JPH09319121A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
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- JPH09319121A JPH09319121A JP8151808A JP15180896A JPH09319121A JP H09319121 A JPH09319121 A JP H09319121A JP 8151808 A JP8151808 A JP 8151808A JP 15180896 A JP15180896 A JP 15180896A JP H09319121 A JPH09319121 A JP H09319121A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- represent
- integer
- substituted
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- Prior art date
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- Pending
Links
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 繰り返し使用時の耐摩耗性に優れ、且つ反応
性ガスによる影響を抑え、繰り返し使用においても帯電
電位の低下や残留電位の上昇が少ない電子写真感光体を
提供する。 【解決手段】 導電性支持体上に電荷発生物質と高分子
電荷輸送物質を含有する感光層を有する電子写真感光体
において、感光層中にイオウ原子を含む酸化防止剤ある
いは老化防止剤化合物を含有する。
性ガスによる影響を抑え、繰り返し使用においても帯電
電位の低下や残留電位の上昇が少ない電子写真感光体を
提供する。 【解決手段】 導電性支持体上に電荷発生物質と高分子
電荷輸送物質を含有する感光層を有する電子写真感光体
において、感光層中にイオウ原子を含む酸化防止剤ある
いは老化防止剤化合物を含有する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真感光体に
関し、更に詳しくは、複写機、レーザープリンター、レ
ーザーファクシミリなどに好適に使用される電子写真感
光体に関するものである。
関し、更に詳しくは、複写機、レーザープリンター、レ
ーザーファクシミリなどに好適に使用される電子写真感
光体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】電子写真方法としては、カールソンプロ
セスやその種々の変形プロセスなどが知られており、複
写機やプリンターなどに広く使用されている。この様な
電子写真方法に用いられる感光体の中でも、有機系の感
光材料を用いたものが、安価、大量生産性、無公害性な
どをメリットとして、近年使用されてきている。
セスやその種々の変形プロセスなどが知られており、複
写機やプリンターなどに広く使用されている。この様な
電子写真方法に用いられる感光体の中でも、有機系の感
光材料を用いたものが、安価、大量生産性、無公害性な
どをメリットとして、近年使用されてきている。
【0003】有機系の電子写真感光体には、ポリビニル
カルバゾール(PVK)に代表される光導電性樹脂、P
VK−TNF(2,4,7−トリニトロフルオレノン)
に代表される電荷移動錯体型、フタロシアニン−結着剤
に代表される顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送物質
とを組み合わせて用いる機能分離型の感光体などが知ら
れており、特に機能分離型の電子写真感光体が注目され
ている。
カルバゾール(PVK)に代表される光導電性樹脂、P
VK−TNF(2,4,7−トリニトロフルオレノン)
に代表される電荷移動錯体型、フタロシアニン−結着剤
に代表される顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送物質
とを組み合わせて用いる機能分離型の感光体などが知ら
れており、特に機能分離型の電子写真感光体が注目され
ている。
【0004】機能分離型の電子写真感光体においては、
主に紫外部に吸収を持つ電荷輸送物質と、主に可視部か
ら近赤外部に吸収を持つ電荷発生物質とを組み合わせて
用いることが知られており、かつ有用である。
主に紫外部に吸収を持つ電荷輸送物質と、主に可視部か
ら近赤外部に吸収を持つ電荷発生物質とを組み合わせて
用いることが知られており、かつ有用である。
【0005】電荷輸送物質としては、多くの低分子化合
物が開発されているが、低分子化合物は単独では成膜性
がないため、通常、不活性高分子に分散・混合して用い
られる。しかるに、低分子電荷輸送物質と不活性高分子
からなる感光層は一般に脆く、カールソンプロセスにお
いては、繰り返し使用による膜削れが生じやすいという
欠点がある。また、この構成の感光層は電荷移動度に限
界があり、カールソンプロセスの高速化あるいは小型化
の障害となっていた。これは、通常、低分子電荷輸送物
質が電荷輸送層において50重量%以下の含有量で使用
されることに起因しており、低分子電荷輸送物質の含有
量を増すことにより電荷移動度をある程度上げることは
可能であるが、低分子電荷輸送物質の含有量を増すと成
膜性が劣化し、クラックや膜剥離が生じ、また繰り返し
使用による膜削れが大きくなるという欠点がある。
物が開発されているが、低分子化合物は単独では成膜性
がないため、通常、不活性高分子に分散・混合して用い
られる。しかるに、低分子電荷輸送物質と不活性高分子
からなる感光層は一般に脆く、カールソンプロセスにお
いては、繰り返し使用による膜削れが生じやすいという
欠点がある。また、この構成の感光層は電荷移動度に限
界があり、カールソンプロセスの高速化あるいは小型化
の障害となっていた。これは、通常、低分子電荷輸送物
質が電荷輸送層において50重量%以下の含有量で使用
されることに起因しており、低分子電荷輸送物質の含有
量を増すことにより電荷移動度をある程度上げることは
可能であるが、低分子電荷輸送物質の含有量を増すと成
膜性が劣化し、クラックや膜剥離が生じ、また繰り返し
使用による膜削れが大きくなるという欠点がある。
【0006】このような欠点を改良するために高分子型
の電荷輸送物質が注目され、例えば、特開昭50−82
056号公報、特開昭51−73888号公報、特開昭
54−8527号公報、特開昭54−11737号公
報、特開昭56−150749号公報、特開昭57−7
8402号公報、特開昭63−285552号公報、特
開平1−1728号公報、特開平1−19049号公
報、特開平3−50555号公報、特開平6−8307
6号公報、特開平6−295077号公報、特開平7−
56374号公報、特開平713376号公報などに開
示されている。これらの高分子電荷輸送物質を用いた場
合には、成膜性が良好で機械的強度が強く耐摩耗性に優
れ、クラックや膜剥離を生じることが少なく、また繰り
返し使用による膜削れを防止することができる。
の電荷輸送物質が注目され、例えば、特開昭50−82
056号公報、特開昭51−73888号公報、特開昭
54−8527号公報、特開昭54−11737号公
報、特開昭56−150749号公報、特開昭57−7
8402号公報、特開昭63−285552号公報、特
開平1−1728号公報、特開平1−19049号公
報、特開平3−50555号公報、特開平6−8307
6号公報、特開平6−295077号公報、特開平7−
56374号公報、特開平713376号公報などに開
示されている。これらの高分子電荷輸送物質を用いた場
合には、成膜性が良好で機械的強度が強く耐摩耗性に優
れ、クラックや膜剥離を生じることが少なく、また繰り
返し使用による膜削れを防止することができる。
【0007】しかしながら、これら高分子電荷輸送物質
を用いた電子写真感光体においても、複写機やプリンタ
ーなどの帯電工程で発生するオゾンなどの反応性ガスに
よる高分子電荷輸送物質の劣化、或いは電荷発生物質、
高分子電荷輸送物質界面における反応性ガスの影響など
が避けがたく、電子写真感光体の繰り返し使用により帯
電電位が低下し、また残留電位が上昇するという欠点が
ある。
を用いた電子写真感光体においても、複写機やプリンタ
ーなどの帯電工程で発生するオゾンなどの反応性ガスに
よる高分子電荷輸送物質の劣化、或いは電荷発生物質、
高分子電荷輸送物質界面における反応性ガスの影響など
が避けがたく、電子写真感光体の繰り返し使用により帯
電電位が低下し、また残留電位が上昇するという欠点が
ある。
【0008】このような欠点を改良するために、特開平
6−214416号公報には感光層中にヒドロキノン誘
導体を含有させることが開示されているが、未だ改良が
不十分である。また、特開平4−321051号公報に
は、電子写真感光体の繰り返し使用による帯電性の劣化
を防止するために、特定の低分子電荷輸送物質と不活性
高分子からなる感光層に有機亜リン酸エステル化合物を
含有させることが開示されているが、この電子写真感光
体は耐摩耗性に劣り繰り返し使用による膜削れが大きく
なるという欠点がある。
6−214416号公報には感光層中にヒドロキノン誘
導体を含有させることが開示されているが、未だ改良が
不十分である。また、特開平4−321051号公報に
は、電子写真感光体の繰り返し使用による帯電性の劣化
を防止するために、特定の低分子電荷輸送物質と不活性
高分子からなる感光層に有機亜リン酸エステル化合物を
含有させることが開示されているが、この電子写真感光
体は耐摩耗性に劣り繰り返し使用による膜削れが大きく
なるという欠点がある。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題は
このような問題点を解決し、繰り返し使用時の耐摩耗性
に優れ、且つ反応性ガスによる影響を抑え、繰り返し使
用においても帯電電位の低下や残留電位の上昇が少ない
電子写真感光体を提供することにある。
このような問題点を解決し、繰り返し使用時の耐摩耗性
に優れ、且つ反応性ガスによる影響を抑え、繰り返し使
用においても帯電電位の低下や残留電位の上昇が少ない
電子写真感光体を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、導
電性支持体上に電荷発生物質と高分子電荷輸送物質を含
有する感光層を有する電子写真感光体において、感光層
中にイオウ原子を含む酸化防止剤あるいは老化防止剤化
合物を含有することを特徴とする電子写真感光体によっ
て達成される。
