JP2515521B2 - 改良されたマスキング露光方法及びそれを用いた製版方法 - Google Patents
改良されたマスキング露光方法及びそれを用いた製版方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、主として紙器、段ボールシート、フィルム
等のフレキソ印刷用版材の製版に関するものであり、特
に感光性樹脂を用いたマスキング露光方法に関するもの
である。
等のフレキソ印刷用版材の製版に関するものであり、特
に感光性樹脂を用いたマスキング露光方法に関するもの
である。
［従来の技術］ 紙器、フィルム、そして段ボールシートへ印刷する凸
版材としては、ゴム版や感光性樹脂版があり、印刷機の
機構上、版厚も３〜8.5mmと厚いものが必要とされる。
感光性樹脂版では、あらかじめ成型された製品である固
型版を用いて印刷版をつくる方法と液状の感光性樹脂を
成型、露光し、一定の工程を経て規定版厚の印刷版をつ
くる方法とがある。特に、液状感光性樹脂の場合、版厚
の厚いものを一定の深さで細かいパターンまで再現し、
又、印刷時の印圧で倒れたり、折れたりしない様にする
為にマスキングフィルムを使用して支持体側より一定の
紫外線を当てて、光硬化させ、レリーフの土台を先ずつ
くる方法が提案され（特公昭54−32362）実用化されて
いる。この方法は上記長所の他に未硬化感光性樹脂の回
収率が高く、コストメリットも著しく大きいことから一
般的に使用されている。
版材としては、ゴム版や感光性樹脂版があり、印刷機の
機構上、版厚も３〜8.5mmと厚いものが必要とされる。
感光性樹脂版では、あらかじめ成型された製品である固
型版を用いて印刷版をつくる方法と液状の感光性樹脂を
成型、露光し、一定の工程を経て規定版厚の印刷版をつ
くる方法とがある。特に、液状感光性樹脂の場合、版厚
の厚いものを一定の深さで細かいパターンまで再現し、
又、印刷時の印圧で倒れたり、折れたりしない様にする
為にマスキングフィルムを使用して支持体側より一定の
紫外線を当てて、光硬化させ、レリーフの土台を先ずつ
くる方法が提案され（特公昭54−32362）実用化されて
いる。この方法は上記長所の他に未硬化感光性樹脂の回
収率が高く、コストメリットも著しく大きいことから一
般的に使用されている。
次に液状感光性樹脂版の製版工程の具体例のあらまし
を説明する（第２図（ａ）〜（ｈ）参照）。
を説明する（第２図（ａ）〜（ｈ）参照）。
〔製版工程〕 ラミネート 活性光線に透明な下部硬質板１としての下ガラスの上
に画像担体２として例えばネガフィルムを置き、うすい
保護フィルム３でカバーする。その上に液状感光性樹脂
４を流し、一定の版厚でスキージしながら版の支持体５
となるポリエステルのフィルム（厚さ0.1〜0.2mm）を貼
り合せる。
に画像担体２として例えばネガフィルムを置き、うすい
保護フィルム３でカバーする。その上に液状感光性樹脂
４を流し、一定の版厚でスキージしながら版の支持体５
となるポリエステルのフィルム（厚さ0.1〜0.2mm）を貼
り合せる。
マスキング露光 支持体５を一定厚みの液状感光性樹脂４の層の上にラ
ミネートした上に画像よりひとまわり大きく切ったマス
キングフィルム６を正確に位置合せしながら置く。次に
支持体５側の上部光源７を備えた上部光源ボックスを降
ろしてマスキングフィルム６の透明な部分を通して活性
光線８としての紫外線を照射して硬化させ、あらかじめ
レリーフの基礎となる土台をつくる（シェルフ部９）。
尚、第２図（ｂ）において22は硬化部、23は未硬化部で
ある。
ミネートした上に画像よりひとまわり大きく切ったマス
キングフィルム６を正確に位置合せしながら置く。次に
支持体５側の上部光源７を備えた上部光源ボックスを降
ろしてマスキングフィルム６の透明な部分を通して活性
光線８としての紫外線を照射して硬化させ、あらかじめ
レリーフの基礎となる土台をつくる（シェルフ部９）。
尚、第２図（ｂ）において22は硬化部、23は未硬化部で
ある。
（注） マスキングフィルム：透明なフィルム（通常75
