JP5027556B2 - ポリイミド樹脂、及びこれを用いたポリイミド樹脂層、積層体、積層体の製造方法、光学補償部材 - Google Patents
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Landscapes
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Description
(i)下記数式1且つ、下記数式2を満たし、
下記一般式(7)で表されるユニットを含有して形成され、重量平均分子量が20000〜200000であるポリイミド樹脂からなることを特徴とするポリイミド樹脂層。
1.00≦Re(450)/Re(550)≦1.05 :数式1
(Re(λ)は、水平面を基準面とした時に、ポリイミド樹脂を用いて形成した層を、基準面に対し、層の進相軸を軸として40°傾けた配置とし、一方で波長λnmの測定光を基準面に対する垂線方向から照射して測定した、層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の面内レターデーション(nm)を表す。)
0.010≦△n≦0.060 :数式2
(ここで複屈折(△n)は、上記と同様にポリイミド層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の屈折率をnx、nyとし、この面に対して垂直方向の屈折率をnzとした場合、△n=[(nx+ny)/2]−nz で表される値である。)
特徴とする(i)記載のポリイミド樹脂層。
下記一般式(1)で表されるユニット、及び、下記一般式(2)で表されるユニットを含有して形成され、重量平均分子量が20000〜200000であるポリイミド樹脂からなることを特徴とするポリイミド樹脂層。
1.00≦Re(450)/Re(550)≦1.05 :数式1
(Re(λ)は、水平面を基準面とした時に、ポリイミド樹脂を用いて形成した層を、基準面に対し、層の進相軸を軸として40°傾けた配置とし、一方で波長λnmの測定光を基準面に対する垂線方向から照射して測定した、層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の面内レターデーション(nm)を表す。)
0.010≦△n≦0.060 :数式2
(ここで複屈折(△n)は、上記と同様にポリイミド層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の屈折率をnx、nyとし、この面に対して垂直方向の屈折率をnzとした場合、△n=[(nx+ny)/2]−nz で表される値である。)
ユニットのモル分率をBとして表した時に、
0.10≦A≦0.50
且つ、
0.50≦B≦0.90
が成り立つ(但し、0.6≦A+B≦1.0)ことを特徴とする(v)または(vi)に記載のポリイミド樹脂層。
構造であることを特徴とする(v)〜(viii)のいずれかに記載のポリイミド樹脂層。
0.15≦A≦0.50
且つ、
0.50≦B≦0.85
が成り立つ(但し、0.65≦A+B≦1.0)ことを特徴とする(ix)に記載のポリイミド樹脂層。
(xii) (i)〜(xi)の何れかに記載のポリイミド樹脂層と、プラスティッ
クフィルム基盤からなることを特徴とする、積層体。
(xiii) (xii)に記載の積層体を、プラスティックフィルム基盤上にポリイミド樹
脂層を塗布、乾燥して形成することを特徴とする、積層体の製造方法。
(xiv) (xii)に記載の積層体を、プラスティックフィルム基盤上にポリイミド
樹脂層を転写して形成することを特徴とする、積層体の製造方法。
(xv) (i)〜(xiv)のいずれかに記載のポリイミド樹脂層又は積層体を含
有して形成されることを特徴とする、光学補償部材。
その固形成分濃度が25重量%であるジメチルホルムアミド溶液を、ガラス基板上に塗布した後、90℃で20分間乾燥後、さらに、200℃で20分間乾燥させて形成した膜厚11.9μmのコーティング層が、下記数式3且つ、下記数式4を満たすことを特徴とするポリイミド樹脂。
1.00≦Re(450)/Re(550)≦1.05 :数式3
(Re(λ)は、水平面を基準面とした時に、ポリイミド樹脂を用いて形成した層を、基準面に対し、層の進相軸を軸として40°傾けた配置とし、一方で波長λnmの測定光を基準面に対する垂線方向から照射して測定した、層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の面内レターデーション(nm)を表す。)
