본 명세서에서 사용되는 "웨이퍼" 또는 "다이"와 같은 어떠한 용어의 사용도 각각 "기판" 및 "타겟부" 등과 같은 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수도 있음을 이해할 수 있을 것이다. 본 명세서에서 언급되는 기판은, 노광 전후에, 예를 들어 트랙(전형적으로, 기판에 레지스트층을 도포하고 노광된 레지스트를 현상하는 툴), 또는 메트롤로지 툴 및/또는 검사 툴에서 처리될 수 있다. 적용가능하다면, 이러한 기판처리툴과 여타의 기판처리툴에 본 명세서의 기재내용이 적용될 수 있다. 또한, 예를 들어 다층 IC를 생성하기 위하여 기판이 한번 이상 처리될 수 있으므로, 본 명세서에 사용되는 기판이라는 용어는 여러번 처리된 층들을 이미 포함한 기판을 칭할 수 있다.

본 명세서에서 사용되는 "방사선" 및 "빔"이란 용어는, (예를 들어, 파장이 365, 248, 193, 157 또는 126㎚인) 자외(UV)선을 포함하는 모든 형태의 전자기방사선을 포괄한다.

본 명세서에서 사용하는 "렌즈"라는 용어는, 굴절, 반사 및 광학 구성요소들을 포함하는 다양한 타입의 광학 구성요소들 중 하나 또는 조합을 지칭할 수도 있 다.

본 발명의 특정 실시예들에 대해 상술하였으나, 본 발명은 설명된 것과는 달리 실행될 수도 있다는 것을 이해해야 한다. 예를 들어, 적용이 가능하다면 본 발명은, 상술된 바와 같은 방법을 설명하는 기계-판독가능 명령어들의 1이상의 시퀀스를 포함하는 컴퓨터 프로그램이나, 또는 이러한 컴퓨터 프로그램이 내부에 저장되는 데이터 저장매체(예를 들어, 반도체 메모리, 자기 또는 광학 디스크)의 형태를 취할 수도 있다.

본 발명의 실시예들 중 1이상은 어떠한 침지 리소그래피 장치에도 적용될 수 있으며, 특히 상술된 타입들에만 배타적으로 적용되는 것은 아니다. 액체공급시스템은 투영시스템과 기판 및/또는 기판테이블 사이의 공간으로 액체를 제공하는 어떠한 기구도 될 수 있다. 그것은 1이상의 구조체, 1이상의 액체 유입부, 1이상의 가스 유입부, 1이상의 가스 유출부 및/또는 1이상의 액체 유출부의 어떠한 조합도 포함할 수 있으며, 상기 조합은 상기 공간에 액체를 공급 및 한정한다. 일 실시예에서, 공간의 표면은 기판 및/또는 기판테이블의 부분으로 제한되거나, 상기 공간의 표면은 기판 및/또는 기판테이블의 표면을 완전히 커버링하거나, 또는 상기 공간은 기판 및/또는 기판테이블을 둘러쌀(envelop) 수도 있다.

상기 장치에 사용되는 침지 액체는, 바람직한 특성 및 사용되는 노광 방사선의 파장에 따라 상이한 성분(composition)들을 가질 수도 있다. 193nm의 노광 파장에 대하여, 초순수(ultra pure water) 또는 수계(water-based) 성분들이 사용되고, 이러한 이유로 침지 액체가 때때로 물이라 칭해지며, 친수성, 소수성, 습도 등과 같은 물-관련 용어들이 사용될 수 있다.

상기 설명들은 예시에 지나지 않으며 제한의 의도는 없다. 따라서, 당업자들은, 후속 청구항들의 범위를 벗어나지 않는다면 기술된 바와 같은 본 발명에 대한 수정례들이 만들어질 수 있다는 것을 이해할 것이다.

본 발명에 따르면, 리소그래피 장치의 투영시스템과 기판사이에서 액체의 유동 방향을 전환시키기 않고 기판이 상이한 방향들로 이동될 수 있는 액체공급시스템을 구비한 리소그래피 장치를 얻을 수 있다.

Claims

리소그래피 장치에 있어서,

방사선 빔을 콘디셔닝하도록 구성된 조명시스템;

상기 빔의 단면에 패턴을 부여하도록 구성된 패터닝장치를 잡아주도록 구성된 지지구조체;

기판을 잡아주도록 구성된 기판테이블;

상기 패터닝된 빔을 상기 기판의 타겟부상으로 투영하도록 구성된 투영시스템; 및

상기 투영시스템과 상기 기판사이의 공간으로 액체를 공급하도록 구성된 유입부 및 상기 액체의 적어도 일부를 제거하도록 구성된 유출부를 포함하고, 상기 유입부나 상기 유출부, 또는 둘 모두를 상기 기판의 노광 평면에 대해 실질적으로 수직인 축선을 중심으로 회전시키도록 구성된 액체공급시스템을 포함하며,