μ〜200μ厚）の上に遮光性のうすい膜がコートされて
おり、光を通過させたい部分だけこの膜のみに切り込み
を入れて剥いで使用する。
μ〜200μ厚）の上に遮光性のうすい膜がコートされて
おり、光を通過させたい部分だけこの膜のみに切り込み
を入れて剥いで使用する。
レリーフ露光 マスキング露光終了後、下部光源10より画像担体２
（ネガフィルム）の透明部（画像部）を通して画像形成
の露光を行うと、で硬めたシェルフ部９（土台）の上
に画像が形成される。
（ネガフィルム）の透明部（画像部）を通して画像形成
の露光を行うと、で硬めたシェルフ部９（土台）の上
に画像が形成される。
バック露光 レリーフ露光が終了したら上部光源ボックスを上昇し
て開け、マスキングフィルム６を取り出す。次に上部光
源ボックスを降下し、上部光源７によって短時間の露光
を行い、版の支持体５側全面に均一なうすい樹脂層を析
出させる。このバック露光により硬化析出した層をここ
ではバック析出部11と呼ぶ（バック層、アンカー層、又
は、非画線部ともいう）。
て開け、マスキングフィルム６を取り出す。次に上部光
源ボックスを降下し、上部光源７によって短時間の露光
を行い、版の支持体５側全面に均一なうすい樹脂層を析
出させる。このバック露光により硬化析出した層をここ
ではバック析出部11と呼ぶ（バック層、アンカー層、又
は、非画線部ともいう）。
樹脂回収 マスキング露光、レリーフ露光、バック露光の終了し
た版の未硬化樹脂12を除去回収する。
た版の未硬化樹脂12を除去回収する。
洗 浄 ノズル洗浄もしくはブラシ洗浄にて洗浄液13で未硬化
樹脂を洗い出し版14を得る。
樹脂を洗い出し版14を得る。
水中後露光 水中に版14全体を浸漬し、活性光線である紫外線を照
射してバック層部の完全硬化および版14全体の強度をア
ップする。
射してバック層部の完全硬化および版14全体の強度をア
ップする。
乾 燥 熱風を版に吹きつけ、あるいは赤外線ヒーターで乾燥
させる。
させる。
以上が従来のマスキング露光方法による液状感光性樹
脂版の製版工程例である。
脂版の製版工程例である。
次に第３図に液状感光性樹脂版の版構成を示す。
第３図において、15は版表面でインキが付着するとこ
ろであり、16はレリーフ部、11はバック析出部、５は支
持体（ベースフィルム）である。そして全厚7mmの厚手
版時の標準条件として第３図に示した各構成部分の厚さ
を示すと以下の通りである。
ろであり、16はレリーフ部、11はバック析出部、５は支
持体（ベースフィルム）である。そして全厚7mmの厚手
版時の標準条件として第３図に示した各構成部分の厚さ
を示すと以下の通りである。
T0:版の全厚……7.0mm T1:シェルフ部（マスキング露光とバック露光の両方で
硬化した部分）の厚さ……4.8〜5.8mm T2:バック析出部（最後のバック露光で硬化させた部
分）の厚さ……1.0〜1.5mm ［発明が解決しようとする問題点］ 液状感光性樹脂版の製版で使用するマスキングフィル
ム６は透明で、表裏ともに平滑なフィルム、例えばポリ
エステルフィルム（基材の厚さが0.075mm〜0.125mm）の
ものが使われる。ところで、上記した従来感光性樹脂版
の製版方法では、版厚寸法維持の為、液状樹脂を一定厚
にスキージする際に支持体５として0.1mm〜0.2mm厚のポ
リエステル材質のベースフィルムを使用する。この製版
方法では、このポリエステルフィルムを成型機の上ガラ
ス17に加工してあるスリガラス面と、周囲に彫ってある
真空溝によって強制的に吸い上げて均一な平面性を保
ち、凹凸の版厚ムラを生じさせない機構となっている。
硬化した部分）の厚さ……4.8〜5.8mm T2:バック析出部（最後のバック露光で硬化させた部
分）の厚さ……1.0〜1.5mm ［発明が解決しようとする問題点］ 液状感光性樹脂版の製版で使用するマスキングフィル
ム６は透明で、表裏ともに平滑なフィルム、例えばポリ
エステルフィルム（基材の厚さが0.075mm〜0.125mm）の
ものが使われる。ところで、上記した従来感光性樹脂版