電性支持体上に電荷発生物質と高分子電荷輸送物質を含
有する感光層を有する電子写真感光体において、感光層
中にイオウ原子を含む酸化防止剤あるいは老化防止剤化
合物を含有することを特徴とする電子写真感光体によっ
て達成される。
【0011】イオウ原子を含む酸化防止剤あるいは老化
防止剤化合物は、チオエーテル基、メルカプト基などと
してイオウ原子を含む化合物であり、その具体例として
は、例えば3,3′−チオプロピオン酸ジラウリル、
3,3′−チオプロピオン酸ジドデシル、3,3′−チ
オプロピオン酸ジミリスチル、3,3′−チオプロピオ
ン酸ジステアリル、3,3′−チオプロピオン酸ラウリ
ルステアリル、ペンタエリシリトール−テトラキス−
(β−ラウリル−チオプロピオネート)などのチオエー
テル化合物、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−
メルカプト−6−メチルベンズイミダゾール、ジベンゾ
チアジルジスルフィド、2−(N,N−ジエチルチオカ
ルバモイルチオ)ベンゾチアゾールなどのチアゾール系
イオウ化合物、1,3−ビス(ジメチアミノプロピル)
−2−チオ尿素、N,N′−ジフェニルチオ尿素などの
チオ尿素化合物、テトラメチルチウラムジスルフィド、
テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラメチルチウ
ラムモノスルフィド、ヂペンタメチレンチウラムテトラ
スルフィドなどのチウラム化合物、4,4′−チオビス
(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)などのフェ
ノール性イオウ化合物などが挙げられる。このようなイ
オウ原子を含む酸化防止剤あるいは老化防止剤化合物
は、酸化防止能に極めて優れており、少量の添加によっ
ても反応性ガスによる影響を抑え、繰り返し使用におい
ても帯電電位の低下や残留電位の上昇を防止する優れた
効果を発現する。
防止剤化合物は、チオエーテル基、メルカプト基などと
してイオウ原子を含む化合物であり、その具体例として
は、例えば3,3′−チオプロピオン酸ジラウリル、
3,3′−チオプロピオン酸ジドデシル、3,3′−チ
オプロピオン酸ジミリスチル、3,3′−チオプロピオ
ン酸ジステアリル、3,3′−チオプロピオン酸ラウリ
ルステアリル、ペンタエリシリトール−テトラキス−
(β−ラウリル−チオプロピオネート)などのチオエー
テル化合物、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−
メルカプト−6−メチルベンズイミダゾール、ジベンゾ
チアジルジスルフィド、2−(N,N−ジエチルチオカ
ルバモイルチオ)ベンゾチアゾールなどのチアゾール系
イオウ化合物、1,3−ビス(ジメチアミノプロピル)
−2−チオ尿素、N,N′−ジフェニルチオ尿素などの
チオ尿素化合物、テトラメチルチウラムジスルフィド、
テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラメチルチウ
ラムモノスルフィド、ヂペンタメチレンチウラムテトラ
スルフィドなどのチウラム化合物、4,4′−チオビス
(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)などのフェ
ノール性イオウ化合物などが挙げられる。このようなイ
オウ原子を含む酸化防止剤あるいは老化防止剤化合物
は、酸化防止能に極めて優れており、少量の添加によっ
ても反応性ガスによる影響を抑え、繰り返し使用におい
ても帯電電位の低下や残留電位の上昇を防止する優れた
効果を発現する。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。本発明において用いられる高分子電荷輸送物質と
しては、特に下記一般式(1)〜(10)で表される高
分子化合物が好ましい。
する。本発明において用いられる高分子電荷輸送物質と
しては、特に下記一般式(1)〜(10)で表される高
分子化合物が好ましい。
【0013】
【化31】 {式中、R′1、R′2、R′3は、それぞれ独立して置
換もしくは無置換のアルキル基またはハロゲン原子を表
し、R′4は水素原子または置換もしくは無置換のアル
キル基を表す。R1、R2は置換もしくは無置換のアリー
ル基を表す。o、p、qは、それぞれ独立して0〜4の
整数を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0
≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜
5000の整数である。Xは脂肪族の2価基、環状脂肪
族の2価基、または下記一般式(A)で表される2価基
を表す。
換もしくは無置換のアルキル基またはハロゲン原子を表
し、R′4は水素原子または置換もしくは無置換のアル
キル基を表す。R1、R2は置換もしくは無置換のアリー
ル基を表す。o、p、qは、それぞれ独立して0〜4の
整数を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0
≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜
5000の整数である。Xは脂肪族の2価基、環状脂肪
族の2価基、または下記一般式(A)で表される2価基
を表す。
【化32】 〔式中、R24、R25は、それぞれ独立して置換もしくは
無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
表し、l、mは0〜4の整数を表す。Yは単結合、炭素
原子数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
レン基、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−C
O−、−CO−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族の
2価基を表す)または下記一般式(B)
無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
表し、l、mは0〜4の整数を表す。Yは単結合、炭素
原子数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
レン基、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−C
O−、−CO−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族の
2価基を表す)または下記一般式(B)
【化33】 (式中、aは1〜20の整数を表し、bは1〜2000
の整数を表す。R26、R27は置換または無置換のアルキ
ル基またはアリール基を表す。)を表す。R24とR25、
R26とR27はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
い。〕}
の整数を表す。R26、R27は置換または無置換のアルキ
ル基またはアリール基を表す。)を表す。R24とR25、
R26とR27はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
い。〕}
【0014】R′1、R′2、R′3のアルキル基は、好
ましくは、C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好まし
くはC1〜C4の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、
これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シア
ノ基、C1〜C4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロ
ゲン原子、C1〜C4のアルキル基もしくはC1〜C4のア
ルコキシ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。
具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i
−プロピル基、t−ブチル基、s−ブチル基、n−ブチ
ル基、i−ブチル基、トリフルオロメチル基、2−ヒド
ロキシエチル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエ
チル基、2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロ
ロベンジル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベ
ンジル基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。ハ
ロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子が挙げられる。R′4の置換もしくは無
置換のアルキル基としては、上記のR′1、R′2、R′
3と同様のものが挙げられる。
ましくは、C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好まし
くはC1〜C4の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、
これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シア
ノ基、C1〜C4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロ
ゲン原子、C1〜C4のアルキル基もしくはC1〜C4のア
ルコキシ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。
具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i
−プロピル基、t−ブチル基、s−ブチル基、n−ブチ
ル基、i−ブチル基、トリフルオロメチル基、2−ヒド
ロキシエチル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエ
チル基、2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロ
ロベンジル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベ
ンジル基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。ハ
ロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子が挙げられる。R′4の置換もしくは無
置換のアルキル基としては、上記のR′1、R′2、R′
3と同様のものが挙げられる。
【0015】R1、R2のアリール基としては、フェニル
基などの芳香族炭化水素基、ナフチル基、ピレニル基、
2−フルオレニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレ
ニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニ
ル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、5
H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル
基などの縮合多環基、ビフェニリル基、ターフェニリル
基などの非縮合多環基、チェニル基、ベンゾチェニル
基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基など
の複素環基などが挙げられる。
基などの芳香族炭化水素基、ナフチル基、ピレニル基、
2−フルオレニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレ
ニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニ
ル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、5
H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル
基などの縮合多環基、ビフェニリル基、ターフェニリル
基などの非縮合多環基、チェニル基、ベンゾチェニル
基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基など
の複素環基などが挙げられる。
【0016】上述のアリール基は以下に示す基を置換基
として有していてもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基:上記のR′1、R′2、R′3のアル
キル基として示したものと同様のものが挙げられる。 (3)アルコキシ基(−OR41):R41は上記(2)で
示したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、
エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、t
−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、i−
ブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2−シアノエ
トキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベンジルオキ
シ基、トリフルオロメトキシ基などが挙げられる。 (4)アリールオキシ基:アリール基としてフェニル
基、ナフチル基が挙げられる。これらは、C1〜C4のア
ルコキシ基、C1〜C4のアルキル基またはハロゲン原子
を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキ
シ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、
4−メチルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基、
4−クロロフェノキシ基、6−メチル−2−ナフチルオ
キシ基などが挙げられる。 (5)置換メルカプト基またはアリールメルカプト基:
具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ
基、p−メチルフェニルチオ基などが挙げられる。 (6)アルキル置換アミノ基:アルキル基は上記(2)
で示したアルキル基を表わす。具体的にはジメチルアミ
ノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−プロピルア
ミノ基、N,N−ジベンジルアミノ基などが挙げられ
る。 (7)アシル基:具体的にはアセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基などが挙げ
られる。
として有していてもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基:上記のR′1、R′2、R′3のアル
キル基として示したものと同様のものが挙げられる。 (3)アルコキシ基(−OR41):R41は上記(2)で
示したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、
エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、t
−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、i−
ブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2−シアノエ
トキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベンジルオキ
シ基、トリフルオロメトキシ基などが挙げられる。 (4)アリールオキシ基:アリール基としてフェニル
基、ナフチル基が挙げられる。これらは、C1〜C4のア
ルコキシ基、C1〜C4のアルキル基またはハロゲン原子
を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキ
シ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、
4−メチルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基、
4−クロロフェノキシ基、6−メチル−2−ナフチルオ
キシ基などが挙げられる。 (5)置換メルカプト基またはアリールメルカプト基:
具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ
基、p−メチルフェニルチオ基などが挙げられる。 (6)アルキル置換アミノ基:アルキル基は上記(2)
で示したアルキル基を表わす。具体的にはジメチルアミ
ノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−プロピルア
ミノ基、N,N−ジベンジルアミノ基などが挙げられ
る。 (7)アシル基:具体的にはアセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基などが挙げ
られる。
【0017】Xは下記一般式(1′)のトリアリールア
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(1′)のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(1′)のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。
【0018】
【化34】
【0019】一般式(C)のジオール化合物の具体例と
しては以下のものが挙げられる。l,3−プロパンジオ
ール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオ
ール、1,6−へキサンジオール、1,8−オクタンジ
オール、1,10−デカンジオール、2−メチル−1,
3−プロパンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プ
ロパンジオール、2−エチル−1,3−プロパンジオー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレンエーテル
グリコール等の脂肪族ジオール、1,4−シクロヘキサ
ンジオール、1,3−シクロヘキサンジオール、シクロ
ヘキサン−1,4‐ジメタノール等の環状脂肪族ジオー
ルなどが挙げられる。
しては以下のものが挙げられる。l,3−プロパンジオ
ール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオ
ール、1,6−へキサンジオール、1,8−オクタンジ
オール、1,10−デカンジオール、2−メチル−1,
3−プロパンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プ
ロパンジオール、2−エチル−1,3−プロパンジオー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレンエーテル
グリコール等の脂肪族ジオール、1,4−シクロヘキサ
ンジオール、1,3−シクロヘキサンジオール、シクロ
ヘキサン−1,4‐ジメタノール等の環状脂肪族ジオー
ルなどが挙げられる。
【0020】また、芳香環を有するジオールとしては、
4,4′−ジヒドロキシジフェニル、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)エタン、1,1ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−フェニルエタン、2,2−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−メチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、2,2−
ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(3−イソプロピル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,
5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4′
‐ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、4,4′−ジ
ヒドロキシジフェニルスルフィド、3,3′−ジメチル
−4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,
4′−ジヒドロキシジフェニルオキシド、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、
