JPS63121849A - 改良されたマスキング露光方法及びそれを用いた製版方法 - Google Patents
改良されたマスキング露光方法及びそれを用いた製版方法Info
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- JPS63121849A JPS63121849A JP61267715A JP26771586A JPS63121849A JP S63121849 A JPS63121849 A JP S63121849A JP 61267715 A JP61267715 A JP 61267715A JP 26771586 A JP26771586 A JP 26771586A JP S63121849 A JPS63121849 A JP S63121849A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2012—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image using liquid photohardening compositions, e.g. for the production of reliefs such as flexographic plates or stamps
-
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- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、主として紙器、段ポールシート、フィルム等
のフレキン印刷用版材の製版に関するものであり、特に
感光性樹脂を用いたマスキング露光方法に関するもので
ある。
のフレキン印刷用版材の製版に関するものであり、特に
感光性樹脂を用いたマスキング露光方法に関するもので
ある。
[従来の技術]
紙器、フィルム、そして段ポールシートへ印刷する凸版
材としては、ゴム版や感光性樹脂版があり、印刷機の機
構」二、版厚も3〜8.5mmと厚いものが必要とされ
る。感光性樹脂版では、あらかじめ成型された製品であ
る固型板を用いて印刷版をつくる方法と液状の感光性樹
脂を成型、露光し、一定の工程を経て規定版厚の印刷版
をつくる方法とがある。特に、液状感光性樹脂の場合、
版厚の厚いものを一定の深さで細かいパターンまで再現
し、又、印刷時の印圧で倒れたり、折れたりしない様に
する為にマスキングフィルムを使用して支持体側より一
定の紫外線を当てて、光硬化させ、レリーフの土台を先
ずつくる方法が提案され(特公明54−32362)実
用化されている。この方法は上記長所の他に未硬化感光
性樹脂の回収率が高く、コストメリットも著しく大きい
ことから一般的に使用されている。
材としては、ゴム版や感光性樹脂版があり、印刷機の機
構」二、版厚も3〜8.5mmと厚いものが必要とされ
る。感光性樹脂版では、あらかじめ成型された製品であ
る固型板を用いて印刷版をつくる方法と液状の感光性樹
脂を成型、露光し、一定の工程を経て規定版厚の印刷版
をつくる方法とがある。特に、液状感光性樹脂の場合、
版厚の厚いものを一定の深さで細かいパターンまで再現
し、又、印刷時の印圧で倒れたり、折れたりしない様に
する為にマスキングフィルムを使用して支持体側より一
定の紫外線を当てて、光硬化させ、レリーフの土台を先
ずつくる方法が提案され(特公明54−32362)実
用化されている。この方法は上記長所の他に未硬化感光
性樹脂の回収率が高く、コストメリットも著しく大きい
ことから一般的に使用されている。
次に液状感光性樹脂版の製版工程の具体例のあらましを
説明する(第2図(a)〜(h)参照)。
説明する(第2図(a)〜(h)参照)。
■ ラミネート
活性光線に透明な下部硬質板1としての下ガラスの上に
画像担体2として例えばネガフィルムを置き、うすい保
護フィルムでカバーする。その上に液状感光性樹脂4を
流し、一定の版厚でスキージしながら版の支持体5とな
るポリエステルのフィルム(厚さ0.1〜0.2mm
)を貼り合せる。
画像担体2として例えばネガフィルムを置き、うすい保
護フィルムでカバーする。その上に液状感光性樹脂4を
流し、一定の版厚でスキージしながら版の支持体5とな
るポリエステルのフィルム(厚さ0.1〜0.2mm
)を貼り合せる。
■ マスキング露光
支持体5を一定厚みの液状感光性樹脂4の層の上にラミ
ネートした」二に画像よりひとまわり大きく切ったマス
キングフィルム6を正確に位置合せしながら置く。次に
支持体5側の上部光源7を備えた」二部光源ボックスを
降ろしてマスキングフィルム6の透明な部分を通して活
性光線8としての紫外線を照射して硬化させ、あらかじ
めレリーフの基礎となる土台をつくる(シェルフ部9)
。
ネートした」二に画像よりひとまわり大きく切ったマス
キングフィルム6を正確に位置合せしながら置く。次に
支持体5側の上部光源7を備えた」二部光源ボックスを
降ろしてマスキングフィルム6の透明な部分を通して活
性光線8としての紫外線を照射して硬化させ、あらかじ
めレリーフの基礎となる土台をつくる(シェルフ部9)
。
■ マスキングフィルム:透明なフィルム(通常75.