の製版方法では、版厚寸法維持の為、液状樹脂を一定厚
にスキージする際に支持体５として0.1mm〜0.2mm厚のポ
リエステル材質のベースフィルムを使用する。この製版
方法では、このポリエステルフィルムを成型機の上ガラ
ス17に加工してあるスリガラス面と、周囲に彫ってある
真空溝によって強制的に吸い上げて均一な平面性を保
ち、凹凸の版厚ムラを生じさせない機構となっている。
この方法で一気に上部ガラス17へ支持体５（ベースフ
ィルム）を吸引した場合、上部ガラス17と直接接する面
にマスキングフィルム６があり、その下に支持体５があ
るが、互に平滑面であることから、場合によっては局部
的に界面密着が起こってエアー溜りが生じたまま維持さ
れ、露光されて硬化することによって部分的な版厚低下
（版厚不良）を起こすことがあった。そこで、この方式
では上部ガラス17への支持体の吸い上げを間欠的に行っ
たり、真空圧を徐々に上げることを組み合せて実施して
きたが、完全には防止できなかった。
ィルム）を吸引した場合、上部ガラス17と直接接する面
にマスキングフィルム６があり、その下に支持体５があ
るが、互に平滑面であることから、場合によっては局部
的に界面密着が起こってエアー溜りが生じたまま維持さ
れ、露光されて硬化することによって部分的な版厚低下
（版厚不良）を起こすことがあった。そこで、この方式
では上部ガラス17への支持体の吸い上げを間欠的に行っ
たり、真空圧を徐々に上げることを組み合せて実施して
きたが、完全には防止できなかった。
［問題点を解決するための手段］ 本発明者は、ベースフィルムとマスキングフィルムの
接する面が互いに平滑面であることから発生する局部的
な界面密着を防止する為に鋭意検討した結果、どちらか
を一定範囲の表面粗度に粗面化させたり、一定範囲の表
面粗度に粗面化したものを中間物として介在させ、全体
的に均一な吸引をさせることにより、前記の問題を解決
できることを見い出した。
接する面が互いに平滑面であることから発生する局部的
な界面密着を防止する為に鋭意検討した結果、どちらか
を一定範囲の表面粗度に粗面化させたり、一定範囲の表
面粗度に粗面化したものを中間物として介在させ、全体
的に均一な吸引をさせることにより、前記の問題を解決
できることを見い出した。
すなわち、本発明は、A.活性光線に透明な下部硬質
板、B.画像担体、又は液体感光性樹脂側に透明な保護フ
ィルムを配して保護した画像担体、C.液状感光性樹脂、
D.支持体、E.マスキングフィルム、さらにF.活性光線に
透明な上部硬質板の順に配置してマスキング露光する方
法に於て、 マスキングフィルムと接触する面が表面粗度0.3〜
2.0μに粗面化された支持体、 支持体に接触する面が表面粗度0.3〜2.0μに粗面化
されたマスキングフィルム、 支持体とマスキングフィルムの間に両面が表面粗度
0.3〜2.0μに粗面化されたプラスチックシート のいずれかを用いることを特徴とする改良されたマスキ
ング露光方法である。
板、B.画像担体、又は液体感光性樹脂側に透明な保護フ
ィルムを配して保護した画像担体、C.液状感光性樹脂、
D.支持体、E.マスキングフィルム、さらにF.活性光線に
透明な上部硬質板の順に配置してマスキング露光する方
法に於て、 マスキングフィルムと接触する面が表面粗度0.3〜
2.0μに粗面化された支持体、 支持体に接触する面が表面粗度0.3〜2.0μに粗面化
されたマスキングフィルム、 支持体とマスキングフィルムの間に両面が表面粗度
0.3〜2.0μに粗面化されたプラスチックシート のいずれかを用いることを特徴とする改良されたマスキ
ング露光方法である。
また本発明は、ラミネート工程、マスキング露光工
程、レリーフ露光工程、樹脂回収工程、洗浄工程、水中
後露光工程及び乾燥工程からなる、支持体上に設けられ
た感光性樹脂のシェルフ部分に印刷レリーフ画像を有す
るフレキソ印刷用版材の製版方法において、A.活性光線
に透明な下部硬質板、B.画像担体、又は液体感光性樹脂
側に透明な保護フィルムを配して保護した画像担体、C.
液状感光性樹脂、D.支持体、E.マスキングフィルム、さ
らにF.活性光線に透明な上部硬質板の順に配置し、 マスキングフィルムと接触する面が粗面化された支
持体、 支持体に接触する面が粗面化されたマスキングフィ
ルム、 支持体とマスキングフィルムの間に両面が粗面化さ
れたプラスチックシート のいずれかを用いマスキング露光を行なうことを特徴と
するフレキソ印刷用版材の製版方法である。
程、レリーフ露光工程、樹脂回収工程、洗浄工程、水中
後露光工程及び乾燥工程からなる、支持体上に設けられ
た感光性樹脂のシェルフ部分に印刷レリーフ画像を有す
るフレキソ印刷用版材の製版方法において、A.活性光線
に透明な下部硬質板、B.画像担体、又は液体感光性樹脂
側に透明な保護フィルムを配して保護した画像担体、C.
液状感光性樹脂、D.支持体、E.マスキングフィルム、さ
らにF.活性光線に透明な上部硬質板の順に配置し、 マスキングフィルムと接触する面が粗面化された支
持体、 支持体に接触する面が粗面化されたマスキングフィ
ルム、 支持体とマスキングフィルムの間に両面が粗面化さ
れたプラスチックシート のいずれかを用いマスキング露光を行なうことを特徴と
するフレキソ印刷用版材の製版方法である。
粗面化の方法には均一なマット化による方法（例え
ば、サンドブラスト法、ケミカルエッチング法、エンボ
シング法）等があげられる。
ば、サンドブラスト法、ケミカルエッチング法、エンボ
シング法）等があげられる。
マット化した場合の表面粗度の限界は次の通りであ
る。表中の（ ）内の数字は好ましい範囲を示す。
る。表中の（ ）内の数字は好ましい範囲を示す。
尚、これらの材料のヘーズは60％以上、UV透過率は50
％以上のものが良い。
％以上のものが良い。
材料の厚さは薄いと取扱い中に凹凸の折れキズを発生
し易く、ひどい場合にはそれが部分的な版厚低下を起こ
す。マット化処理による表面の粗さは粗過ぎると透明性
が悪くなり、マスキングフィルムと下に置いてある画像
担体（ネガフィルム）との画像位置合せが困難になる。
さらにUV透過率は低いと大幅に露光時間が伸びるので出
来るだけ高い方が良い。これらの条件を満たした次の実
施例での製版では、版厚精度は±100分の6mm以内に納め
られ、全く印刷時に問題とならない印刷版の製造が可能
となる。
し易く、ひどい場合にはそれが部分的な版厚低下を起こ
す。マット化処理による表面の粗さは粗過ぎると透明性
が悪くなり、マスキングフィルムと下に置いてある画像
担体（ネガフィルム）との画像位置合せが困難になる。
さらにUV透過率は低いと大幅に露光時間が伸びるので出
来るだけ高い方が良い。これらの条件を満たした次の実
施例での製版では、版厚精度は±100分の6mm以内に納め
られ、全く印刷時に問題とならない印刷版の製造が可能
となる。
尚、本発明で用いられる液状感光性樹脂としては、レ
リーフ形成用なら何れも用いることが可能であり、例え
ば不飽和ポリエステル系、不飽和ウレタン系などがあ
る。又、本発明の活性光源に透明な硬質板として有機ガ
ラス板、無機ガラス板、その他の硬質プラスチック板、
例えば塩化ビニル、メチルメタクリレート（MMA）板等
がある。一般的には無機ガラス板が使用される。
リーフ形成用なら何れも用いることが可能であり、例え
ば不飽和ポリエステル系、不飽和ウレタン系などがあ
る。又、本発明の活性光源に透明な硬質板として有機ガ
ラス板、無機ガラス板、その他の硬質プラスチック板、
例えば塩化ビニル、メチルメタクリレート（MMA）板等
がある。一般的には無機ガラス板が使用される。
［作 用］ 本発明によれば、支持体、マスキングフィルム、支持
体とマスキングフィルムの間に介在させるプラスチック
シートに付された一定範囲の表面粗度の粗面から空気が
出入するために、局部的な界面密着によるエアー溜りが
生じないようになり、版厚が均一になる。
体とマスキングフィルムの間に介在させるプラスチック
シートに付された一定範囲の表面粗度の粗面から空気が
出入するために、局部的な界面密着によるエアー溜りが
生じないようになり、版厚が均一になる。
［実施例］ 次に実施例、比較例を挙げて本発明をより詳しく説明
する。
する。
比較例１ 現状のマスキングフィルムを使用した製版方法を第６
図に示した。
図に示した。
１）下ガラス18の上に画像担体２としてのネガフィルム
を置き、ネガフィルムを保護する為のうすいプラスチッ
ク製の保護フィルム３（カバーフィルム）で覆い、減圧
により下ガラス18に密着させた。
を置き、ネガフィルムを保護する為のうすいプラスチッ
ク製の保護フィルム３（カバーフィルム）で覆い、減圧
により下ガラス18に密着させた。
２）画像担体２の周囲四方向に保護フィルム３の上から
厚み5mm,巾約10mmのスポンジテープを貼ってスポンジダ
ム19を形成し、液状樹脂が流れない様にした。
厚み5mm,巾約10mmのスポンジテープを貼ってスポンジダ
ム19を形成し、液状樹脂が流れない様にした。
３）液状感光性樹脂４を流し、支持体５となるポリエス
テルのベースフィルムを同時にラミネートした。
テルのベースフィルムを同時にラミネートした。
４）支持体５の上に画像担体２の画像の位置を合せなが
らマスキングフィルム６を配した。
らマスキングフィルム６を配した。
５）上記光源７を備えた上部光源ボックスを降ろした。
６）上ガラス17の周囲の上ガラス真空溝20より支持体５
（ベースフィルム）を真空で上ガラス17へ吸引させた。
