JPWO2009107429A1 - ポリイミド前駆体組成物、ポリイミドフィルム及び透明フレキシブルフィルム - Google Patents

ポリイミド前駆体組成物、ポリイミドフィルム及び透明フレキシブルフィルム Download PDF

Info

Publication number
JPWO2009107429A1
JPWO2009107429A1 JP2010500610A JP2010500610A JPWO2009107429A1 JP WO2009107429 A1 JPWO2009107429 A1 JP WO2009107429A1 JP 2010500610 A JP2010500610 A JP 2010500610A JP 2010500610 A JP2010500610 A JP 2010500610A JP WO2009107429 A1 JPWO2009107429 A1 JP WO2009107429A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyimide precursor
component
polyimide
mol
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010500610A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5392247B2 (ja
Inventor
雄一 金谷
雄一 金谷
由美子 荒川
由美子 荒川
ケイ子 鈴木
ケイ子 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
HD MicroSystems Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical DuPont Microsystems Ltd
HD MicroSystems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical DuPont Microsystems Ltd, HD MicroSystems Ltd filed Critical Hitachi Chemical DuPont Microsystems Ltd
Priority to JP2010500610A priority Critical patent/JP5392247B2/ja
Publication of JPWO2009107429A1 publication Critical patent/JPWO2009107429A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5392247B2 publication Critical patent/JP5392247B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1039Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors comprising halogen-containing substituents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1042Copolyimides derived from at least two different tetracarboxylic compounds or two different diamino compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1075Partially aromatic polyimides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L79/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
    • C08L79/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08L79/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2379/00Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
    • C08J2379/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08J2379/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01Dielectrics
    • H05K2201/0137Materials
    • H05K2201/0154Polyimide

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

本発明に係るポリイミド前駆体組成物は、下記化学式(I)【化1】[式(I)中、R1、R2は、相互独立的に、−H、−(CF2)n−CF3、−0(CF2)n−CF3から選択される一種であって、少なくとも1つはフッ素を含有する基(nは0以上7以下の整数)である。]で示される含有フッ素芳香族ジアミン(a1)とトランス−1,4−シクロヘキシルジアミン(a2)とを含むジアミン成分(A)と、脂肪族テトラカルボン酸二無水物(b1)と芳香族テトラカルボン酸二無水物(b2)とを含む酸二無水物成分(B)とを反応させて形成される構造を有するポリイミド前駆体を含有することを特徴とする。本発明の組成物を用いることにより高透明性、低熱膨張、低複屈折性、高耐熱性に優れたポリイミドフィルム及び透明フレキシブルフィルムが提供される。

Description

本発明は、一般的に、高透明性、低熱膨張性、高耐熱性、低複屈性を有するポリイミドフィルムを得るためのポリイミド前駆体組成物及び該ポリイミド前駆体組成物をイミド閉環反応させて得られたポリイミドフィルム、並びに該ポリイミド系フィルムを用いて得られた、電子ペーパーなどの電子ディスプレイ、有機EL表示装置、LED(発光ダイオード)照明装置、CMOS(相補性金属酸化膜半導体)センサーなどの電子装置用の透明フレキシブルフィルムに関する。
ポリイミドフィルムは、優れた機械的特性、耐熱性、耐薬品性、電気絶縁性などの特性を併せ持つことから、半導体用層間絶縁膜、バッファーコート、フレキシブルプリント配線回路用基板、液晶配向膜、など様々な電子デバイスや光導波路用の膜に広く利用されている。
現在、液晶表示装置、有機EL表示装置、有機TFTなどの基板には、ガラスが広く使用されているが、軽量化、フレキシブル化の流れに伴い、PEN(ポリエチレンナフタレート)やPES(ポリエーテルスルホン)などプラスチックを用いたフレキシブル基板が開発されつつある。ガラス基板の代替となるフレキシブル基板には、高透明性、低熱膨張性、高耐熱性、低複屈性などが基本特性として挙げられる。
前記基本的特性として、具体的には、膜厚10μmで400nm の光透過性が80%以上であること、基板の膨張及び収縮による基板上の表示ピクセルや配線などの誤整列を抑えるために熱膨張係数が100℃〜200℃の範囲で20ppm/℃以下であること、TE(Transverse
Electric)モードでの屈折率とTM(Transverse Magnetic)モードでの屈折率の差が0.05以下という複屈折率性を有すること、ガラス転移温度が250℃以上であることが要求される。
現在、実用的な低熱膨張性ポリイミド材料としては、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物とパラフェニレンジアミンから形成されるポリイミドが最もよく知られている。このポリイミドから得たフィルムは、膜厚や作製条件にもよるが、5〜10ppm/℃と非常に低い熱膨張係数を示すことが知られている(例えば、非特許文献1)。しかし、このポリイミドフィルムの400nmの光透過率はほぼ0%である。
一方、高透明性のポリイミドフィルムを得るためには骨格中へ屈曲性の高いモノマーの導入やフッ素置換基の導入が有効であることが知られている。例えば、非特許文献2には、フッ素化酸二無水物である2,2−ビス(3,4−カルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン酸二無水物とフッ素化ジアミンである2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンとから得られる全フッ素化ポリイミドが報告されている。この全フッ素化ポリイミドから得られるフィルムは、20μm膜厚での400nmの光透過率は85%と高い光透過性を示す。しかし、その熱膨張係数は48ppm/℃と高く、低熱膨張性を満足しない。
また、上記非特許文献2には、ピロメリット酸二無水物と2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンから得られるポリイミドも報告されている。このポリイミドから得られたフィルムの熱膨張係数は3ppm/℃で良好な低熱膨張性を示すが、20μm膜厚フィルムの400nmの光透過率が10%であり、高光透過性を満足しない。
また、特許文献1には、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物とトランス−1,4’−シクロへキシルジアミンから成るポリイミドが報告されている。しかし、このポリイミドから得られたフィルムは、5μm膜厚で1%カットオフされる波長が368nmと光透過性は良好であるが、熱膨張係数が23ppm/℃を示し、低熱膨張性を満足しない。
また、特許文献2には、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物と2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンから成るポリイミドが報告されている。この特許文献2において、一般的な熱転換法から得られたポリイミドフィルムの場合、膜厚3ミル(=75μm)の波長380nmでの光透過率は78%と光透過性は良好であるが、熱膨張係数が38ppm/℃と高く、低熱膨張性を満足しない。一方、化学転換法から得られたポリイミドフィルムの場合、膜厚3ミル(=75μm)の波長380nmでの光透過率は76%という高い光透過性と、熱膨張係数は−3ppm/℃と低熱膨張性を示している。しかしながら、化学転換法の場合、フィルム化に当たり触媒を除去する工程が必要であり、量産性に適したものではない。
また、特許文献3には、3,3’,4,4’−ジシクロへキシルテトラカルボン酸二無水物と4,4’−ジアミノジフェニルエーテルから成るポリイミドが報告されている。この特許文献3において、一般的な熱転換法から得られるポリイミドフィルムの場合、300℃硬化の膜厚35μmの波長500nmでの光透過率が83%と良好であるが、ガラス転移温度が244℃に止まり、ガラス転移温度が目標を満足しないという課題がある。
「マクロモレキュール(Macromolecules)」,29巻,1996年,p.7897−7909 「マクロモレキュール(Macromolecules)」,24巻,1991年,p.5001−5005 特開2002−161136号公報 特開2007−046054号公報 特開平08−104750号公報
上述のように、高耐熱性、透明、かつフレキシブルなフィルムを得ることのできる有機高分子材料としてポリイミドは広く知られており、電子装置用の各種透明フレキシブルフィルムを得るための候補材として挙げられるが、電子装置用の各種透明フレキシブルフィルムに必要とされる基本的特性項目を全て満足するには至っていないのが現状である。
また、最近では、電子ペーパーなどの電子ディスプレイ,有機EL表示装置、LED(発光ダイオード)照明装置、CMOS(相補性金属酸化膜半導体)センサーなどの新たな電子装置の開発、実用化が急である。これらの新しい電子装置に用いる透明フレキシブルフィルムとして、すなわち、電子ペーパーなどの電子ディスプレイ、有機EL表示装置などの電子表示装置の透明フレキシブル基板;LED(発光ダイオード)照明装置、CMOS(相補性金属酸化膜半導体)センサーなどの保護膜として、従来のポリイミドフィルムを用いようとした場合でも、同様に、上述の基本的特性項目を全て満足することが必要となるが、そのような良好な特性を有するポリイミドフィルムは提供されていない。
本発明は、前記従来の事情に鑑みてなされたもので、その課題は、高透明性、低熱膨張性、高耐熱性、低複屈性を有するポリイミドフィルムを得るためのポリイミド前駆体組成物及び該ポリイミド前駆体組成物をイミド閉環反応させて得られたポリイミドフィルム、並びに該ポリイミド系フィルムを用いて得られた、電子ペーパーなどの電子ディスプレイ、有機EL表示装置、LED(発光ダイオード)照明装置、CMOS(相補性金属酸化膜半導体)センサーなどの電子装置用の透明フレキシブルフィルムを提供することにある。
本発明者らは、上記課題を実現すべく鋭意検討した結果、特定の構造を有するポリイミド前駆体を含有するポリイミド前駆体組成物からイミド閉環反応で得られるポリイミドフィルムが上記課題を解決し得ることを見出し、本発明の完成に至った。
すなわち、本発明にかかるポリイミド前駆体組成物は、下記化学式(I)
Figure 2009107429
[式(I)中、R、Rは、相互独立的に、−H、−(CF−CF、−0(CF−CFから選択される一種であって、少なくとも1つはフッ素を含有する基(nは0以上7以下の整数)である。]で示される含有フッ素芳香族ジアミン(a1)とトランス−1,4−シクロヘキシルジアミン(a2)とを含むジアミン成分(A)と、脂肪族テトラカルボン酸二無水物(b1)と芳香族テトラカルボン酸二無水物(b2)とを含む酸二無水物成分(B)とを反応させて形成される構造を有するポリイミド前駆体を含有することを特徴とする。
上記のようにして形成されるポリイミド前駆体が有する構造は、一般にジアミン成分と酸二無水物成分が反応して両成分が交互に結合した次式(II)
Figure 2009107429
[式(II)中、Xはジアミン成分(a1)又は(a2)における2つのアミノ基以外の部分の構造であり、Yは酸二無水物成分(b1)又は(b2)における二つの酸無水物基以外の部分の構造であり、nは繰り返し数を表し、全構造中には(a1)及び(a2)に基づく2種のXと、(b1)及び(b2)に基づく2種のYとを含む。]で示される構造である。
本発明におけるポリイミド前駆体は、上記の式(II)で示される構造を有するものであれば、原料成分が異なるものであっても良い。したがって、本発明におけるポリイミド前駆体を構造から特定すれば、下記一般式(III)
Figure 2009107429
[式(III)中、mは構造単位の繰り返し数を示す自然数であり、m個のXは相互独立的に二価の有機基であり、Xとして必ず下記一般式(IV)
Figure 2009107429
で示される基とトランス−1,4−シクロへキシレン基とを含む。式(IV)中のR及びRは、相互独立的に、−H、−(CF−CF、−0(CF−CFから選択される一種であって、少なくとも1つはフッ素を含有する基(nは0以上7以下の整数)である。また、式(III)中、m個のYは相互独立的に四価の有機基であり、Yとして必ず脂肪族基と芳香族基とを含み、2m個のRは相互独立的に水素原子又は一価の有機基である。]で示される構造を有するポリイミド前駆体と定義される。
上記構成のポリイミド前駆体組成物において、ポリイミド前駆体の原料となる前記ジアミン成分(A)中の前記含有フッ素芳香族ジアミン(a1)の含有量が5モル%以上95モル%以下であり、前記トランス−1,4−シクロヘキシルジアミン(a2)の含有量が95モル%以下5モル%以上であることが、好ましい。このジアミン成分(A)には、前記含有フッ素芳香族ジアミン(a1)と前記トランス−1,4−シクロヘキシルジアミン(a2)の配合範囲以内で、残部として他のジアミン化合物を含有しても良い。なお、ポリイミド前駆体を構造(一般式(III))の観点から見た場合の、各構成成分の好ましい割合は、原料として用いる各成分の前記の好ましい含有量と同一である。
また、上記構成のポリイミド前駆体組成物において、ポリイミド前駆体の原料となる前記酸二無水物成分(B)中の前記脂肪族テトラカルボン酸二無水物(b1)の含有量が5モル%以上95モル%以下であり、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物(b2)の含有量が95モル%以下5モル%以上であることが、好ましい。この酸二無水物成分(B)には、前記脂肪族テトラカルボン酸二無水物(b1)と前記芳香族テトラカルボン酸二無水物(b2)の配合範囲以内で、残部として他の酸二無水物を含有しても良い。なお、ポリイミド前駆体を構造(一般式(III))の観点から見た場合の、各構成成分の好ましい割合は、原料として用いる各成分の前記の好ましい含有量と同一である。
本発明において、上記脂肪族テトラカルボン酸二無水物(b1)は、狭義の脂肪族テトラカルボン酸二無水物に加えて脂環式テトラカルボン酸二無水物をも含む広義の意味の用語である。従って、一般式(II)および(III)中のYにおける脂肪族基も脂環式構造を含む広義の用語である。そして、上記構成のポリイミド前駆体において、前記脂肪族テトラカルボン酸二無水物(b1)が3,3’,4,4’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物であり、前記芳香族テトラカルボン酸(b2)が3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であってもよい。
また、本発明のポリイミド前駆体組成物において、前記ジアミン成分(A)のモル数と前記酸二無水物成分(B)のモル数の比(A/B)が0.9〜1.1であることが、好ましい。
本発明のポリイミド前駆体組成物は、通常、上記成分(A)と成分(B)を反応させて形成される構造を有するポリイミド前駆体(構造的には上記一般式(III)で示される構造を有するポリイミド前駆体)に溶媒成分(C)が添加されたものであるが、必要に応じて他の成分を含有しても良い。
本発明のポリイミドフィルムは、上記ポリイミド前駆体組成物を用いて得られたポリイミドフィルムであって、膜厚10μm換算で400nmの光透過率が80%以上であり、熱膨張係数が100℃〜200℃の範囲で20ppm/℃以下であり、ガラス転移温度が250℃以上であることを特徴とする。
本発明のポリイミドフィルムは、好ましくは、TEモードでの屈折率とTMモードでの屈折率との差が0.05以下である複屈折性を有する。
本発明の透明フレキシブルフィルムは、上記ポリイミドフィルムを用いて得られたことを特徴とする。本発明の透明フレキシブルフィルムは、好ましくは、電子表示装置の透明フレキシブル基板、照明素子の保護膜、または光電センサの保護膜である。
以上から明らかなように、本発明は、下記の構成を採用したポリイミド前駆体組成物、ポリイミドフィルム及び透明フレキシブルフィルムを提供する。
[1] 下記化学式(I)
Figure 2009107429
[式(I)中、R、Rは、相互独立的に、−H、−(CF−CF、−0(CF−CFから選択される一種であって、少なくとも1つはフッ素を含有する基(nは0以上7以下の整数)である。]で示される含有フッ素芳香族ジアミン(a1)とトランス−1,4−シクロヘキシルジアミン(a2)とを含むジアミン成分(A)と、脂肪族テトラカルボン酸二無水物(b1)と芳香族テトラカルボン酸二無水物(b2)とを含む酸二無水物成分(B)とを反応させて形成される構造を有するポリイミド前駆体を含有することを特徴とするポリイミド前駆体組成物。
[2] 前記ポリイミド前駆体が有する構造が、下記一般式(III)
Figure 2009107429
[式(III)中、mは構造単位の繰り返し数を示す自然数であり、m個のXは相互独立的に二価の有機基であり、Xとして必ず下記一般式(IV)
Figure 2009107429
で示される基とトランス−1,4−シクロへキシレン基とを含む。式(IV)中のR及びRは、相互独立的に、−H、−(CF−CF、−0(CF−CFから選択される一種であって、少なくとも1つはフッ素を含有する基(nは0以上7以下の整数)である。また、式(III)中、m個のYは相互独立的に四価の有機基であり、Yとして必ず脂肪族基と芳香族基とを含み、2m個のRは相互独立的に水素原子又は一価の有機基である。]で示される構造であることを特徴とする、上記[1]に記載のポリイミド前駆体組成物。
[3] 前記ジアミン成分(A)中の前記含有フッ素芳香族ジアミン(a1)の含有量が5モル%以上95モル%以下であり、前記トランス−1,4−シクロヘキシルジアミン(a2)の含有量が95モル%以下5モル%以上であることを特徴とする、上記[1]又は[2]に記載のポリイミド前駆体組成物。
[4] 前記酸二無水物成分(B)中の前記脂肪族テトラカルボン酸二無水物(b1)の含有量が5モル%以上95モル%以下であり、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物(b2)の含有量が95モル%以下5モル%以上であることを特徴とする、上記[1]〜[3]のいずれか一つに記載のポリイミド前駆体組成物。
[5] 前記脂肪族テトラカルボン酸二無水物(b1)が3,3’,4,4’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物であり、前記芳香族テトラカルボン酸(b2)が3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であることを特徴とする、上記[1]〜[4]のいずれか一つに記載のポリイミド前駆体組成物。
[6] 前記ジアミン成分(A)のモル数と前記酸二無水物成分(B)のモル数の比(A/B)が0.9〜1.1であることを特徴とする、上記[1]〜[5]のいずれか一つに記載のポリイミド前駆体組成物。
[7] 下記一般式(III)
Figure 2009107429
[式(III)中、mは構造単位の繰り返し数を示す自然数であり、m個のXは相互独立的に二価の有機基であり、Xとして必ず下記一般式(IV)
Figure 2009107429
で示される基とトランス−1,4−シクロへキシレン基とを含む。式(IV)中のR及びRは、相互独立的に、−H、−(CF−CF、−0(CF−CFから選択される一種であって、少なくとも1つはフッ素を含有する基(nは0以上7以下の整数)である。また、式(III)中、m個のYは相互独立的に四価の有機基であり、Yとして必ず脂肪族基と芳香族基とを含み、2m個のRは相互独立的に水素原子又は一価の有機基である。]で示される構造を有するポリイミド前駆体を含有することを特徴とするポリイミド前駆体組成物。
[8] 上記[1]〜[7]のいずれか一つに記載のポリイミド前駆体組成物を用いて得られたポリイミドフィルムであって、膜厚10μm換算で400nmの光透過率が80%以上であり、熱膨張係数が100℃〜200℃の範囲で20ppm/℃以下であり、ガラス転移温度が250℃以上であることを特徴とするポリイミドフィルム。
[9] TEモードでの屈折率とTMモードでの屈折率との差が0.05以下であることを特徴とする、上記[8]に記載のポリイミドフィルム。
[10] 上記[8]又は[9]に記載のポリイミドフィルムを用いて得られた透明フレキシブルフィルム。
[11] 電子表示装置の透明フレキシブル基板であることを特徴とする、上記[10]に記載の透明フレキシブルフィルム。
[12] 照明装置の保護膜であることを特徴とする、上記[10]に記載の透明フレキシブルフィルム。
[13] 光電センサの保護膜であることを特徴とする、上記[10]に記載の透明フレキシブルフィルム。
本発明によるポリイミド前駆体組成物は、高透明性、低熱膨張性、高耐熱性、低複屈折性、を兼ね備えたポリイミドフィルムを得ることができる。このポリイミドフィルムは、電子ディスプレイ、有機EL照明用のフレキシブル基板やLED、CMOSセンサーの保護膜として好適である。
本発明にかかるポリイミド前駆体組成物は、前記一般式(III)で示される構造を有するポリイミド前駆体を含有することを特徴とする。前述のように、このポリイミド前駆体は、一般に上記成分(A)と成分(B)を反応させて得られる。本発明のポリイミド前駆体組成物は、通常、ポリイミド前駆体が溶媒成分(C)に溶解されたものであるが、必要に応じて他の成分を含有することが可能である。
前記一般式(III)において、m個のXは相互独立的に二価の有機基であり、一般に、原料として使用されるジアミンのアミノ基を除く部分である。従って、後に詳述するジアミン成分のアミノ基を除く部分が、前記二価の有機基として挙げられる。Xとしては、必ず下記一般式(IV)
Figure 2009107429
で示される基とトランス−1,4−シクロへキシレン基とを含むことが本発明では必要である[式(IV)中、R及びRは、相互独立的に、−H、−(CF−CF、−0(CF−CFから選択される一種であって、少なくとも1つはフッ素を含有する基(nは0以上7以下の整数)である。]。また、一般式(III)において、m個のYは相互独立的に二価の有機基であり、一般に、原料として使用されるテトラカルボン酸(又はその酸二無水物若しくはその誘導体)のカルボキシル基を除く部分である。従って、後に詳述する酸二無水物成分(B)の二つの無水物基を除く部分が、前記四価の有機基として挙げられる。Yとしては、必ず脂肪族基と芳香族基とを含むことが、本発明では必要である。
まずは、ポリイミド前駆体を製造するための各成分について説明する。
(ジアミン成分(A))
本発明に用いられるジアミン成分(A)を構成する必須成分である化学式(I)で表される含有フッ素芳香族ジアミン(a1)としては、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−ベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメトキシ)−ベンジジン、2−トリフルオロメチル-ベンジジン、2−トリフルオロメトキシ−ベンジジン、2,2’−ビス(ペンタフルオロエチル)−ベンジジン、2,2’−ビス(ペンタフルオロエトキシ)−ベンジジン、2−ペンタフルオロエチル−ベンジジン、2−ペンタフルオロエトキシ−ベンジジン、2,2’−ビス(ヘプタフルオロプロパン)−ベンジジン、2,2’−ビス(ヘプタフルオロプロキシ)−ベンジジン、2−ヘプタフルオロプロパン−ベンジジン、2−ヘプタフルオロプロキシ−ベンジジン、2−ペンタフルオロエトキシ−ベンジジン、2,2’−ビス(ヘプタデカフルオロオクタン)−ベンジジン、2,2’−ビス(ヘプタデカフルオロオクタキシ)−ベンジジン、2−ヘプタデカフルオロオクタン−ベンジジン、2−ヘプタデカフルオロオクタキシ−ベンジジン、などが挙げられる。中でも2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−ベンジジンが特に好ましい。これらは、単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。これらの含有フッ素芳香族ジアミン(a1)をジアミン成分(A)の5モル%以上、望ましくは10モル%以上、さらに望ましくは10モル%以上95モル%以下、含んでいることが好ましい。
本発明に用いられるジアミン成分(A)を構成する他の必須成分であるトランス−1,4−シクロヘキシルジアミン(a2)は、ポリイミドフィルムの透明性の向上だけでなく、ガラス転移温度の向上に効果がみられる。このトランス−1,4−シクロヘキシルジアミン(a2)は、ジアミン成分(A)の5モル%以上、望ましくは30モル%以上、さら
に望ましくは50モル%以上95モル%以下含んでいることが好ましい。トランス−1,4−シクロヘキシルジアミン(a2)は未精製品のままだとポリイミドフィルムの色が濃色になるので、必要に応じてn−ヘキサン等によって再結晶、精製することが好ましい。トランス−1,4−シクロヘキシルジアミン(a2)は、酸二無水物との反応中に塩形成をおこしてしまい、分子量が上がり難いことが知られているが、必要に応じて、酢酸添加方法(例えば、「マクロモレキュール(Macromolecules),40巻,2007年,p.3527」に記載)や、N−シリル化法(例えば、「マクロモレキュール(Macromolecules)」,35巻,2002年,p.2277」に記載)の公知の方法により、合成することができる。
本発明に用いられるジアミン成分(A)には、上記必須成分(a1)(a2)以外に他のジアミン化合物を含有しても良く、そのような他のジアミン化合物としては、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、2,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,3,5,6−テトラメチル−1,4−フェニレンジアミン、2,3,5,6−テトラエチル−1,4−フェニレンジアミン、2,5−ジメチル−1,4−フェニレンジアミン、2,5−ジメチル−1,3−フェニレンジアミン、2,5−ジエチル−1,4−フェニレンジアミン、2,5−ジエチル−1,3−フェニレンジアミン、1,4−フェニレンジアミン、2,4,6−トリメチル−1,3−フェニレンジアミン、2,4,6−トリエチル−1,3−フェニレンジアミン、1,3−フェニレンジアミン、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルフィド、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルフィド、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、2,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェノキシ)ヘキサフルオロプロパン、1,6−ヘキサメチレンジアミン、1,8−オクタメチレンジアミン、1,10−デカメチレンジアミン、1,12−ドデカメチレンジアミン、イソフタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド、2,6−ナフトエ酸ジヒドラジド、1,3−ジ(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、シス−1,4−シクロヘキシルジアミンなどが挙げられ、これらは、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いられる。
本発明のジアミン成分(A)として上記必須成分(a1)(a2)以外を併用する場合は、ポリイミドフィルムの複屈折性を低減する観点から、脂環式又は脂肪族のジアミン化合物を含むことが好ましい。
(酸二無水物成分(B))
本発明に用いられる酸二無水物成分(B)を構成する必須成分である脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、脂環式のテトラカルボン酸二無水物も含まれる。このような脂肪族テトラカルボン酸二無水物(b1)としては、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ(2,2,2)オクタ−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ(2,2,2)オクタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸二無水物、1,3−シクロヘキサンビストリメリテート酸二無水物、1,4−シクロヘキサンビストリメリテート酸二無水物、1,2−シクロヘキサンビストリメリテート酸二無水物などが挙げられ、単独または2種類以上を併用して使用することができる。これらの化合物は、脂肪族、脂環式化合物であるため、光透過率の向上及び複屈折性の低減に効果がある。
上記脂肪族テトラカルボン酸二無水物のうちでも、ポリイミドフィルムの光透過率の向上及び複屈折性を低減する観点から、脂環を含むテトラカルボン酸二無水物が好ましく、特に3,3’,4,4’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物が好ましい。
この脂肪族テトラカルボン酸二無水物(b1)の含有量は、酸二無水物成分(B)の5モル%以上95モル%以下、さらに望ましくは5モル%以上50モル%以下であることが好ましい。
本発明に用いられる酸二無水物成分(B)を構成する必須成分である芳香族テトラカルボン酸二無水物(b2)としては、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシルフェニル)ヘキサフルオロプロパン酸二無水物、オクチルコハク酸二無水物、ドデシルコハク酸二無水物、オクチルマロン酸二無水物、ジメチレンビストリメリテート酸二無水物、トリメチレンビストリメリテート酸二無水物、テトラメチレンビストリメリテート酸二無水物、ペンタメチレンビストリメリテート酸二無水物、ヘキサメチレンビストリメリテート酸二無水物、オクタメチレンビストリメリテート酸二無水物、デカメチレンビストリメリテート酸二無水物、ドデカメチレンビストリメリテート酸二無水物、ヘキサデカメチレンビストリメリテート酸二無水物、メチレン−1,2−ビス(1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−5−イソベンゾフラニル)ジエーテル、プロピレン−1,3−ビス(1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−5−イソベンゾフラニル)ジエーテル、などが挙げられ、単独または2種類以上を併用して使用することができる。
本発明においては、上記のジアミン成分(A)のモル数と酸二無水物成分(B)のモル数の比、すなわち(ジアミン成分(A)のモル数)/(酸二無水物成分(B)のモル数)の比(A/B)を通常0.9〜1.1の範囲、好ましくは0.95〜1.05の範囲、さらに好ましくは0.97〜1.03の範囲にして反応させる。
(溶媒成分(C))
本発明のポリイミド前駆体組成物に用いる溶媒成分(C)は、不活性溶媒であり、この溶媒成分(C)としては、成分(A)および(B)の単量体の全てを溶解する必要はないが、生成するポリイミド前駆体を溶解するものが好ましく、例えば、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン、ε−カプロラクトン、γ−カプロラクトン、γ−バレロラクトン、ジメチルスルホキシド、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノンなどが挙げられ、これらは2種以上を併用してもよい。
また、ポリイミド前駆体組成物を生成後、粘度を調整するために用いられる溶媒成分(C)としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルアセテート、プロピレングリコールモノエチルアセテート、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、トルエン、キシレン、エタノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノールなどが挙げられ、これらは2種以上を併用してもよい。
ポリイミド前駆体組成物を合成後、ポリイミド前駆体の末端ジアミンを酸無水物で封止すると、加熱時の熱着色を抑えることができ、その結果、透明なポリイミドフィルムを得ることができる。このような末端ジアミンの封止として使用される酸無水物としては、例えば、フタル酸無水物、テトラハイドロ無水フタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、シス−ノルボルネン−エンド−2,3−ジカルボン酸、無水酢酸などが挙げられ、これらは2種以上を併用しても良い。
(ポリイミド前駆体組成物)
ポリイミド前駆体組成物が、前記溶媒成分を含むワニスである場合のポリイミド前駆体の濃度は、通常ポリイミド前駆体組成物の1〜50重量%の範囲とされ、好ましくは3〜35重量%の範囲、さらに好ましくは10〜30重量%の範囲、とされる。濃度が1重量%未満である場合には、塗布後の膜厚が薄くなってしまい、フレキシブル基板として充分な膜厚が得られない傾向があり、50重量%を超える場合には、粘度が高くなってしまうため塗布特性が劣る場合がある。
ポリイミドフィルムの形成のためのポリイミド前駆体組成物の塗布方法は、スピン塗布法、浸漬法、フレキソ印刷法、インクジェット印刷法、吹き付け法、ポッティング法、スクリーン印刷法などが挙げられる。これらの内、10μm以上の厚膜を得る方法としては、バーコート塗布法、スリットコーティング塗布法、スクリーン印刷法、スピン塗布法などが好ましい。
ポリイミド前駆体組成物の塗布膜を形成するために用いられる被塗布体としては、ポリイミド、ポリアミド、PEN、PESなどのプラスチック基板;ガラス基板;シリコンウエハ;ステンレス、アルミニウム、銅などの金属薄膜;予めTFT、アモルファスシリコンやカラーフィルターが形成された電子ディスプレイ用ガラス基板;有機EL用の基板などが挙げられる。
被塗布体への濡れ性を良くするための溶媒を、ポリイミド前駆体を得るための反応前または反応終了後に、ポリイミド前駆体組成物に添加することもできる。これらの溶媒としては、例えば、エチルセロソロブ、エチルセロソロブアセテート、ブチルセロソロブ、ブチルセロソロブアセテート、キシレン、トルエン、ジイソブチルケトン、ソルベッソ100、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどが挙げられる。
(その他の成分)
本発明のポリイミド前駆体組成物は、ガラス基板、シリコンウエハや金属薄膜との密着性を向上させるために、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等のカップリング剤を含有することができる。
上記カップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリプロポキシシラン、γ−アミノプロピルトリブトキシシラン、γ−アミノエチルトリエトキシシラン、γ−アミノエチルトリメトキシシラン、γ−アミノエチルトリプロポキシシラン、γ−アミノエチルトリブトキシシラン、γ−アミノブチルトリエトキシシラン、γ−アミノブチルトリメトキシシラン、γ−アミノブチルトリプロポキシシラン、γ−アミノブチルトリブトキシシランなどが挙げられる。
また、上記チタンカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシチタン、γ−アミノプロピルトリメトキシチタン、γ−アミノプロピルトリプロポキシチタン、γ−アミノプロピルトリブトキシチタン、γ−アミノエチルトリエトキシチタン、γ−アミノエチルトリメトキシチタン、γ−アミノエチルトリプロポキシチタン、γ−アミノエチルトリブトキシチタン、γ−アミノブチルトリエトキシチタン、γ−アミノブチルトリメトキシチタン、γ−アミノブチルトリプロポキシチタン、γ−アミノブチルトリブトキシチタンなどが挙げられる。これらは2種以上を併用してもよい。このときの使用量は、ポリイミド前駆体組成物中の樹脂分の0.1重量%以上3重量%以下が好ましい。
(成膜方法およびポリイミドフィルム)
本発明のポリイミド前駆体組成物は、加熱乾燥、脱水閉環してポリイミドを形成する。その加熱温度としては、通常100〜400℃、好ましくは200〜350℃、さらに好ましくは250〜300℃の範囲を任意に選択することができる。
また、加熱時間は、通常、1分〜6時間、好ましくは5分〜2時間、さらに好ましくは15分〜1時間とされる。
硬化雰囲気は、空気ガス、窒素ガス、酸素ガス、水素ガス、窒素/水素混合ガスが挙げられるが、硬化フィルムの表面の着色を抑えるためには、酸素濃度が少ない窒素ガス、窒素/水素混合ガスが好ましい。さらに好ましくは、酸素濃度が100ppm以下の窒素ガス、水素濃度が0.5%以下含む窒素/水素混合ガスが好ましい。
形成されるポリイミドの膜厚は、通常0.1〜100μmであり、好ましくは5〜50μm、さらに好ましくは10〜30μmである。得られたポリイミドは基板から剥離することによりポリイミドフィルムとして得られる。
このポリイミドフィルムは、膜厚10μm換算で400nm地点の光透過率が80%以上であり、熱膨張係数が100℃〜200℃の範囲で20ppm/℃以下であり、ガラス転移温度が250℃以上であり、TEモードでの屈折率とTMモードでの屈折率との差が0.05以下であるという各種フィルム特性を実現することができる。
このポリイミドフィルムは、上記優れたフィルム特性を実現できるので、寸法調整や必要に応じて表面処理等を施して、各種電子装置用の透明フレキシブルフィルムとして用いることができる。具体的には、このポリイミドフィルムは、電子ペーパーなどの電子ディスプレイ、有機EL表示装置、LED(発光ダイオード)照明装置、CMOS(相補性金属酸化膜半導体)センサーなどの電子装置の電子装置に用いる透明フレキシブルフィルムとして用いることができる。
すなわち、本発明の透明フレキシブルフィルムは、電子ペーパーなどの電子ディスプレイ、有機EL表示装置などの電子表示装置の透明フレキシブル基板;LED照明装置、CMOSセンサーなどの保護膜として、用いることができる。
以下、本発明の実施例を示すが、以下に示す実施例は、本発明を説明するための例示であり、なんら本発明を限定するものではない。
(実施例1)
0.5リットルのガラス製の4つ口フラスコを用い、30mL/分の流量で乾燥窒素を流しながら、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン((a1)成分)32.024g(0.1モル)と、再結晶済みのトランス−1,4―シクロへキシルジアミン((a2)成分)11.419
g(0.1モル)とに、N,N−ジメチルアセトアミド(溶媒成分(C))を310.49g加え、70℃に加熱させ溶解させた。
その後再結晶済みの3,3’,4,4’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物((b1)成分)30.631g(0.1モル)及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物((b2)成分)29.421
g(0.1モル)をゆっくり加えた後、80℃で15分間攪拌した後、自然冷却して室温で60時間撹拌してポリスチレン換算分子量Mw133200のポリイミド前駆体を含む粘度130ポイズのポリイミド前駆体組成物(ワニス)Aを得た。なお、ポリスチレン換算分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフ(GPC)法によった。
上記ワニスAを、表面が酸化シリコン層である直径6インチのシリコンウェハ上にスピンコートし、窒素雰囲気下、縦型拡散炉(光洋リンドバーグ社製、商品名「μTF」)で200℃で0.5時間、300℃で0.5時間加熱し、シリコンウェハ上に膜厚約15μmのポリイミドフィルムを得た。シリコンウェハ上のポリイミドフィルムは、0.49%フッ酸水溶液で酸化シリコン層をエッチングしてシリコンウェハから回収した。得られたポリイミドフィルムの膜厚10μmに換算した波長400nm地点の光透過率、熱膨張係数、ガラス転移温度、屈折率差は、下記の方法で測定し、(表1)に結果をまとめて示した。
光透過率は、日立製作所製の光透過率測定装置(商品名「U−3310」)を用いて測定した。また、熱膨張係数は、熱機械分析装置(リガク社製、商品名「TMA−8310」)を用いて、空気雰囲気下、昇温速度5℃/分で行い、100℃〜200℃の範囲を測定した。また、ガラス転移温度は、熱機械分析装置(リガク社製、商品名「TMA−8310」)を用いて空気雰囲気下、昇温速度5℃/分で測定した。また、複屈折差は、メトリコン社製の「プリズムカプラモデル2010(商品名)」を用いて、波長1300nm地点のTEモードとTMモードの屈折率を測定し、TEモードとTMモードの差を屈折率差とした。
また、重量平均分子量(Mw)は、以下の条件により求めた。
(GPC法による重量平均分子量の測定条件)
[測定装置]
検出器:(株)日立製作所製L4000UV
ポンプ:(株)日立製作所製L6000
株式会社島津製作所C−R4A Chromatopac
[測定条件]
カラム:Gelpack GL−S300MDT−5(日立化成工業(株)製)×2本
溶離液:THF/DMF=1/1 (容積比)
LiBr(0.03mol/L)、HPO(0.06mol/L)
流速:1.0mL/min、検出器:UV270nm
ポリマー0.5mgに対して溶媒[THF/DMF=1/1 (容積比) ]1mLの溶液を用いて測定した。
(実施例2)
0.5リットルのガラス製の4つ口フラスコを用い、30mL/分の流量で乾燥窒素を流しながら、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン((a1)成分)6.405g(0.02モル)、再結晶済みのトランス−1,4―シクロへキシルジアミン((a2)成分)20.554g(0.18モル)にN,N−ジメチルアセトアミド(溶媒成分(C))を257.77g加え、70℃に加熱させ溶解させた。
その後、再結晶済みの3,3’,4,4’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物((b1)成分)3.063g(0.01モル)及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物((b2)成分)55.900g(0.19モル)をゆっくり加えた後、80℃で15分間攪拌した後、自然冷却して室温で72時間撹拌してポリスチレン換算分子量Mw44000のポリイミド前駆体を含む粘度660ポイズのポリイミド前駆体組成物(ワニス)Bを得た。
得られたワニスBの塗膜を実施例1と同様の方法及び同じ硬化条件200℃で0.5時間、300℃で0.5時間加熱し、膜厚約15μmのポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムの膜厚10μm換算の400nm地点の光透過率、熱膨張係数、ガラス転移温度、屈折率差の結果は、まとめて(表1)に示す。
(実施例3)
0.3リットルのガラス製の4つ口フラスコを用い、30mL/分の流量で乾燥窒素を流しながら、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン((a1)成分)4.900g(0.0153モル)、再結晶済みのトランス−1,4−シクロへキシルジアミン5.230g(0.0458モル)にジメチルアセトアミドを120.0g加え、70℃に加熱させ溶解させた。
その後、再結晶済みの1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物(= BTCDA)((b1)成分)8.988g(0.03055モル)及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物((b2)成分)6.053g(0.03055モル)をゆっくり加えた後、80℃で15分間攪拌したのち、自然冷却して室温で72時間撹拌して粘度0.1ポイズ、ポリスチレン換算分子量Mw12400のポリイミド前駆体組成物、ワニスCを得た。
得られたワニスCは、実施例1と同じ硬化条件200℃で0.5時間、300℃で0.5時間加熱し、膜厚約10.4μmのポリイミドを得た。得られたポリイミドフィルムの、膜厚10μm換算の光透過率、熱膨張係数、ガラス転移温度、屈折率差の結果は、まとめて(表1)に示す。
(実施例4)
0.3リットルのガラス製の4つ口フラスコを用い、30ml/分の流量で乾燥窒素を流しながら、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン((a1)成分)14.414g(0.045モル)、再結晶済みのトランス−1,4−シクロへキシルジアミン((a2)成分)1.713g(0.015モル)にジメチルアセトアミドを120.0g加え、70℃に加熱させ溶解させた。
その後、再結晶済みの1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物(=CPDA)((b1)成分)9.458g(0.045モル)及び3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物((b2)成分)4.414g(0.015モル)をゆっくり加えた後、80℃で15分間攪拌したのち、自然冷却して室温で72時間撹拌して粘度1ポイズ、ポリスチレン換算分子量Mw22400のポリイミド前駆体組成物、ワニスDを得た。
得られたワニスDは、実施例1と同じ硬化条件200℃で0.5時間、300℃で0.5時間加熱し、膜厚約14.1μmのポリイミドを得た。得られたポリイミドフィルムの、膜厚10μm換算の光透過率、熱膨張係数、ガラス転移温度、屈折率差の結果は、まとめて(表1)に示す。
(比較例1)
0.5リットルのガラス製の4つ口フラスコを用い、30mL/分の流量で乾燥窒素を流しながら、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン((a1)成分)32.024g(0.1モル)、再結晶済みのトランス−1,4―シクロへキシルジアミン
((a2)成分)11.419g(0.1モル)にN,N−ジメチルアセトアミド(溶媒成分(C))を342.43g加え、70℃に加熱させ溶解させた。
その後、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物((b1)成分)58.842g(0.2モル)をゆっくりと加えた。加えた後、80℃で15分間攪拌した後、自然冷却して室温で72時間撹拌してポリスチレン換算分子量Mw108600のポリイミド前駆体を含む粘度160ポイズのポリイミド前駆体組成物(ワニス)Eを得た。
このワニスEを用いて、実施例1と同様の方法及び同じ硬化条件で、ポリイミドフィルムを作成した。得られたポリイミドフィルムの膜厚10μm換算の400nm地点の光透過率、熱膨張係数、ガラス転移温度、屈折率差の結果は、まとめて(表1)に示す。
(比較例2)
0.5リットルのガラス製の4つ口フラスコを用い、30mL/分の流量で乾燥窒素を流しながら、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン((a1)成分)32.024
g(0.1モル)、再結晶済みのトランス−1,4―シクロへキシルジアミン((a2)成分)11.419 g(0.1モル)にN,N−ジメチルアセトアミド(溶媒成分(C))を418.82g加え、70℃に加熱させ溶解させた。
その後3,3’,4,4’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物((b1)成分)61.262g(0.2モル)をゆっくり加えた後、80℃で15分間攪拌した後、自然冷却して室温で72時間撹拌してポリスチレン換算分子量Mw44500のポリイミド前駆体を含む粘度35ポイズのポリイミド前駆体組成物(ワニス)Fを得た。
このワニスFを用いて、実施例1と同様の方法及び同じ硬化条件でポリイミドフィルムを作成した。得られたポリイミドフィルムの膜厚10μm換算の400nm地点の光透過率、熱膨張係数、ガラス転移温度、屈折率差の結果は、まとめて(表1)に示す。
(比較例3)
0.5リットルのガラス製の4つ口フラスコを用い、30mL/分の流量で乾燥窒素を流しながら、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン((a1)成分)32.024g(0.1モル)にN,N−ジメチルアセトアミド(溶媒成分(C))を250.62g加え、70℃に加熱させ溶解させた。
続いて、3,3’,4,4’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物((b1)成分)30.631g(0.1モル)をゆっくりと加えた後、自然冷却して室温で72時間撹拌して粘度150ポイズのポリイミド前駆体組成物(ワニス)Gを得た。
このワニスGを用いて、実施例1と同様の方法及び同じ硬化条件でポリイミドフィルムを作成した。得られたポリイミドフィルムの膜厚10μm換算の400nm地点の光透過率、熱膨張係数、ガラス転移温度、屈折率差の結果は、まとめて(表1)に示す。
(比較例4)
0.3リットルのガラス製の4つ口フラスコを用い、30mL/分の流量で乾燥窒素を流しながら、再結晶済みのトランス−1,4―シクロへキシルジアミン((a2)成分)6.517
g(0.057モル)にN,N−ジメチルアセトアミド(溶媒成分(C))を96.00g加え、70℃に加熱させ溶解させた。
続いて、3,3’,4,4’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物((b1)成分)17.483g(0.057モル)をゆっくりと加えた後、80℃で15分間攪拌した後、自然冷却して室温で24時間撹拌したが、ゲル状になってしまい、ポリイミド前駆体組成物が合成できなかった。
(比較例5)
0.5リットルのガラス製の4つ口フラスコを用い、30mL/分の流量で乾燥窒素を流しながら、再結晶済みのトランス−1,4―シクロへキシルジアミン((a2)成分)11.419g(0.1モル)にN,N−ジメチルアセトアミド(溶媒成分(C))を163.36g加え、70℃に加熱させ溶解させた。
続いて、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物((b2)成分)29.421g(0.1モル)をゆっくりと加えた後、自然冷却して室温で72時間撹拌して粘度100ポイズのポリイミド前駆体組成物(ワニス)Hを得た。
このワニスHを用いて、実施例1と同様の方法及び同じ硬化条件でポリイミドフィルムを作成した。得られたポリイミドフィルムの膜厚10μm換算の400nm地点の光透過率、熱膨張係数、ガラス転移温度、屈折率差の結果は、まとめて(表1)に示す。
(比較例6)
0.5リットルのガラス製の4つ口フラスコを用い、30mL/分の流量で乾燥窒素を流しながら、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン((a1)成分)32.024g(0.1モル)にN,N−ジメチルアセトアミド(溶媒成分(C))を245.78g加え、溶解させた。
その後、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物((b2)成分)29.421g(0.1モル)をゆっくりと加えた。室温で48時間撹拌してポリスチレン換算分子量Mw72400のポリイミド前駆体を含む粘度140ポイズのポリイミド前駆体組成物(ワニス)Iを得た。
このワニスIを用いて、実施例1と同様の方法及び同じ硬化条件でポリイミドフィルムを作成した。得られたポリイミドフィルムの膜厚10μm換算の400nm地点の光透過率、熱膨張係数、ガラス転移温度、屈折率差の結果は、まとめて(表1)に示す。
Figure 2009107429
上記各実施例、比較例におけるポリイミド前駆体組成物中のポリイミド前駆体の成分構成をまとめて示すと以下の通りである。
(実施例1) (a1)成分/(a2)成分=50/50
(b1)成分/(b2)成分=50/50
(実施例2) (a1)成分/(a2)成分=10/90
(b1)成分/(b2)成分=5/95
(実施例3) (a1)成分/(a2)成分=25/75
(b1)成分/(b2)成分=50/50
(実施例4) (a1)成分/(a2)成分=75/25
(b1)成分/(b2)成分=75/25
(比較例1) (a1)成分/(a2)成分=50/50
(b1)成分/(b2)成分=0/100
(比較例2) (a1)成分/(a2)成分=50/50
(b1)成分/(b2)成分=100/0
(比較例3) (a1)成分/(a2)成分=100/0
(b1)成分/(b2)成分=100/0
(比較例4) (a1)成分/(a2)成分=0/100
(b1)成分/(b2)成分=100/0
(比較例5) (a1)成分/(a2)成分=0/100
(b1)成分/(b2)成分=0/100
(比較例6) (a1)成分/(a2)成分=100/0
(b1)成分/(b2)成分=0/100
比較例と実施例との成分構成の相違は、実施例では、(a1)成分、(a2)成分、(b1)成分、及び(b2)成分の4成分から構成されているが、比較例では、前記4成分のいずれかが欠けている点にある。これら成分構成によるフィルム特性、すなわち400nm地点の光透過率、熱膨張係数、ガラス転移温度、屈折率差の違いは、上記(表1)に明らかである。すなわち、(a1)成分、(a2)成分、(b1)成分、及び(b2)成分の4成分の全部を必須成分として有することによって、各種電子装置に用いることができるフィルム特性を満足させるポリイミドフィルムを製造できるポリイミド前駆体組成物が得られることが、確認できる。
本発明のポリイミド前駆体組成物から得られるポリイミドフィルムは高透明性、低熱膨張、高耐熱性、低複屈折性に優れているので電子ディスプレイ用基板や有機EL用の優れたフレキシブル基板もしくはLED、CMOSセンサーの保護膜として使用でき、工業的利用価値は極めて高い。

Claims (13)

  1. 下記化学式(I)
    Figure 2009107429
    [式(I)中、R、Rは、相互独立的に、−H、−(CF−CF、−0(CF−CFから選択される一種であって、少なくとも1つはフッ素を含有する基(nは0以上7以下の整数)である。]で示される含有フッ素芳香族ジアミン(a1)とトランス−1,4−シクロヘキシルジアミン(a2)とを含むジアミン成分(A)と、
    脂肪族テトラカルボン酸二無水物(b1)と芳香族テトラカルボン酸二無水物(b2)とを含む酸二無水物成分(B)とを反応させて形成される構造を有するポリイミド前駆体を含有することを特徴とするポリイミド前駆体組成物。
  2. 前記ポリイミド前駆体が有する構造が、下記一般式(III)
    Figure 2009107429
    [式(III)中、mは構造単位の繰り返し数を示す自然数であり、m個のXは相互独立的に二価の有機基であり、Xとして必ず下記一般式(IV)
    Figure 2009107429
    で示される基とトランス−1,4−シクロへキシレン基とを含む。式(IV)中のR及びRは、相互独立的に、−H、−(CF−CF、−0(CF−CFから選択される一種であって、少なくとも1つはフッ素を含有する基(nは0以上7以下の整数)である。また、式(III)中、m個のYは相互独立的に四価の有機基であり、Yとして必ず脂肪族基と芳香族基とを含み、2m個のRは相互独立的に水素原子又は一価の有機基である。]で示される構造であることを特徴とする請求項1に記載のポリイミド前駆体組成物。
  3. 前記ジアミン成分(A)中の前記含有フッ素芳香族ジアミン(a1)の含有量が5モル%以上95モル%以下であり、前記トランス−1,4−シクロヘキシルジアミン(a2)の含有量が95モル%以下5モル%以上であることを特徴とする請求項1に記載のポリイミド前駆体組成物。
  4. 前記酸二無水物成分(B)中の前記脂肪族テトラカルボン酸二無水物(b1)の含有量が5モル%以上95モル%以下であり、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物(b2)の含有量が95モル%以下5モル%以上であることを特徴とする請求項1に記載のポリイミド前駆体組成物。
  5. 前記脂肪族テトラカルボン酸二無水物(b1)が3,3’,4,4’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物であり、前記芳香族テトラカルボン酸(b2)が3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であることを特徴とする請求項1に記載のポリイミド前駆体組成物。
  6. 前記ジアミン成分(A)のモル数と前記酸二無水物成分(B)のモル数の比(A/B)が0.9〜1.1であることを特徴とする請求項1に記載のポリイミド前駆体組成物。
  7. 下記一般式(III)
    Figure 2009107429
    [式(III)中、mは構造単位の繰り返し数を示す自然数であり、m個のXは相互独立的に二価の有機基であり、Xとして必ず下記一般式(IV)
    Figure 2009107429
    で示される基とトランス−1,4−シクロへキシレン基とを含む。式(IV)中のR及びRは、相互独立的に、−H、−(CF−CF、−0(CF−CFから選択される一種であって、少なくとも1つはフッ素を含有する基(nは0以上7以下の整数)である。また、式(III)中、m個のYは相互独立的に四価の有機基であり、Yとして必ず脂肪族基と芳香族基とを含み、2m個のRは相互独立的に水素原子又は一価の有機基である。]で示される構造を有するポリイミド前駆体を含有することを特徴とするポリイミド前駆体組成物。
  8. 請求項1又は7に記載のポリイミド前駆体組成物を用いて得られたポリイミドフィルムであって、膜厚10μm換算で400nmの光透過率が80%以上であり、熱膨張係数が100℃〜200℃の範囲で20ppm/℃以下であり、ガラス転移温度が250℃以上であることを特徴とするポリイミドフィルム。
  9. TEモードでの屈折率とTMモードでの屈折率との差が0.05以下であることを特徴とする請求項8に記載のポリイミドフィルム。
  10. 請求項8に記載のポリイミドフィルムを用いて得られた透明フレキシブルフィルム。
  11. 電子表示装置の透明フレキシブル基板であることを特徴とする請求項10に記載の透明フレキシブルフィルム。
  12. 照明装置の保護膜であることを特徴とする請求項10に記載の透明フレキシブルフィルム。
  13. 光電センサの保護膜であることを特徴とする請求項10に記載の透明フレキシブルフィルム。
JP2010500610A 2008-02-25 2009-01-26 ポリイミド前駆体組成物、ポリイミドフィルム及び透明フレキシブルフィルム Active JP5392247B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010500610A JP5392247B2 (ja) 2008-02-25 2009-01-26 ポリイミド前駆体組成物、ポリイミドフィルム及び透明フレキシブルフィルム

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008043350 2008-02-25
JP2008043350 2008-02-25
PCT/JP2009/051170 WO2009107429A1 (ja) 2008-02-25 2009-01-26 ポリイミド前駆体組成物、ポリイミドフィルム及び透明フレキシブルフィルム
JP2010500610A JP5392247B2 (ja) 2008-02-25 2009-01-26 ポリイミド前駆体組成物、ポリイミドフィルム及び透明フレキシブルフィルム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2009107429A1 true JPWO2009107429A1 (ja) 2011-06-30
JP5392247B2 JP5392247B2 (ja) 2014-01-22

Family

ID=41015835

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010500610A Active JP5392247B2 (ja) 2008-02-25 2009-01-26 ポリイミド前駆体組成物、ポリイミドフィルム及び透明フレキシブルフィルム

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8796411B2 (ja)
EP (1) EP2248843A4 (ja)
JP (1) JP5392247B2 (ja)
KR (1) KR20100125252A (ja)
CN (1) CN101959935B (ja)
TW (2) TW201422681A (ja)
WO (1) WO2009107429A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9518189B2 (en) * 2012-01-09 2016-12-13 The Chemours Company Fc, Llc Binder solutions

Families Citing this family (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101125567B1 (ko) * 2009-12-24 2012-03-22 삼성모바일디스플레이주식회사 고분자 기판 및 그 제조 방법과 상기 고분자 기판을 포함하는 표시 장치 및 그 제조 방법
TWI362398B (en) * 2009-12-31 2012-04-21 Ind Tech Res Inst Polyimide polymers for flexible electrical device substrate material and flexible electrical devices comprising the same
JP4915487B2 (ja) * 2010-04-02 2012-04-11 コニカミノルタホールディングス株式会社 有機発光素子
JP2012140399A (ja) * 2010-12-15 2012-07-26 Ube Industries Ltd 着色が低減したトランス−1,4−ジアミノシクロヘキサン粉末、及びそれを用いたポリイミド
CN110628025B (zh) * 2010-07-22 2022-07-12 宇部兴产株式会社 聚酰亚胺前体、聚酰亚胺及其制备中所用的材料
JP5834573B2 (ja) * 2010-12-02 2015-12-24 宇部興産株式会社 2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物粉末の精製方法、粉末、及びそれを用いたポリイミド
JP2012041529A (ja) * 2010-07-22 2012-03-01 Ube Industries Ltd ポリイミド前駆体、その製造方法、及びポリイミド
JP5903789B2 (ja) * 2010-07-22 2016-04-13 宇部興産株式会社 共重合ポリイミド前駆体及び共重合ポリイミド
KR101543478B1 (ko) * 2010-12-31 2015-08-10 코오롱인더스트리 주식회사 투명 폴리이미드 필름 및 그 제조방법
CN105254884B (zh) 2011-03-11 2018-05-29 宇部兴产株式会社 聚酰亚胺前体和聚酰亚胺
WO2012165265A1 (ja) * 2011-05-27 2012-12-06 日立化成工業株式会社 基板及びその製造方法、放熱基板、並びに、放熱モジュール
KR101339664B1 (ko) * 2011-12-30 2013-12-10 웅진케미칼 주식회사 저열팽창성 투명 폴리이미드
KR101339663B1 (ko) * 2011-12-30 2013-12-10 웅진케미칼 주식회사 저열팽창성 투명 폴리이미드
KR101339673B1 (ko) * 2011-12-30 2013-12-10 웅진케미칼 주식회사 저열팽창성 투명 폴리이미드
JP5845911B2 (ja) * 2012-01-13 2016-01-20 宇部興産株式会社 ポリイミド前駆体水溶液組成物、及びポリイミド前駆体水溶液組成物の製造方法
JP5845918B2 (ja) * 2012-01-20 2016-01-20 宇部興産株式会社 ポリイミド前駆体及びポリイミド
CN104285184B (zh) * 2012-05-07 2018-09-25 旭化成株式会社 负型感光性树脂组合物、固化浮雕图案的制造方法、及半导体装置
KR101961894B1 (ko) * 2012-05-09 2019-03-25 삼성전자주식회사 공중합체, 이를 포함하는 성형품 및 상기 성형품을 포함하는 디스플레이 장치
JP6580808B2 (ja) * 2012-06-19 2019-09-25 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 表示装置及びその製造方法
TW201439208A (zh) * 2012-12-07 2014-10-16 Akron Polymer Systems Inc 用於製造顯示元件、光學元件或發光元件的芳香性聚醯胺溶液
TWI483967B (zh) * 2012-12-13 2015-05-11 Chi Mei Corp 軟性基板用組成物及軟性基板
JP6067419B2 (ja) * 2013-02-28 2017-01-25 新日鉄住金化学株式会社 積層部材の製造方法
US20160096952A1 (en) * 2013-05-20 2016-04-07 Kolon Industries, Inc. Polyimide resin and polyimide film produced therefrom
TWI495404B (zh) 2013-06-21 2015-08-01 Chi Mei Corp 軟性基板用組成物及軟性基板
EP3018164B1 (en) 2013-07-05 2019-03-06 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Polyimide resin
WO2015047055A1 (ko) * 2013-09-30 2015-04-02 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
KR101696962B1 (ko) * 2013-09-30 2017-01-16 주식회사 엘지화학 디스플레이 기판 및 그 제조방법
CN103692724A (zh) * 2013-12-23 2014-04-02 松扬电子材料(昆山)有限公司 透明绝缘层复合式双面铜箔基板
KR101870341B1 (ko) * 2013-12-26 2018-06-22 코오롱인더스트리 주식회사 투명 폴리아마이드―이미드 수지 및 이를 이용한 필름
KR101869173B1 (ko) * 2014-02-14 2018-06-19 아사히 가세이 가부시키가이샤 폴리이미드 전구체 및 그것을 함유하는 수지 조성물
KR102345844B1 (ko) * 2014-03-31 2021-12-31 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 수지 박막의 제조방법 및 수지 박막형성용 조성물
KR102305617B1 (ko) * 2014-06-25 2021-09-27 아사히 가세이 가부시키가이샤 공극을 갖는 폴리이미드 필름 및 그 제조 방법
JP6582609B2 (ja) * 2014-06-26 2019-10-02 三菱ケミカル株式会社 ポリイミド前駆体組成物
KR101749399B1 (ko) * 2014-06-27 2017-06-22 경북대학교 산학협력단 싸이오펜 단위를 포함하는 폴리이미드, 이의 제조방법 및 이의 용도
EP3208313B1 (en) * 2014-10-17 2019-01-30 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Polyimide resin composition, polyimide film and laminate
KR102232009B1 (ko) 2014-12-30 2021-03-25 코오롱인더스트리 주식회사 폴리아마이드-이미드 전구체, 폴리아마이드-이미드 필름 및 이를 포함하는 표시소자
JP2017052877A (ja) 2015-09-09 2017-03-16 富士ゼロックス株式会社 ポリイミド前駆体組成物、ポリイミド前駆体組成物の製造方法、及びポリイミド成形体の製造方法
JP6780259B2 (ja) * 2016-02-22 2020-11-04 富士ゼロックス株式会社 ポリイミド前駆体組成物、及びポリイミド前駆体組成物の製造方法
JP2016130325A (ja) * 2016-04-18 2016-07-21 宇部興産株式会社 ポリイミド及びポリイミド前駆体
TWI804465B (zh) * 2016-05-02 2023-06-11 日商三菱瓦斯化學股份有限公司 聚醯亞胺樹脂、聚醯亞胺樹脂組成物及聚醯亞胺薄膜
JP6949507B2 (ja) * 2016-08-05 2021-10-13 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 蒸着マスク及びその製造方法並びに蒸着マスク用積層体及びその製造方法
US11260636B2 (en) 2016-08-31 2022-03-01 Kaneka Corporation Polyamide acid, polyamide acid solution, polyimide, polyimide film, laminate, flexible device, and method of manufacturing polyimide film
JP6865592B2 (ja) * 2017-01-18 2021-04-28 住友電気工業株式会社 樹脂ワニス、絶縁電線及び絶縁電線の製造方法
WO2018143588A1 (ko) * 2017-01-31 2018-08-09 주식회사 엘지화학 가요성 기판 제조용 적층체 및 이를 이용한 가요성 기판의 제조방법
KR102008766B1 (ko) * 2017-01-31 2019-08-09 주식회사 엘지화학 가요성 기판 제조용 적층체 및 이를 이용한 가요성 기판의 제조방법
TWI609897B (zh) * 2017-02-15 2018-01-01 律勝科技股份有限公司 聚醯亞胺樹脂及其製造方法與薄膜
TW201920364A (zh) * 2017-08-11 2019-06-01 美商杜邦股份有限公司 用於電子裝置中之可撓性基板之低色度聚合物
CN111133033B (zh) * 2017-09-29 2022-06-28 三菱瓦斯化学株式会社 聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆和聚酰亚胺薄膜
JP7248394B2 (ja) * 2017-09-29 2023-03-29 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 ポリイミドフィルム及び金属張積層体
WO2019073972A1 (ja) * 2017-10-11 2019-04-18 株式会社カネカ ポリイミド樹脂およびその製造方法、ポリイミド溶液、ならびにポリイミドフィルムおよびその製造方法
JP7281887B2 (ja) * 2017-10-19 2023-05-26 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 ポリイミド前駆体及びポリイミド
JP7254469B2 (ja) * 2018-09-12 2023-04-10 Ube株式会社 ポリイミド及びポリイミド前駆体
CN112204086B (zh) * 2019-02-01 2023-04-14 株式会社Lg化学 基于聚酰亚胺的聚合物膜、使用其的显示装置用基底和光学装置
WO2020189556A1 (ja) * 2019-03-19 2020-09-24 三菱ケミカル株式会社 ポリイミドフィルム
WO2023080158A1 (ja) * 2021-11-02 2023-05-11 Ube株式会社 ポリイミド前駆体組成物、およびその製造方法
KR20240055121A (ko) 2022-07-29 2024-04-26 유비이 가부시키가이샤 폴리이미드 전구체 조성물, 폴리이미드 필름 및 폴리이미드 필름/기재 적층체

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1180350A (ja) * 1997-09-12 1999-03-26 Hitachi Chem Co Ltd 光部品用ポリイミド及びこれを用いた光部品
JPH11231532A (ja) * 1998-02-19 1999-08-27 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、パターン製造法及び半導体装置
JP2002167433A (ja) * 2000-11-30 2002-06-11 Central Glass Co Ltd ポリイミドおよびその製造方法
JP2002322274A (ja) * 2001-04-26 2002-11-08 New Japan Chem Co Ltd ポリイミド、ポリイミド前駆体及びこれらの製造方法
JP2002327056A (ja) * 2001-05-07 2002-11-15 Central Glass Co Ltd ポリイミドおよびその製造方法
JP2004307857A (ja) * 2003-03-26 2004-11-04 Rikogaku Shinkokai 蛍光性ポリイミド
JP2007046054A (ja) * 2005-08-03 2007-02-22 E I Du Pont De Nemours & Co 光学的応用分野において有用な低着色ポリイミド樹脂組成物ならびにそれに関連する方法および組成物
JP2007231224A (ja) * 2006-03-03 2007-09-13 Sumitomo Chemical Co Ltd ディスプレー用ポリイミドフィルム。
JP2008031268A (ja) * 2006-07-28 2008-02-14 Kaneka Corp ポリイミド樹脂、及びこれを用いたポリイミド樹脂層、光学部材

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2969412B2 (ja) * 1992-07-24 1999-11-02 日立化成工業株式会社 液晶配向膜,これを有する液晶挟持基板及び液晶表示素子
JP2616497B2 (ja) 1995-10-06 1997-06-04 日立化成工業株式会社 ポリイミドの製造法
JP3972600B2 (ja) 2000-09-14 2007-09-05 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 ポリイミド前駆体、その製造方法及び感光性樹脂組成物
JP5027556B2 (ja) * 2006-07-28 2012-09-19 株式会社カネカ ポリイミド樹脂、及びこれを用いたポリイミド樹脂層、積層体、積層体の製造方法、光学補償部材

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1180350A (ja) * 1997-09-12 1999-03-26 Hitachi Chem Co Ltd 光部品用ポリイミド及びこれを用いた光部品
JPH11231532A (ja) * 1998-02-19 1999-08-27 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、パターン製造法及び半導体装置
JP2002167433A (ja) * 2000-11-30 2002-06-11 Central Glass Co Ltd ポリイミドおよびその製造方法
JP2002322274A (ja) * 2001-04-26 2002-11-08 New Japan Chem Co Ltd ポリイミド、ポリイミド前駆体及びこれらの製造方法
JP2002327056A (ja) * 2001-05-07 2002-11-15 Central Glass Co Ltd ポリイミドおよびその製造方法
JP2004307857A (ja) * 2003-03-26 2004-11-04 Rikogaku Shinkokai 蛍光性ポリイミド
JP2007046054A (ja) * 2005-08-03 2007-02-22 E I Du Pont De Nemours & Co 光学的応用分野において有用な低着色ポリイミド樹脂組成物ならびにそれに関連する方法および組成物
JP2007231224A (ja) * 2006-03-03 2007-09-13 Sumitomo Chemical Co Ltd ディスプレー用ポリイミドフィルム。
JP2008031268A (ja) * 2006-07-28 2008-02-14 Kaneka Corp ポリイミド樹脂、及びこれを用いたポリイミド樹脂層、光学部材

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9518189B2 (en) * 2012-01-09 2016-12-13 The Chemours Company Fc, Llc Binder solutions

Also Published As

Publication number Publication date
TW200946562A (en) 2009-11-16
US8796411B2 (en) 2014-08-05
JP5392247B2 (ja) 2014-01-22
TWI428371B (zh) 2014-03-01
EP2248843A1 (en) 2010-11-10
CN101959935B (zh) 2012-08-22
TW201422681A (zh) 2014-06-16
KR20100125252A (ko) 2010-11-30
CN101959935A (zh) 2011-01-26
EP2248843A4 (en) 2013-07-24
WO2009107429A1 (ja) 2009-09-03
US20110059305A1 (en) 2011-03-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5392247B2 (ja) ポリイミド前駆体組成物、ポリイミドフィルム及び透明フレキシブルフィルム
JP6883640B2 (ja) 樹脂前駆体及びそれを含有する樹脂組成物、樹脂フィルム及びその製造方法、並びに、積層体及びその製造方法
JP7038630B2 (ja) ポリイミド前駆体、樹脂組成物、樹脂フィルム及びその製造方法
EP2690124B1 (en) Composition Comprising Polyimide Block Copolymer And Inorganic Particles, Method Of Preparing The Same, Article Including The Same, And Display Device Including The Article
JP6254197B2 (ja) ポリイミド前駆体及びそれを含有する樹脂組成物
JP6086118B2 (ja) ポリアミック酸溶液組成物、及びポリイミド
WO2013154141A1 (ja) ポリアミック酸溶液組成物、及びポリイミド
JP7047852B2 (ja) ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリイミドフィルム、ワニス、及び基板
JP7349253B2 (ja) ポリアミド酸、ポリアミド酸溶液、ポリイミド、ポリイミド膜、積層体およびフレキシブルデバイス、ならびにポリイミド膜の製造方法。
JP2015129201A (ja) ポリアミック酸溶液組成物、及びポリイミド
JP7069478B2 (ja) ポリイミド、ポリイミド溶液組成物、ポリイミドフィルム、及び基板
TW202239889A (zh) 聚醯亞胺前體清漆及其製造方法、聚醯亞胺及其製造方法、可撓性器件及配線基板用層疊體
CN114133563A (zh) 聚酰亚胺前体、聚酰亚胺前体组合物、聚酰亚胺膜、其制造方法以及其用途
WO2020067558A1 (ja) ポリイミド前駆体及びそれから生じるポリイミド並びにフレキシブルデバイス
JP6846148B2 (ja) ポリイミド前駆体溶液及びその製造方法並びにポリイミドフィルムの製造方法及び積層体の製造方法
JP7483480B2 (ja) ポリイミド前駆体、ポリイミド樹脂組成物、並びにポリイミド樹脂フィルム及びその製造方法
WO2023048063A1 (ja) ポリイミド、ポリアミド、樹脂組成物、ポリイミドフィルム、表示装置、電子材料用基板、ポリアミドの製造方法およびポリイミドの製造方法
TW201529728A (zh) 聚醯亞胺前驅體組成物、聚醯亞胺之製造方法、聚醯亞胺、聚醯亞胺膜及基板
TW202413488A (zh) 聚醯亞胺前驅體組合物、聚醯亞胺膜及聚醯亞胺膜/基材積層體
KR20140100188A (ko) 신규한 디아민 화합물, 이를 이용하여 제조된 폴리아믹산 및 폴리이미드

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111130

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130917

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130930

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5392247

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350