JPWO2008001542A1 - セラミック電子部品およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
22 電子部品本体
23,24 端面
25 側面
26 誘電体セラミック層
29,30 端子電極
31 厚膜層
32 導電性樹脂層
33 めっき層
34 厚膜層の先端縁
35 フィラー非含有領域
36 めっき層の先端縁
37 導電性樹脂層の先端縁
Claims (5)
- セラミックをもって構成されかつ相対向する2つの端面とそれらを結ぶ側面とを有する電子部品本体と、
前記電子部品本体の各前記端面を覆うととともに各前記端面から前記側面の一部にまで延びるように形成される端子電極と
を備え、
前記端子電極は、
導電性金属の焼付けによる厚膜からなるものであって、前記電子部品本体の各前記端面および前記側面の一部上に形成される、厚膜層と、
熱硬化性樹脂および導電性フィラーを含むものであって、前記厚膜層を覆うとともに、前記側面上において前記厚膜層の先端縁を100μm以上の寸法をもって越えて延びるように形成され、前記側面上に位置する部分の先端部分には前記導電性フィラーが実質的に含有されない領域がある、導電性樹脂層と、
導電性金属めっき膜からなるものであって、前記導電性樹脂層の先端縁に沿って50μm以上の幅をもって延びる領域を除いて前記導電性樹脂層を覆うように形成される、めっき層と
を備える、
セラミック電子部品。 - 前記導電性樹脂層は、前記電子部品本体に対して、0.3〜10N/mm2の範囲の接合力を有する、請求項1に記載のセラミック電子部品。
- 前記導電性樹脂層に含まれる前記熱硬化性樹脂はフェノール樹脂であり、前記導電性樹脂層に含まれる前記導電性フィラーは銀コートされた銅粉末である、請求項1または2に記載のセラミック電子部品。
- セラミックをもって構成されかつ相対向する2つの端面とそれらを結ぶ側面とを有する電子部品本体を用意する工程と、
前記電子部品本体の各前記端面を覆うととともに各前記端面から前記側面の一部にまで延びるように端子電極を形成する工程と
を備え、
前記端子電極を形成する工程は、
導電性金属ペーストを前記電子部品本体の各前記端面および前記側面の一部上に塗布し、次いで前記導電性金属ペーストを焼き付けることによって、厚膜層を形成する工程と、
せん断速度0.1s−1での粘度が200Pa・s以下となるチキソトロピー性を有しかつ熱硬化性樹脂および導電性フィラーを含有する導電性樹脂ペーストを、前記厚膜層を覆うとともに、前記側面上において前記厚膜層の先端縁を100μm以上の寸法をもって越えて延びるように塗布し、乾燥し、次いで熱硬化させることによって、導電性樹脂層を形成する工程と、
前記導電性樹脂層上に電気めっきにより導電性金属めっき膜を形成することによって、めっき層を形成する工程と
を備える、
セラミック電子部品の製造方法。 - 前記導電性樹脂層を形成するための前記導電性樹脂ペーストとして、硬化後において、前記電子部品本体に対して、0.3〜10N/mm2の範囲の接合力を有するものが用いられる、請求項4に記載のセラミック電子部品の製造方法。
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