9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、
9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)キサンテン、
エチレングリコール−ビス(4−ヒドロキシベンゾエー
ト)、ジエチレングリコール−ビス(4−ヒドロキシベ
ンゾエート)、トリエチレングリコール−ビス(4−ヒ
ドロキシベンゾエート)、1,3−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)−テトラメチルジシロキサン、フェノール
変性シリコーンオイルなどが挙げられる。
4,4′−ジヒドロキシジフェニル、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)エタン、1,1ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−フェニルエタン、2,2−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−メチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、2,2−
ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(3−イソプロピル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,
5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4′
‐ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、4,4′−ジ
ヒドロキシジフェニルスルフィド、3,3′−ジメチル
−4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,
4′−ジヒドロキシジフェニルオキシド、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、
9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、
9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)キサンテン、
エチレングリコール−ビス(4−ヒドロキシベンゾエー
ト)、ジエチレングリコール−ビス(4−ヒドロキシベ
ンゾエート)、トリエチレングリコール−ビス(4−ヒ
ドロキシベンゾエート)、1,3−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)−テトラメチルジシロキサン、フェノール
変性シリコーンオイルなどが挙げられる。
【0021】一般式(1)で表される高分子化合物の具
体例を表1〜表4に示す。
体例を表1〜表4に示す。
【0022】
【表1】
【0023】
【表2】
【0024】
【表3】
【0025】
【表4】
【0026】次に、一般式(2)で表される高分子化合
物を示す。
物を示す。
【化35】 〔式中、R3、R4は置換もしくは無置換のアリール基を
表し、Ar1、Ar2、Ar3は同一または異なるアリレ
ン基を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0
≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜
5000の整数である。Xは前記一般式(1)に記載さ
れたものと同様の基を表す。〕
表し、Ar1、Ar2、Ar3は同一または異なるアリレ
ン基を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0
≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜
5000の整数である。Xは前記一般式(1)に記載さ
れたものと同様の基を表す。〕
【0027】R3、R4のアリール基としては、フェニル
基などの芳香族炭化水素基、ナフチル基、ピレニル基、
2−フルオレニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレ
ニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニ
ル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、5
H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル
基などの縮合多環基、チェニル基、ベンゾチェニル基、
フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などの複
素環基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、または下
記一般式(イ)で示される非縮合多環基などが挙げられ
る。
基などの芳香族炭化水素基、ナフチル基、ピレニル基、
2−フルオレニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレ
ニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニ
ル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、5
H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル
基などの縮合多環基、チェニル基、ベンゾチェニル基、
フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などの複
素環基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、または下
記一般式(イ)で示される非縮合多環基などが挙げられ
る。
【0028】
【化36】 〔式中、Wは、−O−、−S−、−SO−、−SO
2−、−CO−および下記一般式(ロ)、(ハ)、
(ニ)、(ホ)で示す2価基を表す。
2−、−CO−および下記一般式(ロ)、(ハ)、
(ニ)、(ホ)で示す2価基を表す。
【化37】 (式中、cは1〜12の整数を表し、d、e、fは1〜
3の整数表す。)〕
3の整数表す。)〕
【0029】また、Ar1、Ar2、Ar3のアリレン基
としては、R3、R4で示したアリール基の2価の基が挙
げられる。R3、R4のアリール基、Ar1、Ar2、Ar
3のアリレン基は以下に示す基を置換基として有しても
よい。また、これらの置換基は上記一般式(イ)、
(ニ)、(ホ)におけるR31、R32、R33の具体例でも
ある。
としては、R3、R4で示したアリール基の2価の基が挙
げられる。R3、R4のアリール基、Ar1、Ar2、Ar
3のアリレン基は以下に示す基を置換基として有しても
よい。また、これらの置換基は上記一般式(イ)、
(ニ)、(ホ)におけるR31、R32、R33の具体例でも
ある。
【0030】(1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、ニトロ基。 (2)アルキル基:好ましくは、C1〜C12とりわけC1
〜C8、さらに好ましくはC1〜C4の直鎖または分岐鎖
のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ
素原子、水酸基、シアノ基、C1〜C4のアルコキシ基、
フェニル基、又はハロゲン原子、C1〜C4のアルキル基
もしくはC1〜C4のアルコキシ基で置換されたフェニル
基を含有しても良い。具体的には、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基、
s−ブチル基、n−ブチル基、i−ブチル基、トリフル
オロメチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−シアノエ
チル基、2−エトキシエチル基、2−メトキシエチル
基、ベンジル基、4−クロロベンジル基、4−メチルベ
ンジル基、4−メトキシベンジル基、4−フェニルベン
ジル基等が挙げられる。 (3)アルコキシ基(−OR41):R41は上記(2)で
示したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、
エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、t
−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、i−
ブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2−シアノエ
トキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベンジルオキ
シ基、トリフルオロメトキシ基などが挙げられる。 (4)アリールオキシ基:アリール基としてフェニル
基、ナフチル基が挙げられる。これらは、C1〜C4のア
ルコキシ基、C1〜C4のアルキル基またはハロゲン原子
を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキ
シ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、
4−メチルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基、
4−クロロフェノキシ基、6−メチル−2−ナフチルオ
キシ基などが挙げられる。 (5)置換メルカプト基またはアリールメルカプト基:
具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ
基、p−メチルフェニルチオ基などが挙げられる。 (6)一般式−N(R42)(R43)で表される置換アミ
ノ基。(式中、R42及びR43は各々独立に上記(2)で
示したアルキル基、または上記R3、R4で示したアリー
ル基を表し、好ましいアリール基としては、例えばフェ
ニル基、ビフェニル基またはナフチル基が挙げられ、こ
れらはC1〜C4のアルコキシ基、C1〜C4のアルキル基
またはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。ま
たアリール基上の炭素原子と共同で環を形成しても良