상기 공간의 액체의 유동 방향은 상기 기판의 이동 방향과 실질적으로 수직인 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
제1항에 있어서,

상기 액체공급시스템은 상기 공간내에 상기 액체를 적어도 부분적으로 한정하도록 구성된 액체한정구조체를 포함하고, 상기 액체한정구조체는 상기 유입부 및 상기 유출부를 포함하며 상기 축선을 중심으로 회전하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
제2항에 있어서,

상기 유입부 및 상기 유출부는 상기 패터닝된 빔이 투영되는 노광 필드의 대향되는 측상에 각각 위치되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
제2항에 있어서,

상기 액체한정구조체는 상기 장치의 베이스 또는 그라운드에 연결되는 프레임상에서 지지되고 상기 액체공급시스템은 상기 프레임에 대해 상기 액체한정구조체를 회전시키도록 구성되는 1이상의 모터를 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
삭제
삭제
삭제
제1항에 있어서,

상기 유입부나 상기 유출부 또는 둘 모두는 360°이하로 회전되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
제1항에 있어서,

상기 유입부나 상기 유출부 또는 둘 모두는 200°이하로 회전되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
삭제
제1항에 있어서,

상기 유입부나 상기 유출부 또는 둘 모두를 상기 축선을 중심으로 반시계방향 및 시계방향으로 회전시키도록 구성되는 1이상의 모터를 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
제1항에 있어서,

상기 액체공급시스템은 복수의 유입부나 복수의 유출부 또는 둘 모두를 포함하고, 상기 유입부나 상기 유출부 또는 둘 모두를 회전시키도록 구성되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
삭제
제1항에 있어서,

상기 액체공급시스템은 단지 상기 기판의 노광 평면과 실질적으로 수직인 축선을 중심으로 상기 유입부를 회전시키도록 구성되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
제1항에 있어서,

상기 액체공급시스템은 단지 상기 기판의 노광 평면과 실질적으로 수직인 축 선을 중심으로 상기 유출부를 회전시키도록 구성되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
제1항에 있어서,

상기 액체공급시스템은 상기 기판의 노광 평면과 실질적으로 수직인 축선을 중심으로 상기 유입부 및 상기 유출부를 회전시키도록 구성되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
제1항에 있어서,

상기 액체공급시스템은 상기 유입부 및 상기 유출부를, 상기 기판의 이동 변화에 따라 상기 투영시스템의 광학 축선과 실질적으로 평행한 축선을 중심으로 직렬로 회전시키도록 구성된 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
제17항에 있어서,

상기 유입부나 유출부는 200°이하로 회전되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
제17항에 있어서,

상기 공간의 상기 액체의 유동 방향은 상기 기판의 이동 방향과 실질적으로 수직인 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
디바이스 제조방법에 있어서,

리소그래피 장치의 투영시스템과 기판 사이의 공간에 액체를 공급하는 단계;

상기 액체를 상기 공간으로 공급하도록 구성된 유입부나, 상기 액체를 제거하도록 구성된 유출부, 또는 둘 모두를 상기 기판의 노광 평면에 대해 실질적으로 수직인 축선을 중심으로 회전시키는 단계; 및

상기 투영시스템을 사용하여, 상기 액체를 통해 상기 패터닝된 방사선 빔을 상기 기판의 타겟부상으로 투영하는 단계를 포함하며,

상기 공간의 액체의 유동 방향은 상기 기판의 이동 방향과 실질적으로 수직인 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
제20항에 있어서,

액체한정구조체를 사용하여 상기 공간내에 상기 액체를 적어도 부분적으로 한정하는 단계를 포함하고, 상기 액체한정구조체는 상기 유입부 및 상기 유출부를 포함하고 상기 축선을 중심으로 회전하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
제20항에 있어서,

상기 유입부 및 상기 유출부는 상기 패터닝된 빔이 투영되는 노광 필드의 대향되는 측상에 각각 위치되는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
제20항에 있어서,

상기 액체한정구조체를 상기 리쇠그래피 장치의 베이스 또는 그라운드에 연결된 프레임상에서 지지하는 단계; 및

상기 프레임에 대해 상기 액체한정구조체를 회전시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
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제20항에 있어서,

상기 유입부나 상기 유출부 또는 둘 모두를 360°이하의 각도에 걸쳐 회전시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
제20항에 있어서,

상기 유입부나 상기 유출부 또는 둘 모두를 200°이하의 각도에 걸쳐 회전시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
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제20항에 있어서,

단지 상기 유입부를 상기 기판의 노광 평면과 실질적으로 수직인 축선을 중심으로 회전시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
제20항에 있어서,

단지 상기 유출부를 상기 기판의 노광 평면과 실질적으로 수직인 축선을 중심으로 회전시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
제20항에 있어서,

상기 유입부 및 상기 유출부를 상기 기판의 노광 평면과 실질적으로 수직인 축선을 중심으로 회전시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.