0.010≦△n≦0.060 :数式4
(ここで複屈折(△n)は、上記と同様にポリイミド層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の屈折率をnx、nyとし、この面に対して垂直方向の屈折率をnzとした場合、△n=[(nx+ny)/2]−nzで表される値である。)
(xvii) 下記一般式(1)で表されるユニット、及び、下記一般式(2)で表されるユニットを含有して形成されるとともに重量平均分子量が20000〜200000であるポリイミド樹脂であって、
その固形成分濃度が25重量%であるジメチルホルムアミド溶液を、ガラス基板上に塗布した後、90℃で20分間乾燥後、さらに、200℃で20分間乾燥させて形成した膜厚11.9μmのコーティング層が、下記数式3且つ、下記数式4を満たすことを特徴とするポリイミド樹脂。
1.00≦Re(450)/Re(550)≦1.05 :数式3
(Re(λ)は、水平面を基準面とした時に、ポリイミド樹脂を用いて形成した層を、基準面に対し、層の進相軸を軸として40°傾けた配置とし、一方で波長λnmの測定光を基準面に対する垂線方向から照射して測定した、層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の面内レターデーション(nm)を表す。)
0.010≦△n≦0.060 :数式4
(ここで複屈折(△n)は、上記と同様にポリイミド層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の屈折率をnx、nyとし、この面に対して垂直方向の屈折率をnzとした場合、△n=[(nx+ny)/2]−nzで表される値である。)
上記数式の上限は、更に好ましくは1.04以下、特に1.03以下であることが好ましい。数式1を満たしていることにより、可視光領域おいて長波長から短波長までのレターデーションの変化量が小さい性質を示す樹脂層となり、従来のポリイミド樹脂を使用して形成した層に比べ、液晶表示装置等の光学補償部材として使用した場合に、黒表示時等におけるバックライトからの光の漏れを低減することができ、コントラストや階調表示の低下を低減することが可能となる。
ここで複屈折(△n)とは、上記と同様にポリイミド樹脂層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の屈折率をnx、nyとし、この面に対して垂直方向の屈折率をnzとした場合、下記式で示される値である。尚、実際には、Kobra−WRにて、40°傾けた状態と傾けなかった状態で位相差値を求め、これを用いてKobra−RE(王子計測)により算出した。
本発明においては、樹脂の組成を適宜選択することにより、△nを所望の値に調整することができる。
Qは環を形成する炭素の半分以上が脂肪族炭素である環式を含み、カルボニル炭素が結合しているQの炭素が脂肪族炭素であり、Pは2価の芳香族基又は脂肪族基であることで、ポリイミド樹脂層のRe(450)/Re(550)を1.00に近づけることができ、且つポリイミド樹脂層の複屈折(△n)を0.010≦△n≦0.060の範囲にすることが可能となる。
また、上記一般式(1)を形成する方法としては、ジアミンと3,4−ジカルボキシテトラリン−1−コハク酸二無水物とを反応させる方法(より具体的には、一度ポリアミド酸を合成した後、これを脱水閉環してポリイミド樹脂とする方法)が一般的である。また、テトラカルボン酸二無水物として、カルボニル基が結合している炭素が、脂肪族炭素であるものを併用してもよい(以下、この様な酸二無水物を脂肪族テトラカルボン酸二無水物ということがある。)。ここで脂肪族炭素とは、隣接する原子との結合が全て一重結合である炭素原子のことである(即ち、ここでは脂肪族系の炭素のみならず、脂環式の炭素も含むものとする。)。本発明においては、脂肪族テトラカルボン酸二無水物を使用することにより、ポリイミド樹脂の分子内共役及び電荷移動吸収が抑制され、結果として透明性を高め、また、波長変化によるレターデーションの変化量が大きいポリイミド樹脂となることを抑制しているものと推定される。
0.10≦A≦0.50
0.50≦B≦0.90
(但し0.6≦A+B≦1.0)
の関係が満たされていることが好ましく、更には、
0.15≦A≦0.50
0.50≦B≦0.85
(但し0.65≦A+B≦1.0)
であることが好ましい。