い。具体的には、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−
フェニルアミノ基、N,N−ジフェニルアミノ基、N、
N−ジ(p−トリル)アミノ基、ジベンジルアミノ基、
ピペリジノ基、モルホリノ基、ユロリジル基などが挙げ
られる。 (7)メチレンジオキシ基、またはメチレンジチオ基等
のアルキレンジオキシ基またはアルキレンジチオ基な
ど。
基、シアノ基、ニトロ基。 (2)アルキル基:好ましくは、C1〜C12とりわけC1
〜C8、さらに好ましくはC1〜C4の直鎖または分岐鎖
のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ
素原子、水酸基、シアノ基、C1〜C4のアルコキシ基、
フェニル基、又はハロゲン原子、C1〜C4のアルキル基
もしくはC1〜C4のアルコキシ基で置換されたフェニル
基を含有しても良い。具体的には、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基、
s−ブチル基、n−ブチル基、i−ブチル基、トリフル
オロメチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−シアノエ
チル基、2−エトキシエチル基、2−メトキシエチル
基、ベンジル基、4−クロロベンジル基、4−メチルベ
ンジル基、4−メトキシベンジル基、4−フェニルベン
ジル基等が挙げられる。 (3)アルコキシ基(−OR41):R41は上記(2)で
示したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、
エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、t
−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、i−
ブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2−シアノエ
トキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベンジルオキ
シ基、トリフルオロメトキシ基などが挙げられる。 (4)アリールオキシ基:アリール基としてフェニル
基、ナフチル基が挙げられる。これらは、C1〜C4のア
ルコキシ基、C1〜C4のアルキル基またはハロゲン原子
を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキ
シ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、
4−メチルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基、
4−クロロフェノキシ基、6−メチル−2−ナフチルオ
キシ基などが挙げられる。 (5)置換メルカプト基またはアリールメルカプト基:
具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ
基、p−メチルフェニルチオ基などが挙げられる。 (6)一般式−N(R42)(R43)で表される置換アミ
ノ基。(式中、R42及びR43は各々独立に上記(2)で
示したアルキル基、または上記R3、R4で示したアリー
ル基を表し、好ましいアリール基としては、例えばフェ
ニル基、ビフェニル基またはナフチル基が挙げられ、こ
れらはC1〜C4のアルコキシ基、C1〜C4のアルキル基
またはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。ま
たアリール基上の炭素原子と共同で環を形成しても良
い。具体的には、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−
フェニルアミノ基、N,N−ジフェニルアミノ基、N、
N−ジ(p−トリル)アミノ基、ジベンジルアミノ基、
ピペリジノ基、モルホリノ基、ユロリジル基などが挙げ
られる。 (7)メチレンジオキシ基、またはメチレンジチオ基等
のアルキレンジオキシ基またはアルキレンジチオ基な
ど。
【0031】Xは下記一般式(2′)のトリアリールア
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(2′)のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(2′)のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。
【0032】
【化38】 一般式(C)のジオール化合物の具体例としては、前記
一般式(1)の説明において例示したものを挙げること
ができる。
一般式(1)の説明において例示したものを挙げること
ができる。
【0033】一般式(2)で表される高分子化合物の具
体例を表5、6に示す。
体例を表5、6に示す。
【0034】
【表5】
【0035】
【表6】
【0036】次に、一般式(3)で表される高分子化合
物を示す。
物を示す。
【化39】 〔式中、R5、R6は置換もしくは無置換のアリール基を
表し、Ar4、Ar5、Ar6は同一または異なるアリレ
ン基を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0
≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜
5000の整数である。Xは前記一般式(1)に記載さ
れたものと同様の基を表す。〕
表し、Ar4、Ar5、Ar6は同一または異なるアリレ
ン基を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0
≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜
5000の整数である。Xは前記一般式(1)に記載さ
れたものと同様の基を表す。〕
【0037】R5、R6のアリール基としては、フェニル
基などの芳香族炭化水素基、ナフチル基、ピレニル基、
2−フルオレニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレ
ニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニ
ル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、5
H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル
基などの縮合多環基、ビフェニリル基、ターフェニリル
基などの非縮合多環基、チェニル基、ベンゾチェニル
基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基など
の複素環基などが挙げられる。
基などの芳香族炭化水素基、ナフチル基、ピレニル基、
2−フルオレニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレ
ニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニ
ル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、5
H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル
基などの縮合多環基、ビフェニリル基、ターフェニリル
基などの非縮合多環基、チェニル基、ベンゾチェニル
基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基など
の複素環基などが挙げられる。
【0038】また、Ar4、Ar5、Ar6のアリレン基
としては、R5、R6で示したアリール基の2価の基が挙
げられる。R5、R6のアリール基、Ar4、Ar5、Ar
6のアリレン基は以下に示す基を置換基として有しても
よい。
としては、R5、R6で示したアリール基の2価の基が挙
げられる。R5、R6のアリール基、Ar4、Ar5、Ar
6のアリレン基は以下に示す基を置換基として有しても
よい。
【0039】(1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、ニトロ基。 (2)アルキル基:好ましくは、C1〜C12とりわけC1
〜C8、さらに好ましくはC1〜C4の直鎖または分岐鎖
のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ
素原子、水酸基、シアノ基、C1〜C4のアルコキシ基、
フェニル基、又はハロゲン原子、C1〜C4のアルキル基
もしくはC1〜C4のアルコキシ基で置換されたフェニル
基を含有しても良い。具体的には、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基、
s−ブチル基、n−ブチル基、i−ブチル基、トリフル
オロメチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−シアノエ
チル基、2−エトキシエチル基、2−メトキシエチル
基、ベンジル基、4−クロロベンジル基、4−メチルベ
ンジル基、4−メトキシベンジル基、4−フェニルベン
ジル基等が挙げられる。 (3)アルコキシ基(−OR41):R41は上記(2)で
示したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、
エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、t
−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、i−
ブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2−シアノエ
トキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベンジルオキ
シ基、トリフルオロメトキシ基などが挙げられる。 (4)アリールオキシ基:アリール基としてフェニル
基、ナフチル基が挙げられる。これらは、C1〜C4のア
ルコキシ基、C1〜C4のアルキル基またはハロゲン原子
を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキ
シ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、
4−メチルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基、
4−クロロフェノキシ基、6−メチル−2−ナフチルオ
キシ基などが挙げられる。 (5)置換メルカプト基またはアリールメルカプト基:
具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ
基、p−メチルフェニルチオ基などが挙げられる。 (6)アルキル置換アミノ基:アルキル基は上記(2)
で示したアルキル基を表わす。具体的にはジメチルアミ
ノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−プロピルア
ミノ基、N,N−ジベンジルアミノ基などが挙げられ
る。 (7)アシル基:具体的にはアセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基などが挙げ
られる。
基、シアノ基、ニトロ基。 (2)アルキル基:好ましくは、C1〜C12とりわけC1
〜C8、さらに好ましくはC1〜C4の直鎖または分岐鎖
のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ
素原子、水酸基、シアノ基、C1〜C4のアルコキシ基、
フェニル基、又はハロゲン原子、C1〜C4のアルキル基
もしくはC1〜C4のアルコキシ基で置換されたフェニル
基を含有しても良い。具体的には、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基、
s−ブチル基、n−ブチル基、i−ブチル基、トリフル
オロメチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−シアノエ
チル基、2−エトキシエチル基、2−メトキシエチル
基、ベンジル基、4−クロロベンジル基、4−メチルベ
ンジル基、4−メトキシベンジル基、4−フェニルベン
ジル基等が挙げられる。 (3)アルコキシ基(−OR41):R41は上記(2)で
示したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、
エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、t
−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、i−
ブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2−シアノエ
トキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベンジルオキ
シ基、トリフルオロメトキシ基などが挙げられる。 (4)アリールオキシ基:アリール基としてフェニル
基、ナフチル基が挙げられる。これらは、C1〜C4のア
ルコキシ基、C1〜C4のアルキル基またはハロゲン原子
を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキ
シ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、
4−メチルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基、
4−クロロフェノキシ基、6−メチル−2−ナフチルオ
キシ基などが挙げられる。 (5)置換メルカプト基またはアリールメルカプト基:
具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ
基、p−メチルフェニルチオ基などが挙げられる。 (6)アルキル置換アミノ基:アルキル基は上記(2)
で示したアルキル基を表わす。具体的にはジメチルアミ
ノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−プロピルア
ミノ基、N,N−ジベンジルアミノ基などが挙げられ
る。 (7)アシル基:具体的にはアセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基などが挙げ
られる。
【0040】Xは下記一般式(3′)のトリアリールア
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(3′)のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(3′)のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。
【0041】
【化40】 一般式(C)のジオール化合物の具体例としては、前記
一般式(1)の説明において例示したものを挙げること
ができる。
一般式(1)の説明において例示したものを挙げること
ができる。
【0042】一般式(3)で表される高分子化合物の具
体例を表7に示す。
体例を表7に示す。
【0043】
【表7】
【0044】次に、一般式(4)で表される高分子化合
物を示す。
物を示す。
【化41】 〔式中、R7、R8は置換もしくは無置換のアリール基を
表し、Ar7、Ar8、Ar9は同一または異なるアリレ
ン基を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0
≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜
5000の整数である。rは1〜5の整数を表す。Xは
前記一般式(1)に記載されたものと同様の基を表
す。〕
表し、Ar7、Ar8、Ar9は同一または異なるアリレ
ン基を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0
≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜
5000の整数である。rは1〜5の整数を表す。Xは
前記一般式(1)に記載されたものと同様の基を表
す。〕
【0045】R7、R8のアリール基の具体例としては、
一般式(3)の説明においてR5、R6のアリール基の具
体例として例示したものを挙げることができ、Ar7、
Ar8、Ar9のアリレン基の具体例としては、それらア
リール基の2価の基を挙げることができる。また、これ
らアリール基またはアリレン基における置換基の具体例
としては、一般式(3)の説明においてアリール基また
はアリレン基における置換基として例示したものを挙げ
ることができる。
一般式(3)の説明においてR5、R6のアリール基の具
体例として例示したものを挙げることができ、Ar7、
Ar8、Ar9のアリレン基の具体例としては、それらア
リール基の2価の基を挙げることができる。また、これ
らアリール基またはアリレン基における置換基の具体例
としては、一般式(3)の説明においてアリール基また
はアリレン基における置換基として例示したものを挙げ
ることができる。
【0046】Xは下記一般式(4′)のトリアリールア
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(4′)のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(4′)のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。
【0047】
【化42】 一般式(C)のジオール化合物の具体例としては、前記
一般式(1)の説明において例示したものを挙げること
ができる。
一般式(1)の説明において例示したものを挙げること
ができる。
【0048】一般式(4)で表される高分子化合物の具
体例を表8〜表11に示す。
体例を表8〜表11に示す。
【0049】
【表8】
【0050】
【表9】
【0051】
【表10】
【0052】
【表11】 次に、一般式(5)で表される高分子化合物を示す。
【化43】 〔式中、R9、R10は置換もしくは無置換のアリール基
を表し、Ar10、Ar11、Ar12は同一または異なるア
リレン基を表す。X1、X2は置換もしくは無置換のエチ
レン基または置換もしくは無置換のビニレン基を表す。
k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0≦j≦0.9
であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜5000の整
数である。Xは前記一般式(1)に記載されたものと同
様の基を表す。〕
を表し、Ar10、Ar11、Ar12は同一または異なるア
リレン基を表す。X1、X2は置換もしくは無置換のエチ
レン基または置換もしくは無置換のビニレン基を表す。
k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0≦j≦0.9
であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜5000の整
数である。Xは前記一般式(1)に記載されたものと同
様の基を表す。〕
【0053】R9、R10のアリール基の具体例として
は、一般式(3)の説明においてR5、R6のアリール基
の具体例として例示したものを挙げることができ、Ar
10、Ar11、Ar12のアリレン基の具体例としては、そ
れらアリール基の2価の基を挙げることができる。ま
た、これらアリール基またはアリレン基における置換基
の具体例としては、一般式(3)の説明においてアリー
ル基またはアリレン基における置換基として例示したも
のを挙げることができる。
は、一般式(3)の説明においてR5、R6のアリール基
の具体例として例示したものを挙げることができ、Ar
10、Ar11、Ar12のアリレン基の具体例としては、そ
れらアリール基の2価の基を挙げることができる。ま
た、これらアリール基またはアリレン基における置換基
の具体例としては、一般式(3)の説明においてアリー
ル基またはアリレン基における置換基として例示したも
のを挙げることができる。
【0054】X1、X2のエチレン基またはビニレン基に
おける置換基としては、シアノ基、ハロゲン原子、ニト
ロ基、一般式(3)の説明においてR5、R6のアリール
基の具体例として例示したアリール基、あるいは一般式
(3)の説明においてアリール基またはアリレン基にお
ける置換基として例示したアルキル基などが挙げられ
る。
おける置換基としては、シアノ基、ハロゲン原子、ニト
ロ基、一般式(3)の説明においてR5、R6のアリール
基の具体例として例示したアリール基、あるいは一般式
(3)の説明においてアリール基またはアリレン基にお
ける置換基として例示したアルキル基などが挙げられ
る。
【0055】Xは下記一般式(5′)のトリアリールア
