JPH01128065A - 非固体状感光性樹脂へのパターン露光方法 - Google Patents
非固体状感光性樹脂へのパターン露光方法Info
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- JPH01128065A JPH01128065A JP62285466A JP28546687A JPH01128065A JP H01128065 A JPH01128065 A JP H01128065A JP 62285466 A JP62285466 A JP 62285466A JP 28546687 A JP28546687 A JP 28546687A JP H01128065 A JPH01128065 A JP H01128065A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2012—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image using liquid photohardening compositions, e.g. for the production of reliefs such as flexographic plates or stamps
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、感光性樹脂への接触露光方法に関する。より
詳しくは、プリント配線板や金属の微細加工品製造のた
めのレジストパターン形成、印刷版に用いるレリーフパ
ターン形成等における。マスクと非固体状の感光性樹脂
とのギャップを少くして、精度の高いパターン露光を行
う露光方法に関する。
詳しくは、プリント配線板や金属の微細加工品製造のた
めのレジストパターン形成、印刷版に用いるレリーフパ
ターン形成等における。マスクと非固体状の感光性樹脂
とのギャップを少くして、精度の高いパターン露光を行
う露光方法に関する。
非固体状すなわち、液体あるいは粘着性の感光性固体に
対して、マスクを用いてパターン露光を行う技術への産
業上の要求は大きい、感光性樹脂凸版材あるいはプリン
ト配線板用液状レジスト、あるいはスクリーン製版用直
接法液状感光性樹脂等の分野では、いずれも、非固体状
の感光性樹脂を使用するシステムが知られている。これ
らの場合、マスクは、ポリエステルフィルムを基材とす
るもの、あるいはガラスや石英を基材とするものを使用
するが、マスクの損傷は極力避けなければならない。一
方原画に忠実なパタiンを形成するには、なるべくマス
クと感光性樹脂層を近接して配置することが望ましい。
対して、マスクを用いてパターン露光を行う技術への産
業上の要求は大きい、感光性樹脂凸版材あるいはプリン
ト配線板用液状レジスト、あるいはスクリーン製版用直
接法液状感光性樹脂等の分野では、いずれも、非固体状
の感光性樹脂を使用するシステムが知られている。これ
らの場合、マスクは、ポリエステルフィルムを基材とす
るもの、あるいはガラスや石英を基材とするものを使用
するが、マスクの損傷は極力避けなければならない。一
方原画に忠実なパタiンを形成するには、なるべくマス
クと感光性樹脂層を近接して配置することが望ましい。
従来このために1次のような手段がとられていた。
(1)マスク表面に離形性を与えるワックスや流動パラ
フィンのpIi層をつくり、マスクと感光性樹脂を密着
する。
フィンのpIi層をつくり、マスクと感光性樹脂を密着
する。
(2)感光性樹脂中に、重合して表面の接着性を低下さ
せる助剤、すなわちツー2クス類を含有させておき、こ
の感光性樹脂上にマスクを載せる。
せる助剤、すなわちツー2クス類を含有させておき、こ
の感光性樹脂上にマスクを載せる。
(3)感光性樹脂の塗布膜厚を精密に制御し、かつマス
クと感光性樹脂を平行に保ち、一定のギ+−/プ(通常
、0.1mmN1 、Ommの範囲)を保持し、平行度
の高い光源を用いて露光する。
クと感光性樹脂を平行に保ち、一定のギ+−/プ(通常
、0.1mmN1 、Ommの範囲)を保持し、平行度
の高い光源を用いて露光する。
これらの方法は、いずれも実用化されている手段である
が、それぞれ以下のような不充分さを有している。
が、それぞれ以下のような不充分さを有している。
(1)の方法は、離型性付与の材料の、塗布あるいは洗
浄に手間がかかり、パターンの損傷の危険があり、多数
回の繰り返しには向かない、すなわち、刷版の手段には
なるが、多数回の繰り返しを要するレジストパターン形
成には適用できない。
浄に手間がかかり、パターンの損傷の危険があり、多数
回の繰り返しには向かない、すなわち、刷版の手段には
なるが、多数回の繰り返しを要するレジストパターン形
成には適用できない。
(2)の方法は、(1)と同様に多数回の繰り返しに向
かないという欠点がある。加えて、感光性樹脂中の助剤
が、レジスト膜の基材への接着性を低下させ、パターン
をレジストとして使用する場合に、レジスト性を低下さ
せたり、溶出して来て処理液の性能を低下させることが
知られている。また、パターンを別の材料と接合する必
要がある場合に、接合強度を低下させる原因になったり
する可能性がある。
かないという欠点がある。加えて、感光性樹脂中の助剤
が、レジスト膜の基材への接着性を低下させ、パターン
をレジストとして使用する場合に、レジスト性を低下さ
せたり、溶出して来て処理液の性能を低下させることが
知られている。また、パターンを別の材料と接合する必
要がある場合に、接合強度を低下させる原因になったり
する可能性がある。
(3)の一定のギャップを保持し、平行度の高い光源で
露光する方法は、ギャップの制御のために高価な光学的
制御あるいは機械的制御の装置が必要となり、また平行
度の高い紫外線光源を作り出すにも高価な装置が必要に
なる等、装置の価格が非常に高くなるという欠点がある
。また、感光性樹脂が低粘度であると、膜厚の制御も困
難になるおそれがある。
露光する方法は、ギャップの制御のために高価な光学的
制御あるいは機械的制御の装置が必要となり、また平行
度の高い紫外線光源を作り出すにも高価な装置が必要に
なる等、装置の価格が非常に高くなるという欠点がある
。また、感光性樹脂が低粘度であると、膜厚の制御も困
難になるおそれがある。
本発明の目的は、このような従来技術の欠点を除去し、
非固体状のネガ型感光性樹脂に対して、マスクを近接し
て配置し露光する方法を与えることにある。
非固体状のネガ型感光性樹脂に対して、マスクを近接し
て配置し露光する方法を与えることにある。
すなわち、本発明は、広範囲の非固体状の感光性樹脂に
対して紫外線の利用効率を下げることなく、また、感光
性樹脂とマスクとの間のギャップを最小的Log程度に
してもマスクの損傷を起こすこともなく、パターン露光
が実施できる方法を提供し、感光性樹脂を用いた微細加
工の高精度化と低コスト化とを図ることを目的とする。
対して紫外線の利用効率を下げることなく、また、感光
性樹脂とマスクとの間のギャップを最小的Log程度に
してもマスクの損傷を起こすこともなく、パターン露光
が実施できる方法を提供し、感光性樹脂を用いた微細加
工の高精度化と低コスト化とを図ることを目的とする。
〔問題点を解決するための手段および作用〕本発明は、
乾燥した表面を有しない非固体状の感光性樹脂とマスク
との間に、重合体の繰り返し単位当り1個以上のフッ素
原子を有する高分子化合物から成る、波長300nmか
ら500nmの範囲における光線透過率が30%以七の
プラスチックフィルムを介在させ、マスク上部から活性
エネルギー線照射を行うことを特徴とするパターン露光
方法である。
乾燥した表面を有しない非固体状の感光性樹脂とマスク
との間に、重合体の繰り返し単位当り1個以上のフッ素
原子を有する高分子化合物から成る、波長300nmか
ら500nmの範囲における光線透過率が30%以七の
プラスチックフィルムを介在させ、マスク上部から活性
エネルギー線照射を行うことを特徴とするパターン露光
方法である。
本発明で感光性樹脂とマスクとの間に介在させるプラス
チックフィルムは、代表的には下記の構造の繰り返し単
位を有する重合体あるいはそれらとフッ素非含有単量体
との共重合体(ビニルポリマー)から成る。
チックフィルムは、代表的には下記の構造の繰り返し単
位を有する重合体あるいはそれらとフッ素非含有単量体
との共重合体(ビニルポリマー)から成る。
0F3
F3
F3
Coo−CH2Cn F zn +、n=1 〜8
Coo−Cn F 211 +t
n=1〜12
これらの繰り返し単位から成る重合体フィルムのうち、
本発明に適するのは、感光性樹脂の硬化に利用される活
性エネルギー線の波長、即ち300nmから500nm
の波長範囲において、各波長ごとに少くとも30%以上
の好ましくは、60%以上の光線透過率を有するもので
ある。光線透過率が30%以下であると、通常それは、
該プラスチックフィルム中に微結晶が存在し、光の散乱
を起していることを意味している。従って、このどきは
、マス°りの原画像がゆがんで投影され、忠実な再現が
困難になる。前記繰り返し単位を生成する単量体のうち
、このような微結晶を生成しやすいものの場合は、当該
単量体をフッ素非含有の単量体と共重合させることによ
り光透過率をと記の範囲内にすることができる。この際
に用いられるフッ素非含有の単量体としては、エチレン
、プロピレン、ブチレン、イソブチレン、ブタジェン、
ペンテン、4−メチルペンテン、スチレン、α−メチル
スチレン、メチルメタクリレート等である。これらの単
量体は、その中の水素原子が塩素原子に一部置換されて
いてもよい。
本発明に適するのは、感光性樹脂の硬化に利用される活
性エネルギー線の波長、即ち300nmから500nm
の波長範囲において、各波長ごとに少くとも30%以上
の好ましくは、60%以上の光線透過率を有するもので
ある。光線透過率が30%以下であると、通常それは、
該プラスチックフィルム中に微結晶が存在し、光の散乱
を起していることを意味している。従って、このどきは
、マス°りの原画像がゆがんで投影され、忠実な再現が
困難になる。前記繰り返し単位を生成する単量体のうち
、このような微結晶を生成しやすいものの場合は、当該
単量体をフッ素非含有の単量体と共重合させることによ
り光透過率をと記の範囲内にすることができる。この際
に用いられるフッ素非含有の単量体としては、エチレン
、プロピレン、ブチレン、イソブチレン、ブタジェン、
ペンテン、4−メチルペンテン、スチレン、α−メチル
スチレン、メチルメタクリレート等である。これらの単
量体は、その中の水素原子が塩素原子に一部置換されて
いてもよい。
フィルムの厚さは10騨〜300uの範囲のものが用い
られる。
られる。
なお、本発明で用いるブラスッチクフィルムには、下記
の特性を損なわない範囲で種々の添加剤を加えてもよい
。
の特性を損なわない範囲で種々の添加剤を加えてもよい
。
本発明のパターン露光方法に用いるフッ素原子含有プラ
スチッフィルムは、次のような特徴を持つ。
スチッフィルムは、次のような特徴を持つ。
1、感光性樹脂の硬化に利用される活性エネルギー線、
すなわち波長300nm〜500nmの光線に対する吸
収率が低く、一般に感光性フィルムの基材として使用さ
れるポリエチレンテレフタレートフィルムよりも光線が
有効に利用できる。
すなわち波長300nm〜500nmの光線に対する吸
収率が低く、一般に感光性フィルムの基材として使用さ
れるポリエチレンテレフタレートフィルムよりも光線が
有効に利用できる。
従って見かけ上の感度が上昇し、厚膜での深部硬化性が
上昇する。
上昇する。
2、ネガ型感光性樹脂を接触させて硬化させても、接着
してしまうことが全く無く容易に剥離除去できる。従っ
て、マスクを用いてパターン状の露光を行った場合、フ
ィルム剥離後に容易に現像処理ができる。
してしまうことが全く無く容易に剥離除去できる。従っ
て、マスクを用いてパターン状の露光を行った場合、フ
ィルム剥離後に容易に現像処理ができる。
以上の我々が見出した事実の他に、フッ素含有のビニル
ポリマーフィルムは、機械的強度が高く、また紫外線に
よる劣化が起こりにくい等の素。
ポリマーフィルムは、機械的強度が高く、また紫外線に
よる劣化が起こりにくい等の素。
材自体の公知の耐久性は、その他の種々のプラスチック
フィルムに比べて本発明の目的にかなったものであると
言える。
フィルムに比べて本発明の目的にかなったものであると
言える。
第1図〜第3図はそれぞれ本発明の実施態様を示す図で
ある。
ある。
第1図に示す実施様態は、ポリ1フツ化ビニルから成る
プラスチックフィルムlhに非固体状感光性樹脂2を塗
布し、必要なら残留している溶剤を除去して、これを基
材3と貼り合わせて、しかる後にマスク4を重ねて露光
する場合を例示している。このような方法にポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを用いると、感光性樹脂材料
によってはポリエチレンテレフタレートフィルムの接着
が起ってしまい、剥離が困難でフィルムの凝集破壊が起
ったりしてしまう、これに対し、本発明の方法を用いる
と、はとんどあらゆる種類のネガ型感光性樹脂に問題無
く使用できる。もちろん、ポジ型感光性樹脂は、固体化
が進むことがないので、ネガ型と同様問題なく使用でき
る。
プラスチックフィルムlhに非固体状感光性樹脂2を塗
布し、必要なら残留している溶剤を除去して、これを基
材3と貼り合わせて、しかる後にマスク4を重ねて露光
する場合を例示している。このような方法にポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを用いると、感光性樹脂材料
によってはポリエチレンテレフタレートフィルムの接着
が起ってしまい、剥離が困難でフィルムの凝集破壊が起
ったりしてしまう、これに対し、本発明の方法を用いる
と、はとんどあらゆる種類のネガ型感光性樹脂に問題無
く使用できる。もちろん、ポジ型感光性樹脂は、固体化
が進むことがないので、ネガ型と同様問題なく使用でき
る。
第2図に示す実施様態は、スペーサー5を利用して非固
体状ネガ型感光性樹脂2を、基材3の所定部分五に塗布
した後、フッ素含有プラスチックフィルム1を気泡が入
らねよう重さね合わせ、しかる後にフィルム上部からマ
スク4を重さねる方法を例示している。
体状ネガ型感光性樹脂2を、基材3の所定部分五に塗布
した後、フッ素含有プラスチックフィルム1を気泡が入
らねよう重さね合わせ、しかる後にフィルム上部からマ
スク4を重さねる方法を例示している。
第3図に示す実施様態は、マスク4自体にフッ素含有プ
ラスチ−2クフイルム1を貼り付け、マスク4と一体化
して使用する方法を例示している。
ラスチ−2クフイルム1を貼り付け、マスク4と一体化
して使用する方法を例示している。
この場合、フッ素含有プラスチックフィルム1を光学的
ゆがみが生じないように、マスクに貼りつけることが要
求される。このためには、フィルムラミネータを用い、
均一に加圧しながら、接着剤を用いて接合することが望
ましい。
ゆがみが生じないように、マスクに貼りつけることが要
求される。このためには、フィルムラミネータを用い、
均一に加圧しながら、接着剤を用いて接合することが望
ましい。
以上のようにして、本発明の、非固体状の感光性樹脂に
対するパターン露光を行うことができる。
対するパターン露光を行うことができる。
もちろん本発明で見出したフッ素含有のビニルポリマー
フィルムの特徴を活かして、それ自体をマスク材料とし
て用いることも可能である。
フィルムの特徴を活かして、それ自体をマスク材料とし
て用いることも可能である。
以上説明したような本発明の露光を採ることにより、広
範囲の非固体状の感光性樹脂、特にネガ型感光性樹脂に
対して活性エネルギー線の利用効率を下げることなく、
また、感光性樹脂とマスクとの間のギャップを最小的1
0w程度にしてもマスクの損傷を起こすこともなく、パ
ターン露光が自在に実施できるようになった。従って、
解像度、パターン制度の高いパターン形成が可能となる
ばかりでなく、しかもエネルギーの有効利用、必要部材
のコストダウンが図れ、低価格のパターン形成システム
が構成可能となった。
範囲の非固体状の感光性樹脂、特にネガ型感光性樹脂に
対して活性エネルギー線の利用効率を下げることなく、
また、感光性樹脂とマスクとの間のギャップを最小的1
0w程度にしてもマスクの損傷を起こすこともなく、パ
ターン露光が自在に実施できるようになった。従って、
解像度、パターン制度の高いパターン形成が可能となる
ばかりでなく、しかもエネルギーの有効利用、必要部材
のコストダウンが図れ、低価格のパターン形成システム
が構成可能となった。
この微細加工の低コスト化、高精度化のため、非固体状
の、特にネガ型感光性樹脂の適用分野を拡げ、産業上の
大きな価値がある0例えば、本発明による露光方法によ
って、次のような産業上の利用が期待される。
の、特にネガ型感光性樹脂の適用分野を拡げ、産業上の
大きな価値がある0例えば、本発明による露光方法によ
って、次のような産業上の利用が期待される。
(1)紫外線硬化による注型成型
注型成型を行なうには、無溶剤液状樹脂力(必要である
が、これをマスクを用いた露光を行うことにより、立体
的に複雑な形の部品を注型成型可能となる。
が、これをマスクを用いた露光を行うことにより、立体
的に複雑な形の部品を注型成型可能となる。
(2)液状光重合樹脂を用いたプリント配線板用レジス
トパターン形成 従来、高価な露光装置とギヤー2プコントロールメカニ
ズムを搭載していたシステムを、ギャップコントロール
メカニズムなしで、コンタクト露光にし、装置のコスト
ダウンを計ることが可能になる。
トパターン形成 従来、高価な露光装置とギヤー2プコントロールメカニ
ズムを搭載していたシステムを、ギャップコントロール
メカニズムなしで、コンタクト露光にし、装置のコスト
ダウンを計ることが可能になる。
(3)液状光重合樹脂を用いたスクリーン印刷版製造
スクリーン印刷版の製造において、直接法による露光を
マスク損傷の心配なしに行うことができる。従って、複
数の版を製造する際にも信頼性が向上する。
マスク損傷の心配なしに行うことができる。従って、複
数の版を製造する際にも信頼性が向上する。
以下、本発明を実施例によって、より詳細に説明する。
実施例1
第2図に示すような過程に従ってパターン露光を実施し
た。基材としてプリント配線板用銅張積層板を用い、ア
クリル系の液状のネガ型感光性樹脂として「パナシーラ
ーCV710 LJ (松下電工棟製)、ポリlフッ
化ビニルフィルムとして「テトラ−1003G30TR
J (デュポン・ジャパン・リミテッド製)(膜厚2
5μs)、マスクには、石英を基材とするハード−マス
クにソルダーマスクパターンを描いたものを用いた。な
お、ト記ポリ1フッ化ビニルフィルムの、波長300n
m〜500nmの波長のうちの最小光線透過率は約73
%である。
た。基材としてプリント配線板用銅張積層板を用い、ア
クリル系の液状のネガ型感光性樹脂として「パナシーラ
ーCV710 LJ (松下電工棟製)、ポリlフッ
化ビニルフィルムとして「テトラ−1003G30TR
J (デュポン・ジャパン・リミテッド製)(膜厚2
5μs)、マスクには、石英を基材とするハード−マス
クにソルダーマスクパターンを描いたものを用いた。な
お、ト記ポリ1フッ化ビニルフィルムの、波長300n
m〜500nmの波長のうちの最小光線透過率は約73
%である。
露光には、「ジェットライ)3000J (オーク製
作新製の高圧水銀灯)を用い、30cmの距離から、6
0sec露光した。単位面積当りの紫外線強度は、5.
4mW/cm″(365nm近傍の光線にて)であった
、露光終了後ただちにポリ1フツ化ビニルフイルムを剥
離したところ、硬化部からのフィルムの剥離もきわめて
容易であつた0次いで、t、t、t−トリクロルエタン
を用いてスプレー現像を行い、ソルダーマスクの鮮明な
パターンが得られた。
作新製の高圧水銀灯)を用い、30cmの距離から、6
0sec露光した。単位面積当りの紫外線強度は、5.
4mW/cm″(365nm近傍の光線にて)であった
、露光終了後ただちにポリ1フツ化ビニルフイルムを剥
離したところ、硬化部からのフィルムの剥離もきわめて
容易であつた0次いで、t、t、t−トリクロルエタン
を用いてスプレー現像を行い、ソルダーマスクの鮮明な
パターンが得られた。
実施例2
ガラス板(パイレックスガラス、サイズ20cmX20
cmX1.1mm)):に、光学用、紫外線硬化型接着
剤N0A65(ノーランド社製)を塗布し、周辺に50
uLの厚さのスペーサーを配置した。この基板上にポリ
lフッ化ビニルフィルムとして、テトラ−フィルム20
03G40TR(デュポン・ジャパン・リミテッド製)
(膜厚50IL)を重さね、その上部から装飾用のパタ
ーンを持つPETフィルムマスク(膜厚150 、)を
重さね、超高圧水銀灯を用いた露光装置「タマラック
マスクアライナ−モデル152RJ(TAMARACK
5cientific co、、 1nc−製)によ
って、12081に光を行った。なお、上記ポリ1フツ
化ビニルフイルムの、波g 300 n m〜500n
mの波長のうちの最小光線透過率は約70%である。
cmX1.1mm)):に、光学用、紫外線硬化型接着
剤N0A65(ノーランド社製)を塗布し、周辺に50
uLの厚さのスペーサーを配置した。この基板上にポリ
lフッ化ビニルフィルムとして、テトラ−フィルム20
03G40TR(デュポン・ジャパン・リミテッド製)
(膜厚50IL)を重さね、その上部から装飾用のパタ
ーンを持つPETフィルムマスク(膜厚150 、)を
重さね、超高圧水銀灯を用いた露光装置「タマラック
マスクアライナ−モデル152RJ(TAMARACK
5cientific co、、 1nc−製)によ
って、12081に光を行った。なお、上記ポリ1フツ
化ビニルフイルムの、波g 300 n m〜500n
mの波長のうちの最小光線透過率は約70%である。
マスクフィルム及びテトラ−フィルムを取り除き、ブチ
ルセロソルブ中に浸漬して、未硬化の液状樹脂を溶解除
去した。その結果、ガラス板上に鮮明な、透明パターン
が出来た。このパターンのついたガラス板を、青色染料
を溶解したエタノール中に、1時間浸漬したところ、樹
脂パターン部分が青色に染着し、装飾模様のついたガラ
スが出来上がった。
ルセロソルブ中に浸漬して、未硬化の液状樹脂を溶解除
去した。その結果、ガラス板上に鮮明な、透明パターン
が出来た。このパターンのついたガラス板を、青色染料
を溶解したエタノール中に、1時間浸漬したところ、樹
脂パターン部分が青色に染着し、装飾模様のついたガラ
スが出来上がった。
実施例3
第4図(A)のような凹凸を持つNE製全金型6用い、
液状の紫外線硬化型樹脂として、下記組成のエポキシ光
硬化材料を用い、第4図(B)のようなマスク7を用い
て、紫外線硬化注型を行った。ポリlフッ化ビニルフィ
ルムとしては、テトラ−1003G30TR(膜厚25
JL)を用い、露光には実施例2に用いたと同じ装置
を使用した。なお、このポリlフッ化ビニルフィルムの
、波長300nm〜500nmの波長のうちの最小光線
透過率は約73%である。
液状の紫外線硬化型樹脂として、下記組成のエポキシ光
硬化材料を用い、第4図(B)のようなマスク7を用い
て、紫外線硬化注型を行った。ポリlフッ化ビニルフィ
ルムとしては、テトラ−1003G30TR(膜厚25
JL)を用い、露光には実施例2に用いたと同じ装置
を使用した。なお、このポリlフッ化ビニルフィルムの
、波長300nm〜500nmの波長のうちの最小光線
透過率は約73%である。
マスク7には、石英を基材に用いたハードマスクを使用
した。露光は600秒行なわしめ、未硬化の樹脂は、ブ
チルセロソルブ中で超音波洗浄処理することにより、除
去した。
した。露光は600秒行なわしめ、未硬化の樹脂は、ブ
チルセロソルブ中で超音波洗浄処理することにより、除
去した。
エポキシ光硬化材料
メーカー −、
セロキサイド2021 ダイセル化学 40エピコート
828 油化シェル 30エピコート152
油化シェル 30光開始剤UVI 日本
ユニオン 3−6970 カーバイド その結果、第4図(C)に示す、微細な貫通孔9を持っ
た。凹凸のある形状の立体模型(注型品第1図〜第4図
はそれぞれ、本発明の一態様を示す図である。
828 油化シェル 30エピコート152
油化シェル 30光開始剤UVI 日本
ユニオン 3−6970 カーバイド その結果、第4図(C)に示す、微細な貫通孔9を持っ
た。凹凸のある形状の立体模型(注型品第1図〜第4図
はそれぞれ、本発明の一態様を示す図である。
1:フッ素含有プラスチックフィルム
2:感光性樹脂 3:基材
4.7:マスク 8:注型品
1 ;フッ敢@月ブラスナッワフィノLム 5;入ダ
ーサー2;も先4生樹脂 3;)ぐ5−ンL形へする基オ才 4;マスク (A); ラミネートエ芳1 (B)7ラミネートされた4i′g。
ーサー2;も先4生樹脂 3;)ぐ5−ンL形へする基オ才 4;マスク (A); ラミネートエ芳1 (B)7ラミネートされた4i′g。
第1図
1 ;フッ素舎角ブラ久手ンクフィルム 4;マスク
2;感九S肱樹Jls 5;スX
−→−3; ノでターンを升すペする基末才 (A);フッ素督真のビニルポリマーフィルムし積層す
るニオ基(B〕;積Mされた1に聾、 fi2 図 (A>51フツ化ビニルフイル4付7又り6某m(日)
;マスク乙基本反&仄羞したj焚閥、(A) (B) (C) 6;金型 7;マスク 8;注型品 9;貫通」、 M7RJ4図
2;感九S肱樹Jls 5;スX
−→−3; ノでターンを升すペする基末才 (A);フッ素督真のビニルポリマーフィルムし積層す
るニオ基(B〕;積Mされた1に聾、 fi2 図 (A>51フツ化ビニルフイル4付7又り6某m(日)
;マスク乙基本反&仄羞したj焚閥、(A) (B) (C) 6;金型 7;マスク 8;注型品 9;貫通」、 M7RJ4図
Claims (1)
- 非固体状感光性樹脂と、マスクとの間に、重合体の繰り
返し単位当り1個以上のフッ素原子を有する高分子化合
物から成る、300nmから500nmの波長範囲で、
少くとも30%以上の光線透過率を有するプラスチック
フィルムを介在させ、マスク上部から活性エネルギー線
照射を行うことを特徴とするパターン露光方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62285466A JPH01128065A (ja) | 1987-11-13 | 1987-11-13 | 非固体状感光性樹脂へのパターン露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62285466A JPH01128065A (ja) | 1987-11-13 | 1987-11-13 | 非固体状感光性樹脂へのパターン露光方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01128065A true JPH01128065A (ja) | 1989-05-19 |
Family
ID=17691879
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62285466A Pending JPH01128065A (ja) | 1987-11-13 | 1987-11-13 | 非固体状感光性樹脂へのパターン露光方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01128065A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011119594A (ja) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Nsk Ltd | 近接露光装置及び近接露光方法 |
JP2014506334A (ja) * | 2010-11-23 | 2014-03-13 | レインボー テクノロジー システムズ リミテッド | 基板をフォトイメージングするための方法及び装置 |
-
1987
- 1987-11-13 JP JP62285466A patent/JPH01128065A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011119594A (ja) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Nsk Ltd | 近接露光装置及び近接露光方法 |
JP2014506334A (ja) * | 2010-11-23 | 2014-03-13 | レインボー テクノロジー システムズ リミテッド | 基板をフォトイメージングするための方法及び装置 |
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