一般式(7)を含有していれば、その他のユニットとしては特に制限されず、前述した一般式(0)で表されるその他の構造のものと複数のユニットを含んでいてもよい。また、中でも特に、本発明は、ポリイミド樹脂層を形成するポリイミド樹脂の構造が、一般式(7)で表されるユニットと、下記一般式(8)で表されるユニットを含有して形成されることがより好ましい。
本明細書でいう「置換または無置換のシクロブタン残基を除く」とは、一般式(8)で表されるユニットを製造するために、テトラカルボン酸二無水物として、前述したシクロブタン環(二置換のシクロブタン環も含む)を含有するテトラカルボン酸二無水物を使用しないことを表す。
一方、本発明のポリイミド樹脂の重量平均分子量は、GPCのPEG(ポリエチレングリコール)換算で測定した値が20,000以上、200,000以下であることが好ましい。重量平均分子量が20,000未満では、耐久性に問題が生じることがある。また、重量平均分子量が200,000より大きい場合、有機溶媒への溶解性が低下するため、可溶性ポリイミド樹脂として有機溶媒へ溶解させて使用する用途では用いることが難しいことがある。
ポリアミド酸の製造方法は下記方法に特定されるものではなく、種々の方法を用いることが可能である。その一例を以下に示す。
ポリアミド酸をイミド化する方法について記載する。ポリアミド酸をイミド化する方法として、公知の各種方法を使用することができる。例えば、熱的に脱水閉環する熱的イミド化法や、脱水剤を用いる化学的イミド化法が使用できる。
イミド化促進剤としては、各種三級アミンが使用可能であるが、特にピリジン、3−メチル−ピリジン、キノリン、イソキノリンなどの複素環式第3級アミン類などが高いイミド化率を有するポリイミド樹脂が得られる点で好ましい。
イミド樹脂の析出方法について記載する。上記(1)(2)のようにして得られたポリイミド樹脂を含む溶液から、ポリイミド樹脂を析出する方法としては、公知の各種方法が選択できるが、例えば、ポリイミド樹脂、脱水剤、イミド化促進剤などを含有するポリイミド樹脂の溶液をポリイミド樹脂の貧溶媒中に投入すること、もしくはポリイミド樹脂の溶液に貧溶媒を投入することでポリイミド樹脂を固形状態で得ることができる。ポリイミド樹脂の溶液に貧溶媒を投入する方法としては、液滴で投入する方法や糸状に投入する方法などがあるが、貧溶媒中にポリイミド樹脂が沈殿するのであれば、特に制限するものではない。析出時の形状は、糸状、粉末状、フレーク状等、種々の形態で析出させることができる。また、これらを必要により粉砕して使用することができる。
反応器(3L)にシトラコン酸無水物(305.1g)、酢酸エチル(2.7L)を仕込み、アルゴン雰囲気下で攪拌した。その後、8℃にまで冷却し、高圧水銀ランプ(400W)で8.5時間反応させ、黄色白濁溶液を得た。前記黄色白濁溶液の溶媒を減圧除去(バス温度40℃)した後、固体をトルエン(300mL)で1時間洗浄し、ろ過で固体を得た。得られた個体をトルエン(100mL)で2回洗浄し、減圧乾燥(室温、終夜)でDMCBDA粗体(106.1gを得た。反応器に、得られたDMCBDA粗体(106.1g)、無水酢酸(550mL)を仕込み、アルゴン雰囲気下130℃で溶解させた後、5℃まで冷却させた。0〜5℃で2時間放置後、析出した固体をろ過し、無水酢酸(25mL)、トルエン(100mL)で固体を洗浄した。得られた固体を減圧乾燥(40℃、終夜)し、シクロブタン環に二個のメチル基を有するDMCBDA固体(63.6g)を得た。
(1−1)ポリアミド酸の形成
ポリテトラフルオロエチレン製シール栓付き攪拌器、窒素導入管を備えた容積300mLのガラス製セパラブルフラスコを備え、攪拌翼としては4枚羽根を備えた反応装置を用いてポリアミック酸を製造した。
上記溶液にDMFを14.56g加えた後、さらにイミド化触媒として3−メチル−ピリジンを21.38g(イミド化促進剤/ポリアミド酸中アミド基のモル比=2.0)添加して、完全に分散させた。分散させた溶液中に無水酢酸を14.063g(脱水剤/ポリアアミド酸中アミド基のモル比=1.2)を添加して攪拌し、100℃で20分間加熱後、室温に戻したうえで、4時間攪拌を行った。
200回転以上に撹拌翼で撹拌したポリイミド樹脂溶液中に、穴の直径が約5mmの滴下漏斗から300mlの貧溶媒2−プロピルアルコールを、ポリイミド樹脂溶液中に滴下した。滴下後、攪拌翼を100回転に下げ、20分攪拌した。攪拌後、回転を止めこの樹脂固形分を静沈した後、溶媒をろ過した。さらに、残った樹脂固形成分を2-プロピルアルコール300mlで洗浄を行い、ジメチルホルムアミド及び3−メチル−ピリジンを除去した。洗浄を5回実施した後に、真空乾燥装置で100℃に加熱乾燥して、ポリイミド樹脂として取り出した。
