JPS6161162A - 遮光性マスキングフイルムおよびそれを用いた光硬化性樹脂版材の製造法 - Google Patents
遮光性マスキングフイルムおよびそれを用いた光硬化性樹脂版材の製造法Info
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- JPS6161162A JPS6161162A JP59183095A JP18309584A JPS6161162A JP S6161162 A JPS6161162 A JP S6161162A JP 59183095 A JP59183095 A JP 59183095A JP 18309584 A JP18309584 A JP 18309584A JP S6161162 A JPS6161162 A JP S6161162A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は光線吸収量を調整し所望の遮光特性を有する遮
光性マスキングフィルム、ならびにそれを用いた感光性
樹脂版材の製造法に関する。
光性マスキングフィルム、ならびにそれを用いた感光性
樹脂版材の製造法に関する。
（従来技術）
光硬化性樹脂を用いた版材は５例えば１次のようにして
製造される。第５図に示すようにネガフィルム５１０上
にカバーフィルム５２０．液状もしくは ”固形の
光硬化性樹脂５３０および透明ベースフィルム５４０を
順次積層し２次いで、ベースフィルム５４０を介して光
硬化性樹脂５３０に露光を行い光硬化性樹脂領域を部分
的に硬化させレリーフ支持部５３１を形成する。次に、
ネガフィルム５１０側から露光を行い、ネガフィルム５
１０のポジ部分５１１に対応する光硬化性樹脂領域を硬
化させて上記レリーフ支持部５３１に連続したレリーフ
部５３２を形成する。
製造される。第５図に示すようにネガフィルム５１０上
にカバーフィルム５２０．液状もしくは ”固形の
光硬化性樹脂５３０および透明ベースフィルム５４０を
順次積層し２次いで、ベースフィルム５４０を介して光
硬化性樹脂５３０に露光を行い光硬化性樹脂領域を部分
的に硬化させレリーフ支持部５３１を形成する。次に、
ネガフィルム５１０側から露光を行い、ネガフィルム５
１０のポジ部分５１１に対応する光硬化性樹脂領域を硬
化させて上記レリーフ支持部５３１に連続したレリーフ
部５３２を形成する。
このような版材は各種印刷に利用されるが９段ボールや
重装印刷に用いると印圧が高いため非レリーフ部に付着
したインクが印刷画面に付着するおそれがある。このよ
うなインクの付着を避けるにはレリーフ深度の大きい版
材が望ましい。しかし、細線、細点および細字のレリー
フを大きい深度で形成することは難しい。たとえ、所望
のレリーフが形成されえても印刷時の印圧によりレリー
フ部がゆらぎ、そのために２画像がゆがんで得られるお
それがある。
重装印刷に用いると印圧が高いため非レリーフ部に付着
したインクが印刷画面に付着するおそれがある。このよ
うなインクの付着を避けるにはレリーフ深度の大きい版
材が望ましい。しかし、細線、細点および細字のレリー
フを大きい深度で形成することは難しい。たとえ、所望
のレリーフが形成されえても印刷時の印圧によりレリー
フ部がゆらぎ、そのために２画像がゆがんで得られるお
それがある。
段ボールや重装の印刷用には、それゆえ、第６図に示す
ような、多段構造のレリーフ支持部５３３゜５３４を有
する版材が用いられる。このような多段構造の版材の調
製には、前記版材製法（第５図）におけるベースフィル
ム５４０上に、第７図に示すように、さらに、マスキン
グフィルム５５０が積層された積層体が用いられる。
この積層体については、まず、マスキングフィルム５５
０側から露光（マスキング露光）を行い、光透過路５５
１に対応する光硬化性樹脂領域を部分的に硬化させ第ル
リーフ支持部５３３を形成する。次に、ネガフィルム５
１０側から露光（レリーフ露光）を行いレリーフ部５３
５を形成させる。このレリーフ部５３５は第■レリーフ
支持部５３３に接続した形で得られる。
ような、多段構造のレリーフ支持部５３３゜５３４を有
する版材が用いられる。このような多段構造の版材の調
製には、前記版材製法（第５図）におけるベースフィル
ム５４０上に、第７図に示すように、さらに、マスキン
グフィルム５５０が積層された積層体が用いられる。
この積層体については、まず、マスキングフィルム５５
０側から露光（マスキング露光）を行い、光透過路５５
１に対応する光硬化性樹脂領域を部分的に硬化させ第ル
リーフ支持部５３３を形成する。次に、ネガフィルム５
１０側から露光（レリーフ露光）を行いレリーフ部５３
５を形成させる。このレリーフ部５３５は第■レリーフ
支持部５３３に接続した形で得られる。
次いで、マスキングフィルム５５０を除去し、ベースフ
ィルム５４０側から露光（バック露光）を行って第２レ
リーフ支持部５３４を形成する。この第２レリーフ支持
部５３４は先の第ルリーフ支持部５３３に接続して形成
される。その結果、得られる版材は全体としては３段構
造をなす。マスキングフィルム５５０を除去したのち、
その位置に所望の光線吸収率を有するフィルムを配置し
このフィルムを通してバック露光を行ってもよい。
ィルム５４０側から露光（バック露光）を行って第２レ
リーフ支持部５３４を形成する。この第２レリーフ支持
部５３４は先の第ルリーフ支持部５３３に接続して形成
される。その結果、得られる版材は全体としては３段構
造をなす。マスキングフィルム５５０を除去したのち、
その位置に所望の光線吸収率を有するフィルムを配置し
このフィルムを通してバック露光を行ってもよい。
特公昭５１−２５４７８号公報、特開昭５４−１０４９
０２号公報および実開昭５８−２８８４２号公報には、
遮光層を透明プラスチック支持体上に備えたマスキング
フィルムが開示されている。この遮光層は光硬化性樹脂
を硬化しうる３００〜４００ｎｍの紫外線波長領
域の光線をほぼ１００％吸収しうる。このマスキング
フィルムは、前記マスキング露光に利用されうるが、遮
光層が一層設けられているだけなので光線吸収量もしく
は遮光特性を所望のレベルに制御することができない。
０２号公報および実開昭５８−２８８４２号公報には、
遮光層を透明プラスチック支持体上に備えたマスキング
フィルムが開示されている。この遮光層は光硬化性樹脂
を硬化しうる３００〜４００ｎｍの紫外線波長領
域の光線をほぼ１００％吸収しうる。このマスキング
フィルムは、前記マスキング露光に利用されうるが、遮
光層が一層設けられているだけなので光線吸収量もしく
は遮光特性を所望のレベルに制御することができない。
そのため、レリーフ支持部が３段以上、全体としては４
段以上の複雑な構造の版材を調製する場合には、異なる
位置に光透過路を備えた２枚以上のマスキングフィルム
を逐−取り替えて用いることが必要となる。しかも、レ
リーフ露光を含めて３回以上の露光が必要である。
段以上の複雑な構造の版材を調製する場合には、異なる
位置に光透過路を備えた２枚以上のマスキングフィルム
を逐−取り替えて用いることが必要となる。しかも、レ
リーフ露光を含めて３回以上の露光が必要である。
複雑な形状をなしかつ適度の硬化度をもった版材を得る
ためには、露光時間の設定もむづかしい。
ためには、露光時間の設定もむづかしい。
このように従来の遮光性マスキングフィルムを用いてレ
リーフ支持部を多段構造に形成させるには。
リーフ支持部を多段構造に形成させるには。
複数枚のマスキングフィルムを用い複数回の露光をその
露光時間を適宜変化させて行わねばならない。そのため
、操作が精緻かつ繁雑となり、製版作業に長時間を要す
るという欠点がある。
露光時間を適宜変化させて行わねばならない。そのため
、操作が精緻かつ繁雑となり、製版作業に長時間を要す
るという欠点がある。
（発明の目的）
本発明の目的は、光線吸収量を任意に制御しえ。
所望の遮光特性が得られる遮光性マスキングフィルム、
およびそれを用いた光硬化性樹脂版材の製造方法を提供
することにある。本発明の他の目的は、一枚だけのマス
キングフィルムを用い一回だけの露光操作で複雑な多段
構造の光硬化性樹脂版材を製造する方法を提供すること
にある。本発明のさらに他の目的は、露光時間や光源の
強さを変えることなく所望の形状と硬化度を備えた光硬
化性樹脂版材を製造する方法を提供することにある。
およびそれを用いた光硬化性樹脂版材の製造方法を提供
することにある。本発明の他の目的は、一枚だけのマス
キングフィルムを用い一回だけの露光操作で複雑な多段
構造の光硬化性樹脂版材を製造する方法を提供すること
にある。本発明のさらに他の目的は、露光時間や光源の
強さを変えることなく所望の形状と硬化度を備えた光硬
化性樹脂版材を製造する方法を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、−回のみの露光操作で所望
領域のみを的確に硬化し、該硬化部を適正に強化しうる
光硬化性樹脂版材の製造方法を提供することにある。本
発明のさらに他の目的は、簡便な操作で短時間のうちに
複雑な多段構造の版材を製造する方法を提供することに
ある。
領域のみを的確に硬化し、該硬化部を適正に強化しうる
光硬化性樹脂版材の製造方法を提供することにある。本
発明のさらに他の目的は、簡便な操作で短時間のうちに
複雑な多段構造の版材を製造する方法を提供することに
ある。
（発明の構成）
本発明の遮光性マスキングフィルムは透明プラスチック
フィルムでなる支持体上に剥離可能な遮光層が二層以上
積層されてなり、そのことにより上記目的が達成される
。
フィルムでなる支持体上に剥離可能な遮光層が二層以上
積層されてなり、そのことにより上記目的が達成される
。
さらに、該マスキングフィルムを用いた本発明の光硬化
性樹脂版材の製造法は、透明プラスチ・ツクフィルムで
なる支持体上に剥離可能な遮光層が二層以上積層された
遮光性マスキングフィルムの遮光層をそれぞれ任意の形
状に切除し、該マスキングフィルムに所望の光透過率を
有する光透過路を形成する工程；光硬化性樹脂層の一面
にネガフィルムを積層し他面に上記光透過路を設けた遮
光性マスキングフィルムを積層し、積層体を形成する工
程；該積層体のマスキングフィルム側から該光硬化性樹
脂にマスキング露光を行い、光透過路に対応する該光硬
化性樹脂領域を部分的に硬化させレリーフ支持部を形成
する工程；該積層体のネガフィルム側からレリーフ露光
を行い、該ネガフィルムのポジ部分に対応する該光硬化
性樹脂領域を硬化させて上記レリーフ支持部に連続した
レリーフ部を形成する工程；および該光硬化性樹脂の未
硬化領域を除去し版材を得る工程；を包含し。
性樹脂版材の製造法は、透明プラスチ・ツクフィルムで
なる支持体上に剥離可能な遮光層が二層以上積層された
遮光性マスキングフィルムの遮光層をそれぞれ任意の形
状に切除し、該マスキングフィルムに所望の光透過率を
有する光透過路を形成する工程；光硬化性樹脂層の一面
にネガフィルムを積層し他面に上記光透過路を設けた遮
光性マスキングフィルムを積層し、積層体を形成する工
程；該積層体のマスキングフィルム側から該光硬化性樹
脂にマスキング露光を行い、光透過路に対応する該光硬
化性樹脂領域を部分的に硬化させレリーフ支持部を形成
する工程；該積層体のネガフィルム側からレリーフ露光
を行い、該ネガフィルムのポジ部分に対応する該光硬化
性樹脂領域を硬化させて上記レリーフ支持部に連続した
レリーフ部を形成する工程；および該光硬化性樹脂の未
硬化領域を除去し版材を得る工程；を包含し。
そのことにより上記目的が達成される。
遮光性マスキングフィルムを構成する遮光層は。
高分子材料でなる。この高分子材料としては、ポリメチ
ルメタクリレート、メチルメタクリレート−メチルアク
リレート共重合体、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル
、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体などが用いられる。
ルメタクリレート、メチルメタクリレート−メチルアク
リレート共重合体、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル
、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体などが用いられる。
上記高分子材料には紫外線吸収剤、染料および／または
顔料などの遮光剤が配合されている。この遮光剤は３０
０〜４００ｎｍの波長領域の光線を吸収しうる。遮光剤
の紫外線吸収剤としては、サリチル酸フェニルエステル
、サリチル酸ブチルフェニルエステルなどのサリチル酸
エステル類； ２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、ベンゾトリアゾール誘導体
などのベンゾトリアゾール類；２・４−ジヒドロキシベ
ンゾフェノン、２・２°−ジヒドロキシ−４−メトキシ
ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２′
−カルボキシルベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類
などがあげられる。ベンゾトリアゾール類が好適に使用
される。 遮光剤の染料には一般に合成樹脂などの着色
に使用されている油溶性の黄色、橙色、茶色、緑色、赤
色などの染料が用いられる。その例としては、 Ｃ，
Ｔ、 ５ｏｌ−ｖｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｉｙ １４＋ Ｃ
，１，５ｏｌｖｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １９． Ｃ，Ｉ
。
顔料などの遮光剤が配合されている。この遮光剤は３０
０〜４００ｎｍの波長領域の光線を吸収しうる。遮光剤
の紫外線吸収剤としては、サリチル酸フェニルエステル
、サリチル酸ブチルフェニルエステルなどのサリチル酸
エステル類； ２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、ベンゾトリアゾール誘導体
などのベンゾトリアゾール類；２・４−ジヒドロキシベ
ンゾフェノン、２・２°−ジヒドロキシ−４−メトキシ
ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２′
−カルボキシルベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類
などがあげられる。ベンゾトリアゾール類が好適に使用
される。 遮光剤の染料には一般に合成樹脂などの着色
に使用されている油溶性の黄色、橙色、茶色、緑色、赤
色などの染料が用いられる。その例としては、 Ｃ，
Ｔ、 ５ｏｌ−ｖｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｉｙ １４＋ Ｃ
，１，５ｏｌｖｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １９． Ｃ，Ｉ
。
５ｏｌｖｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ ２Ｌ Ｃ，１，５ｏ
ｌｖｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ ４０＋Ｃ，Ｔ、 ５ｏｌ
ｖｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ ４４． ＣＡ、 ５ｏｌｖ
ｅｎｔ Ｂｒｏｉｙｎ３７、 Ｃ，１，５ｏｌｖｅｎ
ｔ Ｇｒｅｅｎ ３． Ｃ，Ｔ、 ５ｏｌｖｅｎｔ
Ｒｅｄ８などが挙げられる。市販品にはネオザポンイエ
ローＲ，ネオザポンオレンジＲＥ、ネオザポンブラウン
ＢＥ（いずれもＢＡＳＦ社製）；スミプラストグリーン
Ｇ（住人化学社製）、ネオザポンレッド（ＢＡＳＦ社製
）などがある。
ｌｖｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ ４０＋Ｃ，Ｔ、 ５ｏｌ
ｖｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ ４４． ＣＡ、 ５ｏｌｖ
ｅｎｔ Ｂｒｏｉｙｎ３７、 Ｃ，１，５ｏｌｖｅｎ
ｔ Ｇｒｅｅｎ ３． Ｃ，Ｔ、 ５ｏｌｖｅｎｔ
Ｒｅｄ８などが挙げられる。市販品にはネオザポンイエ
ローＲ，ネオザポンオレンジＲＥ、ネオザポンブラウン
ＢＥ（いずれもＢＡＳＦ社製）；スミプラストグリーン
Ｇ（住人化学社製）、ネオザポンレッド（ＢＡＳＦ社製
）などがある。
これらの遮光剤はそれぞれ光の吸収波長や吸収率が少し
ずつ異なる。それゆえ、その種類や含有濃度を選択する
ことにより適宜所望の遮光特性を有する遮光層を得るこ
とができる。遮光層の厚みを変えることによってもその
遮光特性を変えることができる。
ずつ異なる。それゆえ、その種類や含有濃度を選択する
ことにより適宜所望の遮光特性を有する遮光層を得るこ
とができる。遮光層の厚みを変えることによってもその
遮光特性を変えることができる。
これら遮光剤は高分子材料１００重量部あたり２０〜１
００重量部の割合で添加されるのが好ましい。
００重量部の割合で添加されるのが好ましい。
」−記遮光層を支持する支持体は、 ３００〜４００
ｎｍの波長領域の光線に対する透過率が６０％以」二が
好 ましく、より好ましくは７０％以上である。この
支持体の８０℃における加熱寸法変化率は３％以下であ
ることが好ましい。この支持体は９例えば、ポリエステ
ル；ポリエチレン；ポリプロピレン；ポリメチルメタク
リレートなどのアクリル系樹脂；ポリエチレンテレフタ
レート；硬質ポリ塩化ビニルなどで作られる。支持体は
厚さが２０〜１６０ μｍに形成されるのが好ましい。
ｎｍの波長領域の光線に対する透過率が６０％以」二が
好 ましく、より好ましくは７０％以上である。この
支持体の８０℃における加熱寸法変化率は３％以下であ
ることが好ましい。この支持体は９例えば、ポリエステ
ル；ポリエチレン；ポリプロピレン；ポリメチルメタク
リレートなどのアクリル系樹脂；ポリエチレンテレフタ
レート；硬質ポリ塩化ビニルなどで作られる。支持体は
厚さが２０〜１６０ μｍに形成されるのが好ましい。
遮光層は１例えば９次のようにして支持体上に形成され
る。■高分子材料と遮光剤とを有機溶剤に溶解させ、こ
れを支持体上に塗布し乾燥させる。
る。■高分子材料と遮光剤とを有機溶剤に溶解させ、こ
れを支持体上に塗布し乾燥させる。
■高分子材料と遮光剤とを有機溶剤に溶解させ。
これを高分子フィルムに塗布し乾燥させ１次いで。
これを支持体上に密着させる。■高分子材料と遮光剤と
を溶融し、これを支持体上で膜に形成する。
を溶融し、これを支持体上で膜に形成する。
■高分子材料のフィルムに遮光剤を吸着させ、これを支
持体上に密着させる。
持体上に密着させる。
遮光層の一層の厚さは一般に５〜１５０μｍであり、使
用時に切除する容易さを考えあわせると１０〜７５μｍ
であることが好ましい。積層された遮光層の下層を上層
から透視しながら作業できるように、遮光層は透明性を
有することが好ましい。遮光層を積層した本発明の遮光
性マスキングフィルムは１例えば、第１図に示すように
、支持体１１上の片面に遮光層１２．１３が二層にわた
って積層されている。第２図に示す遮光性マスキングフ
ィルムにおいては、支持体２１の両面に遮光層２２．２
３が一層ずつサンドインチ状に積層されている。また。
用時に切除する容易さを考えあわせると１０〜７５μｍ
であることが好ましい。積層された遮光層の下層を上層
から透視しながら作業できるように、遮光層は透明性を
有することが好ましい。遮光層を積層した本発明の遮光
性マスキングフィルムは１例えば、第１図に示すように
、支持体１１上の片面に遮光層１２．１３が二層にわた
って積層されている。第２図に示す遮光性マスキングフ
ィルムにおいては、支持体２１の両面に遮光層２２．２
３が一層ずつサンドインチ状に積層されている。また。
第３図に示すように、第２図のサンドイッチ構造の一方
の遮光層３２の上にさらにもう一層の遮光層３４が積層
されている。遮光層の層数はこれに限定されないことは
いうまでもない。遮光性マスキングフィルムの遮光率は
、全体として、９８〜１００％であることが好ましい。
の遮光層３２の上にさらにもう一層の遮光層３４が積層
されている。遮光層の層数はこれに限定されないことは
いうまでもない。遮光性マスキングフィルムの遮光率は
、全体として、９８〜１００％であることが好ましい。
支持体と遮光層との間。
もしくは隣接する遮光層同士の間に、遮光層を切断・除
去するときの剥離性を高めるために、離型層１５．２５
．３５が設けられていてもよい。その剥離強度は１０〜
１００ｇ／２５ｍｍであることが好ましい。離型層は粘
着テープに通常用いられる粘着剤や離型剤などで構成さ
れる。
去するときの剥離性を高めるために、離型層１５．２５
．３５が設けられていてもよい。その剥離強度は１０〜
１００ｇ／２５ｍｍであることが好ましい。離型層は粘
着テープに通常用いられる粘着剤や離型剤などで構成さ
れる。
このように遮光性マスキングフィルムは、上記透明プラ
スチック支持体上に遮光層が順次積層されて形成される
。得られたマスキングフィルムの遮光層は、その所定部
を９例えばカッターナイフなどで容易に切断され遮光層
が支持体から剥離されうる。このようにして所望の部位
に所望の遮光特性を備えた遮光層が得られる。
スチック支持体上に遮光層が順次積層されて形成される
。得られたマスキングフィルムの遮光層は、その所定部
を９例えばカッターナイフなどで容易に切断され遮光層
が支持体から剥離されうる。このようにして所望の部位
に所望の遮光特性を備えた遮光層が得られる。
この遮光性マスキングフィルムを用いると、光硬化性樹
脂版材が１例えば２次のようにして製造される。まず、
前記第２図の遮光性マスキングフィルム２の遮光層２２
．２３の所定部を切除し、第４図に示すように、光透過
路２２１，２３１を形成する。
脂版材が１例えば２次のようにして製造される。まず、
前記第２図の遮光性マスキングフィルム２の遮光層２２
．２３の所定部を切除し、第４図に示すように、光透過
路２２１，２３１を形成する。
他方、あらかじめ作成されたネガフィルム５上に液状も
しくは固形の光硬化性樹脂７を積層する。
しくは固形の光硬化性樹脂７を積層する。
ネガフィルム５と光硬化性樹脂７との間にはネガフィル
ム５を保護するための透明プラスチック製カバーフィル
ム６が設けられうる。光硬化性樹脂７としては、光照射
によりラジカル反応を起こし。
ム５を保護するための透明プラスチック製カバーフィル
ム６が設けられうる。光硬化性樹脂７としては、光照射
によりラジカル反応を起こし。
重合・硬化する既知の光硬化性樹脂が用いられる。
このような光硬化性樹脂としては１例えば、シアゾ樹脂
、アジド樹脂、けい皮酸エステル樹脂、アクリル系樹脂
、ポリアミドなどがある。光硬化性樹脂層の」二には必
要に応じてベースフィルム８が積層される。ベースフィ
ルム８は形成されたｌ全体を一定の形状に保つために設
けられる。ベースフィルム８の素材としては透明ポリエ
ステルなどが好適である。光硬化性樹脂７が液状の場合
は気泡が入りやすいのでベースフィルム８の積層後。
、アジド樹脂、けい皮酸エステル樹脂、アクリル系樹脂
、ポリアミドなどがある。光硬化性樹脂層の」二には必
要に応じてベースフィルム８が積層される。ベースフィ
ルム８は形成されたｌ全体を一定の形状に保つために設
けられる。ベースフィルム８の素材としては透明ポリエ
ステルなどが好適である。光硬化性樹脂７が液状の場合
は気泡が入りやすいのでベースフィルム８の積層後。
真空引きして脱泡しておくことが好ましい。ベースフィ
ルム８」二には、前記光透過路２２１．２３１を備えた
遮光性マスキングフィルム２が積層される。
ルム８」二には、前記光透過路２２１．２３１を備えた
遮光性マスキングフィルム２が積層される。
このようにして、所望の版材調製用積層体１００が得ら
れる。次いで、積層体１００は、マスキングフィルム２
側からのマスキング露光に供される。このマスキング露
光により、光透過路２２Ｌ ２３１に対応する光硬化性
樹脂領域が透過光の強度に応じて硬化し、多段構造のレ
リーフ支持部７Ｌ ７２を生じる。積層体＋００は１次
いで、ネガフィルム５側からのレリーフ露光に供せられ
る。その結果、ネガフィルム５のポジ部分５１に対応す
る光硬化性樹脂領域が硬化され、上記レリーフ支持部７
１に連続したレリーフ部７３が形成される。光硬化性樹
脂の未硬化領域７４がへらなどを用いてかき取られる。
れる。次いで、積層体１００は、マスキングフィルム２
側からのマスキング露光に供される。このマスキング露
光により、光透過路２２Ｌ ２３１に対応する光硬化性
樹脂領域が透過光の強度に応じて硬化し、多段構造のレ
リーフ支持部７Ｌ ７２を生じる。積層体＋００は１次
いで、ネガフィルム５側からのレリーフ露光に供せられ
る。その結果、ネガフィルム５のポジ部分５１に対応す
る光硬化性樹脂領域が硬化され、上記レリーフ支持部７
１に連続したレリーフ部７３が形成される。光硬化性樹
脂の未硬化領域７４がへらなどを用いてかき取られる。
次いで、洗浄などの手段を通じて残余の未硬化樹脂が完
全に除去される。必要に応じて再露光されて版材の未硬
化光硬化性樹脂が除去された界面を充分に硬化させレリ
ーフ強度を上げることが行われる。未硬化の光硬化性樹
脂は回収され１版材の製造に再利用されうる。このよう
に１枚の遮光性マスキングフィルム２を用い、１回の露
光操作で多段構造のレリーフ支持部７１．７２を有する
版材が得られる。このような版材は段ボールや重装の印
刷用として最適である。
全に除去される。必要に応じて再露光されて版材の未硬
化光硬化性樹脂が除去された界面を充分に硬化させレリ
ーフ強度を上げることが行われる。未硬化の光硬化性樹
脂は回収され１版材の製造に再利用されうる。このよう
に１枚の遮光性マスキングフィルム２を用い、１回の露
光操作で多段構造のレリーフ支持部７１．７２を有する
版材が得られる。このような版材は段ボールや重装の印
刷用として最適である。
（実施例）
以下に本発明を実施例により説明する。
実施例↓
（Ａ）遮光性マスキングフィルムの調製：厚さが１００
，１７１１１の透明ポリエステルフィルムを支持体とし
て用いた。この支持体の３００〜４００ μｍにおける
光透過率は７０％である。高分子材料としてはポリメチ
ルメタクリレートを用いた。ポリメチルメタクリレ−１
−１００重量部（トルエン溶液中で固形分換算）あたり
、遮光剤として、紫外線吸収剤２−（２−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールを０．５重量
部加えた。このトルエン溶液を」二記支持体の両面に乾
燥後の厚さがそれぞれ２０μｍとなるように塗布した。
，１７１１１の透明ポリエステルフィルムを支持体とし
て用いた。この支持体の３００〜４００ μｍにおける
光透過率は７０％である。高分子材料としてはポリメチ
ルメタクリレートを用いた。ポリメチルメタクリレ−１
−１００重量部（トルエン溶液中で固形分換算）あたり
、遮光剤として、紫外線吸収剤２−（２−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールを０．５重量
部加えた。このトルエン溶液を」二記支持体の両面に乾
燥後の厚さがそれぞれ２０μｍとなるように塗布した。
このようにして調製された遮光性マスキングフィルムの
３００〜４００μｍにおける遮光率は、全体として、
９９．５％であった。
３００〜４００μｍにおける遮光率は、全体として、
９９．５％であった。
（Ｂ）光硬化性樹脂版材の調製： （Ａ）項で得られた
遮光性マスキングフィルムの遮光層を部分的に切除し、
第４図に示すような光透過路２２１゜２３１を設けた。
遮光性マスキングフィルムの遮光層を部分的に切除し、
第４図に示すような光透過路２２１゜２３１を設けた。
厚さが５ｍｍの透明ガラス板４上に。
第４図に示すように、ネガフィルム５を配置した。
この上に厚さが３０μ市のＴＩＩ離性ポリプロピレンフ
ィルムからなる透明カバーフィルム６を、光硬化性樹脂
として液状のアミド系感光性樹脂を厚さ０．５ｃｍに、
そしてさらにベースフィルム８として厚さ１００μｍの
透明ポリエステル製フィルムを、順次１積層した。最後
に、上記光透過路２２１．２３１を設けた遮光性マスキ
ングフィルム２をベースフィルム８上に積層し、ガラス
板４上に所望の積層体１００を得た。次に、積層体１０
０のマスキングフィルム側から水銀ランプ（出力６ ｋ
Ｗ）を用いて４Ｇの距離から５分間マスキング露光を行
なった。光硬化性樹脂領域の一部が硬化しレリーフ支持
部７Ｌ ７２が形成された。次いで、透明ガラス板４を
介してネガフィルム５側から同様の水銀ランプを用いて
４ ｃｍの距離から５分間レリーフ露光を行った。ネガ
フィルム５のポジ部分５１に対応する光硬化性樹脂領域
が硬化し、レリーフ支持部に接続するレリーフ部７３が
形成された。次いで、マスキングフィルム２．透明ガラ
ス板４．ネガフィルム５およびカバーフィルム６が順次
取り除かれた。そして。
ィルムからなる透明カバーフィルム６を、光硬化性樹脂
として液状のアミド系感光性樹脂を厚さ０．５ｃｍに、
そしてさらにベースフィルム８として厚さ１００μｍの
透明ポリエステル製フィルムを、順次１積層した。最後
に、上記光透過路２２１．２３１を設けた遮光性マスキ
ングフィルム２をベースフィルム８上に積層し、ガラス
板４上に所望の積層体１００を得た。次に、積層体１０
０のマスキングフィルム側から水銀ランプ（出力６ ｋ
Ｗ）を用いて４Ｇの距離から５分間マスキング露光を行
なった。光硬化性樹脂領域の一部が硬化しレリーフ支持
部７Ｌ ７２が形成された。次いで、透明ガラス板４を
介してネガフィルム５側から同様の水銀ランプを用いて
４ ｃｍの距離から５分間レリーフ露光を行った。ネガ
フィルム５のポジ部分５１に対応する光硬化性樹脂領域
が硬化し、レリーフ支持部に接続するレリーフ部７３が
形成された。次いで、マスキングフィルム２．透明ガラ
ス板４．ネガフィルム５およびカバーフィルム６が順次
取り除かれた。そして。
光硬化性樹脂の未硬化領域７４はヘラなどを用いて機械
的にかき取り除去された。これを、さらに。
的にかき取り除去された。これを、さらに。
界面活性剤を含有する水で洗浄した後水中で後露光を行
った。このようにして、得られた版材を用い、ダンボー
ルに印刷を行ったところ、ゆがみのない鮮明な印刷画像
が得られた。
った。このようにして、得られた版材を用い、ダンボー
ルに印刷を行ったところ、ゆがみのない鮮明な印刷画像
が得られた。
実施Ｍ１
（Ａ）遮光性マスキングフィルムの調製：紫外線吸収剤
の代わりに黄色染料としてネオザポンイエローＲ（ＢＡ
ＳＦ社製）を２５重量部用いたこと以外は実施例１（Ａ
）項と同様である。
の代わりに黄色染料としてネオザポンイエローＲ（ＢＡ
ＳＦ社製）を２５重量部用いたこと以外は実施例１（Ａ
）項と同様である。
（Ｂ）光硬化性樹脂版材の調製：本実施例（Ａ）項で得
られた遮光性マスキングフィルムを使用したこと以外は
実施例１（Ｂ）項と同様である。このようにして、得ら
れた版材を用い、ダンボールに印刷を行ったところ、ゆ
がみのない鮮明な印刷画像が得られた。
られた遮光性マスキングフィルムを使用したこと以外は
実施例１（Ｂ）項と同様である。このようにして、得ら
れた版材を用い、ダンボールに印刷を行ったところ、ゆ
がみのない鮮明な印刷画像が得られた。
（発明の効果）
本発明によれば、このように、所望の遮光特性を有する
遮光性マスキングフィルムが得られる。
遮光性マスキングフィルムが得られる。
このマスキングフィルムを一枚だけヲ用いて、−回だけ
の露光操作で複雑な多段構造の光硬化性樹脂版材が製造
されうる。露光時間や光源の強度を変えることなく所望
の形状と硬化度とを備えた光硬化性樹脂版材が得られる
。このような所望の多段構造の光硬化性樹脂版材は簡便
な操作で短時間のうちに製造されるため、安価である。
の露光操作で複雑な多段構造の光硬化性樹脂版材が製造
されうる。露光時間や光源の強度を変えることなく所望
の形状と硬化度とを備えた光硬化性樹脂版材が得られる
。このような所望の多段構造の光硬化性樹脂版材は簡便
な操作で短時間のうちに製造されるため、安価である。
しかも。
−回のみの露光操作で所望の領域のみが硬化し。
該硬化部は適正に強化されている。不必要な箇所の硬化
が起こらないため、液状の光硬化性樹脂を用いる場合に
は、樹脂を有効に回収し再利用することが可能である。
が起こらないため、液状の光硬化性樹脂を用いる場合に
は、樹脂を有効に回収し再利用することが可能である。
第１図〜第３図はそれぞれ本発明の遮光性マスキングフ
ィルムの一例を示す断面側面図、第４図は本発明の遮光
性マスキングフィルムを用いた光硬化性樹脂版材の製造
法の一例を説明する断面説明図、第５図は一層のレリー
フ支持部を有する従来の光硬化性樹脂版材の製造法を説
明する断面説明図、第６図は多段のレリーフ支持部を有
する従来光硬化性樹脂版材の一例を示す断面側面図、そ
して第７図は第６図に示す従来の版材の製造法を説明す
る断面説明図である。 １、２．３・・・遮光性マスキングフィルム、 ５．５
１０・・・ネガフィルム、 ７．５３０・・・光硬化性
樹脂、 ８．５４０・・・ベースフィルム、 １１．２
１．３１・・・支持体、 １２．１３゜２２、２３．３
２．３３．３４・・・遮光層、 ７１．５３３・・・第
２レリーフ支持部、 ７２．５３４・・・第２レリーフ
支持部。 ７３、５３２．５３５・・・レリーフ部、１００・・・
版材用積層体。 以上
ィルムの一例を示す断面側面図、第４図は本発明の遮光
性マスキングフィルムを用いた光硬化性樹脂版材の製造
法の一例を説明する断面説明図、第５図は一層のレリー
フ支持部を有する従来の光硬化性樹脂版材の製造法を説
明する断面説明図、第６図は多段のレリーフ支持部を有
する従来光硬化性樹脂版材の一例を示す断面側面図、そ
して第７図は第６図に示す従来の版材の製造法を説明す
る断面説明図である。 １、２．３・・・遮光性マスキングフィルム、 ５．５
１０・・・ネガフィルム、 ７．５３０・・・光硬化性
樹脂、 ８．５４０・・・ベースフィルム、 １１．２
１．３１・・・支持体、 １２．１３゜２２、２３．３
２．３３．３４・・・遮光層、 ７１．５３３・・・第
２レリーフ支持部、 ７２．５３４・・・第２レリーフ
支持部。 ７３、５３２．５３５・・・レリーフ部、１００・・・
版材用積層体。 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、透明プラスチックフィルムでなる支持体上に剥離可
能な遮光層が二層以上積層された遮光性マスキングフィ
ルム。 ２、前記遮光層が３００〜４００ｎｍの波長領域の光線
を遮蔽する特許請求の範囲第１項に記載のマスキングフ
ィルム。 ３、前記遮光層が高分子材料に遮光剤が配合されてなる
特許請求の範囲第１項に記載のマスキングフィルム。 ４、前記遮光層が該支持体上の片面に二層積層されてな
る特許請求の範囲第１項、第２項または第３項に記載の
マスキングフィルム。 ５、前記遮光層が該支持体の両面に一層ずつサンドイッ
チ状に積層されてなる特許請求の範囲第１項、第２項ま
たは第３項に記載のマスキングフィルム。 ６、前記遮光層の少なくとも一方にさらにもう一層の遮
光層が積層されてなる特許請求の範囲第５項に記載のマ
スキングフィルム。 ７、透明プラスチックフィルムでなる支持体上に剥離可
能な遮光層が二層以上積層された遮光性マスキングフィ
ルムの遮光層をそれぞれ任意の形状に切除し、該マスキ
ングフィルムに所望の光透過率を有する光透過路を形成
する工程、 光硬化性樹脂層の一面にネガフィルムを積層し他面に上
記光透過路を設けた遮光性マスキングフィルムを積層し
、積層体を形成する工程、 該積層体のマスキングフィルム側から光硬化性樹脂にマ
スキング露光を行い、光透過路に対応する該光硬化性樹
脂領域を部分的に硬化させレリーフ支持部を形成する工
程、 該積層体のネガフィルム側からレリーフ露光を行い、該
ネガフィルムのポジ部分に対応する該光硬化性樹脂領域
を硬化させて上記レリーフ支持部に連続したレリーフ部
を形成する工程、および該光硬化性樹脂の未硬化領域を
除去し版材を得る工程、 を包含する光硬化性樹脂版材の製造法。 ８、前記遮光性マスキングフィルムの遮光層が３００〜
４００ｎｍの波長領域の光線を遮蔽する特許請求の範囲
第７項に記載の製造法。 ９、前記遮光性マスキングフィルムの遮光層が高分子材
料に遮光剤が配合されてなる特許請求の範囲第７項に記
載の製造法。 １０、前記遮光性マスキングフィルムの遮光層が該支持
体上の片面に二層積層されてなる特許請求の範囲第７項
、第８項または第９項に記載の製造法。 １１、前記遮光性マスキングフィルムの遮光層が該支持
体の両面に一層ずつサンドイッチ状に積層されてなる特
許請求の範囲第７項、第８項または第９項に記載の製造
法。 １２、前記遮光マスキングフィルムの遮光層の少なくと
も一方にさらにもう一層の遮光層が積層されてなる特許
請求の範囲第１１項に記載の製造法。 １３、前記光透過路が前記遮光層を該光硬化性樹脂が少
なくとも三段構造に硬化するように切除して設けられた
特許請求の範囲第７項に記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59183095A JPS6161162A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | 遮光性マスキングフイルムおよびそれを用いた光硬化性樹脂版材の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59183095A JPS6161162A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | 遮光性マスキングフイルムおよびそれを用いた光硬化性樹脂版材の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6161162A true JPS6161162A (ja) | 1986-03-28 |
Family
ID=16129670
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59183095A Pending JPS6161162A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | 遮光性マスキングフイルムおよびそれを用いた光硬化性樹脂版材の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6161162A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06230555A (ja) * | 1993-02-05 | 1994-08-19 | I Kikaku Kk | 刷版用マスキングフィルムの製法及びその装置 |
| JP2012078445A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Asahi Kasei E-Materials Corp | マスクフィルム、感光性樹脂印刷版の製造方法、感光性樹脂印刷版 |
| WO2017063951A1 (de) * | 2015-10-15 | 2017-04-20 | Universität Kassel | Mikrostruktur und verfahren zur herstellung einer mikrostruktur in einer fotolithographietechnik |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6129350B2 (ja) * | 1976-09-22 | 1986-07-05 | Basf Ag |
-
1984
- 1984-08-31 JP JP59183095A patent/JPS6161162A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6129350B2 (ja) * | 1976-09-22 | 1986-07-05 | Basf Ag |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06230555A (ja) * | 1993-02-05 | 1994-08-19 | I Kikaku Kk | 刷版用マスキングフィルムの製法及びその装置 |
| JP2012078445A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Asahi Kasei E-Materials Corp | マスクフィルム、感光性樹脂印刷版の製造方法、感光性樹脂印刷版 |
| WO2017063951A1 (de) * | 2015-10-15 | 2017-04-20 | Universität Kassel | Mikrostruktur und verfahren zur herstellung einer mikrostruktur in einer fotolithographietechnik |
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