（ベースフィルム）を真空で上ガラス17へ吸引させた。
７）液状感光性樹脂４が一定量拡がって安定してからマ
スキング露光（180秒）、レリーフ露光（180秒）、そし
てマスキングフィルム６をとり去った後、バック露光
（25秒）を行った。
スキング露光（180秒）、レリーフ露光（180秒）、そし
てマスキングフィルム６をとり去った後、バック露光
（25秒）を行った。
８）その後、前述の通り、樹脂回収、洗浄水中後露光、
乾燥を行い全厚7mmの段ボール印刷版を得た。この版の
厚み精度は第８図（ｃ）に示した通り±25/100mmのヘコ
ミが発生しており印刷版として好ましくないものであっ
た。
乾燥を行い全厚7mmの段ボール印刷版を得た。この版の
厚み精度は第８図（ｃ）に示した通り±25/100mmのヘコ
ミが発生しており印刷版として好ましくないものであっ
た。
実施例１ 〔マット化されたマスキングフィルム6aを使用する例〕 比較例１において平滑なマスキングフィルムを用いる
代わりにマスキングフィルムの裏面（赤い遮光膜がコー
トしてある面の逆側）にあらかじめサンドブラストで表
面を凹凸を付して粗面化されたマスキングフィルム6aを
使用して製版した（第１図（ａ）、（ｂ）参照）。その
時使用した材料と結果は表−２の通りであり、版厚不良
を起こすこともなく版厚精度の良い印刷版が得られた
（第１図（ｃ）参照）。
代わりにマスキングフィルムの裏面（赤い遮光膜がコー
トしてある面の逆側）にあらかじめサンドブラストで表
面を凹凸を付して粗面化されたマスキングフィルム6aを
使用して製版した（第１図（ａ）、（ｂ）参照）。その
時使用した材料と結果は表−２の通りであり、版厚不良
を起こすこともなく版厚精度の良い印刷版が得られた
（第１図（ｃ）参照）。
実施例２ 〔マット化された支持体5a（ベースフィルム）を使用す
る例〕 比較例１において平滑なベースフィルムの代りにマス
キングフィルム側となる面にマット化したものを使用し
て製版した（第４図参照）。その時使用した材料と結果
は表−２の通りであり、版厚不良を起こすこともなく版
厚精度の良い印刷版が得られた。
る例〕 比較例１において平滑なベースフィルムの代りにマス
キングフィルム側となる面にマット化したものを使用し
て製版した（第４図参照）。その時使用した材料と結果
は表−２の通りであり、版厚不良を起こすこともなく版
厚精度の良い印刷版が得られた。
実施例３ 〔マット化された中間シートを使用する例〕 比較例１において支持体５（ベースフィルム）とマス
キングフィルム６との間に表裏とも両面マット化したプ
ラスチックフィルム21を使用して製版した（第５図参
照）。その時使用した材料と結果は表−２の通りであ
り、版厚不良を起こすこともなく版厚精度の良い印刷版
が得られた。
キングフィルム６との間に表裏とも両面マット化したプ
ラスチックフィルム21を使用して製版した（第５図参
照）。その時使用した材料と結果は表−２の通りであ
り、版厚不良を起こすこともなく版厚精度の良い印刷版
が得られた。
実施例４及び５及び比較例２及び３ 〔マット化されたマスキングフィルム6aを使用する例〕 比較例１において平滑なベースフィルムの代りにマス
キングフィルム側となる面を異なる表面粗度にマット化
したものを使用して製版した（第４図参照）。その時使
用した材料、表面粗度及び結果は表−２の通りである。
キングフィルム側となる面を異なる表面粗度にマット化
したものを使用して製版した（第４図参照）。その時使
用した材料、表面粗度及び結果は表−２の通りである。
［発明の効果］ 本発明のマスキング露光によれば、繁雑な工程を経な
いでも部分的な版厚低下（版厚不良）を起こすことなく
製版することができる。
いでも部分的な版厚低下（版厚不良）を起こすことなく
製版することができる。
第１図は本発明に係る改良されたマスキング露光方法を
説明するための説明図で、第１図（ａ）は配置を示すた
めの説明図、第１図（ｂ）は粗面化されたマスキングフ
ィルムを示す概略断面図、第１図（ｃ）は第１図（ａ）
の配置で露光して得られる版を示す概略断面図である。 第２図は従来行なわれていた液状感光性樹脂版の製版工
程の具体例のあらましを説明するための工程説明図で、
第２図（ａ）はラミネート工程を示し、第２図（ｂ）は
マスキング露光工程を示し、第２図（ｃ）はレリーフ露
光工程を示し、第２図（ｄ）はバック露光工程を示し、
第２図（ｅ）は樹脂回収工程を示し、第２図（ｆ）は洗
浄工程を示し、第２図（ｇ）は水中後露光工程を示し、
第２図（ｈ）は乾燥工程を示す。 第３図は版の構造を示す概略断面図、第４図〜第５図は
本発明の実施例における配置を示す説明図、第６図は従
来のマスキング露光方法を説明するための説明図で、第
６図（ａ）は配置を説明するための説明図、第６図
（ｂ）は従来の平滑なマスキングフィルムを示す概略断
面図、第６図（ｃ）は第６図（ａ）の配置で露光して得
られる版を示す概略断面図である。 １……活性光線に透明な下部硬質板、 ２……画像担体、３……保護フィルム、 ４……液状感光性樹脂、５……支持体、 ６……マスキングフィルム、 6a……粗面化されたマスキングフィルム、 ７……上部光源、８……活性光線、 ９……シェルフ部、10……下部光源、 11……バック析出部、12……未硬化樹脂、 13……洗浄液、14……版、15……版表面、 16……レリーフ部、17……上ガラス、 18……下ガラス、19……スポンジダム、 20……上ガラス真空溝、 21……両面粗面化されたプラスチックシート、 22……硬化部、23……未硬化部、24……水、 25……光源、26……エアー溜り、 27……コートされた遮光膜、 28……異常版厚低下部、29……粗面、 30……乾燥雰囲気。