〜200p厚)の上に遮光性のうすい膜がコートされて
おり、光を通過させたい部分だけこの膜のみに切り込み
を入れて剥いで使用する。
〜200p厚)の上に遮光性のうすい膜がコートされて
おり、光を通過させたい部分だけこの膜のみに切り込み
を入れて剥いで使用する。
■ レリーフ露光
マスキング露光終了後、下部光源10より画像担体2(
ネガフィルム)の透明部(画像部)を通して画像形成の
露光を行うと、■7゛′硬めたシェルフ部9(土台)の
上に画像が形成される。
ネガフィルム)の透明部(画像部)を通して画像形成の
露光を行うと、■7゛′硬めたシェルフ部9(土台)の
上に画像が形成される。
■ バック露光
レリーフ露光が終了したら」二部光源ボックスを上昇し
て開け、マスキングフィルム6を取り出す。次に1一部
光源ボックスを降下し、」一部光源7によって短時間の
露光を行い、版の支持体5側全面に均一なうすい樹脂層
を析出させる。このバック露光により硬化析出した層を
ここではバック析出部11と呼ぶ(バック層、アンカー
層、又は、非画線部ともいう)。
て開け、マスキングフィルム6を取り出す。次に1一部
光源ボックスを降下し、」一部光源7によって短時間の
露光を行い、版の支持体5側全面に均一なうすい樹脂層
を析出させる。このバック露光により硬化析出した層を
ここではバック析出部11と呼ぶ(バック層、アンカー
層、又は、非画線部ともいう)。
■ 樹脂回収
マスキング露光、レリーフ露光、バック露光の終了した
版の未硬化樹脂12を除去回収する。
版の未硬化樹脂12を除去回収する。
■洗浄
ノズル洗浄もしくはブラシ洗浄にて洗浄液13で未硬化
樹脂を洗い出し版14を得る。
樹脂を洗い出し版14を得る。
■ 水中後露光
水中に版14全体を浸漬し、活性光線である紫外線を照
射してバック層部の完全硬化および版14全体の強度を
アップする。
射してバック層部の完全硬化および版14全体の強度を
アップする。
■ 乾 燥
熱風を版に吹きつけ、あるいは赤外線ヒーターで乾燥さ
せる。
せる。
以上が従来のマスキング露光方法による液状感光性樹脂
版の製版工程例である。
版の製版工程例である。
次に第3図に液状感光性樹脂版の版構成を示す。
第3図において、15は版表面でインキが付着するとこ
ろであり、16はレリーフ部、11はバック析出部、5
は支持体(ベースフィルム)である。そして全厚7mm
の厚手版部の標準条件として第3図に示した各構成部分
の厚さを示すと以下の通りである。
ろであり、16はレリーフ部、11はバック析出部、5
は支持体(ベースフィルム)である。そして全厚7mm
の厚手版部の標準条件として第3図に示した各構成部分
の厚さを示すと以下の通りである。
To:版の全厚 ・・・・・・7.0mmTドシェルフ
部(マスキング露光とバック露光の両方で硬化した部分
)の厚さ ・−−−・・ 4.8〜5.8mm T2:バック析出部(最後のバック露光で硬化させた部
分)の厚さ ・・・・・・1.0〜1 、5mm[発明
が解決しようとする問題点] 液状感光性樹脂版の製版で使用するマスキングフィルム
6は透明で、表裏ともに平滑なフィルム、例えばポリエ
ステルフィルム(基材の厚さが0.075mm 〜0.
125mm )のものが使われる。ところで、上記した
従来感光性樹脂板の製版方法では、版厚寸法維持の為、
液状樹脂を一定厚にスキージする際に支持体5として0
.1mm〜0.2mm厚のポリエステル材質のベースフ
ィルムを使用する。この製版方法では、このポリエステ
ルフィルムを成型機の上ガラス17に加工しであるスリ
ガラス面と。
部(マスキング露光とバック露光の両方で硬化した部分
)の厚さ ・−−−・・ 4.8〜5.8mm T2:バック析出部(最後のバック露光で硬化させた部
分)の厚さ ・・・・・・1.0〜1 、5mm[発明
が解決しようとする問題点] 液状感光性樹脂版の製版で使用するマスキングフィルム
6は透明で、表裏ともに平滑なフィルム、例えばポリエ
ステルフィルム(基材の厚さが0.075mm 〜0.
125mm )のものが使われる。ところで、上記した
従来感光性樹脂板の製版方法では、版厚寸法維持の為、
液状樹脂を一定厚にスキージする際に支持体5として0
.1mm〜0.2mm厚のポリエステル材質のベースフ
ィルムを使用する。この製版方法では、このポリエステ
ルフィルムを成型機の上ガラス17に加工しであるスリ
ガラス面と。
周囲に彫っである真空溝によって強制的に吸い上げて均
一・な平面性を保ち、凹凸の版厚ムラを生じさせない機
構となっている。
一・な平面性を保ち、凹凸の版厚ムラを生じさせない機
構となっている。
この方法で一気に上部ガラス17へ支持体5(ベースフ
ィルム)を吸引した場合、」二部ガラス17と直接接す
る面にマスキングフィルム6があり、その下に支持体5
があるが、互に平滑面であることから、場合によっては
局部的に界面密着が起こってエアー溜りが生じたまま維
持され、露光されて硬化することによって部分的な版厚
低下(版厚不良)を起こすことがあった。そこで、この
方式では上部ガラスエフへの支持体の吸い上げを間欠的
に行ったり、真空圧を徐々に上げることを組み合せて実
施してきたが、完全には防止できなかった。
ィルム)を吸引した場合、」二部ガラス17と直接接す
る面にマスキングフィルム6があり、その下に支持体5
があるが、互に平滑面であることから、場合によっては
局部的に界面密着が起こってエアー溜りが生じたまま維
持され、露光されて硬化することによって部分的な版厚
低下(版厚不良)を起こすことがあった。そこで、この
方式では上部ガラスエフへの支持体の吸い上げを間欠的
に行ったり、真空圧を徐々に上げることを組み合せて実
施してきたが、完全には防止できなかった。
[問題点を解決するための手段]
本発明者ハ、ベースフィルムとマスキングフィルムの接
する面が互いに平滑面であることから発生する局部的な
界面密着を防止する為に鋭意検討した結果、どちらかを
粗面化させたり、粗面化したものを中間物として介在さ
せ、全体的に均一な吸引をさせることにより、前記の問
題を解決できることを見い出した。
する面が互いに平滑面であることから発生する局部的な
界面密着を防止する為に鋭意検討した結果、どちらかを
粗面化させたり、粗面化したものを中間物として介在さ
せ、全体的に均一な吸引をさせることにより、前記の問
題を解決できることを見い出した。
すなわち、本発明は、A、活性光線に透明な下部硬質板
、B0画画像体、又は液状感光性樹脂側に透明な保護フ
ィルムを配して保護した画像担体、C8液状感光性樹脂
、D、支持体、E、マスキングフィルム、ざらにF、活
性光線に透明な上部硬質板の順に配置してマスキング露
光する方法に於て、 ■ マスキングフィルムと接触する面が粗面化された支
持体、 ■ 支持体に接触する面が粗面化されたマスキングフィ
ルム、 ■ 支持体とマスキングフィルムの間に両面が粗面化さ
れたプラスチックシート のいずれかを用いることを特徴とする改良されたマスキ
ング露光方法である。
、B0画画像体、又は液状感光性樹脂側に透明な保護フ
ィルムを配して保護した画像担体、C8液状感光性樹脂
、D、支持体、E、マスキングフィルム、ざらにF、活
性光線に透明な上部硬質板の順に配置してマスキング露
光する方法に於て、 ■ マスキングフィルムと接触する面が粗面化された支
持体、 ■ 支持体に接触する面が粗面化されたマスキングフィ
ルム、 ■ 支持体とマスキングフィルムの間に両面が粗面化さ
れたプラスチックシート のいずれかを用いることを特徴とする改良されたマスキ
ング露光方法である。
粗面化の方法には均一なマット化による方法(例えば、
サンドブラスト法、ケミカルエツチング法、エンポシン
グ法)とフィルム面に溝加工する方法(縦、横、斜め、
少なくとも−っの方法に凹凸の筋目を入れて溝状にする
方法)等があげられる。
サンドブラスト法、ケミカルエツチング法、エンポシン
グ法)とフィルム面に溝加工する方法(縦、横、斜め、
少なくとも−っの方法に凹凸の筋目を入れて溝状にする
方法)等があげられる。
マット化した場合の表面粒土の限界は次の通りである。
表中の()内の数字は好ましい範囲を示す。
表−1
尚、これらの材料のヘーズは60%以上、UV透過率は
50%以上のものが良い。
50%以上のものが良い。
材料の厚さは薄いと取扱い中に凹凸の折れキズを発生し
易く、ひどい場合にはそれが部分的な版厚低下を起こす
。マット化処理による表面の粗さは粗過ぎると透明性が
悪くなり、マスキングフィルムと下に置いである画像担
体(ネガフィルム)との画像位置合せが困難になる。ざ
らにUV透過率は低いと大幅に露光時間が伸びるので出
来るだけ工0 高い方が良い。これらの条件を満たした次の実施例での
製版では、版厚精度は±100分の6■以内に納められ
、全く印刷時に問題とならない印刷版の製造が可能とな
る。前述した材料をマット化することによる効果はマス
キングフィルムに溝加工する場合でも同様である。溝加
工とはマスキングフィルムの裏面、又はプラスチックシ
ートの表裏に30JL程度の傷を縦、横に約30cm間
隔でつけることを示す。
易く、ひどい場合にはそれが部分的な版厚低下を起こす
。マット化処理による表面の粗さは粗過ぎると透明性が
悪くなり、マスキングフィルムと下に置いである画像担
体(ネガフィルム)との画像位置合せが困難になる。ざ
らにUV透過率は低いと大幅に露光時間が伸びるので出
来るだけ工0 高い方が良い。これらの条件を満たした次の実施例での
製版では、版厚精度は±100分の6■以内に納められ
、全く印刷時に問題とならない印刷版の製造が可能とな
る。前述した材料をマット化することによる効果はマス
キングフィルムに溝加工する場合でも同様である。溝加
工とはマスキングフィルムの裏面、又はプラスチックシ
ートの表裏に30JL程度の傷を縦、横に約30cm間
隔でつけることを示す。
尚、本発明で用いられる液状感光性樹脂としては、レリ
ーフ形成用なら何れも用いることが可能であり、例えば
不飽和ポリエステル系、不飽和ウレタン系などがある。
ーフ形成用なら何れも用いることが可能であり、例えば
不飽和ポリエステル系、不飽和ウレタン系などがある。
又、本発明の活性光源に透明な硬質板として有機ガラス
板、無機ガラス板、その他の硬質プラスチック板、例え
ば塩化ビニル、メチルメタクリレ−) (HMA)板等
がある。−般的には無機ガラス板が使用される。
板、無機ガラス板、その他の硬質プラスチック板、例え
ば塩化ビニル、メチルメタクリレ−) (HMA)板等
がある。−般的には無機ガラス板が使用される。
[作 用]
本発明によれば、支持体、マスキングフィルム、支持体
とマスキングフィルムの間に介在させ1す るプラスチックシートに付された粗面あるいは溝から空
気が出入りするために、局部的な界面密着によるエアー
溜りが生じないようになり1版厚が均一になる。
とマスキングフィルムの間に介在させ1す るプラスチックシートに付された粗面あるいは溝から空
気が出入りするために、局部的な界面密着によるエアー
溜りが生じないようになり1版厚が均一になる。
[実施例]
次に実施例、比較例を挙げて本発明をより詳しく説明す
る。
る。
比較例1
現状のマスキングフィルムを使用した製版方法を第8図
に示した。
に示した。
■)下ガラス18の上に画像担体2としてのネガフィル
ムを置き、ネガフィルムを保護する為のうすいプラスチ
ック酸の保護フィルム3(カバーフィルム)で覆い、減
圧により下ガラス18に密着させた。
ムを置き、ネガフィルムを保護する為のうすいプラスチ
ック酸の保護フィルム3(カバーフィルム)で覆い、減
圧により下ガラス18に密着させた。
2)画像担体2の周囲四方向に保護フィルム3の上から
厚み5mm、巾約10mmのスポンジテープを貼ってス
ポンジダム19を形成し、液状樹脂が流れない様にした
。
厚み5mm、巾約10mmのスポンジテープを貼ってス
ポンジダム19を形成し、液状樹脂が流れない様にした
。
3)液状感光性樹脂4を流し、支持体5となるポリエス
テルのベースフィルムを同時にラミネートした。
テルのベースフィルムを同時にラミネートした。
4)支持体5のLに画像担体2の画像の位置を合せなが
らマスキングフィルム6を配した。
らマスキングフィルム6を配した。
5)上記光源7を備えた上部光源ボックスを降ろした。
6)上ガラス17の周囲の上ガラス真空溝20より支持
体5(ベースフィルム)を真空で」ニガラス17へ吸引
させた。
体5(ベースフィルム)を真空で」ニガラス17へ吸引
させた。
7)波状感光性樹脂4が一定量拡がって安定してからマ
スキング露光(180秒)、レリーフ露光(180秒)
、そしてマスキングフィルム6をとり去った後、バック
露光(25秒)を行った。
スキング露光(180秒)、レリーフ露光(180秒)
、そしてマスキングフィルム6をとり去った後、バック
露光(25秒)を行った。
8)その後、前述の通り、樹脂回収、洗浄水中後露光、
乾燥を行い全厚7■の段ポール印刷版を得た。この版の
厚み精度は第8図(c)に示した通りましくないもので
あった。
乾燥を行い全厚7■の段ポール印刷版を得た。この版の
厚み精度は第8図(c)に示した通りましくないもので
あった。
実施例1
〔マット化されたマスキングフィルム6aを使用する例
〕 比較例1において平滑なマスキングフィルムを用いる代
わりにマスキングフィルムの裏面(赤い遮光膜がコート
しである面の逆側)にあらかじめサンドブラストで表面
を凹凸を付して粗面化されたマスキングフィルム6aを
使用して製版した(第1図参照)。その時使用した材料
と結果は表−2の通りであり、版厚不良を起こすことも
なく版厚精度の良い印刷版が得られた。
〕 比較例1において平滑なマスキングフィルムを用いる代
わりにマスキングフィルムの裏面(赤い遮光膜がコート
しである面の逆側)にあらかじめサンドブラストで表面
を凹凸を付して粗面化されたマスキングフィルム6aを
使用して製版した(第1図参照)。その時使用した材料
と結果は表−2の通りであり、版厚不良を起こすことも
なく版厚精度の良い印刷版が得られた。
実施例2
〔マット化された支持体5a (ベースフィルム〕を
使用する例〕 比較例1において接着剤がコートしである反対側が平滑
なベースフィルムの代りに接着剤が塗布しである面とは
逆の面にマット化したものを使用して製版した(第4図
参照)。その時使用した材料と結果は表−2の通りであ
り、版厚不良を起こすこともなく版厚精度の良い印刷版
が得られた。
使用する例〕 比較例1において接着剤がコートしである反対側が平滑
なベースフィルムの代りに接着剤が塗布しである面とは
逆の面にマット化したものを使用して製版した(第4図
参照)。その時使用した材料と結果は表−2の通りであ
り、版厚不良を起こすこともなく版厚精度の良い印刷版
が得られた。
実施例3
〔マット化された中間シートを使用する例〕比較例1に
おいて支持体5(ベースフィルム)とマスキングフィル
ム6との間に表裏とも両面マット化したプラスチックフ
ィルム21を使用して製版した(第5図参照)。その時
使用した材料と結果は表−2の通りであり、版厚不良を
起こすこともなく版厚精度の良い印刷版が得られた。
おいて支持体5(ベースフィルム)とマスキングフィル
ム6との間に表裏とも両面マット化したプラスチックフ
ィルム21を使用して製版した(第5図参照)。その時
使用した材料と結果は表−2の通りであり、版厚不良を
起こすこともなく版厚精度の良い印刷版が得られた。
実施例4
〔溝加工したマスキングフィルム6b
を使用する例〕
比較例1において平滑なマスキングフィルムの裏面(赤
い遮光膜がコートしである面の逆側)にあらかじめカッ
ターナイフ等でおおよそ3cmの間隔で縦、横に筋を入
れて表面を凹凸にさせて得た溝加工したマスキングフィ
ルム6bを使用して製版した(第6図参照)。その時使
用した材料と結果は表−2め通りであり、版厚不良を起
こすこともなく版厚精度の良い印刷版が得られた。
い遮光膜がコートしである面の逆側)にあらかじめカッ
ターナイフ等でおおよそ3cmの間隔で縦、横に筋を入
れて表面を凹凸にさせて得た溝加工したマスキングフィ
ルム6bを使用して製版した(第6図参照)。その時使
用した材料と結果は表−2め通りであり、版厚不良を起
こすこともなく版厚精度の良い印刷版が得られた。
実施例5
〔溝加工した中間シートを使用する例〕比較例1におい
て支持体5(ベースフィルム)とマスキングフィルム6
との間に表裏とも両面に約3cmの間隔で深さ約30J
Lの溝をカッターナイフで溝加工したプラスチックシー
ト21aを使用して製版した。その時使用した材料と結
果は表−2の通りであり、版厚不良を起こすこともなく
版厚精度の良い印刷版が得られた。
て支持体5(ベースフィルム)とマスキングフィルム6
との間に表裏とも両面に約3cmの間隔で深さ約30J
Lの溝をカッターナイフで溝加工したプラスチックシー
ト21aを使用して製版した。その時使用した材料と結
果は表−2の通りであり、版厚不良を起こすこともなく
版厚精度の良い印刷版が得られた。
[発明の効果]
本発明のマスキング露光によれば、繁雑な工程を経ない
でも部分的な版厚低下(版厚不良)を起こすことなく製
版することができる。
でも部分的な版厚低下(版厚不良)を起こすことなく製
版することができる。
第1図は本発明に係る改良されたマスキング露光方法を
説明するための説明図で、第1図(a)は配置を示すた
めの説明図、第1図(b)は粗面化されたマスキングフ
ィルムを示す概略断面図、第1図(C)は第1図(a)
の配置で露光して得られる版を示す概略断面図である。 第2図は従来性なわれていた液状感光性樹脂版の製版工
程の具体例のあらましを説明するための工程説明図で、
第2図(a)はラミネート工程を示し、第2図(b)は
マスキング露光工程を示し、第2図(c)はレリーフ露
光工程を示し、第2図(d)はパック露光工程を示し、
第2図(e)は樹脂回収工程を示し、第2図(f)は洗
浄工程を示し、第2図(g)は水中後露光工程を示し、
第2図(h)は乾燥工程を示す。 第3図は版の構造を示す概略断面図、第4図〜第7図は
本発明の実施例における配置を示す説明図、第8図は従
来のマスキング露光方法を説明するための説明図で、第
8図(a)は配置を説明するための説明図、第8図(b
)は従来の平滑なマスキングフィルムを示す概略断面図
、第8図(c)は第8図(a)の配置で露光して得られ
る版を示す概略断面図である。 1・・・活性光線に透明な下部硬質板、2・・・画像担
体、3・・・保護フィルム、4・・・液状感光性樹脂、
5・・・支持体、6・・・マスキングフィルム、 6a・・・粗面化されたマスキングフィルム、6b・・
・溝加工したマスキングフィルム、7・・・上部光源、
8・・・活性光線、9・・・シェルフ部、10・・・下
部光源、11・・・バック析出部、12・・・未硬化樹
脂、13・・・洗浄液、14・・・版、15・・・版表
面、16・・・レリーフ部、17・・・」ニガラス、1
8・・・下ガラス、I9・・・スポンジダム、20・・
・」−ガラス真空溝、 21・・・両面粗面化されたプラスチックシート、2+
a・・・両面に溝加工したプラスチックシート、22・
・・硬化部、23・・・未硬化部、24・・・水、25
・・・光源、26・・・エアー溜り、27・・・コート
された遮光膜、 28・・・異常版厚低下部、29・・・粗面、30・・
・乾燥雰囲気。
説明するための説明図で、第1図(a)は配置を示すた
めの説明図、第1図(b)は粗面化されたマスキングフ
ィルムを示す概略断面図、第1図(C)は第1図(a)
の配置で露光して得られる版を示す概略断面図である。 第2図は従来性なわれていた液状感光性樹脂版の製版工
程の具体例のあらましを説明するための工程説明図で、
第2図(a)はラミネート工程を示し、第2図(b)は
マスキング露光工程を示し、第2図(c)はレリーフ露
光工程を示し、第2図(d)はパック露光工程を示し、
第2図(e)は樹脂回収工程を示し、第2図(f)は洗
浄工程を示し、第2図(g)は水中後露光工程を示し、
第2図(h)は乾燥工程を示す。 第3図は版の構造を示す概略断面図、第4図〜第7図は
本発明の実施例における配置を示す説明図、第8図は従
来のマスキング露光方法を説明するための説明図で、第
8図(a)は配置を説明するための説明図、第8図(b
)は従来の平滑なマスキングフィルムを示す概略断面図
、第8図(c)は第8図(a)の配置で露光して得られ
る版を示す概略断面図である。 1・・・活性光線に透明な下部硬質板、2・・・画像担
体、3・・・保護フィルム、4・・・液状感光性樹脂、
5・・・支持体、6・・・マスキングフィルム、 6a・・・粗面化されたマスキングフィルム、6b・・
・溝加工したマスキングフィルム、7・・・上部光源、
8・・・活性光線、9・・・シェルフ部、10・・・下
部光源、11・・・バック析出部、12・・・未硬化樹
脂、13・・・洗浄液、14・・・版、15・・・版表
面、16・・・レリーフ部、17・・・」ニガラス、1
8・・・下ガラス、I9・・・スポンジダム、20・・
・」−ガラス真空溝、 21・・・両面粗面化されたプラスチックシート、2+
a・・・両面に溝加工したプラスチックシート、22・
・・硬化部、23・・・未硬化部、24・・・水、25
・・・光源、26・・・エアー溜り、27・・・コート
された遮光膜、 28・・・異常版厚低下部、29・・・粗面、30・・
・乾燥雰囲気。
Claims (1)
- (1)A、活性光線に透明な下部硬質板、B、画像担体
、又は液状感光性樹脂側に透明な保護フィルムを配して
保護した画像担体、C、液状感光性樹脂、D、支持体、
E、マスキングフィルム、さらにF、活性光線に透明な
上部硬質板の順に配置してマスキング露光する方法に於
て、 [1]マスキングフィルムと接触する面が粗面化された
支持体、 [2]支持体に接触する面が粗面化されたマスキングフ
ィルム、 [3]支持体とマスキングフィルムの間に両面が粗面化
されたプラスチックシート のいずれかを用いることを特徴とする改良されたマスキ
ング露光方法。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61267715A JP2515521B2 (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | 改良されたマスキング露光方法及びそれを用いた製版方法 |
AU81112/87A AU599164B2 (en) | 1986-11-12 | 1987-11-11 | An improved method for selectively curing a liquid photosensitive resin by masking exposure |
DE3751023T DE3751023D1 (de) | 1986-11-12 | 1987-11-11 | Verfahren zur selektiven Härtung von flüssigen, lichtempfindlichen Kunststoffen durch Belichtung mittels einer Maske. |
ZA878480A ZA878480B (en) | 1986-11-12 | 1987-11-11 | A method for selectively curing a liquid photosensitive resin by masking exposure |
EP87116668A EP0267600B1 (en) | 1986-11-12 | 1987-11-11 | Method for selectively curing a liquid photosensitive resin by masking exposure |
ES87116668T ES2066757T3 (es) | 1986-11-12 | 1987-11-11 | Metodo mejorado para el curado selectivo de una resina fotosensible liquida a traves de exposicion mediante plantilla. |
NO874706A NO174880C (no) | 1986-11-12 | 1987-11-11 | Fremgangsmåte ved selektiv herding av flytende lysfölsom harpiks |
US07/764,959 US5213949A (en) | 1986-11-12 | 1991-09-25 | Method for selectively curing a liquid photosensitive resin by masking exposure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61267715A JP2515521B2 (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | 改良されたマスキング露光方法及びそれを用いた製版方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63121849A true JPS63121849A (ja) | 1988-05-25 |
JP2515521B2 JP2515521B2 (ja) | 1996-07-10 |
Family
ID=17448546
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61267715A Expired - Lifetime JP2515521B2 (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | 改良されたマスキング露光方法及びそれを用いた製版方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0267600B1 (ja) |
JP (1) | JP2515521B2 (ja) |
AU (1) | AU599164B2 (ja) |
DE (1) | DE3751023D1 (ja) |
ES (1) | ES2066757T3 (ja) |
NO (1) | NO174880C (ja) |
ZA (1) | ZA878480B (ja) |
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JP2009162617A (ja) * | 2008-01-07 | 2009-07-23 | Shimadzu Corp | 反応容器 |
CN102239448A (zh) * | 2008-12-08 | 2011-11-09 | 麦克德米德印刷方案股份有限公司 | 用于制造液态柔版印刷元件的方法和设备 |
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JP2016126240A (ja) * | 2015-01-07 | 2016-07-11 | 住友ゴム工業株式会社 | 印刷用樹脂原版の製造方法およびフレキソ印刷版 |
JP2018536193A (ja) * | 2015-11-09 | 2018-12-06 | マクダーミッド グラフィックス ソリューションズ エルエルシー | 液体フレキソ印刷版を作製する方法及び装置 |
JP2020517982A (ja) * | 2017-04-11 | 2020-06-18 | マクダーミッド グラフィックス ソリューションズ エルエルシー | 液体光重合性樹脂からレリーフ画像を製作する方法 |
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CN106094428A (zh) * | 2016-08-22 | 2016-11-09 | 昆山良品丝印器材有限公司 | 精密网版晒板夹具 |
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IT8121966V0 (it) * | 1981-06-03 | 1981-06-03 | Repro Master Electonic Srl | Perfezionamento nelle macchine grafiche del tipo foto-lito, repro, serigrafico, bromografico. |
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-
1986
- 1986-11-12 JP JP61267715A patent/JP2515521B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-11-11 ZA ZA878480A patent/ZA878480B/xx unknown
- 1987-11-11 DE DE3751023T patent/DE3751023D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-11-11 ES ES87116668T patent/ES2066757T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1987-11-11 EP EP87116668A patent/EP0267600B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-11-11 NO NO874706A patent/NO174880C/no unknown
- 1987-11-11 AU AU81112/87A patent/AU599164B2/en not_active Ceased
Patent Citations (5)
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---|---|
JP2515521B2 (ja) | 1996-07-10 |
ES2066757T3 (es) | 1995-03-16 |
EP0267600A2 (en) | 1988-05-18 |
NO174880C (no) | 1994-08-10 |
AU8111287A (en) | 1988-05-19 |
EP0267600A3 (en) | 1990-04-04 |
AU599164B2 (en) | 1990-07-12 |
NO874706D0 (no) | 1987-11-11 |
DE3751023D1 (de) | 1995-03-09 |
NO874706L (no) | 1988-05-13 |
EP0267600B1 (en) | 1995-01-25 |
ZA878480B (en) | 1988-05-09 |
NO174880B (no) | 1994-04-18 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |