JPH0543534A - フエニルエーテル誘導体およびその製造法 - Google Patents
フエニルエーテル誘導体およびその製造法Info
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- JPH0543534A JPH0543534A JP22363291A JP22363291A JPH0543534A JP H0543534 A JPH0543534 A JP H0543534A JP 22363291 A JP22363291 A JP 22363291A JP 22363291 A JP22363291 A JP 22363291A JP H0543534 A JPH0543534 A JP H0543534A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 式（Ｉ）
式中、ＸおよびＹはそれぞれ同一もしくは異なるハロゲ
ン原子を表わし、Ｒは低級アルキル基を表わす、で示さ
れるフェニルエーテル誘導体、およびその式（II）の化
合物とヒドロキシルアミンとの反応による製造法。 【効果】 式（Ｉ）のフェニルエーテル誘導体は、除草
剤として使用される化合物の中間体として有用である。
ン原子を表わし、Ｒは低級アルキル基を表わす、で示さ
れるフェニルエーテル誘導体、およびその式（II）の化
合物とヒドロキシルアミンとの反応による製造法。 【効果】 式（Ｉ）のフェニルエーテル誘導体は、除草
剤として使用される化合物の中間体として有用である。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は下記式（Ｉ）
【０００２】
【化４】
【０００３】式中、ＸおよびＹはそれぞれ同一もしくは
異なるハロゲン原子を表わし、Ｒは低級アルキル基を表
わす、で示されるフェニルエーテル誘導体およびその製
造法に関する。上記式（Ｉ）の新規な化合物はそれ自
身、除草活性を有することが確められているが、さらに
除草剤として非常に有用な下記式（Ａ）で示される２−
ニトロ−５−（置換フェノキシ）ベンゾヒドロキシム酸
誘導体（特開昭６３−２１５６０５号公報参照）を製造
するための重要な中間体である。
異なるハロゲン原子を表わし、Ｒは低級アルキル基を表
わす、で示されるフェニルエーテル誘導体およびその製
造法に関する。上記式（Ｉ）の新規な化合物はそれ自
身、除草活性を有することが確められているが、さらに
除草剤として非常に有用な下記式（Ａ）で示される２−
ニトロ−５−（置換フェノキシ）ベンゾヒドロキシム酸
誘導体（特開昭６３−２１５６０５号公報参照）を製造
するための重要な中間体である。
【０００４】
【化５】
【０００５】式中、ＸおよびＹはそれぞれ同一または異
なるハロゲン原子を表わし、Ｒは低級アルキル基を表わ
し、Ｒ1は水素原子または低級アルキル基を表わし、Ｒ2
は水素原子、低級アルキル基または農学的可溶性塩イオ
ンを表わす、前記式（Ａ）の化合物は低減された施用
量、広い殺草スペクトラム、優れた選択的除草作用を示
す優れた除草活性化合物である。
なるハロゲン原子を表わし、Ｒは低級アルキル基を表わ
し、Ｒ1は水素原子または低級アルキル基を表わし、Ｒ2
は水素原子、低級アルキル基または農学的可溶性塩イオ
ンを表わす、前記式（Ａ）の化合物は低減された施用
量、広い殺草スペクトラム、優れた選択的除草作用を示
す優れた除草活性化合物である。
【０００６】
【従来の技術】従来、前記式（Ａ）化合物の製造方法と
して下記反応式（Ａ）に示す工程に従い合成する方法が
知られている（特開昭６３−２１５６０５号公報参
照）。
して下記反応式（Ａ）に示す工程に従い合成する方法が
知られている（特開昭６３−２１５６０５号公報参
照）。
【０００７】反応式Ａ
【０００８】
【化６】
【０００９】式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ、Ｒ1およびＲ2は前記と
同義である、しかしながら、前記反応式において、塩基
の存在下でハロゲン化アルキル化合物を用いる通常の方
法では、Ｏ−アルキル化の選択性が低いという欠点を有
している。
同義である、しかしながら、前記反応式において、塩基
の存在下でハロゲン化アルキル化合物を用いる通常の方
法では、Ｏ−アルキル化の選択性が低いという欠点を有
している。
【００１０】また前記式中のＲがメチル基の場合には、
ジアゾメタンを用いることが可能であるが、ジアゾメタ
ンは毒性、爆発性が強く、工業的に好ましい方法とはい
えない。
ジアゾメタンを用いることが可能であるが、ジアゾメタ
ンは毒性、爆発性が強く、工業的に好ましい方法とはい
えない。
【００１１】さらに前記式（Ａ）の化合物の改良された
製造法として、下記反応式（Ｂ）に示す方法が提案され
ている（特開平２−１４７４６２号明細書参照）。
製造法として、下記反応式（Ｂ）に示す方法が提案され
ている（特開平２−１４７４６２号明細書参照）。
【００１２】反応式Ｂ
【００１３】
【化７】
【００１４】式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ、Ｒ1およびＲ2は前記と
同義であり、Ｗはフッ素原子以外のハロゲン原子を表わ
し、Ｚは水素原子またはアルカリ金属原子を表わす、前
記式（Ｂ）における化合物（Ｖ）は、下記反応式（Ｃ）
に示す方法等により製造される（特開平２−２７３６５
８号公報参照）。
同義であり、Ｗはフッ素原子以外のハロゲン原子を表わ
し、Ｚは水素原子またはアルカリ金属原子を表わす、前
記式（Ｂ）における化合物（Ｖ）は、下記反応式（Ｃ）
に示す方法等により製造される（特開平２−２７３６５
８号公報参照）。
【００１５】反応式Ｃ
【００１６】
【化８】
【００１７】式中、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2、ＷおよびＺは前記と
同義であり、Ｒ3およびＲ4は互いに独立に水素原子また
は低級アルキル基を表わし、Ｌはハロゲン原子をあらわ
し、Ａ-はアニオンを表わす、反応式（Ｃ）に示される
化合物（Ｖ）の製造法において、側鎖のヒドロキシム酸 前記と同義である）を構築する（化合物（ＶＩＩＩ）、
（ＸＩＶ）前の段階の化合物（ＶＩ）、（ＸＩ）にニト
ロ基を導入して以下同様のヒドロキシム酸構築反応を行
なうと、目的とする化合物（Ｖ）はこれまで得られなか
った。従つて必然的にニトロ化反応はヒドロキシム酸構
築反応後行なわざるを得なくなってくる。しかし、化合
物（ＶＩ）、（ＸＩ）のニトロ化は通常用いられる一般
的なニトロ化条件、例えば硝酸／濃硫酸、硝酸カリウム
／濃硫酸で容易に進むのに対し、ヒドロキシム酸構築後
（化合物（ＶＩＩＩ）、（ＸＩＶ））のニトロ化反応
は、発煙硝酸、発煙硫酸等を用いた強条件が必要となっ
てくる。しかしこのような強条 ２式中、Ｒ、Ｒ1およびＲ2は前記と同義である）の加水
分解が避けられず満足すべき収率で化合物（Ｖ）を得る
ことができなかった。
同義であり、Ｒ3およびＲ4は互いに独立に水素原子また
は低級アルキル基を表わし、Ｌはハロゲン原子をあらわ
し、Ａ-はアニオンを表わす、反応式（Ｃ）に示される
化合物（Ｖ）の製造法において、側鎖のヒドロキシム酸 前記と同義である）を構築する（化合物（ＶＩＩＩ）、
（ＸＩＶ）前の段階の化合物（ＶＩ）、（ＸＩ）にニト
ロ基を導入して以下同様のヒドロキシム酸構築反応を行
なうと、目的とする化合物（Ｖ）はこれまで得られなか
った。従つて必然的にニトロ化反応はヒドロキシム酸構
築反応後行なわざるを得なくなってくる。しかし、化合
物（ＶＩ）、（ＸＩ）のニトロ化は通常用いられる一般
的なニトロ化条件、例えば硝酸／濃硫酸、硝酸カリウム
／濃硫酸で容易に進むのに対し、ヒドロキシム酸構築後
（化合物（ＶＩＩＩ）、（ＸＩＶ））のニトロ化反応
は、発煙硝酸、発煙硫酸等を用いた強条件が必要となっ
てくる。しかしこのような強条 ２式中、Ｒ、Ｒ1およびＲ2は前記と同義である）の加水
分解が避けられず満足すべき収率で化合物（Ｖ）を得る
ことができなかった。
【００１８】さらに反応式Ｂにおけるカップリング反応
において、化合物（Ｖ）は反応式Ｂに示す如く、既にニ
トロ化されている必要があり、化合物（Ｖ）の脱ニトロ
体（ 式中、Ｒ、Ｒ1およびＲ2は前記と同義である）が分解し
ない程度の条件ではほとんど反応しない。
において、化合物（Ｖ）は反応式Ｂに示す如く、既にニ
トロ化されている必要があり、化合物（Ｖ）の脱ニトロ
体（ 式中、Ｒ、Ｒ1およびＲ2は前記と同義である）が分解し
ない程度の条件ではほとんど反応しない。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、優れ
た除草活性化合物である前記式（Ａ）の化合物を工業的
により安価な原料を用い収率よく製造する方法を見い出
すことである。先に述べた如く、前記式（Ａ）の化合物
を製造する方法は現状では、ヒドロキシム酸構築反
応、ニトロ化反応、カップリング反応の順番に行な
われるのが最も好ましい方法である。しかし、ヒドロキ
シム酸構築後ニトロ化反応を行なうと側鎖ヒ およびＲ2は前記と同義である）の分解反応が避けられ
ず十分満足できる収率が得られなかつた。そこで何らか
の方法により、ニトロ化反応後にヒドロキシム酸構築反
応ができるようになれば、ニトロ化反応も温和な条件下
行なうことが可能 式中、Ｒ、Ｒ2およびＲ3は前記と同義である）をニトロ
化条件にさらすこともなくなる。またニトロ化反応後、
カップリング反応を行ない、最後にヒドロキシム酸部分
を構築することも可能となる。
た除草活性化合物である前記式（Ａ）の化合物を工業的
により安価な原料を用い収率よく製造する方法を見い出
すことである。先に述べた如く、前記式（Ａ）の化合物
を製造する方法は現状では、ヒドロキシム酸構築反
応、ニトロ化反応、カップリング反応の順番に行な
われるのが最も好ましい方法である。しかし、ヒドロキ
シム酸構築後ニトロ化反応を行なうと側鎖ヒ およびＲ2は前記と同義である）の分解反応が避けられ
ず十分満足できる収率が得られなかつた。そこで何らか
の方法により、ニトロ化反応後にヒドロキシム酸構築反
応ができるようになれば、ニトロ化反応も温和な条件下
行なうことが可能 式中、Ｒ、Ｒ2およびＲ3は前記と同義である）をニトロ
化条件にさらすこともなくなる。またニトロ化反応後、
カップリング反応を行ない、最後にヒドロキシム酸部分
を構築することも可能となる。
【００２０】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、少ない施
用量で高い除草活性を示し、殺草スペクトラムが広く、
且つ主要作物に良好な選択性を示す前記式（Ａ）で示さ
れるフェニルエーテル類の工業的製法を確立すべく鋭意
研究努力を重ねた。
用量で高い除草活性を示し、殺草スペクトラムが広く、
且つ主要作物に良好な選択性を示す前記式（Ａ）で示さ
れるフェニルエーテル類の工業的製法を確立すべく鋭意
研究努力を重ねた。
【００２１】その結果、従来文献未記載の前記式（Ｉ）
で示される新規化合物が見い出され、該式（Ｉ）新規化
合物が、除草剤として非常に有用な前記式（Ａ）で示さ
れるフェニルエーテル類を工業的に製造する上で重要な
中間体であることを見出し、本発明に到達したものであ
る。
で示される新規化合物が見い出され、該式（Ｉ）新規化
合物が、除草剤として非常に有用な前記式（Ａ）で示さ
れるフェニルエーテル類を工業的に製造する上で重要な
中間体であることを見出し、本発明に到達したものであ
る。
【００２２】すなわち、本発明によれば下記式（Ｉ）
【００２３】
【化９】
【００２４】式中、ＸおよびＹはそれぞれ同一もしくは
異なるハロゲン原子を表わし、Ｒは低級アルキル基を表
わす、で示されるフェニルエーテル誘導体が提供され、
さらに本発明によれば、前記式（Ｉ）で示されるフェニ
ルエーテル誘導体を製造するにあたり、下記式（ＩＩ）
異なるハロゲン原子を表わし、Ｒは低級アルキル基を表
わす、で示されるフェニルエーテル誘導体が提供され、
さらに本発明によれば、前記式（Ｉ）で示されるフェニ
ルエーテル誘導体を製造するにあたり、下記式（ＩＩ）
【００２５】
【化１０】
【００２６】式中、Ｘ、ＹおよびＲは前記と同義であ
る、で示されるフェニルエーテル誘導体とヒドロキシル
アミンを反応させることを特徴とする前記式（Ｉ）で示
されるフェニルエーテル誘導体の製造法が提供される。
る、で示されるフェニルエーテル誘導体とヒドロキシル
アミンを反応させることを特徴とする前記式（Ｉ）で示
されるフェニルエーテル誘導体の製造法が提供される。
【００２７】本発明の上記式（Ｉ）で示されるフェニル
エーテル誘導体は文献未記載の新規な化合物であり、ベ
ンゼン環上の置換フェノキシ基のメタ位にアルキルヒド
ロキシム酸が結合しており、且つベンゼン環上の置換フ
ェノキシ基のパラ位にニトロ基を有していることが特徴
であり、Ｏ−アルキル化を経由して短かい工程で前記式
（Ａ）で示されるフェニルエーテル誘導体を工業的に収
率よく製造できる有用な中間体である。
エーテル誘導体は文献未記載の新規な化合物であり、ベ
ンゼン環上の置換フェノキシ基のメタ位にアルキルヒド
ロキシム酸が結合しており、且つベンゼン環上の置換フ
ェノキシ基のパラ位にニトロ基を有していることが特徴
であり、Ｏ−アルキル化を経由して短かい工程で前記式
（Ａ）で示されるフェニルエーテル誘導体を工業的に収
率よく製造できる有用な中間体である。
【００２８】また前記式（Ｉ）で示される化合物は立体
異性体（ＳｙｎおよびＡｎｔｉ型）として存在し得るが
これらはいずれも本発明に包含される。
異性体（ＳｙｎおよびＡｎｔｉ型）として存在し得るが
これらはいずれも本発明に包含される。
【００２９】従来、置換フェノキシベンゾヒドロキシム
酸誘導体の製造法に関しては下記反応式Ｄおよび反応式
Ｅに示されるようにすでに報告されている（特開平２−
２４７１６７号公報、特開平２−３０６９２８号公報お
よび特開平１−２４６２５０号公報参照）。
酸誘導体の製造法に関しては下記反応式Ｄおよび反応式
Ｅに示されるようにすでに報告されている（特開平２−
２４７１６７号公報、特開平２−３０６９２８号公報お
よび特開平１−２４６２５０号公報参照）。
【００３０】反応式Ｄ
【００３１】
【化１１】
【００３２】式中、Ｘ1は水素原子又はハロゲン原子を
表わし、Ｒ5およびＲ6はそれぞれ同一もしくは異なり水
素原子または低級アルキル基を表わし、Ｚ1はＣＨまた
は窒素原子を表わし、Ｚ2は水素原子またはニトロ基を
表わす、反応式Ｅ
表わし、Ｒ5およびＲ6はそれぞれ同一もしくは異なり水
素原子または低級アルキル基を表わし、Ｚ1はＣＨまた
は窒素原子を表わし、Ｚ2は水素原子またはニトロ基を
表わす、反応式Ｅ
【００３３】
【化１２】
【００３４】式中、Ｒは低級アルキル基を表わし、Ｚ3
はＣＸ2または窒素原子を表わし、ここでＸ2は水素原子
またはハロゲン原子を表わす、反応式Ｄにおいて、置換
基Ｚ2がニトロ基の場合、目的のベンゾヒドロキシム酸
誘導体（ＸＶＩＩ、Ｚ2＝ＮＯ2）は非常に低収率であ
り、工業的に有用な製造法になり得ない。また反応式Ｄ
において置換基Ｚ2が水素原子の場合および反応式Ｅで
得られたベンゾヒドロキシム酸誘導体（ＸＶＩＩ、Ｚ2
＝Ｈ）、（ＸＩＸ）を通常一般的に用いられるニトロ化
条件、例えば硝酸／濃硫酸、硝酸カリウム 級アルキル基を表わす）が加水分解されてニトロ化され
た安息香酸エステルが優先して得られる（下記反応式Ｆ
参照）。
はＣＸ2または窒素原子を表わし、ここでＸ2は水素原子
またはハロゲン原子を表わす、反応式Ｄにおいて、置換
基Ｚ2がニトロ基の場合、目的のベンゾヒドロキシム酸
誘導体（ＸＶＩＩ、Ｚ2＝ＮＯ2）は非常に低収率であ
り、工業的に有用な製造法になり得ない。また反応式Ｄ
において置換基Ｚ2が水素原子の場合および反応式Ｅで
得られたベンゾヒドロキシム酸誘導体（ＸＶＩＩ、Ｚ2
＝Ｈ）、（ＸＩＸ）を通常一般的に用いられるニトロ化
条件、例えば硝酸／濃硫酸、硝酸カリウム 級アルキル基を表わす）が加水分解されてニトロ化され
た安息香酸エステルが優先して得られる（下記反応式Ｆ
参照）。
【００３５】反応式Ｆ
【００３６】
【化１３】
【００３７】式中、Ｒは低級アルキル基を表わし、Ｘ1
は水素原子またはハロゲン原子を表わし、Ｚ3はＣＸ2ま
たは窒素原子を表わし、ここでＸ2は水素原子またはハ
ロゲン原子を表わす、そこで鋭意検討を重ねた結果、下
記反応式Ｇで示される方法により収率よく前記式（Ｉ）
で表わされる化合物を得るに到った。
は水素原子またはハロゲン原子を表わし、Ｚ3はＣＸ2ま
たは窒素原子を表わし、ここでＸ2は水素原子またはハ
ロゲン原子を表わす、そこで鋭意検討を重ねた結果、下
記反応式Ｇで示される方法により収率よく前記式（Ｉ）
で表わされる化合物を得るに到った。
【００３８】反応式Ｇ
【００３９】
【化１４】
【００４０】式中、Ｘ、ＹおよびＲは前記と同義であ
る、即ち、２−ニトロ−５−（置換フェノキシ）−チオ
安息香酸−Ｏ−アルキルエステル誘導体（ＩＩ）とヒド
ロキシルアミンを有機溶媒中で反応させて本発明の化合
物（Ｉ）を製造することができる。
る、即ち、２−ニトロ−５−（置換フェノキシ）−チオ
安息香酸−Ｏ−アルキルエステル誘導体（ＩＩ）とヒド
ロキシルアミンを有機溶媒中で反応させて本発明の化合
物（Ｉ）を製造することができる。
【００４１】反応式Ｇにおける出発原料（ＩＩ）は以下
の方法により収率よく製造される（下記反応式Ｈ参
照）。
の方法により収率よく製造される（下記反応式Ｈ参
照）。
【００４２】反応式Ｈ
【００４３】
【化１５】
【００４４】式中、Ｘ、Ｙ、ＲおよびＡ-は前記と同義
であり、Ｒ7は水素原子および低級アルキル基を表わ
す、前記反応式Ｅにおけるチオカルボン酸−Ｏ−アルキ
ルエステル類（ＸＶＩＩＩ）は一般的に用いられるニト
ロ化条件では加水分解反応が優先する。従って反応式Ｇ
における化合物（ＩＩ）の出発原料にはなり得ない（下
記反応式Ｉ参照）。反応式Ｉ
であり、Ｒ7は水素原子および低級アルキル基を表わ
す、前記反応式Ｅにおけるチオカルボン酸−Ｏ−アルキ
ルエステル類（ＸＶＩＩＩ）は一般的に用いられるニト
ロ化条件では加水分解反応が優先する。従って反応式Ｇ
における化合物（ＩＩ）の出発原料にはなり得ない（下
記反応式Ｉ参照）。反応式Ｉ
【００４５】
【化１６】
【００４６】式中、Ｘ、ＹおよびＲは前記と同義であ
る。
る。
【００４７】本明細書において、「低級」なる語は、こ
の語が付された基または化合物中の炭素原子数が６個以
下、好ましくは４個以下であることを意味する。
の語が付された基または化合物中の炭素原子数が６個以
下、好ましくは４個以下であることを意味する。
【００４８】「低級アルキル基」は、直鎖状または分岐
鎖状のいずれであってもよく、例えば、メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ
−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチ
ル、イソアミル、ｎ−ヘキシル基が挙げられる。また
「ハロゲン原子」には弗素、塩素、臭素及びヨウ素原子
が包含され、「アルカリ金属」としてはナトリウム、カ
リウム、リチウム等を例示することができる。
鎖状のいずれであってもよく、例えば、メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ
−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチ
ル、イソアミル、ｎ−ヘキシル基が挙げられる。また
「ハロゲン原子」には弗素、塩素、臭素及びヨウ素原子
が包含され、「アルカリ金属」としてはナトリウム、カ
リウム、リチウム等を例示することができる。
【００４９】さらに「アニオン」としては、例えば、塩
素、イオン、テトラフルオロほう酸イオン、トリフルオ
ロメタンスルホネートイオン等があげられる。
素、イオン、テトラフルオロほう酸イオン、トリフルオ
ロメタンスルホネートイオン等があげられる。
【００５０】以下前記反応式Ｇに示される化合物（Ｉ）
の製造法についてさらに詳しく説明する。反応は化合物
（ＩＩ）に対して、ヒドロキシルアミンを１〜５モル当
量、好ましくは１〜２モル当量用いて、氷冷下〜２００
℃で、好ましくは室温〜溶媒の還流温度の範囲内で、５
分〜１０日間、好ましくは１５分〜３日間行なわれる。
の製造法についてさらに詳しく説明する。反応は化合物
（ＩＩ）に対して、ヒドロキシルアミンを１〜５モル当
量、好ましくは１〜２モル当量用いて、氷冷下〜２００
℃で、好ましくは室温〜溶媒の還流温度の範囲内で、５
分〜１０日間、好ましくは１５分〜３日間行なわれる。
【００５１】この反応において使用される溶媒として
は、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類；
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類；ジクロルメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類；アセトニトリル、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒及びこれ
らの溶媒と水の混合溶媒が用いられる。
は、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類；
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類；ジクロルメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類；アセトニトリル、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒及びこれ
らの溶媒と水の混合溶媒が用いられる。
【００５２】また上記ヒドロキシルアミン溶液を調製す
るために、ヒドロキシルアミンの塩酸塩、硫酸塩、シュ
ウ酸塩と、塩基として、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウ
ム、酢酸カリウム、ナトリウムメトキサイド、ナトリウ
ムエトキサイド等が用いられる。
るために、ヒドロキシルアミンの塩酸塩、硫酸塩、シュ
ウ酸塩と、塩基として、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウ
ム、酢酸カリウム、ナトリウムメトキサイド、ナトリウ
ムエトキサイド等が用いられる。
【００５３】かくして得られる前記式（Ｉ）で示される
化合物は、従来の文献未記載の新規化合物であり、その
代表例を示せば次のとおりである。
化合物は、従来の文献未記載の新規化合物であり、その
代表例を示せば次のとおりである。
【００５４】（Ｅ）,（Ｚ）−メチル−２−ニトロ−５
−（２,４−ジクロロ−３−メチルフェノキシ）ベンゾ
ヒドロキシメート、（Ｅ）,（Ｚ）−エチル−２−ニト
ロ−５−（２−フルオロ−３−メチル−４−クロロフェ
ノキシ）ベンゾヒドロキシメート、（Ｅ）,（Ｚ）−イ
ソプロピル−２−ニトロ−５−（２−クロロ−３−メチ
ル−４−ブロモフェノキシ）ベンゾヒドロキシメート、
（Ｅ）,（Ｚ）−ｎ−ブチル−２−ニトロ−５−（２,４
−ジフルオロ−３−メチルフェノキシ）ベンゾヒドロキ
シメート、（Ｅ）,（Ｚ）−イソアミル−２−ニトロ−
５−（２,４−ジクロロ−３−メチルフェノキシ）ベン
ゾヒドロキシメート。
−（２,４−ジクロロ−３−メチルフェノキシ）ベンゾ
ヒドロキシメート、（Ｅ）,（Ｚ）−エチル−２−ニト
ロ−５−（２−フルオロ−３−メチル−４−クロロフェ
ノキシ）ベンゾヒドロキシメート、（Ｅ）,（Ｚ）−イ
ソプロピル−２−ニトロ−５−（２−クロロ−３−メチ
ル−４−ブロモフェノキシ）ベンゾヒドロキシメート、
（Ｅ）,（Ｚ）−ｎ−ブチル−２−ニトロ−５−（２,４
−ジフルオロ−３−メチルフェノキシ）ベンゾヒドロキ
シメート、（Ｅ）,（Ｚ）−イソアミル−２−ニトロ−
５−（２,４−ジクロロ−３−メチルフェノキシ）ベン
ゾヒドロキシメート。
【００５５】本発明方法により得られた生成物の反応混
合物からの分離及び／または精製はそれ自体、既知の方
法、例えば、抽出、再結晶、カラムクロマトグラフィー
等の方法により行なうことができる。
合物からの分離及び／または精製はそれ自体、既知の方
法、例えば、抽出、再結晶、カラムクロマトグラフィー
等の方法により行なうことができる。
【００５６】
【実施例】次に実施例により本発明をさらに具体的に説
明する。
明する。
【００５７】実施例：（Ｅ）,（Ｚ）−メチル−２−ニ
トロ−５−（２,４−ジクロロ−３−メチルフェノキ
シ）ベンゾヒドロキシメートの製造；ヒドロキシルアミ
ン塩酸塩２.５０ｇ（０.０３６ｍｏｌ）をメタノール１
０ｍｌに溶解し、２８％ナトリウムメトキシド／メタノ
ール溶液６.６５ｇ（０.０３４５ｍｏｌ）を氷冷下加え
た。同温度で１５分撹拌後、室温でＯ−メチル−２−ニ
トロ−５−（２,４−ジクロロ−３−メチルフェノキ
シ）チオベンゾエート５.０８ｇ（０.０１５ｍｏｌ）、
トルエン１５ｍｌを加えて、還流温度で２０時間還流し
た。溶媒を留去し、得られた残渣を酢酸エチルに溶か
し、この溶液を水洗した後、有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を留去した後、得られた油状混合物
をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／
酢酸エチル３：１）により単離し、目的の淡黄色結晶
４.４５ｇを得た（収率８０.０％）。
トロ−５−（２,４−ジクロロ−３−メチルフェノキ
シ）ベンゾヒドロキシメートの製造；ヒドロキシルアミ
ン塩酸塩２.５０ｇ（０.０３６ｍｏｌ）をメタノール１
０ｍｌに溶解し、２８％ナトリウムメトキシド／メタノ
ール溶液６.６５ｇ（０.０３４５ｍｏｌ）を氷冷下加え
た。同温度で１５分撹拌後、室温でＯ−メチル−２−ニ
トロ−５−（２,４−ジクロロ−３−メチルフェノキ
シ）チオベンゾエート５.０８ｇ（０.０１５ｍｏｌ）、
トルエン１５ｍｌを加えて、還流温度で２０時間還流し
た。溶媒を留去し、得られた残渣を酢酸エチルに溶か
し、この溶液を水洗した後、有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を留去した後、得られた油状混合物
をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／
酢酸エチル３：１）により単離し、目的の淡黄色結晶
４.４５ｇを得た（収率８０.０％）。
【００５８】
Claims (2)
- 【請求項１】 下記式（Ｉ） 【化１】 式中、ＸおよびＹはそれぞれ同一もしくは異なるハロゲ
ン原子を表わし、Ｒは低級アルキル基を表わす、 で示されるフェニルエーテル誘導体。 - 【請求項２】 下記式（Ｉ） 【化２】 式中、ＸおよびＹはそれぞれ同一もしくは異なるハロゲ
ン原子を表わし、Ｒは低級アルキル基を表わす、 で示されるフェニルエーテル誘導体を製造するにあたり
下記式（ＩＩ） 【化３】 式中、Ｘ、ＹおよびＲは前記と同義である、 で示されるフェニルエーテル誘導体とヒドロキシルアミ
ンを反応させることを特徴とする前記式（Ｉ）で示され
るフェニルエーテル誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22363291A JPH0543534A (ja) | 1991-08-09 | 1991-08-09 | フエニルエーテル誘導体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22363291A JPH0543534A (ja) | 1991-08-09 | 1991-08-09 | フエニルエーテル誘導体およびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0543534A true JPH0543534A (ja) | 1993-02-23 |
Family
ID=16801244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22363291A Pending JPH0543534A (ja) | 1991-08-09 | 1991-08-09 | フエニルエーテル誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0543534A (ja) |
-
1991
- 1991-08-09 JP JP22363291A patent/JPH0543534A/ja active Pending
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