説明するための説明図で、第１図（ａ）は配置を示すた
めの説明図、第１図（ｂ）は粗面化されたマスキングフ
ィルムを示す概略断面図、第１図（ｃ）は第１図（ａ）
の配置で露光して得られる版を示す概略断面図である。 第２図は従来行なわれていた液状感光性樹脂版の製版工
程の具体例のあらましを説明するための工程説明図で、
第２図（ａ）はラミネート工程を示し、第２図（ｂ）は
マスキング露光工程を示し、第２図（ｃ）はレリーフ露
光工程を示し、第２図（ｄ）はバック露光工程を示し、
第２図（ｅ）は樹脂回収工程を示し、第２図（ｆ）は洗
浄工程を示し、第２図（ｇ）は水中後露光工程を示し、
第２図（ｈ）は乾燥工程を示す。 第３図は版の構造を示す概略断面図、第４図〜第５図は
本発明の実施例における配置を示す説明図、第６図は従
来のマスキング露光方法を説明するための説明図で、第
６図（ａ）は配置を説明するための説明図、第６図
（ｂ）は従来の平滑なマスキングフィルムを示す概略断
面図、第６図（ｃ）は第６図（ａ）の配置で露光して得
られる版を示す概略断面図である。 １……活性光線に透明な下部硬質板、 ２……画像担体、３……保護フィルム、 ４……液状感光性樹脂、５……支持体、 ６……マスキングフィルム、 6a……粗面化されたマスキングフィルム、 ７……上部光源、８……活性光線、 ９……シェルフ部、10……下部光源、 11……バック析出部、12……未硬化樹脂、 13……洗浄液、14……版、15……版表面、 16……レリーフ部、17……上ガラス、 18……下ガラス、19……スポンジダム、 20……上ガラス真空溝、 21……両面粗面化されたプラスチックシート、 22……硬化部、23……未硬化部、24……水、 25……光源、26……エアー溜り、 27……コートされた遮光膜、 28……異常版厚低下部、29……粗面、 30……乾燥雰囲気。
Claims (1)
- 【請求項１】A.活性光線に透明な下部硬質板、B.画像担
体、又は液状感光性樹脂側に透明な保護フィルムを配し
て保護した画像担体、C.液状感光性樹脂、D.支持体、E.
活性光線に透明な上部硬質板の順に配置してマスキング
露光する方法に於て、 マスキングフィルムと接触する面が表面粗度0.3〜
2.0μに粗面化された支持体、 支持体に接触する面が表面粗度0.3〜2.0μに粗面化
されたマスキングフィルム、 支持体とマスキングフィルムの間に両面が表面粗度
0.3〜2.0μに粗面化されたプラスチックシート のいずれかを用いることを特徴とする改良されたマスキ
ング露光方法。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61267715A JP2515521B2 (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | 改良されたマスキング露光方法及びそれを用いた製版方法 |
| EP87116668A EP0267600B1 (en) | 1986-11-12 | 1987-11-11 | Method for selectively curing a liquid photosensitive resin by masking exposure |
| AU81112/87A AU599164B2 (en) | 1986-11-12 | 1987-11-11 | An improved method for selectively curing a liquid photosensitive resin by masking exposure |
| ES87116668T ES2066757T3 (es) | 1986-11-12 | 1987-11-11 | Metodo mejorado para el curado selectivo de una resina fotosensible liquida a traves de exposicion mediante plantilla. |
| DE3751023T DE3751023D1 (de) | 1986-11-12 | 1987-11-11 | Verfahren zur selektiven Härtung von flüssigen, lichtempfindlichen Kunststoffen durch Belichtung mittels einer Maske. |
| NO874706A NO174880C (no) | 1986-11-12 | 1987-11-11 | Fremgangsmåte ved selektiv herding av flytende lysfölsom harpiks |
| ZA878480A ZA878480B (en) | 1986-11-12 | 1987-11-11 | A method for selectively curing a liquid photosensitive resin by masking exposure |
| US07/764,959 US5213949A (en) | 1986-11-12 | 1991-09-25 | Method for selectively curing a liquid photosensitive resin by masking exposure |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61267715A JP2515521B2 (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | 改良されたマスキング露光方法及びそれを用いた製版方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63121849A JPS63121849A (ja) | 1988-05-25 |
| JP2515521B2 true JP2515521B2 (ja) | 1996-07-10 |
Family
ID=17448546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61267715A Expired - Lifetime JP2515521B2 (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | 改良されたマスキング露光方法及びそれを用いた製版方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0267600B1 (ja) |
| JP (1) | JP2515521B2 (ja) |
| AU (1) | AU599164B2 (ja) |
| DE (1) | DE3751023D1 (ja) |
| ES (1) | ES2066757T3 (ja) |
| NO (1) | NO174880C (ja) |
| ZA (1) | ZA878480B (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3906179A1 (de) * | 1989-02-28 | 1990-08-30 | Basf Ag | Vorrichtung zum belichten von photopolymeren druckplatten |
| JP2886254B2 (ja) * | 1990-04-25 | 1999-04-26 | 旭化成工業株式会社 | 感光性樹脂版の製造方法及びそれに用いる製版装置 |
| IT1271919B (it) * | 1993-01-12 | 1997-06-10 | Caria Riccardo De | Procedimento di produzione di lastre di stampa fotosensibili perfezionate |
| US5813342A (en) * | 1997-03-27 | 1998-09-29 | Macdermid Imaging Technology, Incorporated | Method and assembly for producing printing plates |
| ES2261094B1 (es) * | 2005-09-12 | 2007-09-16 | Ricardo Angel Ruggiero | Procedimiento para la fabricacion de rodillos para la impresion de materiales laminares, maquina para la realizacion del procedimiento y soporte de impresion para los rodillos de impresion. |
| JP2009157122A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Nakan Corp | 感光性樹脂版シートの製造装置および製造方法 |
| JP4872921B2 (ja) * | 2008-01-07 | 2012-02-08 | 株式会社島津製作所 | 反応容器 |
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| US8198013B2 (en) * | 2010-05-05 | 2012-06-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing a printing form |
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| US9740103B2 (en) * | 2015-11-09 | 2017-08-22 | Macdermid Printing Solutions, Llc | Method and apparatus for producing liquid flexographic printing plates |
| CN106094428A (zh) * | 2016-08-22 | 2016-11-09 | 昆山良品丝印器材有限公司 | 精密网版晒板夹具 |
| US10625334B2 (en) * | 2017-04-11 | 2020-04-21 | Macdermid Graphics Solutions, Llc | Method of producing a relief image from a liquid photopolymer resin |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3507593A (en) * | 1967-05-08 | 1970-04-21 | Tektronix Inc | Contact negative with method and apparatus employing the same |
| JPS5031488B2 (ja) * | 1971-10-11 | 1975-10-11 | ||
| JPS502936A (ja) * | 1973-05-08 | 1975-01-13 | ||
| JPS5623150A (en) * | 1979-07-31 | 1981-03-04 | Kawasaki Seisakusho:Kk | Double paper sheet detector |
| DE2932086A1 (de) * | 1979-08-08 | 1981-02-19 | Mohn Gmbh Reinhard | Kontaktkopierverfahren sowie vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
| JPS5636653A (en) * | 1979-08-31 | 1981-04-09 | Unitika Ltd | Photosensitive resin plate for relief |
| IT8121966V0 (it) * | 1981-06-03 | 1981-06-03 | Repro Master Electonic Srl | Perfezionamento nelle macchine grafiche del tipo foto-lito, repro, serigrafico, bromografico. |
| JPS59146056A (ja) * | 1983-02-09 | 1984-08-21 | Hitachi Chem Co Ltd | 印刷配線板用基板に形成された光重合性樹脂フイルムの焼付法 |
| EP0169294B1 (en) * | 1984-07-23 | 1992-04-01 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | A resin printing plate and preparation thereof |
| JPS61172148A (ja) * | 1984-11-10 | 1986-08-02 | Osaka Seihan Center Kyogyo Kumiai | 樹脂刷版の製版方法 |
| JPS61172149A (ja) * | 1984-11-21 | 1986-08-02 | Osaka Seihan Center Kyogyo Kumiai | 樹脂刷版の製造方法 |
-
1986
- 1986-11-12 JP JP61267715A patent/JP2515521B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-11-11 AU AU81112/87A patent/AU599164B2/en not_active Ceased
- 1987-11-11 ES ES87116668T patent/ES2066757T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1987-11-11 EP EP87116668A patent/EP0267600B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-11-11 NO NO874706A patent/NO174880C/no unknown
- 1987-11-11 ZA ZA878480A patent/ZA878480B/xx unknown
- 1987-11-11 DE DE3751023T patent/DE3751023D1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0267600A2 (en) | 1988-05-18 |
| NO174880B (no) | 1994-04-18 |
| DE3751023D1 (de) | 1995-03-09 |
| AU8111287A (en) | 1988-05-19 |
| EP0267600A3 (en) | 1990-04-04 |
| ES2066757T3 (es) | 1995-03-16 |
| JPS63121849A (ja) | 1988-05-25 |
| ZA878480B (en) | 1988-05-09 |
| NO874706L (no) | 1988-05-13 |
| EP0267600B1 (en) | 1995-01-25 |
| NO874706D0 (no) | 1987-11-11 |
| AU599164B2 (en) | 1990-07-12 |
| NO174880C (no) | 1994-08-10 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |