NO174880B

NO174880B - Fremgangsmåte ved selektiv herding av flytende lysfölsom harpiks

Info

Publication number: NO174880B
Application number: NO874706A
Authority: NO
Inventors: Tsutomu Kojima; Takashi Yamashita
Original assignee: Asahi Chemical Ind
Priority date: 1986-11-12
Filing date: 1987-11-11
Publication date: 1994-04-18
Also published as: NO874706L; DE3751023D1; JP2515521B2; ZA878480B; ES2066757T3; JPS63121849A; AU8111287A; EP0267600A2; NO874706D0; NO174880C; EP0267600A3; EP0267600B1; AU599164B2

Description

Foreliggende oppfinnelse omhandler en forbedret fremgangsmåte for selektiv herding av en flytende fotosensitiv harpiks ved maskeringseksponering, slik som angitt i krav 1's ingreses, for dannelse av en trykkplate, spesielt en fleksografisk trykkplate. Den dannede trykkplate blir brukt ved trykking på papirbeholdere, bølge-papp, film eller lignende.

For å trykke på en papirbeholder, en film, en bølgepapp el. lign. med bokstavtrykk blir gummiplater og fotoharpiksplater brukt. En fotoharpiks-trykkplate kan fremstilles enten ved å behandle en fast plate laget av støpt fotosensitivt harpiks eller ved å danne et lag av flytende fotosensitiv harpiks og eksponere det dannede harpikslag til aktive stråler, fulgt av slike trinn som fjerning av det ubehand-lede harpiks, for derved å erholde en trykkplate. Faktisk kreves det i bokstavtrykking, så som fleksografisk trykking, at platen har en tykkelse på fra 3 til 8,5 mm for å samstemme med de mekaniske krav til trykkemaskinen. I ovenfor nevnte fremgangsmåte for fremstilling av en trykkplate fra en flytende fotosensitiv harpiks for å danne en trykkplate med stor tykkelse som nevnt ovenfor og med et relieff som har en stor dybde og som på samme tid er istand til å reprodusere fine mønstre og likevel ikke bøyes eller brekker ved trykkepresset, har det blitt foreslått å fremstille trykkplaten ved fremgangsmåtetrinn hvori det uherdede harpikslag bestråles med aktive stråler fra motsatt side for relieffsiden gjennom en maskerende film som har et over-førende mønster med en kontur som tilsvarer og er noe større en den til det overførende mønster av et bildebærende gjennomskinnelig legeme, for derved å danne en hylledel for å støtte en relieffdel (denne metode er den såkalte "maskeringseksponering").

Fremgangsmåten er således særpreget ved det som er angitt i krav 1's karakteriserende del. Ytteligere trekk fremgår av kravene 2-13.

forklaring med hensyn til et eksempel på framgangsmåten for å fremstille en trykkplate hvori maskeringseksponeringen blir brukt. Fig. 1 er et skjematisk tverrsnitt av en laminert struktur som skal underkastes maskering, relieff og baksideeksponering, fig. 2 er et skjematisk tverrsnitt som viser en anordning som brukes for å fremskaffe maskeringseksponeringen og relieffeksponeringen og fig. 3 er et skjematisk tverrsnitt som viser en anordning som brukes for å fremskaffe baksideeksponeringen.

(1) Laminering (fig.l)

Et bildebærende, gjennomskinnelig legeme (2) anbringes på en nedre stiv plate (1) som er gjennomskinnelig for aktive stråler, såsom en glassplate, som i sin tur blir dekket med en tynn, gjennomsiktig beskyttende film (3). På det beskyttende, filmdekkende, figurbærende, gjennomsiktige legeme (2) helles en flytende fotosensitiv harpiks. Et gjennomsiktig substrat 5, såsom en polyesterfilm med en tykkelse på 0,1 - 0,2 mm, lamineres på det uthelte harpiks ved en rullelaminerende metode samtidig som harpiksen blir jevnet inn i lag 4 med en på forhånd bestemt tykkelse ved å tilføre et trykk til harpiksen ved hjelp av en valse brukt i den laminerende metode.

På substratet (5) på det flytende fotosensitive harpikslag (4) med en på forhånd bestemt tykkelse blir det lagt over en maskerende film (6) med et overførende mønster som har en kontur som tilsvarer og er noe større enn den til det overførende mønster til det bildebærende overførende legeme, slik at posisjonen til det overførende mønster av maske-rings-filmen er i samsvar med posisjonen til det overførende mønster av det bildebærende gjennomsiktige legeme. Maske-ringfilmen omfatter en gjennomsiktig film, generelt med en tykkelse på 75-200 pm, med en lysskjermende tynn film anbrakt derpå, hvor deler av den tynne film som tilsvarer det ønskede mønster blir skåret ut for å danne et overførende mønster.

(2) Maskeringeksponering (fig. 2)

En ovre lyskildeboks, plassert over substratet (5) inneholder øvre lyskilde (7), hvis bunnåpning har en øvre stiv plate (17) som er gjennomsiktig for de aktive stråler, såsom en glassplate, og strekker seg over bunnåpningen, trekkes ned, slik at øvre stive plate (17) ligger over den maskerende film. Nedre overflate av øvre stive plate (17), som ligger mot den maskerende film, er i en ru tilstand og har spor (29) anbrakt derpå langs periferien. Sporet (20) og klaringen som dannes mellom den ru nedre overflate av øvre stive plate (17) og den maskerende film (6) evakueres for å feste den maskerende film (6) og substratet (5) mot øvre stive plate (17), som forårsaker at den maskerende film og substratet blir presset mot den øvre stive plate. Denne fremgangsmåte anvendes for å sikre flatheten til både den maskerende film (6) og substratet (5) for derved å virke slik at en trykkplate dannes som har en uniform tykkelse og som er fri for hakk og kuler. Harpikslaget blir så eksponert til de aktive stråler, såsom ultrafiolett stråling, gjennom det overførende mønster av den maskerende film (6) for derved selektivt å herde harpikslaget for å danne hylledelen (9), som skal bli en støtte for relieffdelen (16) som senere blir dannet.

(3) Relieffeksponering (fig. 2)

Etter maskeringseksponeringen blir harpikslaget eksponert til aktive stråler som sendes ut fra nedre lyskilde (10) gjennom det overførende mønster (bildemønster) av det bildebærende gjennomsiktige legeme for å danne en relieffdel (16) .

(4) Baksideeksponering (fig. 3)

Etter relieffeksponeringen løftes øvre lyskildeboks og den maskerende film (6) fjernes. Derpå senkes øvre lyskildeboks, og harpikslaget eksponeres i en kort tidsperiode for aktive stråler som sendes ut fra øvre lyskilde (7) for å danne et tynt herdet harpikslag (11) med en uniform tykkelse i harpikslaget over hele overflaten som vender mot substratet (5). Det tynne herdede harpikslag (11) således dannet ved baksideeksponering vil heretter bli referert til som "baksidelag".

(5) Fjerning av uherdet harpiks

Etter baksideeksponering gjenvinnes det uherdede harpiks.

(6) Vasking

Det uherdede harpiks som er tilbake, vaskes ut ved spyling eller børstevasking ved å bruke en utvaskingsoppløsning, for derved å erholde en utvasket plate (14) som vist i fig. 4.

(7) Ettereksponering i vann

Den således erholdte plate (14) blir fullstendig neddykket i vann og eksponert til aktive stråler, såsom ultrafiolett stråling, som sendes ut fra en lyskilde for å fremskaffe en fullstendig herding av hele platen, slik at styrken til platen økes.

(8) Tørking

Platen (14) fjernes fra vannet og tørkes ved å blåse platen med varmluft eller ved bruk av en infrarød ovn.

I fremgangsmåten beskrevet ovenfor blir hylledelen, relieffdelen og baksidelaget dannet i denne rekkefølge ved å bruke en maskerende film med et overføringsmønster med en kontur som tilsvarer og er noe større enn den til det overførende mønster av det bildebærende, gjennomsiktige legeme. Imidlertid kan hylledelen, relieffdelen og baksidelaget bli dannet på forskjellige måter. For eksempel kan relieffdelen dannes før eller samtidig med dannelsen av hylledelen. Videre kan det alternativt bli brukt en metode hvor hylledelen og baksidelaget dannes samtidig ved bruk av en maskerende film utstyrt med et overførende mønster med en kontur som tilsvarer og er noe større enn mønsteret til det bildebærende, gjnnomsiktige legeme, et semi-overførende mønster anbrakt utenfor det overførende mønster og med en stor kontur for å overføre bestrålende aktive stråler ved forøkning, og en blokkerende overflate anbrakt utenfor det semi-overførende mønster og med den effekt at den blokkerer de aktive stråler til den grad at det ikke herder det flytende harpikslag (se f.eks. US patent nr. 4.618.550). I metoden til US-patent nr. 4.618.550 omfatter den maskerende film en semi-lysblokkerende første blokkerende film festet på en overflate av en gjennomsiktig basefilm for å la aktive stråler passere ved hemming, og en andre blokkerende film anbrakt på den andre overflate av basefilmen for å blokkere aktive stråler til en slik grad at strålene ikke vil herde den anvendte flytende harpiks. Den første og andre blokkerende film blir fjenbart festet til basefilmen med et klebemiddel. Den andre blokkerende film har egenskaper for fullstendig å blokkere lys i seg selv eller er lik eller høyere enn første blokkerende film i aktiv hemningsgrad, slik at når aktive stråler passerer gjennom både første og andre blokerende film, blir strålene hemmet og blokkert nesten fullstendig av de to blokkerende filmer. I ovenfor nevnte metode, når laminatet eksponeres til aktive stråler, herdes det flytende harpikslag til en stor tykkelse i tilsvarende sammenheng med de overførende mønstre av første og andre blokkerende filmer for å danne en hylledel som er integral med en relieffdel. Hvor lyset gjennom det overførende mønster av andre blokkerende film passerer gjennom første blokkerende film, dvs. en semi-lysblokkerende film, og derved blir hemmet, er øvre del av harpikslaget herdet til en liten tykkelse i tilsvarende relasjon til det overførende mønster av andre blokkerende film for å danne et baksidelag integralt med hylledelen. I fremgangsmåten til US-patent nr. 4.618.550 blir hylledelen av baksidelaget samtidig dannet ved den maskerende eksponering, og følgelig utelates en baksideeksponering. I foreliggende oppfinnelse blir en slik maskeringseksponering for dannelse av både hylledelen og baksidelaget også definert som "maskerings-

eksponering".

Den således erholdte trykkplate (14) har en slik oppbygning som visti fig. 4. I fig. 4 betegner henvisningstall (16) relieffdelen som har blitt dannet ved relieffeksponeringen, nr. (15) overflaten til relieffdelen hvorpå trykkblekk skal påføres, nr.(9) hylledelen som har blitt dannet ved maskeringseksponeringen, nr. 11 baksidelaget som er blitt dannet ved baksideeksponeringen eller er blitt dannet samtidig med dannelsen av hylledelen ved maskeringseksponeringen (US-patent nr. 4.618.550) og nr. 5 substratet. Videre indikerer bokstav T0 den totale tykkelse til trykkplaten (14), bokstav T^ tykkelsen til hylledelen og bokstav T2 tykkelsen til baksidelaget. For en trykkplate med en tykkelse (Tg) på f.eks. 7.0 mm er T]_ og T2 generelt henholdsvis i områdene 4,8-5,8 mm, og 1,0-1,5 mm.

Fra ovenfor nevnte fremgangsmåte, på grunn av dannelsen av hylledelen ved maskeringseksponeringen, kan det fordelaktig erholdes en trykkplate med en stor tykkelse og med et relieff som har en stor dybde og på samme tid er istand til å reprodusere fine mønstre og likevel ikke bøyes eller brekker ved trykkpresset. I tillegg er denne fremgangsmåten fordelaktig ved at dyre fotosensitive harpikser som forblir uherdet kan gjenvinnes med høy gjenvinningsgrad, og således er prosessen økonomisk. Følgelig er denne metode brukt i stor utstrekning.

Imidlertid har den vanlige prosess for fremstilling av en trykkplate som involverer en maskeringseksponering følgende problem. Maskeringsfilmen som blir brukt i den vanlige prosess består av en gjennomsiktig film, såsom en polyesterfilm med en glatt overflate på begge sider og en tykkelse på 0,075 mm - 0,125 mm og belagt på dens ene overflate, tilpasset for å vende mot den øvre stive plate og å legges derpå en lysskjermende tynn film, hvor deler av den tynne film som tilsvarer det ønskede mønster er skåret ut for å danne et overførende mønster. Det vi si, den vanlige film brukt i den vanlige prosess har en glatt overflate på siden som vender mot substratet. Videre er substratet som er brukt i den vanlige prosessen polyesterfilm på 0,1 - 0,2 mm tykkelse og med glatte overflater på begge sider. D.v.s. overflaten til den maskerende film som vender mot substratet og overflaten av substratet som ligger mot den maskerende film er begge glatte. Følgelig, som illustrert i fig. 5 (a), når substratet (5) sammen med den maskerende film (6) blir trukket mot og presset mot øvre stive plate (17) ved evakuering for å sikre flatheten til både den maskerende film (6) og substratet (5) i ovenfor nevnte trinn (2), opptrer ofte en lokal interfasiell kohesjon mellom den maskerende film (6) og substratet (5) som forårsaker at den maskerende film (6) og substratet (5) får luftblærer (26) dannet dermellom. Denne luftblære får substratet til å trenge inn i det flytende fotosensitive harpikslag under operasjnen med maskering, relieff og baksideeksponeringer og har følgelig har det en tendens til å danne seg et hakk i det herdede harpikslag, som fører til ikke-uniformitet av tykkelsen til den endelige trykkplate, dvs. en lokal minkning i tykkelsen av den endelige trykkplate. For å løse dette problem har det blitt foreslått en metode som omfatter i kombinasjon å fremskaffe vakuumtUtrekning av substratet mot øvre stive plate (17) periodisk vekslende og gradvis øke vakuumstyrken i evakueringen for vakuumtiltrekningen av substratet. Imidlertid har det ikke vært mulig fullstendig å forhindre dannelsen av en slik luftlomme, og således har dannelsen av den lokale minkning i tykkelse av en trykkplate ikke blitt unngått.

Oppfinnerne har foretatt intensive og utstrakte under-søkelser i forbindelse med å forhindre lokal interfasiell kohesjon mellom overflaten av den maskerende film og overflaten av substratet som forårsakes av glattheten til begge de to overflater og som fører til en uønsket lokal minkning i tykkelsen av den endelige trykkplate. Som et resultat har oppfinnerne funnet at kohesjonen kan forhindres ved å bruke en film med minst én rugjort overflate som maskerende film (6) , en film med minst én overflate gjort ru som substrat (5) eller ved å legge mellom en intermediær film med begge overflater gjort ru mellom maskerende film (6) og substrat (5), slik at ru, ujevn eller uregelmessig kontakt fremskaffes direkte eller indirekte mellom den maskerende film og substratet. Basert på dette funn har foreliggende oppfinnelse blitt utformet.

Følgelig er det et mål for foreliggende oppfinnelse å fremskaffe en forbedret metode for selektivt å herde en flytende fotosensitiv harpiks ved maskeringseksponering som er effektiv for å forhindre en lokal interfasiell kohesjon fra å oppstå mellom den maskerende film og substratet.

De tidligere nevnte og andre mål, trekk og fordeler, vil bli gjort tydelig for fagmannen fra den følgende detaljerte beskrivelse og krav, tatt i sammenheng med de medfølgende tegninger.

I tegningene viser:

fig. 1 til 3 fremgangsmåte ifølge tidligere teknikk for å fremstille en fotoharpikstrykkplate, hvor fig. 1 er et skjematisk tverrsnitt av en laminert struktur som skal underkastes maskering, relieff og baksideeksponering, og fig. 2 er et skjematisk tverrsnittsbilde som viser en anordning anvendt for å fremskaffe den maskerende eksponering og relieffeksponering, og fig. 3 er et skjematisk tverrsnittsbilde som viser en anordning som anvendes for å fremskaffe baksideeksponeringen;

fig. 4 viser et tverrsnitt av en trykkplate erholdt ved en prosess hvor en maskeringseksponering er innbefattet;

fig. 5 (a) er et skjematisk tverrsnittsbilde som viser hvordan en luftlomme dannes mellom den maskerende film og substratet;

fig. 5 (b) er et skjematisk sidebilde av den maskerende film som brukes i laminatstrukturen vist i fig. 5 (a), og som viser strukturen til den maskerende film;

fig. 5 (c) er et delvist bortskåret skjematisk sidebilde av en trykkplate erholdt ved å bruke anordningen vist i fig. 5 (a), hvor substratet har hakk, slik at trykkplatens tykkelse på noen steder er minsket, med substratet vist i tverrsnitt;

fig. 6 (a) er et skjematisk tverrsnittsbilde som viser anordningen anvendt for utførelse av metoden ifølge foreliggende oppfinnelse, og som er fri for faren for at en luftlomme dannes mellom den maskerende film og substratet;

fig. 6 (b) er et skjematisk sidebilde av den maskerende film som vist i fig. 6 (a), hvor bunnflaten er i en rugjort tilstand;

fig. 6 (c) er et delvis bortskåret skjematisk sidebilde av en trykkplate erholdt ved å bruke anordningen vist i fig. 6 (a), hvor tykkelen av trykkplaten er uniform uten noen hakk eller dumper på substratet, med substratet vist i tverrsnitt;

fig. 7 er et forklarende bilde som viser en annen utførings-metode av foreliggende oppfinnelse, hvor et substrat, med sin øvre overflate gjort ru, er plassert mellom substratet med den maskerende film, harpikslaget, beskyttende film og bildebærende, gjennomsiktig legeme vist;

fig. 8 er et forklarende bilde som viser enda en annen ut-førelsesform av fremgangsmåten ifølge foreliggende oppfinnelse, hvor en intermedieær film med både øvre og nedre overflater gjort rue, er lagt mellom den maskerende film og substratet, med plasseringsforholdene mellom den intermediære film og den maskerende film, substratet, harpikslaget, den beskyttende film og det bildebærende gjennomsiktige legeme vist;

fig. 9 (a) er et forklarende bilde som viser er ytterligere utførelsesform av metoden ifølge foreliggende oppfinnelse, hvor det blir brukt en maskerende film med sin nedre overflate gjort ru i en tilstand forskjellig fra den til den maskerende film vist i fig. 6 (b), med plasseringsforhold mellom den maskerende film, substratet, harpikslaget, den beskyttende film og det bildebærende lag vist;

fig. 9 (b) viser et bunnbilde av den maskerende film som vist i fig. 9 (a) og som illustrerer den grovgjorte tilstand hvor riller blir dannet i et nettmønster, og

fig. 10 er et forklarende bilde som viser enda en annen utførelsesform av metoden ifølge foreliggende oppfinnelse, hvor en intermediær film med både øvre og nedre overflater gjort ru i en annen grad enn den intermediære film vist i fig. 8, er plassert mellom den maskerende film og substratet med plasseringforhold mellom den maskerende film, den intermediære film, substratet, harpikslaget, den beskyttende film og det bildebærende gjennomsiktige legeme vist.

I figurene 1-10 er like deler eller sammenstillinger betegnet med like numre eller bokstaver.

I henhold til foreliggende oppfinnelse er det fremskaffet en metode for selektivt å herde en flytende fotosensitiv harpiks ved maskeringseksponering som omfatter: 1. Å legge over hverandre en nedre stiv plate, for aktive stråler gjennomtrengelig, i følgende rekkefølge: bildebærende gjennomsiktig legeme med et overførende mønster eller nevnte bildebærende gjennomsiktige legeme med et overførende mønster, hvilket gjennomsiktige legeme har en beskyttende film anbrakt på den fjernereliggende side fra nevnte nedre stive plate, en flytende fotosensitiv harpiks i form av et lag, et substrat som er gjennomskinnelig for aktive stråler, en maskerende film med et overførende mønster med en kontur som tilsvarer og er noe større enn den til det overførende mønster av nevnte bildebærende gjennomsiktige legeme, og en øvre stiv plate som er gjennomtrengelig for aktive stråler, hvor den maskerende film er anbrakt slik at posisjonen til det overførende mønster av det bildebærende gjennomsiktige legeme er i samsvar med posisjonen til det overførende mønster av nevnte maskerende film og 2. å eksponere nevnte harpikslag for aktive stråler gjennom det overførende mønster av nevnte maskerende film, for derved selektivt å herde harpikslaget i samsvar med det overførende mønster av nevnte maskerende film,

hvor forbedringen ligger i at overflaten av nevnte substrat på den side som vender mot nedre overflate av nevnte maskerende film er gjort ru for å fremskaffe en grov kontakt mellom nevnte maskerende film og nevnte substrat,

hvor overflaten av nevnte maskerende film på den side som vender mot øvre overflate av nevnte substrat er gjort ru for å fremskaffe grov kontakt mellom nevnte maskerende film og nevnte substrat

eller

hvor nevnte substrat har en intermediær film anbrakt på siden lengst bort fra nevnte flytende fotosensitive harpikslag, hvor begge overflater av nevnte intermediære film er gjor ru for å fremskaffe grov kontakt mellom nevnte intermediære film og både nevnte maskerende film og nevnte substrat.

Under referanse til fig. 6 (a) er det vist et skjematisk tverrsnittsbilde som viser en form for plassering for å utføre metoden ifølge foreliggende oppfinnelse. Det bildebærende gjennomsiktige legeme (2) med overførende mønster (31) plasseres på nedre stive plate (1) som er gjennomskinnelig for aktive stråler og som så blir dekket med en tynn beskyttende film (3) som er gjennomtrengelig for aktive stråler. På den øvre overflate av den beskyttende film (3), langs dens periferi, og som blir dekket av en tynn beskyttende film (3) som er gjennomtrengelig for aktive stråler. På den øvre overflate av den beskyttende film (3), langs periferien, dannes et svamplag (19). I hulrommet dannet av svamplaget (19) dannes lag (4) av en flytende fotosensitiv harpiks. Substratet (5) lamineres på harpikslaget (4). På substratet (5) laminert på det flytende fotosensitivt harpikslag (4) legges den maskerende film (6) med det overførende mønster (41) med en kontur som tilsvarer og er noe større enn den til det bildebærende gjennomsiktige legeme (2), slik at posisjonen til det overførende mønster (41) av den maskerende film (6) er i samsvar med posisjonen til det overførende mønster (31) av det bildebærende gjennomsiktige legeme (2). Øvre stive plate (17) legges over på den maskerende film (6). Nedre overflate av øvre stive plate (17) som vender mot den maskerende film (6) er i en grovgjort tilstand og er plassert derpå med spor (20) langs perifrien. Øvre lyskilde (7) brukt ved maskeringseksponering og baksideeksponering, er plassert over øvre stive plate (17) og nedre lyskilde (10) brukt i relieffeksponeringen, er plassert under nedre stive plate (1). I henhold til metoden ifølge foreliggende oppfinnelse fremskaffes grov kontakt mellom den maskerende film (6) og substratet (5). På grunn av dette trekk i foreliggende oppfinnelse blir, når substratet (5) sammen med den maskerende film (6) trekkes mot og presses mot øvre stive plate (17) ved evakuering av spor (2 0), dannes en klaring mellom den grovgjorte nedre overflate av øvre stive plate (17) og den maskerende film (6), hvor ingen lokal interfasiell kohesjon oppstår mellom den maskerende film (6) og substratet (5). Følgelig kan i foreliggende oppfinnelse dannelse av en luftlomme mellom den maskerende film (6) og substratet (5) bli forhindret.

I fig. 6 (c) er det vist et delvis bortskåret skjematisk sidebilde av en trykkplate erholdt ved å brukke anordningen vist i fig. 6 (a) med substratet (5) vist i tverrsnitt. I anordningen vist i fig. 6 (a) er ingen luftlommer dannet, som nevnt ovenfor. Følgelig opprettholder substratet (5) sin flate tilstand under operasjonene med maskering, relieff og baksideeksponeringer. Som et resultat ved bruken av anordningen vist i fig. 6 (a) erholdes en trykkplate (14) med en uniform tykkelse uten slike lokale deformasjoner av substratet (5), som vist i fig. 6 (c).

I foreliggende oppfinnelse er det påkrevet at ru kontakt kan fremskaffes direkte eller indirekte mellom den maskerende film og substratet. Fremskaffelsen av ru kontakt mellom den maskerende film og substratet skjer på en av de følgende måter: a) En film hvor minst en overflate er gjort ru, og som er gjennomsiktlig for aktive stråler anvendes som substrat og plassere slik at den ru overflate til substratet ligger mot den nedre overflate av den maskerende film for å fremskaffe grov kontakt mellom den maskerende film og substratet, som vist i fig. 7. b) En film hvor minst en overflate er gjort ru, og med et overførende mønster som har en kontur som tilsvarer og er noe større enn den til det overførende mønster av det bildebærende gjennomsiktige legeme, anvendes som maskerende film og plasseres slik at den ru overflate av den maske-rene film ligger mot øvre overflate av substratet for å fremskaffe ru kontakt mellom den maskerende film og substratet, som vist i fig. 6 (b) og fig. 9 (a). c) En film hvor begge overflater er gjort ru, og som er gjennomskinnelig for aktive stråler plasseres på substratet

før overleggelse av den maskerende film og etterfølgende overleggelse av substratet, slik at filmen med begge overflater gjort ru og som virker som intermediær film, ligger mellom den maskerende film og substratet for å fremskaffe ru kontakt mellom den intermediære film og

både den maskerende film og substratet, som vist i fig. (8) og fig. (10).

Med hensyn til hvert av tilfellende a), b) og c) nevnt ovenfor, kan rugjøringen av overflaten til filmen som skal anvendes for å fremskaffe direkte eller indirekte ru kontakt mellom den maskerende film og substratet utføres ved f.eks. å matte ned overflaten eller danne spor på overflaten. Enkelte eksempler på metoden ifølge foreliggende oppfinnelse hvori ru kontakt fremskaffes direkte eller indirekte mellom den maskerende film og substratet på forskjellig måte, vil bli beskrevet nedenfor under referanse til tegningene.

Fig. 6 (b) er et skjematisk sidebilde av den maskerende film (6) med nedre overflate matt og som anvendes i anordningen ifølge fig 6 (a). I fig. 6 (b) betegner nr. (27) en lysbeskyttende film og nr. (29) den nedmattete overflate.

I metoden ifølge foreliggende oppfinnelse bringes den nedmattede overflate (29) i kontakt med øvre overflate av substratet (5) for å fremskaffe ru kontakt mellom den maskerende film (6) og substratet (5), som vist i fig. 6 (a). Fig. (7) er et forklarende bilde som viser en annen utførelsesform av foreliggende oppfinnelse, hvor substratet (5) med sin øvre overflate gjort matt blir brukt. Den nedmattede overflate av substratet (5) blir brakt i kontakt med nedre overflate av den maskerende film (6) for å fremskaffe ru kontakt mellom den maskerende film (6) og substratet (5). Fig. 8 er et forklarende bilde som viser enda en annen ut-førelse av metoden ifølge foreliggende oppfinnelse, hvor den mellomliggende film (21) med både øvre og nedre overflater gjort matt er lagt mellom den maskerende film (6) og substratet (5) for å fremskaffe ru kontakt mellom den maskerende film (6) og substratet (5) . Fig. 9 (a) er et for-klatende bilde som viser en ytterligere utførelsesform av metoden ifølge foreliggende oppfinnelse, hvor det er brukt en maskerende film (6b) med sin nedre overflate utstyrt med riller for å ha et antall spor dannet derpå. Overflaten med spor av den maskerende film (6b) bringes i kontakt med øvre overflate av substratet (5) for å fremskaffe ru kontakt mellom den maskerende film (6b) og substratet (5). Fig. 9(b) viser et bunnbilde av den maskerende film vist i fig. 9

(a) og som viser et nettverksmønster av riller. Fig. 10 er et forklarende bilde som viser enda en ytterligere utførel-sesf orm av metoden ifølge foreliggende oppfinnelse, hvor en intermediær film med både øvre og nedre overflater forsynt med riller er plassert mellom den maskerende film (6) og

substratet (5) for å fremskaffe ru kontakt indirekte mellom den maskerende film (6) og substratet (5), nemlig mellom den intermediære film og både den maskerende film og substratet.

Den respektive tykkelse til substratet, den maskerende film og den intermediære film som skal anvendes i foreliggende oppfinnelse er vist i tabell 1.

Nedmatning av overflaten til en film kan utføres ved å underkaste overflaten f.eks. sandblåsing, kjemisk etsing, hamring eller lignende. I tilfelle med en nedmattet overflate kan overflateruheten være i området vist i tabell 1 gitt nedenfor. I tabell l er områdene indikert i parentes foretrukne områder.

I foreliggende oppfinnelse bestemmes overflateruheten ved å bruke Alpha-STEP 2 00 (et instrument for å måle overflateruhet og solgt av Tencor Instrument, U.S.A.

Med hensyn til det nedmattede substrat, den mattede maske-ringsfilm og nedmattede intermediære film, dersom tykkelsen derav er mindre enn den nedre grense av de ovenfor nevnte respektive områder, har de en tendens til å lide av rynker, som dannes under håndteringen av disse. Disse rynker vil noen ganger føre til lokal minking i tykkelse av den endelige trykkplate. På den annen side, dersom overflateruheten er større enn de øvre grenser, ville gjennomsik-tigheten av disse filmer uønsket bli minket og føre til vansker med å plassere den maskerende film slik at det overførende mønster av den maskerende film kan være i samsvar med det til det bildebærende gjennomsiktige legeme.

På den annen side kan dannelse av et antall riller på overflaten av en film fremskaffes ved å ripe overflaten med en kniv eller lignende. Mønsteret av riller er ikke spesielt begrenset, men rillene kan generelt bli dannet i et stripet mønster eller et nettmønster. Det stripede mønster eller nettmønsteret kan være lineært eller kurvet. For letthets skyld ved fremstilling av mønsteret er det imidlertid foretrukket at relieffet har et lineært mønster. Eksempler på lineære mønstre innbefatter et horisontalt stripet mønster, et vertikalt stripet mønster, et skråstri-pet mønster, et rettvinklet nettmønster eller et skråstilt nettmønster. Intervallet mellom rillene kan være i området fra 1 til 10 cm, fortrinnsvis ca. 3 - 7 cm. Dybden av rillene er ikke spesielt begrenset, men kan være i området fra 10 til 30 pm.

I tilfelle overflaten av den maskerende film på hvilken den lysbeskyttende film anbringes blir gjort ru, blir fremstil-lingen av ruheten fortrinnsvis utført ved nedmatting.

Dem maskerende film og substratet kan være laget av et materiale som generelt blir anvendt i vanlige prosesser, dvs. en polyester, såsom polyetylen-tereftalat. Videre kan den intermedieære film også være laget av en polyester, såsom polyetylen-tereftalat.

Substratet, den maskerende film og den mellomliggende film har alle fortrinnsvis en tåkelegningsfaktor på 60% eller mer og en UV-transmittans (ultraviolett transmittans) på 50% eller mer på grunn av letthet ved behandling. Siden en minsket UV-transmittans fører til å måtte forlenge eksponeringstiden vesentlig, er den høyere UV-transmittans mere ønsket. Den flytende fotosensitive harpiks som skal brukes i foreliggende oppfinnelse er ikke spesielt begrenset, sålenge den passende kan bli brukt for å forme et relieff. Representative eksempler på slike harpikser innbefatter umettede polyestertype harpikser og umettede uretantype harpikser.

Som de øvre og nedre stive plater som skal brukes i foreliggende oppfinnelse og som er sgjennomskinnelige for aktive stråler, kan det f.eks. bli brukt en organisk glassplate, en uorganisk glassplate og en stiv plast-plate, såsom en stiv polyvinylkloridplate og en polymetyl-metacrylat (MMA)-plate. I denne forbindelse anvendes generelt en uorganisk glassplate.

For å fremstille en trykkplate hvor den maskerende eksponering i henhold til metoden ifølge forliggende oppfinnelse blir brukt, kan relieffeksponeringen, baksideeksponeringen, fjerning av uherdet harpiks, vasking, posteksponering og tørking urføres ved metoden som anvendes i vanlige frem-gangsmåter.

Ovenfor er foreliggende oppfinnelse blitt beskrevet under referanse til utførelsesformer hvor det anvendes en maskerende film utstyrt kun med et overførende mønster med en kontur som tilsvarer og er noe større en den til det overførende mønster av det bildebærende gjennomsiktige legeme. Videre har en fremgangsmåte for å fremstille en trykkplate hvor maskeringseksponeringen i henhold til fremgangsmåten ifølge foreliggende oppfinnelse blir brukt, blitt beskrevet med hensyn til tilfellet hvor hylledelen, relieffdelen og baksidelaget dannes, i denne rekkefølge. Imidlertid er foreliggende oppfinnelse ikke begrenset til slike utførelsesformer som nevnt ovenfor. For eksempel kan det, som nevnt tidligere, også brukes en maskerende film utstyrt med et overførende mønster med en kontur som tilsvarer og er noe større enn mønsteret til det bildebærende gjennomsiktige legeme, en semi-overførende mønster plassert utenfor det overførende mønster og med en stor kontur for å overføre bestrålende aktive stråler ved hemming, og en blokkerende overflate plassert utenpå det semi-overførende mønster og med den effekt at den blokkerer de aktive stråler i den grad at de ikke herder det flytende harpikslag (se f.eks. US patent 4.618.550). Denne type maskerende film kan omfatte en semi-lysblokkerende første blokkerende film, festet på en overflate av en gjennomsiktig basefilm for å la aktive stråler passere ved hemming, og en annen blokerende film, plassert på den andre overflate av basefilmen, for å blokkere aktive stråler i en slik grad at strålene ikke vil herde det anvendte flytende harpiks. Første og andre blokkerende filmer er fjernbart festet til basefilmen med et klebemiddel.

Alternativt kan denne type maskerende film modifiseres, slik at den omfatter en første maskerende filmenhet som består av en gjennomsiktig film og en semi-lysblokkerende film festet på en overflate av nevnte gjennomsiktige film for å passere aktive stråler ved hemming, og en andre maskerende filmenhet som består av en gjennomsiktig film og en lysblokerende film festet til en overflate av nevnte gjennomsiktige film for å blokkere aktive stråler i en slik grad at strålene ikke vil herde det anvendte flytende harpiks. Første og andre maskerende filmenheter er ikke festet til hverandre. I dette tilfelle er det nødvendig at direkte eller indirekte ru kontakt fremskaffes mellom første maskerende filmenhet og andre maskerende filmenhet. Slik direkte eller indirekte ru kontakt kan fremskaffes ved f.eks. å anvende som første maskerende filmenhet en film hvor overflaten til filmen på den side som vender mot andre maskerende filmenhet er gjort ru, og som andre maskerende filmenhet anvende en film hvor overflaten til filmen på den side som vender mot første maskerende filmenhet er gjort ru, eller legge mellom en intermediær film med begge overflater gjort rue mellom førske maskerende filmenhet og andre maskerende filmenhet.

Videre, med hensyn til eksponeringen av den laminerte struktur til aktive stråler, kan dannelsen av en trykkplate hvor den maskerende eksponering i henhold til fremgangsmåten ifølge foreliggende oppfinnelse blir brukt, bli utført på forskjellige andre måter enn nevnt tidligere. Det vil si at relieffeksponeringen for å danne en relieffdel kan utføres før eller samtidig med den maskerende eksponering for å danne en hylledel, eller hylledelen og baksidelaget kan bli dannet samtidig ved en maskeringseksponering hvor den ovenfor nevnte maskerende film beskrevet i f.eks. US patent 4.618.550 er brukt. Imidlertid er det foretrukket at relieffeksponeringen utføres etter den maskerende eksponering.

I foreliggende oppfinnelse kan, som nevnt ovenfor, indirekte ru kontakt fremskaffes mellom den maskerende film og substratet ved å legge mellom en intermediær film med begge overflater gjort rue mellom den maskerende film og substratet. I denne sammenheng kan det bemerkes at det også er mulig å fremskaffe indirekte ru kontakt mellom den maskerende film og substratet, enten ved metoden hvor nedre overflate av den maskerende film er gjort ru og en intermediær film med sin nedre overflate gjort ru legges mellom den maskerende film og substratet, eller ved metoden hvor substratets øvre overflate er gjort ru og en intermediær film med sin øvre overflate gjort ru legges mellom den maskerende film og substratet.

Som det går frem ovenfor, blir i metoden i henhold til foreliggende oppfinnelse en direkte eller indirekte ru kontakt mellom den maskerende film og substratet fremskaffet. På grunn av dette trekk opptrer ingen interfasiell kohesjon mellom nedre overflate av den maskerende film som kohesjon mellom nedre overflate av den maskerende film som ligger mot substratet og den øvre overflate av substratet, som vender mot den maskerende film. Således dannes det ikke luftlommer mellom de to overflater. Følgelig er det ingen fare for at substratet trenger inn i harpikslaget. slik at den endelige trykkplate ville ha en uønsket lokal mindre tykkelse. Som et resultat av metoden ifølge foreliggende oppfinnelse kan det erholdes en trykkplate som har en uniform tykkelse (uniformitetsgrad: + 6/100 mm) og som er fullstendig akseptabel for bruk i fleksografisk trykking med reproduserbarhet som vist i eksemplene senere.

Nedenfor vil foreliggende oppfinnelse bli beskrevet i større detalj under referanse til sammenligningseksempler og eksempler som ikke bør betraktes som å være begrensende for foreliggende oppfinnelse.

Sammenlignende eksempel

En vanlig prosess for å fremstille en trykkplate er beskrevet som følger under referanse til figurene 5 (a),

5 (b) og 5 (c).

1. Et bildebærende gjennomsiktig legeme (2) ble plassert på nedre glassplate (1) og en tynn gjennomsiktig beskyttende film (3) ble på det bildebærende gjennomsiktige legeme (2). Så ble rommet mellom de bildebærende gjennomsiktige legeme og nedre glassplate (1) evakuert til et vakuum på 400 mm Hg, for derved å oppnå en nær kohesjon mellom disse. 2. Et svampbånd på 5 mm tykkelse og ca. 10 mm i bredde ble festet til overflaten av den beskyttende film (3) lanf kanten derav, for derved å danne en svampgrense (19) for en flytende harpiks. 3. En blanding av 1 vektdel propylenglykol [gjennomsnittlig molekylvekt,(heretter referert til som Mn): 2000], 1 vektdel polypropylenglykol adipat diol (Mn: 2000) og 0,2 vektdeler toluylen diisocyanat ble omsatt for å erholde en polyuretan med isocyanatgrupper ved begge ender. Dette ble ytterligere omsatt med polyprolylenglykol monometyacrylat (Mn=380), for derved å erholde en polyuretan-prepolymer med begge sine overflater modifisert med metacrylat (Mn:16500). Til 100 vektdeler av den således erholdte prepolymer ble det tilsatt 25 vektdeler polypropylenglykol monometacrylat (Mn:380), 15 vektdeler laurylmetaacrylat, 10 vektdeler tetraetylenglykol-dimetacrylat, 1,5 vektdeler 2,2-dimetoksy-fenylacetofenon og 0,2 vektdeler 2,6-di-t-butyl-p-cresol, for derved å erholde en flytende fotosensitiv harpiks. Den flytende fotosensitive harpiks ble helt opp i hulrommet dannet av svampgrensen (19) og jevnet til harpikslag (4). En film laget av en polyester som substrat (5) ble så plassert på harpikslaget (4) . 4. Den maskerende film (6), som besto av en gjennomsiktig polyetylen tereftalatfilm på 100 um tykkelse med en glatt overflate og laminert derpå en lysbeskyttende rød film (27) med en tykkelse på 22 um, som vist i fig. 5 (b), ble plassert på substrat (5) slik at posisjonen til det over-førende mønster av den maskerende film (6) var isamsvar med posisjonen til det overførende mønster av det bildebærende gjennomsiktige legeme (2). 5. En øvre lyskildeboks plassert over substrat (5), hvlken boks inneholder øvre lyskilde (7) og hvis bunnåpning har øvre glassplate (17) som strekker seg over denne, ble trukket ned, slik at øvre glassplate (17) lå over den maskerende film. Nedre overflate av øvre glassplate (17) hadde blitt gjort ru og blitt utstyrt med spor (20) ved sin perifere del. 6. Spor (20) og en klaring dannet mellom den rugjorte nedre overflate av øvre stive plate (17) og maskerende film (6) ble evakuert til et vakuum på 400 mm Hg for å tiltrekke den maskerende film (6) og substratet (5) mot nedre overflate av øvre glassplate (17), for derved å presse den maskerende film og substratet mot den øvre stive plate. 7. Etter å ha tillatt det flytende fotosensitive harpikslag å stå i et par minutter inntil tykkelsen derav ble uniform, ble harpikslaget underkastet en maskeringseksponering (180 sekunder) og en relieffeksponering (180 sekunder). Etter fjerning av den maskerende film (6) ble en baksideeksponering utført i 25 sekunder. 8. På samme måte som beskrevet ovenfor, ble deretter følgende prosesstrinn utført; gjenvinning av det uherdede harpiks, vasking av den resulterende trykkplate, posteksponering i vann og tørking, som resulterte i at det ble erholdt en trykkplate for å trykke bølgede plater, med en tykkelse på 7 mm, en lengde på 600 mm og en bredde på 800 mm. I den således erholdte plate som vist fig. 5 (c) var det et hakk 28 på 25/100 mm i dybde i tykkelsesretningen, noe som er uønsket for en trykkplate.

Eksempel 1 (bruk av en nedmattet maskerende film).

En trykkplate ble fremstilt i hovedsak på samme måte som i sammenligingseksemplet, bortsett fra at det ble anvendt en maskerende film (6) som vist i fig. 6 (b) hvor overflaten som vender mot substratet (overflaten lengst vekk fra overflaten som er belagt med den rødlysskjermende film) hadde på forhånd blitt gjort ru ved sandblåsing ved å bruke sand med en partikkelstørrelse på 80 i forhold til Tyler mesh (tilsvarende en maksimum diameter på 180 um) i stedet for den maskerende film vist i fig. 5 (b), som hadde glatte overflater. Materialet for den maskerende film var polyetylentereftalat. Tykkelsen til den maskerende film, grå-tonen og UV-transmittansen til den gjennomsiktige film brukt som basefilm til den maskerende film, ruheten til den maskerende films nedmattede overflate og uniformitetsgraden i tykkelsen til den erholdte trykkplate er vist i tabell 2. Som vist i tabell 2, har den således erholdte trykkplate en høy uniformitetsgrad i tykkelse.

Eksempel 2 (anvendelse av et nedmattet substrat)

En trykkplate ble fremstilt i hovedsak på samme måte som i sammenligningseksemplet, bortsett fra at istedet for substratet med glatte overflater ble det brukt substrat 5 som vist i fig. 7, hvor overflaten som vender mot den maskerende film (6) på forhånd hadde blitt nedmattet ved sandblåsing. Sandblåsingen ble utført på samme måte som i eksempel 1. Materialet til substratet var polyetylenter-ftalat. Tykkelsen, tåkelegningen og UV-transmittansen til substratet, ruheten til den nedmattede overflate av substratet og uniformitetsgraden i tykkelse av den erholdte trykkplate er vist i tabell 2. Som vist i tabell, 2 har den således erholdte trykkplate en høy uniformitetsgrad i tykkelse .

Eksempel 3 ( bruk av nedmattet intermediær film)

En trykkplate ble fremstilt, i hovedsak på samme måte som i sammenligningseksemplet, bortsett fra at som vist i fig. 8, ble den intermediære film (21) med begge overflater nedmattet ved sandblåsing, lagt ovenpå substratet (5) før overlegging av den maskerende film (6) og etterfølgende overleg-gingen av substratet, slik at den mellomliggende film (21) ble plassert mellom substratet (5) og den maskerende film (6). Sandblåsingen ble utført på samme måte som i eksempel 1. Materialet i den mellomliggende film var polyetylentereftalat. Tykkelsen, tåkegraden og UV-transmittansen til den intermediære film, tykkelsen til overflatende av den intermediære film og uniformitetsgraden i tykkelse av den erholdte trykkplate er vist i tabell 2. Som vist i tabell 2 har den således erholdte trykkplate en høy uniformitetsgrad i tykkelse.

Eksempel 4 (bruk av en rillet maskerende film)

En trykkplate ble fremstilt i hovedsak på samme måte som i sammenligningseksemplet, bortsett fra at i stedet for den maskerende film med glatte overflater som vist i fig. 5(b) ble det anvendt en maskerende film (6b) som vist i figur 9(a) og fig. 9(b), hvor overflaten som vender mot substratet på forhånd var blitt rillet ved å bruke en kniv for å få riller med en dybde på 30 um i et nettmønster med intervaller på ca. 3 cm. Materialet til den rillede maskerende film var polyetylentereftalat. Tykkelsen til den maskerende film, tåkelegningsgraden og UV-transmittansen til den gjennomsiktige film brukt som basefilm til den maskerende film og uniformitetsgraden i tykkelse til den erholdte trykkplate er vist i tabell 2. Som vist i tabell 2 har den således erholdte trykkplate en høy uniformitetwsgrad i tykkelse.

Eksempel 5 (anvendelsee aven rillet intermediær film)

En trykkplate ble fremstilt i hovedsak på samme måte som i sammenligningseksemplet, bortsett fra at den intermediære film (21a) som vist i fig. 10, hadde begge overflater rillet ved å bruke en kniv for å fremstille riller på ca. 30 um i dybde i et nettmønster med intervaller på ca. 3 cm og som ble lagt over substratet (5) før overlegning av den maskerende film (6) og etterfølgende overlegning av substrat (5), slik at den mellomliggende film (21a) ble liggende mellom substrat (5) og maskerende film (6). Materialet i den rillede mellomliggende film var polyetylen-tereftalat. Tykkelsen, tåkeleggingsgraden og UV-transmittansen til den intermediære film (21a) hadde en uniformitetsgrad i tykkelse av den erholdte trykkplate som er vist i tabell 2. Som vist i tabell 2 har den således erholdte trykkplate en høy uniformitetsgrad i tykkelse.

Selv om en utførelsesform av foreliggende oppfinnelse har blitt beskrevet ovenfor under reranse til tegningene og eksemplene, kan forskjellige modifikasjoner og forandringer selvfølgelig bli foretatt av fagmanne uten å fravike opp-finnelsens ånd, definert i de etterfølgende krav.

Claims

1. Fremgangsmåte for selektiv herding av en flytende fotosensitiv harpiks ved maskeringseksponering, om-fattende: (1) å legge over hverandre på en nedre stiv plate (1) gjennomskinnelig for aktiniske stråler i følgende rekkefølge: en bildebærende gjennomsiktig transparent (2) med et over-førbart mønster (31), eller en bildebærende gjennomsiktig transparent (2) med et overførbart mønster (31), hvilken transparent har en gjennomsiktig beskyttende film (3) anbrakt på den side som vender fra den nedre stive plate (1) , en flytende fotosensitiv harpiks i form av et lag (4), et substrat (5), gjennomtrengelig for aktive stråler, en maskerende film (6) med et overførbart mønster (41) med en kontur som tilsvarer og er noe større enn den til det overførbare mønster (31) til den bildebærende transparent (2) , og en øvre stiv plate (17), gjennomskinnelig for aktiniske stråler, hvor den maskerende film (6) er anbrakt, slik at posisjonen til de overførbare mønstre (31, 41) av den bildebærende transparent (2) og den maskerende film (6) er i samsvar med hverandre, og (2) å trekke og presse substratet (5), sammen med maskeringsfilmen (6) til og mot den øvre stive plate (17) ved evakuering for å sikre flathet av både maskeringsfilmen (6) og substratet (5), og (3) å eksponere harpikslaget (4) til aktiniske stråler gjennom det overførbare mønster (41) av den maskerende film (6), for derved selektivt å herde harpikslaget (4) i samsvar med det overførbare mønster (41) av den maskerende film (6), karakterisert ved at det fremskaffes ru kontakt mellom den maskerende film (6) og substratet (5) ved å anvende en film valgt fra gruppen bestående av: (a) en film (5) med minst én overflate gjort ru og som er gjennomtrengelig for aktiniske stråler, hvor denne film (5) anvendes som substrat (5) og plasseres slik at den rugjorte overflate av substratet (5) vender mot nedre overflate av den maskerende film (6), (b) en film (6) med minst én overflate gjort ru og med et overførbart mønster (41) som har en kontur som tilsvarer og er noe større enn den til det overførbare mønster (31) av det bildebærende gjennomsiktige transparent (2), hvor filmen (6) blir anvendt som maskerende film (6) og plasseres slik at den rugjorte overflate av den maskerende film (6) vender mot øvre overflate av substratet (5), og (c) en film (21) med begge overflater rugjorte og som er gjennomskinnelig for aktiniske stråler, idet filmen (21) er lagt på substratet (5) før pålegning av den maskerende film (6) med etterfølgende pålegning av substratet (5), slik at filmen med begge rugjorte overflater blir anordnet mellom den maskerende film (6) og substratet (5).

2. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at den rugjorte overflate av hver av filmene (a), (b) og (c) er en nedmattet overflate.

3. Fremgangsmåte ifølge krav 2, karakterisert ved at de nedmattede overflater har en overflateruhet på 0,3 - 2,0 um.

4. Fremgangsmåte ifølge krav 3, karakterisert ved at den nedmattede overflate har en overflateruhet på 0,5 - 1,5 um.

5. Fremgangsmåte ifølge krav 1 , karakterisert ved at den rugjorte overflate av hver av filmene (a), (b) og (c) er en overflate med et antall riller dannet derpå.

6. Fremgangsmåte ifølge krav 5, karakterisert ved at hver rille har en dybde på 10 - 30 um.

7. Fremgangsmåte ifølge krav 6, karakterisert ved at rillene er dannet i et stripet mønster eller et nettmønster.

8. Fremgangsmåte ifølge krav 7, karakterisert ved at rillene er anbrakt med intervaller på 1 - 10 cm.

9. Fremgangsmåte ifølge ethvert av kravene 1-8, karakterisert ved at film (a) har en tykkelse på 75 - 200 um.

10. Fremgangsmåte ifølge ethvertav kravene 1-8, karakterisert ved at film (b) har en tykkelse på 50 -150 um.

11. Fremgangsmåte ifølge ethvert av kravene 1-8, karakterisert ved at film (c) hr en tykkelse på 50 - 150 um.

12. Fremgangsmåte ifølge ethvert av kravene 1-11, karakterisert ved at hver av filmene (a), (b) og (c) har en tåkelegningsgrad på minst 60%.

13. Fremgangsmåte ifølge ethvert av kravene 1-12, karakterisert ved at hver av filmene (a), (b) og (c) har en ultrafiolett transmittans på minst 50%.