(位相差値の波長分散)
得られたポリイミド樹脂をDMFに溶解してポリイミド樹脂が25重量%含有されているポリイミド樹脂溶液を作製し、マツナミカバーグラス(35×50mm)上に均一な膜厚を持ったポリイミド樹脂溶液膜として塗布した後、90℃で20分間乾燥させ、さらに、200℃で20分間乾燥させて作成した。
本発明における複屈折(△n)とは、ポリイミド層の面内の屈折率をnx、nyとし、厚み方向の屈折率をnzとした場合、式1で示される値である。
△n=[(nx+ny)/2]−nz ・・・数式1
複屈折は、ポリイミド層の鉛直方向を0°とした場合の40°の角度で入射させた光の位相差をKobra−WRで測定し、その位相差値を用い、Kobra−RE(王子計測)で得られた屈折率から複屈折(△n)を算出した。
以下の条件にて重量平均分子量(Mw)を評価した。評価結果を表2に記載する。
ジアミンの割合をCHDA:TFMB=50.0%:50.0%として、CHDA3.56g(31.2ミリモル)、TFMB9.98g(31.2ミリモル)、TDA18.71g(62.0ミリモル)用いること以外は実施例1と同様にして製造した。
(3−1)ポリアミド酸の形成
ポリテトラフルオロエチレン製シール栓付き攪拌器、窒素導入管を備えた容積300mLのガラス製セパラブルフラスコを備え、攪拌翼としては4枚羽根を備えた反応装置を用いてポリアミック酸を製造した。
上記溶液にDMFを11.1g加えた後、さらにイミド化触媒としてピリジン12.5g(イミド化促進剤/ポリアミド酸中アミド基のモル比=2.0)と無水酢酸9.7g(脱水剤/ポリアアミド酸中アミド基のモル比=1.2)を添加して攪拌し、室温で4時間攪拌を行った。
200回転以上に撹拌翼で撹拌したポリイミド樹脂溶液中に、滴下漏斗から300mLの2−プロピルアルコールを、ポリイミド樹脂溶液中に滴下した。滴下後、攪拌翼を100回転に下げ、20分攪拌した。攪拌後、回転を止めこの樹脂固形分を静沈した後、溶媒をろ過した。さらに、残った樹脂固形成分を2−プロピルアルコール300mLで洗浄を5回実施した後に、真空乾燥装置で100℃に加熱乾燥して、ポリイミド樹脂として取り出した。
(位相差値の波長分散)
得られたポリイミド樹脂をシクロペンタノンに溶解してポリイミド樹脂が15重量%含有されているポリイミド樹脂溶液を作製し、マツナミカバーグラス(35×50mm)上に均一な膜厚を持ったポリイミド樹脂溶液膜として塗布した後、130℃で60分間乾燥させた。
このコーティングしたサンプルは実施例1と同様の方法で評価を行った。評価結果を表2に記載する。
実施例1と同様の方法で評価を行った。評価結果を表2に記載する。
実施例1と同様の方法で評価を行った。評価結果を表2に記載する。
ジアミンとして、4,4´−ジアミノジシクロヘキシルメタン(DCHM)1.60g(7.6ミリモル)、TFMB9.76g(30.5ミリモル)を用い、酸二無水物として、BTA−H0.97g(3.9ミリモル)、合成例1で合成したDMCBDA7.70g(34.3ミリモル)を用い、ポリアミド酸の形成(攪拌)時間を116時間にした以外は、実施例3と同様にして製造した。実施例3と同様の方法で評価を行った。評価結果を表2に記載する。
ジアミンとして、TFMB11.71g(36.6ミリモル)を用い、酸二無水物として、BTA−H0.92g(3.7ミリモル)、合成例1で合成したDMCBDA7.39g(33.0ミリモル)を用い、ポリアミド酸の形成(攪拌)時間を293時間にした以外は、実施例3と同様にして製造した。実施例3と同様の方法で評価を行った。評価結果を表2に記載する。
ジアミンとして、TFMB9.80(30.6ミリモル)、4,4´−ジアミノジフェニルエーテル(ODA)1.53g(7.6ミリモル)を用い、酸二無水物として、BTA−H0.97g(3.9ミリモル)、合成例1で合成したDMCBDA7.73g(34.5ミリモル)を用い、ポリアミド酸の形成(攪拌)時間を146時間にした以外は、実施例3と同様にして製造した。実施例3と同様の方法で評価を行った。評価結果を表2に記載する。
ジアミンとして、TFMB9.69g(30.3ミリモル)、ODA1.52g(7.6ミリモル)を用い、酸二無水物として、3,3´,4,4´−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物(H−BPDA)1.16g(3.8ミリモル)、合成例1で合成したDMCBDA7.63g(34.1ミリモル)を用い、ポリアミド酸の形成(攪拌)時間を130時間にした以外は、実施例3と同様にして製造した。実施例3と同様の方法で評価を行い、複屈折は0.056となった。
ジアミンの割合をCHDA:TFMB=0.0%:100.0%として、TFMB16.44(51.3ミリモル)、TDA15.41(51.3)を用いること以外は実施例1と同様にして製造した。
ジアミンの割合をCHDA:TFMB=100.0%:0.0%として、CHDA9.05g(79.3ミリモル)を用い、重合用溶媒として脱水したN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)55.24gとβ−ピコリン14.77g(158.5ミリモル)を仕込み攪拌した後、この溶液に、TDA23.80g(79.3ミリモル)を加え、25℃の水温下で攪拌した。それを、室温で6時間攪拌し、ポリアミド酸を得た。以下の操作は、実施例1の同様にして製造した。
酸二無水物として2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン酸二無水物(6FDA)、ジアミンとしてTFMBを用い、実施例1と同様の評価を行った。
Claims (17)
- 下記数式1且つ、下記数式2を満たし、
下記一般式(7)で表されるユニットを含有して形成され、重量平均分子量が20000〜200000であるポリイミド樹脂からなることを特徴とするポリイミド樹脂層。
1.00≦Re(450)/Re(550)≦1.05 :数式1
(Re(λ)は、水平面を基準面とした時に、ポリイミド樹脂を用いて形成した層を、基準面に対し、層の進相軸を軸として40°傾けた配置とし、一方で波長λnmの測定光を基準面に対する垂線方向から照射して測定した、層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の面内レターデーション(nm)を表す。)
0.010≦△n≦0.060 :数式2
(ここで複屈折(△n)は、上記と同様にポリイミド層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の屈折率をnx、nyとし、この面に対して垂直方向の屈折率をnzとした場合、△n=[(nx+ny)/2]−nz で表される値である。)
- さらに、下記一般式(8)で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする請求項1に記載のポリイミド樹脂層。
- 一般式(7)で表されるユニットにおいて、Rがメチル基であることを特徴とする、請求項1または2に記載のポリイミド樹脂層。
- 下記一般式(9)で表されるユニットと、下記一般式群(10)で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする、請求項2または3に記載のポリイミド樹脂層。
- 下記数式1且つ、下記数式2を満たし、
下記一般式(1)で表されるユニット、及び、下記一般式(2)で表されるユニットを含有して形成され、重量平均分子量が20000〜200000であるポリイミド樹脂からなることを特徴とするポリイミド樹脂層。
1.00≦Re(450)/Re(550)≦1.05 :数式1
(Re(λ)は、水平面を基準面とした時に、ポリイミド樹脂を用いて形成した層を、基準面に対し、層の進相軸を軸として40°傾けた配置とし、一方で波長λnmの測定光を基準面に対する垂線方向から照射して測定した、層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の面内レターデーション(nm)を表す。)
0.010≦△n≦0.060 :数式2
(ここで複屈折(△n)は、上記と同様にポリイミド層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の屈折率をnx、nyとし、この面に対して垂直方向の屈折率をnzとした場合、△n=[(nx+ny)/2]−nz で表される値である。)
- 一般式(2)が、下記一般式(4)であることを特徴とする、請求項5に記載のポリイミド樹脂層。
- 一般式(1)で表されるユニットのモル分率をA、一般式(2)で表されるユニットのモル分率をBとして表した時に、
0.10≦A≦0.50
且つ、
0.50≦B≦0.90
が成り立つ(但し、0.6≦A+B≦1.0)ことを特徴とする請求項5または6に記載のポリイミド樹脂層。 - 一般式(1)で表されるユニットにおいて、R1が一般式群(5)で表される群から選ばれる1以上の構造であることを特徴とする請求項5〜7のいずれか1項に記載のポリイミド樹脂層。
- 一般式(1)で表されるユニットにおいて、R1が一般式(6)で表される構造であることを特徴とする請求項5〜8のいずれか1項に記載のポリイミド樹脂層。
- 一般式(1)で表されるユニットのモル分率をA、一般式(2)で表されるユニットのモル分率をBとして表した時に、
0.15≦A≦0.50
且つ、
0.50≦B≦0.85
が成り立つ(但し、0.65≦A+B≦1.0)ことを特徴とする請求項9に記載のポリイミド樹脂層。 - 厚さが1μm以上、40μm未満であることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載のポリイミド樹脂層。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載のポリイミド樹脂層と、プラスティックフィルム基盤からなることを特徴とする、積層体。
- 請求項12に記載の積層体を、プラスティックフィルム基盤上にポリイミド樹脂層を塗布、乾燥して形成することを特徴とする、積層体の製造方法。
- 請求項12に記載の積層体を、プラスティックフィルム基盤上にポリイミド樹脂層を転写して形成することを特徴とする、積層体の製造方法。
- 請求項1〜14のいずれか1項に記載のポリイミド樹脂層又は積層体を含有して形成されることを特徴とする、光学補償部材。
- 下記一般式(7)で表されるユニットを含有して形成されるとともに重量平均分子量が20000〜200000であるポリイミド樹脂であって、
その固形成分濃度が25重量%であるジメチルホルムアミド溶液を、ガラス基板上に塗布した後、90℃で20分間乾燥後、さらに、200℃で20分間乾燥させて形成した膜厚11.9μmのコーティング層が、下記数式3且つ、下記数式4を満たすことを特徴とするポリイミド樹脂。
1.00≦Re(450)/Re(550)≦1.05 :数式3
(Re(λ)は、水平面を基準面とした時に、ポリイミド樹脂を用いて形成した層を、基準面に対し、層の進相軸を軸として40°傾けた配置とし、一方で波長λnmの測定光を基準面に対する垂線方向から照射して測定した、層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の面内レターデーション(nm)を表す。)
0.010≦△n≦0.060 :数式4
(ここで複屈折(△n)は、上記と同様にポリイミド層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の屈折率をnx、nyとし、この面に対して垂直方向の屈折率をnzとした場合、△n=[(nx+ny)/2]−nzで表される値である。)
- 下記一般式(1)で表されるユニット、及び、下記一般式(2)で表されるユニットを含有して形成されるとともに重量平均分子量が20000〜200000であるポリイミド樹脂であって、
その固形成分濃度が25重量%であるジメチルホルムアミド溶液を、ガラス基板上に塗布した後、90℃で20分間乾燥後、さらに、200℃で20分間乾燥させて形成した膜厚11.9μmのコーティング層が、下記数式3且つ、下記数式4を満たすことを特徴とするポリイミド樹脂。
1.00≦Re(450)/Re(550)≦1.05 :数式3
(Re(λ)は、水平面を基準面とした時に、ポリイミド樹脂を用いて形成した層を、基準面に対し、層の進相軸を軸として40°傾けた配置とし、一方で波長λnmの測定光を基準面に対する垂線方向から照射して測定した、層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の面内レターデーション(nm)を表す。)
0.010≦△n≦0.060 :数式4
(ここで複屈折(△n)は、上記と同様にポリイミド層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の屈折率をnx、nyとし、この面に対して垂直方向の屈折率をnzとした場合、△n=[(nx+ny)/2]−nzで表される値である。)
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