JP2014506334A - 基板をフォトイメージングするための方法及び装置 - Google Patents
基板をフォトイメージングするための方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014506334A JP2014506334A JP2013540433A JP2013540433A JP2014506334A JP 2014506334 A JP2014506334 A JP 2014506334A JP 2013540433 A JP2013540433 A JP 2013540433A JP 2013540433 A JP2013540433 A JP 2013540433A JP 2014506334 A JP2014506334 A JP 2014506334A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- imaging
- photopolymer
- less
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2012—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image using liquid photohardening compositions, e.g. for the production of reliefs such as flexographic plates or stamps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2035—Exposure; Apparatus therefor simultaneous coating and exposure; using a belt mask, e.g. endless
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0082—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the exposure method of radiation-sensitive masks
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/01—Tools for processing; Objects used during processing
- H05K2203/0104—Tools for processing; Objects used during processing for patterning or coating
- H05K2203/0143—Using a roller; Specific shape thereof; Providing locally adhesive portions thereon
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/10—Using electric, magnetic and electromagnetic fields; Using laser light
- H05K2203/107—Using laser light
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/15—Position of the PCB during processing
- H05K2203/1545—Continuous processing, i.e. involving rolls moving a band-like or solid carrier along a continuous production path
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
- H05K3/061—Etching masks
- H05K3/064—Photoresists
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3452—Solder masks
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明は、液状硬化性フォトポリマで被覆された基板をフォトイメージングするための方法及び装置であって、回転可能なフォトツールは、プリント回路基板(PCBs)、フラットパネルディスプレイ及びフレキシブル回路等のための電気回路を形成するのに適するイメージを形成するために使用される撮像された基板を作成するために、基板に対して押圧されるとともに回転させられる。本発明は、液状硬化性フォトポリマで被覆された基板を直接フォトイメージングするための方法及び装置であって、フォトイメージされた基板が、電気回路等のイメージを形成するために使用される。本発明は、液状硬化性フォトポリマを用いてPCB上のソルダーマスクの少なくとも部分を露光するための方法及び装置であって、撮像工程がソルダーマスクの上の領域上で生じ得る。
【選択図】図1
Description
(1)種々の手段によってパネル上に被覆され、次に、溶剤を除去するために温風で予備乾燥される湿式レジストである。これは、紫外線を用いてフォトイメージ可能な「ドライ」表面を残す。湿式レジストのための原材料は安価であるが、加工費(熱等)は、湿式レジストを使用する全費用に実質的に追加される。
(2)予備乾燥され、二層の保護膜の間に挟まれて供給される液体コーティングとして始まるドライフィルムレジストである。使用者は、熱及び圧力を用いて銅パネルにドライフィルムを積層する。行程中、保護膜は除去されるが、労力を必要とし、処分における埋立て問題を提示する。
基板を提供することと、
該基板の少なくとも部分上に液体フォトポリマを堆積させて、基板上に液体フォトポリマの層を形成することと、
回転可能なフォトツールを提供することと、
基板上のフォトポリマの液膜に対してフォトツールを回転させることと、
を備え、
硬化されたフォトポリマのイメージパターンが、基板上に形成される、基板をフォトイメージングするための方法が提供される。
(a)ハロゲン化水銀ランプの代わりにLEDを使用することは、大量の電力を節約し、熱出力を著しく低減させる。LEDはよりコンパクトであり、即時の起動性を有する。
(b)装置によって、設備のライン速度が何倍にも増加され、それによって、生産高(産出量)が改善される。LEDシステムの有効性は、可能性のある10の要素によって増加されることができる。これにより、従来、出力が低すぎて合理的なライン速度で硬化を達成することができなかった場合に、LEDが使用可能となる。
基板を提供することと、
基板の少なくとも部分上に液状湿式フォトポリマを堆積させて、基板上にフォトポリマの液性ウェット膜の層を形成することと、
基板上のフォトポリマの液性ウェット膜の層上に保護膜を適用することと、
ダイレクトイメージング部を使用することと、
ダイレクトイメージング部から保護膜を介して液状湿式フォトポリマ上に放射を直接適用することと、を含み、
硬化されたフォトポリマのイメージパターンが基板上に形成される、基板を撮像するための方法が提供される。
1.保護用透明オーバーレイ(例えば、薄膜)下の湿式フォトポリマの露光;
2.後でイメージング用に使用されるのと同じ湿式フォトポリマを用いて生成された密
封境界の使用;
3.露光されるパッケージの部分も兼ねる透明薄膜担体(例えば、ポリエステルフィルム)によるパネルの搬送。
1.フォトポリマを予備乾燥するために使用される熱を要しないことによる大きなエネルギー節約。
2.露光は、薄膜保護によるフォトポリマの表面における酸素の排除に起因してはるかに早い。これによって、通常遅いサイクルのダイレクトイメージング部(例えば、レーザーダイレクトイメージング(LDI)ユニット)において、極めて急速なスループットがもたらされる。レーザーダイレクトイメージング(LDI)ユニットは、約50万ポンド〜約100万ポンドを要し、レーザーダイレクトイメージング(LDI)ユニットに要する時間は、高価である。
3.高価なドライフィルムに比し、液体フォトポリマを使用することによる経費節約。
4.液体フォトポリマの厚み(約5μm)に起因して、極めて微細なディテールが印刷されることができる。より低い出力(であるが、より速い速度)での作動は、イメージの正確性を増加させるため、これにより、レーザーイメージングが好まれる。
液状湿式フォトポリマの薄膜を形成するために、基板の表面上に液状湿式フォトポリマを堆積させることが可能な装置と、
液状湿式フォトポリマの薄膜上に保護用薄膜を供給することが可能な手段と、
該保護用薄膜を介して液状湿式フォトポリマ上に放射を適用するとともに、基板上に硬化されたフォトポリマのイメージパターンを形成することが可能なダイレクトイメージング部と、を備える基板をフォトイメージングするための装置が提供される。
基板の表面上に液体フォトポリマを堆積させて、液体フォトポリマの薄膜を形成することが可能な装置と、
基板上の液体フォトポリマ上への放射の伝達を許容することが可能な回転可能なフォトツールと、
該回転可能なフォトツールに対して押圧される液体フォトポリマの薄膜を含む基板を搬送することが可能な搬送手段と、を備え、
硬化されたフォトポリマのイメージパターンは、基板上に形成される、基板をフォトイメージングするための装置が提供される。
基板に露光された表面を提供することと、
基板の露光された表面上に電気部品を堆積させることと、
基板の露光された表面及び基板の露光された表面上の電気部品にソルダーマスクの層を重ね合わせることと、
該ソルダーマスクの層上に液状湿式フォトポリマを堆積させて、フォトポリマの液性ウェット膜の層を形成することと、
該フォトポリマの液性ウェット膜の層上に、紫外線透過性の又は実質的に紫外線透過性の保護膜を適用することと、
第一のイメージング部を提供することと、
該第一のイメージング部から保護膜を介して、電気部品の上又は略上に位置付けられた液状湿式フォトポリマの領域に放射を適用することと、液状湿式フォトポリマの露光された領域は、硬化され、
保護膜を除去することと、
未硬化のままのフォトポリマの液性ウェット膜の未露光領域を除去することと、
液状湿式フォトポリマの硬化された部分によって覆われず、フォトマスクとして作用するソルダーマスクの部分を硬化させる第二のイメージング部から、放射をさらに適用することと、
第二段階の紫外線硬化から保護されたその下のソルダーマスクの未硬化部分とともにフォトマスクとして作用した硬化されたウェットポリマを除去することと、を備え、
電気部品の上又は略上に位置付けられたチャネル又はトレースは、形成されることが可能である、イメージングのための方法が提供される。
1.本工程は、操作することなく、かつそれによって、効率が改良された連続的な高速工程であり得る。
2.クリーンルームを必要としない。
3.本工程は、イメージングユニットにおいて最少限の時間を使用するため、最大限の利用を提供する。
4.有意な収率改善。
5.低出力消費。
6.フォトポリマを予備乾燥するために使用される熱を要しないことによる大きなエネルギー節約。
7.露光は、薄膜保護による液状湿式フォトポリマの表面における空気の排除に起因してはるかに早い。これによって、通常遅いサイクルのダイレクトイメージング部(例えば、レーザーダイレクトイメージング(LDI)ユニット)において、極めて急速なスループットがもたらされる。レーザーダイレクトイメージング(LDI)ユニットは、約50万ポンド〜約100万ポンドを要し、レーザーダイレクトイメージング(LDI)ユニットに要する時間は、高価である。
8.高価なドライフィルムに比し、液体フォトポリマを使用することによる経費節約。
9.液体フォトポリマの厚み(約5μm)に起因して、極めて微細なディテールが印刷されることができる。より低い出力(であるが、より速い速度)での作動は、イメージの正確性を増加させるため、これにより、レーザーイメージングが好まれる。
基板の露光された表面及び基板の露光された表面上の電気部品にソルダーマスクの層を重ね合わせることが可能な装置と、
該ソルダーマスクの層上に液状湿式フォトポリマを堆積させて、フォトポリマの液性ウェット膜の層を形成することが可能な装置と、
該フォトポリマの液性ウェット膜の層上に、紫外線透過性の又は実質的に紫外線透過性の保護膜を適用することが可能な装置と、
電気部品の上又は略上に位置付けられたポリマの領域上の保護膜を介して、液状湿式フォトポリマの部分を撮像することが可能であって、液状湿式フォトポリマの露光された領域が硬化される、第一のイメージング部と、
液状湿式フォトポリマの硬化された部分によって覆われていないソルダーマスクの部分を硬化させることが可能な第二のイメージング部と、を備え、
電気部品の上又は略上に位置付けられたチャネル又はトレースが、形成されることが可能である、イメージングのための装置が提供される。
Claims (106)
- 基板をフォトイメージングするための方法であって、該方法は、
基板を提供することと、
該基板の少なくとも部分上に液体フォトポリマを堆積させて、前記基板上に前記フォトポリマの液膜の層を形成することと、
回転可能なフォトツールを提供することと、
前記基板上の前記フォトポリマの前記液膜に対して前記フォトツールを回転させることと、を備え、
硬化された前記フォトポリマのイメージパターンが、前記基板上に形成される、基板をフォトイメージングするための方法。 - 湿式フォトポリマの薄膜が、例えば、紫外線放射を用いて撮像及び照射される前に、予備乾燥工程を有しない、請求項1に記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 前記回転可能なフォトツールは、例えば、ガラス(例えば、パイレックスガラス)、石英又は任意の他の適切な紫外線透過/半透過材料から作成される回転ドラム等の紫外線透過/半透過管状構造を含む、請求項1又は2に記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 前記フォトツールの中央(又は略中央)に、例えば、内部光バッフルの範囲内で、紫外線光を放射することが可能な紫外線光源を有する、請求項1〜3の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 前記紫外線光源は、前記フォトツール内の略中央に配置されるLED又はLEDのアレイである、請求項4に記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 前記液体フォトポリマで被覆される前記基板は、前記フォトポリマの液状ウェット膜と、放射が伝達されるフォトツールとの間の任意の空気(すなわち、酸素)を除外又は除去する効果を有する一連のローラを用いて前記回転可能なフォトツールの外表面に対して押圧されるとともに回転させられることが可能である、請求項1〜5の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 前記回転可能なフォトツールは、回転ドラムの形態である、請求項1〜6の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 前記フォトツールは、前記紫外線透過/半透過管状構造の周囲のテンショナを用いて張力を受けている、請求項1〜7の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 前記紫外線放射は、約200〜400nm(例えば、約355nm、約365nm、約375nm、385nm、395nm又は405nm)の波長を有するととともに、露光された液体フォトポリマ層を硬化させるのに適合された強度を有する、請求項1〜8の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 前記基板は、ポリエステル(例えば、Melinex(登録商標))、ポリイミド(例えば、Kapton(登録商標))、及びポリカーボネート(例えば、Lexan(登録商標))等のプラスチック材料から製造された誘電体又は非金属層(例えば、薄膜)である、請求項1〜9の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 前記基板は、オープンリール式の工程が生じるように、可撓性である、請求項1〜10の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 前記基板の上に、被覆材の形態であるさらなる層を有する、請求項1〜11の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 前記被覆材は、銅、銀、金等の導電体、或いは、PDET、ITO又はグラフェン等の導電性ポリマから製造される、請求項11に記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- イメージングの後、前記基板は、硬化されたイメージ及び残りの液状被覆(すなわち、紫外線光で撮像されていない領域)を有するとともに、紫外線放射に露光されなかった液状湿式フォトポリマは、例えば、洗浄工程を介して水溶性アルカリ溶液を用いて除去されることが可能である、請求項1〜13の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 前記液体フォトポリマの適用の前に、前記基板は、該基板の表面からごみ及び/又は汚染物を取り除くために、接触クリーニング工程を用いて清浄される、請求項1〜14の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 前記液体フォトポリマは、該液体フォトポリマの堆積率を制御するために、被覆ローラ、及び、必要に応じて、ドクターブレードを備えるローラユニット等を用いる任意の適切な技術を用いて堆積される、請求項1〜15の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 前記液体フォトポリマは、スプレー、ブラシ、ローラ、フレキソ/スクリーン/凸版印刷/グラビア印刷及び/又は浸漬被覆システムを用いて堆積される、請求項1〜16の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 前記液体フォトポリマは、以下の何れかに従う厚み、すなわち、約150μm以下、約125μm以下、約100μm以下、約75μm以下、約50μm以下、約25μm以下、約10μm以下、約5μm以下、約1μm以下、約0.5μm以下、又は約0.1μm以下の厚みで堆積される、請求項1〜17の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 前記液体フォトポリマは、以下の何れかの範囲の厚み、すなわち、約177μm〜約0.1μm、約125μm〜約0.1μm、約100μm〜約0.1μm、約75μm〜約0.1μm、約50μm〜約0.1μm、約25μm〜約0.1μm、又は約10μm〜約0.1μmの範囲の厚みで堆積される、請求項1〜18の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 前記液体フォトポリマの部分を硬化させた後、硬化された基板は、ローラを通過させられるとともに、例えば、現像部に運ばれる、請求項1〜19の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 電気回路に適した高鮮明度の細線は、以下の任意の幅、すなわち、約200μm以下、約150μm以下、約140μm以下、約130μm以下、約120μm以下、約110μm以下、約100μm以下、約90μm以下、約80μm以下、約75μm以下、約70μm以下、約60μm以下、約50μm以下、約40μm以下、約30μm以下、約20μm以下、約10μm以下、又は約5μm以下の幅を有する細線によって得られる、請求項1〜20の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 電気回路に適した高鮮明度の細線は、以下の任意の幅、すなわち、約0.1〜200μm、約1〜150μm、約1〜100μm、約20〜100μm、又は約5〜75μmの幅を有する細線を用いて得られる、請求項1〜21の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 前記工程は、オープンリール市場内での製造に適したプリント回路基板、フラットパネルディスプレイ及びフレキシブル回路の電子部品を含む種々の電子部品を形成するために使用される、請求項1〜22の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための方法。
- 請求項1〜23の何れかに従って形成されるフォトイメージングされた基板。
- 前記フォトイメージングされた基板は、フォトイメージングされた回路を形成するために使用される、請求項24に記載のフォトイメージングされた基板。
- 前記フォトイメージングされた回路は、例えば、PCB、フラットパネルディスプレイ及びフレキシブル回路の製造において使用される電気回路を形成するために使用される、請求項24に記載のフォトイメージングされた基板。
- 基板をフォトイメージングするための装置であって、該装置は、
基板の表面上に液体フォトポリマを堆積させて、該液体フォトポリマの薄膜を形成することが可能な装置と、
前記基板上の前記液体フォトポリマ上への紫外線放射の伝達を許容することが可能な回転可能なフォトツールと、
該回転可能なフォトツールに対して押圧される前記液体フォトポリマの薄膜を含む基板を搬送することが可能な搬送手段と、を備え、
硬化されたフォトポリマのイメージパターンは、前記基板上に形成される、基板をフォトイメージングするための装置。 - 前記装置は、請求項1〜23の何れかに記載のイメージング方法を実行するために使用される、請求項27に記載の基板をフォトイメージングするための装置。
- 前記回転可能なフォトツールは、搬送された基板に対して押圧されるとともに回転させられる、請求項27又は28に記載の基板をフォトイメージングするための装置。
- 前記装置は、前記基板がリール形式で搬送され、前記液体フォトポリマが堆積され、次に、前記回転可能なフォトツールによって撮像され、前記撮像が一度生じると、リール形式で除去されるオープンリール式工程の形態である、請求項27〜29の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための装置。
- 液体フォトポリマの薄膜を形成するために、前記基板の表面上に前記液体フォトポリマを堆積させることが可能な装置は、前記薄膜の重量堆積率を制御するための必要に応じてドクターブレードを有するローラの形式である、請求項27〜30の何れかに記載の基板をフォトイメージングするための装置。
- 基板を撮像するための方法であって、該方法は、
基板を提供することと、
該基板の少なくとも部分上に液状湿式フォトポリマを堆積させて、前記基板上にフォトポリマの液性ウェット膜の層を形成することと、
前記基板上の前記フォトポリマの前記液性ウェット膜の層上に保護膜を適用することと、
ダイレクトイメージング部を提供することと、
該ダイレクトイメージング部から前記保護膜を介して前記液状湿式フォトポリマ上に放射を直接適用することと、を含み、
硬化された前記フォトポリマのイメージパターンが前記基板上に形成される、基板を撮像するための方法。 - 前記湿式フォトポリマの薄膜が、例えば、紫外線放射を用いて撮像及び照射される前に、予備乾燥工程を有しない、請求項32に記載の基板を撮像するための方法。
- フォトツールは、前記液状湿式フォトポリマのフォトイメージングにおいて使用されない、請求項32又は33に記載の基板を撮像するための方法。
- 前記液状湿式フォトポリマは、前記基板の片側又は両側(すなわち、第一及び第二側)上に堆積される、請求項32〜34の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記基板は、可撓性材料から製造されるか、可撓性材料を含む、請求項32〜35の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記基板は、銅、銀、金等の導電体で製造されるか、或いは、非金属材料又は誘電体から製造されるか、もしくは、PDET、ITO又はグラフェン等の導電性ポリマから製造され得る、請求項32〜36の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記液状湿式フォトポリマは、前記基板の片側又は両側上の薄膜の形態であり、一つ又は二つのダイレクトイメージング部を用いて直接撮像される、請求項32〜37の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記ダイレクトイメージング部は、レーザーダイレクトイメージング(LDI)ユニット等の任意の適切な光撮像装置又は任意の他の適切なデジタル光撮像装置を用いるダイレクトライティング工程である、請求項32〜38の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 撮像される前記液状湿式フォトポリマの部分は、硬化され、例えば、電気回路を形成するために使用されることが可能である、請求項32〜39の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記撮像が一度生じると、前記基板の前記片側又は両側の前記保護膜は、次に除去され、未露光の前記フォトポリマは、液状のままであり、洗浄される、請求項32〜40の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記基板の前記片側又は両側は、フォトイメージされることが可能である、請求項32〜41の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- ダイレクトライティング工程における前記液状湿式フォトポリマの撮像の前に、及び該液状湿式トフォトポリマ上への薄膜又は複数の薄膜の堆積の後に、未硬化の液状湿式フォトポリマの領域周囲の前記硬化されたフォトポリマのフレーム、境界及び/又は周辺を形成する硬化工程が生じる中間工程が存在する、請求項32〜42の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 未硬化の液状湿式フォトポリマは、密封パネルを形成するために、外側の硬化された前記フォトポリマの(例えば、写真フレームと同様に)前記フレーム内部に密封されるとともに、密封工程の間、前記保護膜は、硬化された前記フォトポリマに対して密封される、請求項43に記載の基板を撮像するための方法。
- 前記密封パネルは、単一の移動パネル(例えば、パウチ)等の単一の個別ユニット、又は、密封パケットを提供する連続リールの透明薄膜(例えば、ポリエステル薄膜)及びコンベア式でパネルを移動させる方法を用いて形成されることができる一連の密封パネルである、請求項44に記載の基板を撮像するための方法。
- 前記硬化されたフォトポリマの前記密封フレーム、境界及び/又は周辺は、前記液状湿式フォトポリマを硬化するとともに、前記未硬化の液状湿式フォトポリマのパウチを形成することができる任意の適切な放射源を用いて、事前露光段階の間、形成される、請求項42〜44の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記硬化されたフォトポリマの前記密封フレーム、境界及び/又は周辺は、紫外線放射等の発光ダイオード(LEDs)を用いて形成される、請求項42〜44の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記液状湿式フォトポリマは、約0.5〜2mJ、約1〜2mJ又は約1.8mJの低出力で撮像される、請求項32〜47の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記液状湿式フォトポリマを硬化させるために使用される放射は、レーザー発光の紫外線放射等の前記液体フォトポリマを硬化させる任意の適切な放射である、請求項32〜48の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記液状湿式フォトポリマを硬化させるために使用される前記放射は、約200〜400nmの波長を有し、一般的に、約355nm、約365nm、約375nm、385nm、395nm又は405nmでの紫外線光である、請求項32〜49の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 撮像の後、イメージは、炭酸塩溶液等の現像液中で現像され、前記薄爆の層は、除去され、撮像及び硬化されなかった湿式フォトポリマは、洗い流される、請求項32〜50の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記液状湿式フォトポリマは、スプレー、ブラシ、ローラ及び/又は浸漬被覆システムの技術を含む前記基板の片側のみ、又は第一及び第二側に対する任意の適切な技術を用いて堆積される、請求項32〜51の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記液状湿式フォトポリマは、一連のローラを用いて堆積され、それによって、撮像された基板の形成が、オープンリール式の工程において生じることが可能となる、請求項32〜52の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記液状湿式フォトポリマの適用の前に、前記基板は、該基板の表面からごみ及び/又は汚染物を取り除くために、接触クリーニング工程を用いて清浄される、請求項32〜53の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記液状湿式フォトポリマは、以下の何れかに従う厚み、すなわち、約150μm以下、約125μm以下、約100μm以下、約75μm以下、約50μm以下、約25μm以下、約10μm以下、約5μm以下、約1μm以下、約0.5μm以下、約0.1μm以下の厚みで堆積される、請求項32〜54の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記液体フォトポリマは、以下の任意の範囲の厚み、すなわち、約177μm〜約0.1μm、約125μm〜約0.1μm、約100μm〜約0.1μm、約75μm〜約0.1μm、約50μm〜約0.1μm、約25μm〜約0.1μm、又は、約10μm〜約0.1μmの厚みで堆積される、請求項32〜55の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記保護膜は、光学的に透明又は光学的に略透明であり、かつ紫外線放射に対して透過性であるポリエステル薄膜等の任意の適切な材料である、請求項32〜56の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記保護膜は、耐化学性、過度の湿度レベルによって生じる硬化されたフォトポリマからの剥離及び寸法変化を補助する保護薄膜を含む、請求項32〜57の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記方法は、プリント回路基板(PCBs)、フラットパネルディスプレイ及びフレキシブル回路の電子部品を含む種々の電子部品を形成するために使用される、請求項32〜58の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 電気回路に適切な高鮮明度の細線は、以下の任意の幅、すなわち、約200μm以下、約150μm以下、約140μm以下、約130μm以下、約120μm以下、約110μm以下、約100μm以下、約90μm以下、約80μm以下、約75μm以下、約70μm以下、約60μm以下、約50μm以下、約40μm以下、約30μm以下、約20μm以下、約10μm以下、約5μm以下の幅を有して得られることが可能である、請求項32〜59の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記電気回路に適切な高鮮明度の細線は、以下の任意の幅、すなわち、約0.1〜200μm、約1〜150μm、約1〜100μm、約20〜100μm又は約5〜75μmの幅を有して得られることが可能である、請求項32〜60の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 前記液体フォトポリマの堆積並びに前記保護膜の堆積及び除去等の全ての工程は、装置を介して単一パスで生じる、請求項32〜61の何れかに記載の基板を撮像するための方法。
- 請求項32〜61の何れかに記載の方法に従って形成される撮像された基板。
- 前記フォトイメージされた基板は、PCBs、フラットパネルディスプレイ及びフレキシブル回路の製造において使用されることが可能である、請求項63に記載の撮像された基板。
- 基板を撮像するための装置であって、該装置は、
液状湿式フォトポリマの薄膜を形成するために、基板の表面上に液状湿式フォトポリマを堆積させることが可能な装置と、
前記液状湿式フォトポリマの薄膜上に保護膜を供給することが可能な手段と、
前記液状湿式フォトポリマ上に放射を適用するとともに、前記基板上に硬化されたフォトポリマのイメージパターンを形成することが可能なダイレクトイメージング部と、
を備える、基板を撮像するための装置。 - 前記装置は、請求項32〜64の何れかに記載のイメージング方法を実行するために使用される、請求項65に記載の基板を撮像するための装置。
- 前記液状湿式フォトポリマの前記薄膜を形成するために、前記基板の表面上に前記液状湿式フォトポリマを堆積させることが可能な装置は、前記フォトポリマの堆積率を制御するために、付加的にドクターブレードを有するローラの形態である、請求項65又は66に記載の基板を撮像するための装置。
- 前記液状湿式フォトポリマの前記薄膜は、一連のローラを介して堆積される、請求項65〜67の何れかに記載の基板を撮像するための装置。
- 前記ダイレクトイメージング部は、レーザーダイレクトイメージング(LDI)ユニット又は任意の他の適切なデジタル光撮像装置である、請求項65〜68の何れかに記載の基板を撮像するための装置。
- 露光後、前記保護膜は、さらなる一連のローラを用いて除去される、請求項65〜69の何れかに記載の基板を撮像するための装置。
- 前記装置は、また、未硬化の前記液状湿式フォトポリマの領域周囲の前記硬化されたフォトポリマのフレーム、境界及び/又は周辺を形成する硬化工程を実行するために、事前露光放射部を含む、請求項65〜70の何れかに記載の基板を撮像するための装置。
- 前記事前露光放射部は、発光ダイオード(LEDs)を含む、請求項71に記載の基板を撮像するための装置。
- 前記装置は、連続的なオープンリール式工程が生じることを許容し、前記保護膜は、前記液状湿式フォトポリマ上のリール形式で供給され、前記イメージが一度生じると、除去される、請求項65〜71の何れかに記載の基板を撮像するための装置。
- イメージングのための方法であって、該方法は、
基板に露光された表面を提供することと、
前記基板の前記露光された表面上に電気部品を堆積させることと、
前記基板の前記露光された表面及び前記基板の前記露光された表面上の前記電気部品にソルダーマスクの層を重ね合わせることと、
該ソルダーマスクの層上に液状湿式フォトポリマを堆積させて、フォトポリマの液性ウェット膜の層を形成することと、
該フォトポリマの前記液性ウェット膜の層上に、紫外線透過性の又は実質的に紫外線透過性の保護膜を適用することと、
第一のイメージング部を提供することと、
該第一のイメージング部から前記保護膜を介して、前記電気部品の上又は略上に位置付けられた前記液状湿式フォトポリマの領域に放射を適用することと、前記液状湿式フォトポリマの露光された領域は、硬化され、
前記保護膜を除去することと、
未硬化のままの前記フォトポリマの前記液性ウェット膜の未露光領域を除去することと、
前記液状湿式フォトポリマの硬化された部分によって覆われない前記ソルダーマスクの部分を硬化させる第二のイメージング部から、放射をさらに適用することと、
前記フォトポリマの硬化されたウェット膜とともに前記ソルダーマスクの前記未硬化部分を除去することと、を備え、
前記電気部品の上又は略上に位置付けられたチャネル又はトレースは、形成されることが可能である、イメージングのための方法。 - 前記基板は、プリント回路基板である、請求項74に記載のイメージングのための方法。
- 前記ソルダーマスクは、スプレー、ブラシ、ローラ及び/又は浸漬被覆システム、或いは、任意の他の方法を用いて堆積される、請求項74又は75に記載のイメージングのための方法。
- 前記ソルダーマスクの層は、連続的であり、約5μm〜約75μmの厚みを有する、請求項74又は75に記載のイメージングのための方法。
- 前記ソルダーマスクは、エポキシ液から製造される、請求項74〜77の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 前記液状湿式フォトポリマの層は、スプレー、ブラシ、ローラ及び/又は浸漬被覆システムを用いて堆積される、請求項74〜78の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 前記液状湿式フォトポリマの層は、任意の適切な技術を用いて略均一かつ連続的に堆積される、請求項74〜79の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 前記液状湿式フォトポリマは、100%固形で生成され、溶剤を含まない、請求項74〜80の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 前記液状湿式フォトポリマは、以下の何れかに従う厚み、すなわち、約150μm以下、約125μm以下、約100μm以下、約75μm以下、約50μm以下、約25μm以下、約10μm以下、約5μm以下、約1μm以下、約0.5μm以下、又は約0.1μm以下の厚みで堆積される、請求項74〜81の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 前記液状湿式フォトポリマは、以下の何れかの範囲の厚み、すなわち、約177μm〜約0.1μm、約125μm〜約0.1μm、約100μm〜約0.1μm、約75μm〜約0.1μm、約50μm〜約0.1μm、約25μm〜約0.1μm、又は約10μm〜約0.1μmの範囲の厚みで堆積される、請求項74〜82の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 薄い液状湿式フォトポリマ膜の使用によって、低強度の放射(例えば、紫外線光)が、フォトイメージ工程において使用可能となる、請求項74〜83の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 前記紫外線透過性の又は実質的に紫外線透過性の保護膜は、可撓性のポリエステル膜から作成される、請求項74〜84の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 前記紫外線透過性の又は実質的に紫外線透過性の保護膜は、フォトツール、硬化されたフォトポリマからの剥離を補助するとともに、過度の湿度レベルによって生じる寸法変化を防ぐための保護薄膜を備える、請求項74〜85の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 前記保護膜は、前記フォトイメージ工程にとって有害であり得る前記液状湿式フォトポリマに隣接する(酸素を含む)任意の空気を除去する(すなわち、締め出す)、請求項74〜86の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 前記第一イメージング部は、ダイレクトイメージング部、例えば、レーザーダイレクトイメージング(LDI)ユニット又は任意の他の適切なデジタル光撮像装置である、請求項74〜87の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 紫外線放射は、露光された液体(例えば、湿式)フォトポリマを重合及び/又は硬化及び/又は固定するために使用される、請求項74〜88の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 前記紫外線放射は、約200〜400nmの波長を有する、請求項89に記載のイメージングのための方法。
- 薄い液状湿式フォトポリマ膜の使用によって、約0.5〜2mJ及び一般的には、約1〜2mJの低強度の放射(例えば、紫外線光)が、使用可能となる、請求項89に記載のイメージングのための方法。
- 前記第一のイメージング部からの撮像の後、前記保護膜は、剥離によって除去される、請求項74〜91の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 未硬化のままの前記フォトポリマの液性ウェット膜の未露光領域は、洗浄工程を用いて除去される、請求項74〜92の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 前記第二のイメージング部からのさらなる放射は、紫外線光源等の任意の適切な光源を用いて、前記液状湿式フォトポリマの前記硬化された部分によって覆われない前記ソルダーマスクの部分を硬化させる、請求項74〜93の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 前記放射は、前記フォトイメージ工程の品質及び/又は分解能及び/又は鮮明度を向上させるために視準される、請求項94に記載のイメージングのための方法。
- 前記紫外線放射は、約200〜400nmの波長を有する、請求項94又は95に記載のイメージングのための方法。
- 前記ソルダーマスクの前記未硬化部分は、さらなる洗浄工程を介して除去される、請求項74〜96の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 電気回路の上又は略上に位置付けられた前記チャネル又はトレースは、前記電気回路に適した高解像度の細線又は管の形態である、請求項74〜97の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 前記電気回路の上又は略上に位置付けられた前記チャネル又はトレースは、以下の任意の幅又は直径、すなわち、約200μm以下、約150μm以下、約140μm以下、約130μm以下、約120μm以下、約110μm以下、約100μm以下、約90μm以下、約80μm以下、約75μm以下、約70μm以下、約60μm以下、約50μm以下、約40μm以下、約30μm以下、約20μm以下、約10μm以下、又は約5μm以下の幅又は直径を有する、請求項74〜98の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 前記電気回路の上又は略上に位置付けられた前記チャネル又はトレースは、以下の任意の幅、すなわち、約0.1〜200μm、約1〜150μm、約1〜100μm、約20〜100μm、又は約5〜75μmの幅を有する、請求項74〜99の何れかに記載のイメージングのための方法。
- 請求項74〜100の何れかに従って形成される撮像された基板。
- フォトイメージングされた回路、例えば、電気回路を形成するために使用される、請求項101に記載の撮像された基板。
- イメージングのための装置であって、該装置は、
基板の露光された表面及び該基板の露光された表面上の電気部品にソルダーマスクの層を重ね合わせることが可能な装置と、
該ソルダーマスクの層上に液状湿式フォトポリマを堆積させて、フォトポリマの液性ウェット膜の層を形成することが可能な装置と、
該フォトポリマの前記液性ウェット膜の層上に、紫外線透過性の又は実質的に紫外線透過性の保護膜を適用することが可能な装置と、
前記電気部品の上又は略上に位置付けられたポリマの領域上の前記保護膜を介して、前記液状湿式フォトポリマの部分を撮像することが可能であって、前記液状湿式フォトポリマの露光された領域が硬化される、第一のイメージング部と、
前記液状湿式フォトポリマの前記硬化された部分によって覆われていない前記ソルダーマスクの部分を硬化させることが可能な第二のイメージング部と、を備え、
前記電気部品の上又は略上に位置付けられたチャネル又はトレースが、形成されることが可能である、イメージングのための装置。 - 前記装置は、請求項74〜100の何れかに記載の撮像方法を実行するために使用される、請求項103に記載のイメージングのための装置。
- 前記ソルダーマスクの層及び前記液状湿式フォトポリマを重ね合わせることが可能な装置は、スプレー、ブラシ、ローラ及び/又は浸漬被覆システムの何れかである、請求項103又は104に記載のイメージングのための装置。
- 前記第一及び第二イメージング部は、ダイレクトイメージング部、例えば、レーザーダイレクトイメージング(LDI)ユニット等の適切な紫外線光源、又は任意の他の適切なデジタル光撮像装置である、請求項103〜105の何れかに記載のイメージングのための装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GBGB1019874.5A GB201019874D0 (en) | 2010-11-23 | 2010-11-23 | Improved photoimaging |
GB1019874.5 | 2010-11-23 | ||
PCT/GB2011/052202 WO2012069807A2 (en) | 2010-11-23 | 2011-11-11 | Photoimaging |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014506334A true JP2014506334A (ja) | 2014-03-13 |
JP2014506334A5 JP2014506334A5 (ja) | 2015-01-08 |
JP5978222B2 JP5978222B2 (ja) | 2016-08-24 |
Family
ID=43467190
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013540433A Expired - Fee Related JP5978222B2 (ja) | 2010-11-23 | 2011-11-11 | 基板を撮像するための方法及び装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9134614B2 (ja) |
EP (1) | EP2643731B1 (ja) |
JP (1) | JP5978222B2 (ja) |
KR (1) | KR101901429B1 (ja) |
CN (1) | CN103229105B (ja) |
GB (1) | GB201019874D0 (ja) |
WO (1) | WO2012069807A2 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102012108211A1 (de) * | 2012-09-04 | 2014-03-06 | Kleo Halbleitertechnik Gmbh | Belichtungsanlage |
TWI594080B (zh) * | 2012-11-15 | 2017-08-01 | 彩虹科技系統有限公司 | 光成像法 |
JP2014106302A (ja) * | 2012-11-26 | 2014-06-09 | Rainbow Technology Systems Ltd | 改良されたフォトイメージング |
GB201223064D0 (en) * | 2012-12-20 | 2013-02-06 | Rainbow Technology Systems Ltd | Curable coatings for photoimaging |
GB201312450D0 (en) * | 2013-07-11 | 2013-08-28 | Rainbow Technology Systems Ltd | Direct Imaging of a Sealed Wet Photopolymer Pouch |
CN104105352B (zh) * | 2014-06-24 | 2017-07-18 | 上海英内物联网科技股份有限公司 | 一种铝蚀刻柔性线路板的制造方法 |
US20160231054A1 (en) * | 2015-02-05 | 2016-08-11 | Air Motion Systems, Inc. | Apparatus for curing sensitive substrate materials |
KR101691570B1 (ko) * | 2015-03-30 | 2016-12-30 | 주식회사 아바코 | 노광 장치 |
CN104965390A (zh) * | 2015-05-29 | 2015-10-07 | 王氏港建经销有限公司 | 一种运送多个基板依次通过曝光机的方法和系统 |
KR20170051695A (ko) * | 2015-10-30 | 2017-05-12 | 주식회사 잉크테크 | 연성인쇄회로기판 제조방법 및 그 제조장치 |
CN105549340B (zh) * | 2016-02-24 | 2017-10-24 | 上海大学 | 卷对卷柔性衬底光刻方法和装置 |
JP7043442B2 (ja) * | 2019-02-23 | 2022-03-29 | Hoya株式会社 | 光照射装置 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5664344A (en) * | 1979-10-30 | 1981-06-01 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Preparation of belt-shaped photosensitive resin printing master |
JPS592047A (ja) * | 1982-06-11 | 1984-01-07 | イ−・アイ・デユポン・ド・ネモア−ス・アンド・コンパニ− | 整合および画像形成方法 |
JPS6227736A (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-05 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | レジストパタ−ンの形成方法 |
JPH01128065A (ja) * | 1987-11-13 | 1989-05-19 | Canon Inc | 非固体状感光性樹脂へのパターン露光方法 |
JPH01261644A (ja) * | 1988-04-13 | 1989-10-18 | Mitsubishi Electric Corp | 印刷配線板の露光装置 |
JPH04156969A (ja) * | 1990-10-19 | 1992-05-29 | Hitachi Ltd | 塗布装置 |
JP2001188354A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Asahi Kasei Corp | 感光性樹脂凸版の製造方法、及びその製造装置 |
JP2006015183A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Toppan Printing Co Ltd | ロールコータ |
JP2006285258A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Dcp Inc | Lcd配向膜印刷用スタンパー製造装置及び製造方法 |
JP2007155790A (ja) * | 2005-11-30 | 2007-06-21 | Fujifilm Corp | 平版刷版用の露光装置及び露光用器具 |
JP2010091867A (ja) * | 2008-10-09 | 2010-04-22 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂凸版の製造方法及び感光性樹脂凸版の製造装置 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4056423A (en) * | 1975-04-23 | 1977-11-01 | Hercules Incorporated | Platemaking apparatus |
JPS5664343A (en) * | 1979-10-30 | 1981-06-01 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Preparation of photosensitive resin printing master |
US4888270A (en) | 1980-05-08 | 1989-12-19 | M & T Chemicals Inc. | Photoprinting process and apparatus for exposing paste consistency photopolymers |
US4954421A (en) | 1980-05-08 | 1990-09-04 | M&T Chemicals Inc. | Photoflashing a liquid polymer layer on a phototool surface exposed to air |
US4530306A (en) | 1984-01-06 | 1985-07-23 | Graphic Enterprises Of Ohio, Inc. | Coating device for plates |
JPS60205452A (ja) | 1984-03-30 | 1985-10-17 | Canon Inc | 露光方法 |
US5213949A (en) * | 1986-11-12 | 1993-05-25 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for selectively curing a liquid photosensitive resin by masking exposure |
WO2002067058A1 (de) * | 2001-02-21 | 2002-08-29 | Siemens Aktiengesellschaft | Anordnung zur kontinuierlichen erzeugung eines strukturierten, beschichteten substrates |
KR100657021B1 (ko) * | 2005-03-31 | 2006-12-14 | 디씨피 (주) | 엘씨디 배향막 인쇄용 스템퍼 제조 시스템 및 그 제조방법 |
KR100648465B1 (ko) * | 2005-09-30 | 2006-11-27 | 삼성전기주식회사 | 인쇄회로기판의 미세 회로 형성 방법 |
US20090020315A1 (en) * | 2007-05-21 | 2009-01-22 | Steven Lee Dutton | Automated direct emulsion process for making printed circuits and multilayer printed circuits |
EP2165583A4 (en) * | 2007-06-18 | 2012-05-16 | Technologies Llc Vectraone | AUTOMATED DIRECT EMULSION PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF PCB AND MULTILAYER PCB |
FR2922330A1 (fr) * | 2007-10-15 | 2009-04-17 | Commissariat Energie Atomique | Procede de fabrication d'un masque pour la lithographie haute resolution |
US8592130B2 (en) * | 2008-05-30 | 2013-11-26 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin composition, photosensitive element, method of forming resist pattern and method of producing printed wiring board |
WO2010007405A1 (en) | 2008-07-18 | 2010-01-21 | Rainbow Technology Systems Limited | Method for photoimaging a substrate |
US8288074B2 (en) * | 2008-07-18 | 2012-10-16 | Rainbow Technology Systems Limited | Photoimaging method and apparatus |
US8318386B2 (en) * | 2008-08-07 | 2012-11-27 | Rolith Inc. | Fabrication of nanostructured devices |
US20100141969A1 (en) * | 2008-12-08 | 2010-06-10 | Brazier David B | Method and Apparatus for Making Liquid Flexographic Printing Elements |
-
2010
- 2010-11-23 GB GBGB1019874.5A patent/GB201019874D0/en not_active Ceased
-
2011
- 2011-11-11 JP JP2013540433A patent/JP5978222B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-11-11 US US13/824,019 patent/US9134614B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-11-11 EP EP11787934.6A patent/EP2643731B1/en not_active Not-in-force
- 2011-11-11 KR KR1020137015659A patent/KR101901429B1/ko active IP Right Grant
- 2011-11-11 WO PCT/GB2011/052202 patent/WO2012069807A2/en active Application Filing
- 2011-11-11 CN CN201180056461.5A patent/CN103229105B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5664344A (en) * | 1979-10-30 | 1981-06-01 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Preparation of belt-shaped photosensitive resin printing master |
JPS592047A (ja) * | 1982-06-11 | 1984-01-07 | イ−・アイ・デユポン・ド・ネモア−ス・アンド・コンパニ− | 整合および画像形成方法 |
JPS6227736A (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-05 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | レジストパタ−ンの形成方法 |
JPH01128065A (ja) * | 1987-11-13 | 1989-05-19 | Canon Inc | 非固体状感光性樹脂へのパターン露光方法 |
JPH01261644A (ja) * | 1988-04-13 | 1989-10-18 | Mitsubishi Electric Corp | 印刷配線板の露光装置 |
JPH04156969A (ja) * | 1990-10-19 | 1992-05-29 | Hitachi Ltd | 塗布装置 |
JP2001188354A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Asahi Kasei Corp | 感光性樹脂凸版の製造方法、及びその製造装置 |
JP2006015183A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Toppan Printing Co Ltd | ロールコータ |
JP2006285258A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Dcp Inc | Lcd配向膜印刷用スタンパー製造装置及び製造方法 |
JP2007155790A (ja) * | 2005-11-30 | 2007-06-21 | Fujifilm Corp | 平版刷版用の露光装置及び露光用器具 |
JP2010091867A (ja) * | 2008-10-09 | 2010-04-22 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂凸版の製造方法及び感光性樹脂凸版の製造装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20140012036A (ko) | 2014-01-29 |
EP2643731B1 (en) | 2017-03-01 |
US20130316152A1 (en) | 2013-11-28 |
KR101901429B1 (ko) | 2018-09-21 |
GB201019874D0 (en) | 2011-01-05 |
WO2012069807A2 (en) | 2012-05-31 |
CN103229105B (zh) | 2016-07-06 |
US9134614B2 (en) | 2015-09-15 |
EP2643731A2 (en) | 2013-10-02 |
WO2012069807A3 (en) | 2012-07-19 |
CN103229105A (zh) | 2013-07-31 |
JP5978222B2 (ja) | 2016-08-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5978222B2 (ja) | 基板を撮像するための方法及び装置 | |
JP2007515782A (ja) | 少なくとも一つの電気的コンポーネントを有するフィルム及びその生産プロセス | |
JP2014506334A5 (ja) | 基板を撮像するための方法及び装置 | |
JP2865578B2 (ja) | レジストパターンの作成方法、その方法により得られるプリント配線板及びその作成装置 | |
KR100804734B1 (ko) | 자외선 롤 나노임프린팅을 이용한 연속 리소그라피 장치 및 방법 | |
JP2008311416A (ja) | 金属転写箔を用いた電磁波シールドメッシュの製造方法、及び電磁波シールドメッシュ | |
KR100933394B1 (ko) | 배선 회로 기판의 제조 방법 | |
JP2005209920A (ja) | プリント配線基板、その製造方法および製造装置、配線回路パターン、ならびにプリント配線板 | |
JP2007142092A (ja) | 高密度配線基板の製法およびそれを用いて製造した高密度配線基板、電子装置ならびに電子機器 | |
JP2010076400A (ja) | フレキシブル基材向け印刷装置及び印刷方法 | |
KR20180079687A (ko) | 방열 시트가 구비된 단위 칩 부품 인시츄 제조용 방열 시트, 이의 제조방법 및 이를 이용한 방열 시트가 구비된 단위 칩 부품 인시츄 제조방법 | |
CN104105352B (zh) | 一种铝蚀刻柔性线路板的制造方法 | |
US20100015409A1 (en) | Photoimaging method and apparatus | |
JP5768574B2 (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
KR102212422B1 (ko) | 희생층을 이용한 광 유도 전사 방법 | |
WO2015004433A1 (en) | Direct imaging of a sealed wet photopolymer pouch | |
KR200360502Y1 (ko) | 인쇄회로기판 제조용 액상 감광제 건조장치 | |
KR101298103B1 (ko) | 미세 회로 패턴 제조 장치와 방법 및 이에 의해 제조되는 미세 회로 패턴 | |
TWI594080B (zh) | 光成像法 | |
JP2012166526A (ja) | ディジタル露光印刷装置およびそれを用いた印刷方法 | |
TWI442848B (zh) | 觸控面板之周邊電路及其製造方法 | |
KR20230103531A (ko) | 솔더 레지스트 인쇄 방법 | |
JPH11340606A (ja) | レジスト層の形成方法及びプリント配線基板の製造方法 | |
JP4616733B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2009080264A (ja) | カラーフィルターの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141107 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141107 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150714 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20151013 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20151112 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151209 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160517 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160519 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160719 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160725 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5978222 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |