KR100671996B1 - 살리실산 유도체들의 (니트록시메틸)페닐에스테르들의수득방법 - Google Patents
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Abstract
Description
[기술분야]
본 발명은 살리실산 유도체들의 (니트록시메틸)페닐에스테르들의 수득방법에 관한 것이다.
[배경기술]
살리실산 유도체들의 (니트록시메틸)페닐에스테르들이 다양한 합성방법들에 의해 제조될 수 있다는 것이 종래 기술 분야에서 공지되어 있다. 특허출원 WO 97/16405에서는 (니트록시메틸)페놀과 아세틸살리실산의 염화아실 반응이 설명되어 있다. (니트록시메틸)페놀은 다음 단계들을 포함하는 합성법에 의해 제조된다:
살리실산 유도체들의 (니트록시메틸)페닐에스테르들이 다양한 합성방법들에 의해 제조될 수 있다는 것이 종래 기술 분야에서 공지되어 있다. 특허출원 WO 97/16405에서는 (니트록시메틸)페놀과 아세틸살리실산의 염화아실 반응이 설명되어 있다. (니트록시메틸)페놀은 다음 단계들을 포함하는 합성법에 의해 제조된다:
- 유기용매에서 HBr과 페놀의 반응시켜 (브로모메틸)페놀을 수득하기 위한 단계 및
- 유기용매에서 (브로모메틸)페놀과 AgNO3를 반응시켜 (니트록시메틸)페놀을 형성하는 단계.
(니트록시메틸)페놀과 아세틸살리실산의 염화아실 사이의 반응에 기초한 방법은 다음과 같은 단점들을 나타낸다:
- 제1합성단계에서에 수득된 (브로모메틸)페놀은 화학적으로 불안정하고 자극적인 화합물이고;
- (브로모메틸)페놀과의 반응에서 사용된 니트로화제는 매우 비싼 반응물이 고;
- (니트록시메틸)페놀은 불안정한 화합물이어서 제어할 수 없는 방식으로 쉽게 분해되고; 염화아세틸살리실산과의 반응 전에 정제되어야 하므로 생산비용을 더 증가시키고 생산시설에서 추가장치들을 필요로 한다.
요컨대, 중간체 (니트록시메틸)페놀을 이용하여 상기 유도체들을 합성하는 것은, 산업적 규모로 실시되기 어렵고 비용이 많이 든다.
출원인 이름의 PCT 특허 EP 00/00353에는, 화학식 (I)(이하 참조)의 니트록시 유도체들의 합성방법이 설명되어 있는데, 히드록시벤즈알데히드와 염산을 반응시키고 알데히드기를 일차알콜로 환원하여 수득된 아세틸살리실산의 (히드록시메틸)페닐에스테르들을 AgNO3로 니트로화한다. 상술한 바와 같이 이 방법도 니트로화제로서 질산은을 사용하므로, 산업적 견지에서는 장점이 크지 않다. 게다가 공정 전체수율은 높지 않다.
종래기술의 교시를 이용하면, 질산에 기초한 니트로화 반응물과 아세틸살리실산의 (히드록시메틸)페닐에스테르를 반응시켜 화학식 (I)(이하 참조)의 살리실산 니트록시유도체들을 수득할 수 있다. 그러나 종래기술의 반응조건하에서는 질산이 예를 들어 방향족 기질(substrata)의 니트로화(참조:"니트로화: 방법 및 메카니즘", 1984 VCH ed., p. 269) 및 일차알콜들의 알데히드로의 산화(참조: "산업 및 실험실 니트로화" 1976 ACS 출판, p 156)과 같은 원하지 않는 반응들을 발생시킨다.
따라서, 종래기술의 상기 방법들도 상기에서 명시된 대로 살리실산의 니트록시유도체들을 산업적 규모로 제조하는 데 있어서의 문제를 해결할 수 없다.
사용된 니트로화제 및 수율 모두에 있어서 종래기술의 것보다 저렴한 공정에 의해, 그리고 실질적으로 종래기술의 단점이 없이 아세틸살리실산의 (히드록시메틸)페닐에스테르들의 니트록시유도체들을 제조할 필요가 있어 왔다.
[발명의 상세한 설명]
본 발명의 목적은 다음 화학식 (I)을 가지는 화합물들, 살리실산 유도체들의 (니트록시메틸)페닐에스테르들의 수득방법이다.
본 발명의 목적은 다음 화학식 (I)을 가지는 화합물들, 살리실산 유도체들의 (니트록시메틸)페닐에스테르들의 수득방법이다.
여기서:
R1은 OCOR3기이고; 여기서 R3는 메틸, 에틸 또는 선형 또는 분지형 C3
- C5 알킬, 또는 O 및 N에서 독자적으로 선택되는 헤테로원자들을 함유하는 5 또는 6 원자들을 가지는 포화된 헤테로고리의 잔기이고;
R2는 수소, 할로겐, 선형 또는 가능할 때 분지형 C1 - C4 알킬, 선형 또는 가능할 때 분지형 C1 - C4 알콕실; 선형 또는 가능할 때 분지형 C1 - C4
퍼플루오로알 킬, 예를 들어 트리플루오로메틸; 모노- 또는 디- (C1 - C4)알킬아미노이고;
바람직하게 화학식 (I)에서 R1은 아세톡시이고 카르복실기에 대해 오르토위치에 있고, R2는 수소이고; 에스테르기의 산소가 (니트록시)메틸렌기에 대해서 오르토, 메타 또는 파라 위치에서 (니트록시)메틸렌기로 치환된 방향족 고리에 결합되고; 바람직하게는 위치가 메타인 것이고;
상기 방법은 다음 단계들을 포함한다:
a) 염기존재 하에서, 유기용매에서 또는 물과 혼합할 수 있거나 혼합할 수 없는 유기용매와 물과의 혼합물에서 히드록시벤질알콜과 다음 화학식 (I-A)의 살리실산 유도체의 할로겐화물을 반응시켜
(여기서 Hal = Cl, Br 그리고 R1 및 R2는 상기 지시된 의미를 가짐) 다음 화학식을 가지는 화합물 (I-B)을 제공하는 단계
(여기서 R1 및 R2는 상기에서 정의된 대로임);
b) 질산과 다른 무기산 또는 유기산 또는 하나나 둘의 유기산들의 무수물과의 증기를 내는 질산(steaming nitric acid)에 의해 형성된 혼합물로 비활성 유기용매에서의 무수화 조건에서 화합물 (I-B)를 니트로화하여, 화학식 (I)의 니트록시유도체를 제공하는 단계
c) 유기상에 물을 첨가하고, 상들을 분리하고, 건조시키고 유기상을 증발시켜 최종산물을 회수하는 단계
단계 a)에서 염기는, 예를 들어 알칼리금속들(나트륨, 칼륨, 리튬)의 수산화물, 산화물, 탄산염들 및 중탄산염들과 같은 무기염기; 또는 트리에틸아민, 디이소프로필-에틸아민, N-메틸모르폴린, 디아자바이시클로옥탄 등과 같은 지방족, 시클로지방족, 헤테로시클릭, 헤테로시클릭 방향족, 예를 들어 3급아민과 같은 유기염기일 수 있다.
단계 a)에서 사용된 유기용매는, C1-C4 지방족알콜들 예를 들어 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, n-부탄올과 같은 물과 혼합될 수 있는 유기용매; 예를 들어 톨루엔, 크실렌과 같은 방향족 탄화수소들 및 염화메틸렌, 염화벤젠과 같은 염화유기용매들의 물과 혼합될 수 없는 유기용매들일 수 있다. 사용될 수 있는 다른 용매들은 예를 들어 에틸아세테이트 및 부틸아세테이트 등과 같은 C1-C5 알콜들과 예를 들어 C1-C4 산의 지방족에스테르들; 예를 들어 아세톤, 메틸케톤, 시클로헥사논 등과 같은 C3-C12 지방족 및 시클로지방족 케톤들이 있다.
단계 a)에서 반응은, 반응하에서 히드록시벤질알콜의 몰에 대한 할로겐화산(I-A)의 몰양을 1 내지 2의 비율, 바람직하게는 1.2 내지 1.5의 비율로 하고, 염기의 몰양을 0.1 내지 2의 비율, 바람직하게는 0.5 내지 2의 비율로 이용하여, -20℃ 내지 +50℃, 바람직하게는 0℃ - 20℃의 온도범위에서 실시된다.
화합물 I-B)는 물을 첨가하여 반응혼합물로부터 회수되고, 선택적으로 반응이 수용성 용매 또는 수가용성(hydrosoluble) 유기용매와 물의 혼합물에서 일어날 때, 에틸아세테이트 또는 디클로로메탄과 같은 물과 혼합될 수 없는 유기용매의 첨가에 의해 상들이 분리되고, 유기상은 건조되고 증발되고 생성물이 회수된다. 만일 필요하다면, 화합물은 예를 들어 n-헥산, n-헵탄, 리그로인, 톨루엔, 메탄올, 이소프로판올, 디이소프로필에테르 등 또는 그들의 혼합물들과 같은 용매들로부터 결정화에 의해 정제될 수 있다. 일반적으로 수율은 80% 이상이다.
단계 b)에서 니트로화반응은 -20℃ 내지 +40℃, 바람직하게는 0℃ - 20℃의 온도범위에서 실시되고; 사용된 질산의 몰양은 히드록시에스테르(I-B)의 몰에 대해서 1 내지 6, 바람직하게는 1 내지 3의 비율 사이에 있고; 유기 또는 질산과 다른 무기산 또는 상기에서 정의된 대로의 무수물의 몰양은 화합물 (I-B)의 몰에 대해 0.5 내지 6, 바람직하게는 1 내지 3의 비율을 포함한다.
질산과 다른 무기산은 예를 들어 황산이고; 유기산은 예를 들어 메탄술폰산, 트리플루오로메탄술폰산, 트리플루오로아세트산, 트리클로로아세트산, 아세트산이고; 유기산 무수물은 예를 들어 아세트무수물, 트리플루오로메탄설폰무수물, 트리플루오로아세트무수물, 트리클로로아세트무수물 등 또는 예를 들어 트리플루오로아세트-트리플루오로메탄설폰무수물 등과 같은 혼합된 무수물이다.
단계 b)에서 사용된 비활성 유기용매는 대기압에서 200℃ 보다 낮은 비등점을 갖는 용매이고, 예를 들어 디클로로메탄과 같은 염화용매; 또는 예를 들어 니트로메탄과 같은 니트로알칸, 또는 예를 들어 메틸터부틸에테르, 테트라히드로푸란 등과 같은 지방족 또는 시클로지방족 에테르; 예를 들어 에틸아세테이트와 같은 에스테르; 또는 예를 들어 아세토니트릴, 벤조니트릴과 같은 지방족 또는 방향족 니트릴일 수 있다.
용매부피는 중요하지 않고, 일반적으로 부피가 반응하에서 히드록시에스테르(I-B)의 중량에 대해 1 내지 200 배를 포함한다
단계 b)에서 니트로화가 상기에서 정의된 대로 유기무수물의 존재하에서 실시될 때, 바람직하게는 무수물이 먼저 히드록시에스테르 (I-B)와 혼합되고 그런 다음 결과혼합물은 비활성 유기용매에서 질산용액에 첨가된다.
바람직하게는 사용된 유기무수물은 아세트무수물이다.
단계 c)에서 예를 들어 n-헥산, n-헵탄, 리그로인, 메탄올, 이소프로판올, 또는 그들의 혼합물들과 같은 용매들을 이용하여 수득된 화합물을 재결정화할 수 있다.
[실시예]
다음 실시예들은 본 발명을 설명하기 위한 것으로 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.
다음 실시예들은 본 발명을 설명하기 위한 것으로 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.
실시예 1a
혼합물 물-유기용매에서 2-아세톡시벤조산의 3-히드록시메틸페닐에스테르(화합물 I-B)의 제조
3-히드록시메틸페놀(25.25g, 0.2 moles)은 5% 수산화나트륨용액(160ml)에서 용해된다. 이렇게 수득된 용액에 디클로로메탄(50ml)에서의 염화아세트살리실산용액(40.4g, 0.2moles)이 실온에서 교반하에 첨가된다. 혼합물은 2시간 동안 실온에서 유지되고 그런 다음 디클로로메탄(2 x 100 ml)으로 추출된다. 유기상은 분리되고, 황산나트륨으로 무수화되고 용매는 진공하에서 증발된다. 잔여물은 에틸아세테이트 및 헥산의 혼합물로부터 결정화된다. 2-아세톡시벤조산의 3-히드록시메틸페닐에스테르(45.8g, 0.16moles, 수율 80%)가 수득된다.
M.P. : 79°- 81℃.
1H NMR(CDCl3) δ(ppm): 2.29(s, 3H); 4.71(s, 2H); 7.07-8.2(m, 방향족, 8H).
실시예 1b
물과 혼합될 수 없는 유기용매에서 2-아세톡시벤조산의 3-히드록시메틸페닐 에스테르(화합물 I-B)의 제조
3-히드록시메틸페놀(10g, 0.08moles)은 트리에틸아민(9.8g, 0.1moles)을 함유하는 톨루엔(50ml)에서 용해된다. 이렇게 수득된 용액에 톨루엔(50ml)에서의 염화아세틸살리실산용액(16g, 0.08moles)이 교반하에서 5°- 10℃ 온도에서 첨가된다. 혼합물은 2시간 동안 교반하에서 상술한 범위의 온도에서 유지되고, 그런 다음 물에 부어지고 그런 다음 디클로로메탄(2 x 100 ml)으로 추출된다. 유기상은 분리되고, 연속해서 25% w/v 탄화칼륨용액, 물, 3% 염산용액 그리고 마지막 다시 물로 세척되고, 그런 다음 황산나트륨으로 무수화되고 용매는 진공하에서 증발된다. 잔여물은 이소프로판올로부터 결정된다. 2-아세톡시벤조산의 3-히드록시메틸페닐에스테르(45.8g, 0.16moles, 수율 80%)가 수득된다.
M.P. : 79°- 81℃.
1H NMR(CDCl3) δ(ppm): 2.29(s, 3H); 4.71(s, 2H); 7.07-8.2(m, 방향족, 8H).
실시예 1c
물과 혼합할 수 있는 유기용매에서 2-아세톡시벤조산의 3-히드록시메틸페닐에스테르(화합물 I-B)의 제조
3-히드록시메틸페놀(10g, 0.08moles)이 아세톤(50ml)에 용해된다. 이렇게 수득된 용액에서 분말의 탄산칼륨(22.2g, 0.16moles)이 현탁된다. 현탁액에 아세톤(50ml)에서의 염화아세틸살리실산용액(16g, 0.08moles)이 교반하에서 5°- 10℃ 온도에서 첨가된다. 혼합물은 2시간 동안 교반하에서 상술한 범위의 온도에서 유지되고, 그런 다음 여과되고 용매는 진공하에서 증발된다. 잔여물은 이소프로판올로부터 결정된다. 2-아세톡시벤조산의 3-히드록시메틸페닐에스테르(21.0g, 0.07moles, 수율 91%)가 수득된다.
M.P. : 79°- 81℃.
1H NMR(CDCl3) δ(ppm): 2.29(s, 3H); 4.71(s, 2H); 7.07-8.2(m, 방향족, 8H).
실시예 2
황산의 존재하에서 2-아세톡시벤조산의 3-히드록시메틸페닐에스테르의 증기를 내는 질산과의 니트로화에 의해 2-아세톡시벤조산의 3-니트록시메틸페닐에스테르의 제조.
디클로로메탄(25ml)에서의 증기를 내는 질산(3.92g, 62.2mmoles, 히드록시에스테르 I-B의 몰에 대해 3moles) 및 황산 96%(6.10g, 62.2mmoles, 히드록시에스테르 I-B의 몰에 대해 3moles) 용액이 0℃에서 냉각되고 교반 및 질소분위기 하에서 1시간 동안 디클로로메탄 25ml에서의 2-아세톡시벤조산(6g, 20.7mmoles)의 3-히드록시메틸페닐에스테르용액과 혼합된다. 그런 다음, 혼합물은 디클로로메탄(50ml)으로 희석되고 물 및 얼음(100g)에 부어진다. 유기상은 분리되고 물로 세척되고 황산나트륨으로 무수화되고, 용매는 진공하에서 증발된다. 잔여물은 이소프로판올로부터 결정되어 2-아세톡시벤조산의 3-니트록시메틸페닐에스테르(5.6g, 17mmoles, 수율 82%)가 수득된다.
M.P. : 61°- 62℃.
1H NMR(CDCl3) δ(ppm): 2.31(s, 3H); 5.44(s, 2H); 7.16-8.22(m, 방향족, 8H).
실시예 2a-2f
2-아세톡시벤조산의 3-히드록시메틸페닐에스테르(I-B) 중간체의 몰에 대한 질산 및 황산의 몰을 변화시키면서 실시예 2가 반복되었다. 다음 표 1에, 화합물 I-B에 대한 사용된 반응물의 몰비 및 2-아세톡시벤조산의 3-니트록시메틸페닐에스테르(I)와 2-아세톡시벤조산의 3-(포밀)페닐에스테르(I-B1) 사이의 상대백분율비가 기록되어 있고, 존재할 때 출발물질(I-B)도 고려되어 있다.
표는, 질산/화합물(I-B)의 몰비가 3이고 황산/화합물 (I-B)의 몰비가 1.5인 경우 최고 수율이 획득된다는 것을 나타낸다.
실시예 3
아세트무수물의 존재하에서 2-아세톡시벤조산의 3-히드록시메틸페닐에스테르의 증기를 내는 질산과의 니트로화에 의한 2-아세톡시벤조산의 3-니트록시메틸페닐에스테르의 제조.
디클로로메탄(25ml)에서의 증기를 내는 질산(1.44g, 22.8mmoles), 아세트무수물(2.33g, 22.8mmoles) 용액이 0℃에서 냉각되고 교반 및 질소분위기 하에서 1시간 동안 디클로로메탄 25ml에서의 2-아세톡시벤조산(6g, 20.7mmoles)의 3-히드록시메틸페닐에스테르용액과 혼합된다. 혼합물은 1시간 동안 20℃까지 가열되고, 그런 다음 디클로로메탄(50ml)으로 희석되고 물 및 얼음(100g)에 부어진다. 유기상은 분리되고 물로 세척되고 황산나트륨으로 무수화되고, 용매는 진공하에서 증발된다. 잔여물은 이소프로판올로부터 결정되어 2-아세톡시벤조산의 3-니트록시메틸페닐에스테르(5.6g, 17mmoles, 수율 82%)가 수득된다.
실시예 4
아세트무수물의 존재하에서 2-아세톡시벤조산의 3-히드록시메틸페닐에스테르(히드록시에스테르와 혼합된 아세트무수물)의 증기를 내는 질산과의 니트로화에 의한 2-아세톡시벤조산의 3-니트록시메틸페닐에스테르의 제조.
디클로로메탄(25ml)에서의 증기를 내는 질산(1.44g, 22.8mmoles) 용액이 0℃에서 냉각되고 교반 및 질소분위기 하에서 1시간 동안 디클로로메탄 25ml에서의 2-아세톡시벤조산(6g, 20.7mmoles)의 3-히드록시메틸페닐에스테르 및 아세트무수물(2.33g, 22.8mmoles) 용액과 혼합된다. 혼합물은 1시간 동안 20℃까지 가열되고, 그런 다음 디클로로메탄(50ml)으로 희석되고 물 및 얼음(100g)에 부어진다. 유기상은 분리되고 물로 세척되고 황산나트륨으로 무수화되고, 용매는 진공하에서 증발된다. 잔여물은 이소프로판올로부터 결정되어 2-아세톡시벤조산의 3-니트록시메틸페닐에스테르(6.42g, 19.5mmoles, 수율 94%)가 제공된다.
실시예 5
메탄술폰산의 존재하에서 2-아세톡시벤조산의 3-히드록시메틸페닐에스테르의 증기를 내는 질산과의 니트로화에 의한 2-아세톡시벤조산의 3-니트록시메틸페닐에스테르의 제조.
디클로로메탄(25ml)에서의 증기를 내는 질산용액(1.44g, 22.8mmoles) 및 메탄술폰산(2.55g, 22.8mmoles)이 0℃에서 냉각되고 교반 및 질소분위기 하에서 1시간 동안 디클로로메탄 25ml에서의 2-아세톡시벤조산(6g, 20.7mmoles)의 3-히드록시메틸페닐에스테르용액과 혼합된다. 혼합물은 디클로로메탄(50ml)으로 희석되고 물 및 얼음(100g)에 부어진다. 유기상은 분리되고 물로 세척되고 황산나트륨으로 무수화되고, 용매는 진공하에서 증발된다. 잔여물은 이소프로판올로부터 결정화되어 2-아세톡시벤조산의 3-니트록시메틸페닐에스테르(2.73g, 8.29mmoles, 수율 40%)가 제공된다.
실시예 6
아세트무수물의 존재하에서 2-아세톡시벤조산의 3-히드록시메틸페닐에스테르의 증기를 내는 질산과의 니트로화에 의한 2-아세톡시벤조산의 3-니트록시메틸페닐에스테르의 제조.
디클로로메탄(25ml)에서의 증기를 내는 질산용액(990mg, 15.2mmoles) 및 아세트무수물(1.55g, 15.2mmoles)이 0℃에서 냉각되고 교반 및 질소분위기 하에서 1시간 동안 디클로로메탄 25ml에서의 2-아세톡시벤조산(4g, 13.8mmoles)의 3-히드록시메틸페닐에스테르용액과 혼합된다. 혼합물은 1시간 동안 20℃까지 가열되고 그런 다음 디클로로메탄(50ml)으로 희석되고 물 및 얼음(100g)에 부어진다. 유기상은 분리되고 물로 세척되고 황산나트륨으로 무수화되고, 용매는 진공하에서 증발된다. 잔여물은 이소프로판올로부터 결정되어 2-아세톡시벤조산의 3-니트록시메틸페닐에스테르(4.1g, 12.28mmoles, 수율 89%)가 제공된다.
Claims (13)
- 다음 화학식 (I)의 화합물들의 수득방법으로,화학식 (I)(여기서:R1은 OCOR3기이고; 여기서 R3는 메틸, 에틸 또는 선형 또는 분지형 C3 - C5 알킬, 또는 O 및 N에서 독자적으로 선택되는 헤테로원자들을 함유하는 5 또는 6 원자들을 가지는 포화된 헤테로고리의 잔기이고;R2는 수소, 할로겐, 선형 또는 가능할 때 분지형 C1 - C4 알킬, 선형 또는 가능할 때 분지형 C1 - C4 알콕실; 선형 또는 가능할 때 분지형 C1 - C4 퍼플루오로알킬; 모노- 또는 디- (C1 - C4)알킬아미노임)상기 방법은 다음 단계들을 포함하는 방법:a) 염기존재 하에서 유기용매에서 또는 물과 혼합할 수 있거나 혼합할 수 없는 유기용매와 물과의 혼합물에서 히드록시벤질알콜과 다음 화학식 (I-A)의 살리실산 유도체의 할로겐화물을 반응시켜,화학식 (I-A)(여기서 Hal = Cl, Br 그리고 R1 및 R2는 상기 지시된 의미를 가짐)다음 화학식을 가지는 화합물 (I-B)를 제공하는 단계화학식 (I-B)(여기서 R1 및 R2는 상기에서 정의된 대로임)b) 질산과 다른 무기산 또는 유기산 또는 하나나 둘의 유기산들의 무수물과의 증기를 내는 질산에 의해 형성된 혼합물로 비활성 유기용매에서의 무수화 조건에서 화합물 (I-B)을 니트로화하여 화학식 (I)의 니트록시유도체를 제공하는 단계c) 유기상에 물을 첨가하고, 상들을 분리하고, 건조시키고 유기상을 증발시켜 최종산물을 회수하는 단계.
- 제1항에 있어서, 단계 a)에서 염기는 무기 또는 유기 염기인 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 단계 a)에서 유기용매들은 C1-C4 지방족알콜들; 방향족 탄화수소들, 지방족 에스테르들, 염화유기용매들, 지방족 및 시클로지방족케톤들인 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 단계 a)에서 반응은, 반응하에서 히드록시벤질알콜 몰들에 대해 할로겐화산 (I-A) 각각의 몰양을 1 내지 2의 범위에서, 염기의 몰양을 0.1 내지 2의 범위에서 이용하여, -20℃ 내지 +50℃의 온도범위에서 실시되는 방법.
- 제1항에 있어서, 단계 b)에서 니트로화는 -20℃ 내지 +40℃의 온도범위에서 실시되고, 질산의 몰양은 화합물 (I-B)의 몰에 대해 1 내지 6의 비율 사이에 있고, 질산과 다른 무기산 또는 유기산 또는 상기에서 정의된 대로의 유기무수물의 몰양은 화합물 (I-B)의 몰에 대해 0.5 내지 6의 비율을 포함하는 방법.
- 제5항에 있어서, 니트로화는 히드록시에스테르 (I-B)와 미리 혼합되는 무수물의 존재하에서 실시되고, 그런 다음 결과혼합물은 비활성 유기용매에서의 질산용액에 첨가되는 방법.
- 제6항에 있어서, 상기 무수물은 아세트무수물인 방법.
- 제3항에 있어서, 단계 a)에서 반응은, 반응하에서 히드록시벤질알콜 몰들에 대해 할로겐화산 (I-A) 각각의 몰양을 1 내지 2의 범위에서, 염기의 몰양을 0.1 내지 2의 범위에서 이용하여, -20℃ 내지 +50℃의 온도범위에서 실시되는 방법.
- 제 1항에 있어서, 화학식 (I)에서 R1은 아세톡시이고 카르복실기에 대해 오르토 위치에 있고, R2는 수소이고; 에스테르기의 산소가 (니트록시)메틸렌기에 대해서 오르토, 메타 또는 파라 위치에서 (니트록시)메틸렌기로 치환된 방향족 고리에 결합되는 방법.
- 제 9항에 있어서, R2는 수소이고; 에스테르기의 산소가 (니트록시)메틸렌기에 대해 메타 위치에서 (니트록시)메틸렌기로 치환된 방향족 고리에 결합되는 방법.
- 제 4항에 있어서, 단계 a)에서 반응은, 반응하에서 히드록시벤질알콜 몰들에 대해 할로겐화산 (I-A) 각각의 몰양을 1.2 내지 1.5의 범위에서, 염기의 몰양을 0.5 내지 2의 범위에서 이용하여, -20℃ 내지 +50℃의 온도범위에서 실시되는 방법.
- 제5항에 있어서, 단계 b)에서 니트로화는 -20℃ 내지 +40℃의 온도범위에서 실시되고, 질산의 몰양은 화합물 (I-B)의 몰에 대해 1 내지 3의 비율 사이에 있고, 질산과 다른 무기산 또는 유기산 또는 상기에서 정의된 대로의 유기무수물의 몰양은 화합물 (I-B)의 몰에 대해 1 내지 3의 비율을 포함하는 방법.
- 제8항에 있어서, 단계 a)에서 반응은, 반응하에서 히드록시벤질알콜 몰들에 대해 할로겐화산 (I-A) 각각의 몰양을 1.2 내지 1.5의 범위에서, 염기의 몰양을 0.5 내지 2의 범위에서 이용하여, -20℃ 내지 +50℃의 온도범위에서 실시되는 방법.
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