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(5′)のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(5′)のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。
【0056】
【化44】 一般式(C)のジオール化合物の具体例としては、前記
一般式(1)の説明において例示したものを挙げること
ができる。
一般式(1)の説明において例示したものを挙げること
ができる。
【0057】一般式(5)で表される高分子化合物の具
体例を表12〜表14に示す。
体例を表12〜表14に示す。
【0058】
【表12】
【0059】
【表13】
【0060】
【表14】
【0061】次に、一般式(6)で表される高分子化合
物を示す。
物を示す。
【化45】 〔式中、R11、R12、R13、R14は置換もしくは無置換
のアリール基を表し、Ar13、Ar14、Ar15、Ar16
は同一または異なるアリレン基を表す。Y1、Y2、Y3
は単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換も
しくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置
換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子または
ビニレン基を表し、同一であっても異なっていてもよ
い。k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0≦j≦
0.9であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜500
0の整数である。Xは前記一般式(1)に記載されたも
のと同様の基を表す。〕
のアリール基を表し、Ar13、Ar14、Ar15、Ar16
は同一または異なるアリレン基を表す。Y1、Y2、Y3
は単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換も
しくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置
換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子または
ビニレン基を表し、同一であっても異なっていてもよ
い。k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0≦j≦
0.9であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜500
0の整数である。Xは前記一般式(1)に記載されたも
のと同様の基を表す。〕
【0062】R11、R12、R13、R14のアリール基の具
体例としては、一般式(3)の説明においてR5、R6の
アリール基の具体例として例示したものを挙げることが
でき、Ar13、Ar14、Ar15、Ar16のアリレン基の
具体例としては、それらアリール基の2価の基を挙げる
ことができる。また、これらアリール基またはアリレン
基における置換基の具体例としては、一般式(3)の説
明においてアリール基またはアリレン基における置換基
として例示したものを挙げることができる。
体例としては、一般式(3)の説明においてR5、R6の
アリール基の具体例として例示したものを挙げることが
でき、Ar13、Ar14、Ar15、Ar16のアリレン基の
具体例としては、それらアリール基の2価の基を挙げる
ことができる。また、これらアリール基またはアリレン
基における置換基の具体例としては、一般式(3)の説
明においてアリール基またはアリレン基における置換基
として例示したものを挙げることができる。
【0063】Y1、Y2、Y3のアルキレン基としては、
一般式(3)の説明においてアリール基またはアリレン
基における置換基として例示したアルキル基より誘導さ
れる2価の基が挙げられる。具体的には、メチレン基、
エチレン基、1,3−プロピレン基、1,4−ブチレン
基、2−メチル−1,3−プロピレン基、ジフルオロメ
チレン基、ヒドロキシエチレン基、シアノエチレン基、
メトキシエチレン基、フェニルメチレン基、4−メチル
フェニルメチレン基、2,2−プロピレン基、2,2−
ブチレン基、ジフェニルメチレン基などを挙げることが
できる。
一般式(3)の説明においてアリール基またはアリレン
基における置換基として例示したアルキル基より誘導さ
れる2価の基が挙げられる。具体的には、メチレン基、
エチレン基、1,3−プロピレン基、1,4−ブチレン
基、2−メチル−1,3−プロピレン基、ジフルオロメ
チレン基、ヒドロキシエチレン基、シアノエチレン基、
メトキシエチレン基、フェニルメチレン基、4−メチル
フェニルメチレン基、2,2−プロピレン基、2,2−
ブチレン基、ジフェニルメチレン基などを挙げることが
できる。
【0064】シクロアルキレン基としては、1,1−シ
クロペンチレン基、1,1−シクロヘキシレン基、1,
1−シクロオクチレン基などを挙げることができる。ま
た、アルキレンエーテル基としては、ジメチレンエーテ
ル基、ジエチレンエーテル基、エチレンメチレンエーテ
ル基、ビス(トリエチレン)エーテル基、ポリテトラメ
チレンエーテル基などが挙げられる。
クロペンチレン基、1,1−シクロヘキシレン基、1,
1−シクロオクチレン基などを挙げることができる。ま
た、アルキレンエーテル基としては、ジメチレンエーテ
ル基、ジエチレンエーテル基、エチレンメチレンエーテ
ル基、ビス(トリエチレン)エーテル基、ポリテトラメ
チレンエーテル基などが挙げられる。
【0065】Xは下記一般式(6′)のトリアリールア
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(6′)のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(6′)のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。
【0066】
【化46】 一般式(C)のジオール化合物の具体例としては、前記
一般式(1)の説明において例示したものを挙げること
ができる。
一般式(1)の説明において例示したものを挙げること
ができる。
【0067】一般式(6)で表される高分子化合物の具
体例を表15に示す。
体例を表15に示す。
【0068】
【表15】
【0069】次に、一般式(7)で表される高分子化合
物を示す。
物を示す。
【化47】 〔式中、R15、R16は水素原子、置換もしくは無置換の
アリール基を表し、R15とR16は環を形成していてもよ
い。Ar17、Ar18、Ar19は同一または異なるアリレ
ン基を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0
≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜
5000の整数である。Xは前記一般式(1)に記載さ
れたものと同様の基を表す。〕
アリール基を表し、R15とR16は環を形成していてもよ
い。Ar17、Ar18、Ar19は同一または異なるアリレ
ン基を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0
≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜
5000の整数である。Xは前記一般式(1)に記載さ
れたものと同様の基を表す。〕
【0070】R15、R16のアリール基の具体例として
は、一般式(3)の説明においてR5、R6のアリール基
の具体例として例示したものを挙げることができ、また
R15とR16が環を形成する場合としては、9−フルオリ
ニデン、5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテニリデ
ンなどを挙げることができる。
は、一般式(3)の説明においてR5、R6のアリール基
の具体例として例示したものを挙げることができ、また
R15とR16が環を形成する場合としては、9−フルオリ
ニデン、5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテニリデ
ンなどを挙げることができる。
【0071】Ar17、Ar18、Ar19のアリレン基の具
体例としては、それらアリール基の2価の基を挙げるこ
とができる。また、これらアリール基またはアリレン基
における置換基の具体例としては、一般式(3)の説明
においてアリール基またはアリレン基における置換基と
して例示したものを挙げることができる。
体例としては、それらアリール基の2価の基を挙げるこ
とができる。また、これらアリール基またはアリレン基
における置換基の具体例としては、一般式(3)の説明
においてアリール基またはアリレン基における置換基と
して例示したものを挙げることができる。
【0072】Xは下記一般式(7′)のトリアリールア
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(7′)のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(7′)のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。
【0073】
【化48】 一般式(C)のジオール化合物の具体例としては、前記
一般式(1)の説明において例示したものを挙げること
ができる。
一般式(1)の説明において例示したものを挙げること
ができる。
【0074】一般式(7)で表される高分子化合物の具
体例を表16に示す。
体例を表16に示す。
【0075】
【表16】
【0076】次に、一般式(8)で表される高分子化合
物を示す。
物を示す。
【化49】 〔式中、R17は置換もしくは無置換のアリール基を表
し、Ar20、Ar21、Ar22、Ar23は同一または異な
るアリレン基を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k
≦1、0≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表
し、5〜5000の整数である。Xは前記一般式(1)
に記載されたものと同様の基を表す。〕
し、Ar20、Ar21、Ar22、Ar23は同一または異な
るアリレン基を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k
≦1、0≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表
し、5〜5000の整数である。Xは前記一般式(1)
に記載されたものと同様の基を表す。〕
【0077】R17のアリール基の具体例としては、一般
式(3)の説明においてR5、R6のアリール基の具体例
として例示したものを挙げることができ、Ar20、Ar
21、Ar22、Ar23のアリレン基の具体例としては、そ
れらアリール基の2価の基を挙げることができる。ま
た、これらアリール基またはアリレン基における置換基
の具体例としては、一般式(3)の説明においてアリー
ル基またはアリレン基における置換基として例示したも
のを挙げることができる。
式(3)の説明においてR5、R6のアリール基の具体例
として例示したものを挙げることができ、Ar20、Ar
21、Ar22、Ar23のアリレン基の具体例としては、そ
れらアリール基の2価の基を挙げることができる。ま
た、これらアリール基またはアリレン基における置換基
の具体例としては、一般式(3)の説明においてアリー
ル基またはアリレン基における置換基として例示したも
のを挙げることができる。
【0078】Xは下記一般式(8′)のトリアリールア
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(8′)のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(8′)のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。
【0079】
【化50】 一般式(C)のジオール化合物の具体例としては、前記
一般式(1)の説明において例示したものを挙げること
ができる。
一般式(1)の説明において例示したものを挙げること
ができる。
【0080】一般式(8)で表される高分子化合物の具
体例を表17に示す。
体例を表17に示す。
【0081】
【表17】
【0082】次に、一般式(9)で表される高分子化合
物を示す。
物を示す。
【化51】 〔式中、R18、R19、R20、R21は置換もしくは無置換
のアリール基を表し、Ar24、Ar25、Ar26、A
r27、Ar28は同一または異なるアリレン基を表す。
k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0≦j≦0.9
であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜5000の整
数である。Xは前記一般式(1)に記載されたものと同
様の基を表す。〕
のアリール基を表し、Ar24、Ar25、Ar26、A
r27、Ar28は同一または異なるアリレン基を表す。
k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0≦j≦0.9
であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜5000の整
数である。Xは前記一般式(1)に記載されたものと同
様の基を表す。〕
【0083】R18、R19、R20、R21のアリール基の具
体例としては、一般式(3)の説明においてR5、R6の
アリール基の具体例として例示したものを挙げることが
でき、Ar24、Ar25、Ar26、Ar27、Ar28のアリ
レン基の具体例としては、それらアリール基の2価の基
を挙げることができる。また、これらアリール基または
アリレン基における置換基の具体例としては、一般式
(3)の説明においてアリール基またはアリレン基にお
ける置換基として例示したものを挙げることができる。
体例としては、一般式(3)の説明においてR5、R6の
アリール基の具体例として例示したものを挙げることが
でき、Ar24、Ar25、Ar26、Ar27、Ar28のアリ
レン基の具体例としては、それらアリール基の2価の基
を挙げることができる。また、これらアリール基または
アリレン基における置換基の具体例としては、一般式
(3)の説明においてアリール基またはアリレン基にお
ける置換基として例示したものを挙げることができる。
【0084】Xは下記一般式(9′)のトリアリールア
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(9′)のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(9′)のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。
【0085】
【化52】 一般式(C)のジオール化合物の具体例としては、前記
一般式(1)の説明において例示したものを挙げること
ができる。
一般式(1)の説明において例示したものを挙げること
ができる。
【0086】一般式(9)で表される高分子化合物の具
体例を表18に示す。
体例を表18に示す。
【0087】
【表18】
【0088】次に、一般式(10)で表される高分子化
合物を示す。
合物を示す。
【化53】 〔式中、R22、R23は置換もしくは無置換のアリール基
を表し、Ar29、Ar30、Ar31は同一または異なるア
リレン基を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k≦
1、0≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表
し、5〜5000の整数である。Xは前記一般式(1)
に記載されたものと同様の基を表す。〕
を表し、Ar29、Ar30、Ar31は同一または異なるア
リレン基を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k≦
1、0≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表
し、5〜5000の整数である。Xは前記一般式(1)
に記載されたものと同様の基を表す。〕
【0089】R22、R23のアリール基の具体例として
は、一般式(3)の説明においてR5、R6のアリール基
の具体例として例示したものを挙げることができ、Ar
29、Ar30、Ar31のアリレン基の具体例としては、そ
れらアリール基の2価の基を挙げることができる。ま
た、これらアリール基またはアリレン基における置換基
の具体例としては、一般式(3)の説明においてアリー
ル基またはアリレン基における置換基として例示したも
のを挙げることができる。
は、一般式(3)の説明においてR5、R6のアリール基
の具体例として例示したものを挙げることができ、Ar
29、Ar30、Ar31のアリレン基の具体例としては、そ
れらアリール基の2価の基を挙げることができる。ま
た、これらアリール基またはアリレン基における置換基
の具体例としては、一般式(3)の説明においてアリー
ル基またはアリレン基における置換基として例示したも
のを挙げることができる。
【0090】Xは下記一般式(10′)のトリアリール
アミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステ
ル交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)の
ジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(10′)のトリアリールアミノ基を有す
るジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビ
スクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単
位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネ
ートは交互共重合体となる。
アミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステ
ル交換法等を用い重合するときに、下記一般式(C)の
ジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、X
は下記一般式(10′)のトリアリールアミノ基を有す
るジオール化合物と下記一般式(C)から誘導されるビ
スクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単
位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネ
ートは交互共重合体となる。
【0091】
【化54】 一般式(C)のジオール化合物の具体例としては、前記
一般式(1)の説明において例示したものを挙げること
ができる。
一般式(1)の説明において例示したものを挙げること
ができる。
【0092】一般式(10)で表される高分子化合物の
具体例を表19に示す。
具体例を表19に示す。
【0093】
【表19】
【0094】上記一般式(1)〜(10)で表される高
分子化合物は、極限粘度が0.15〜2.0が好まし
く、特に0.2〜1.2のものが好ましい。また、ビス
フェノールAポリカーボネート換算で粘度平均分子量が
1万〜10万のものが好ましい。また、GPCでの分子
量Mnが1万〜12万で、分子量Mwが2万〜25万の
ものが好ましい。一般式(1)〜(10)で表されるこ
のような高分子化合物は、機械的強度、耐摩耗性、耐刷
性、耐傷性に優れ、可視光に対する透明性に優れ硬度の
高い高分子化合物である。
分子化合物は、極限粘度が0.15〜2.0が好まし
く、特に0.2〜1.2のものが好ましい。また、ビス
フェノールAポリカーボネート換算で粘度平均分子量が
1万〜10万のものが好ましい。また、GPCでの分子
量Mnが1万〜12万で、分子量Mwが2万〜25万の
ものが好ましい。一般式(1)〜(10)で表されるこ
のような高分子化合物は、機械的強度、耐摩耗性、耐刷
性、耐傷性に優れ、可視光に対する透明性に優れ硬度の
高い高分子化合物である。
【0095】次に、本発明の電子写真感光体の構成を図
面によって説明する。図1は、本発明の電子写真感光体
の一例を模式的に示す断面図であり、導電性支持体1の
上に、電荷発生物質、高分子電荷輸送物質およびイオウ
原子を含む酸化防止剤あるいは老化防止剤化合物を含有
する感光層2が設けられている。図2は、他の構成の電
子写真感光体を模式的に示す断面図であり、導電性支持
体1の上に、電荷発生物質を含有する電荷発生層3と高
分子電荷輸送物質を含有する電荷輸送層4とが積層され
た感光層2が設けられている。電荷発生層3および/又
は電荷輸送層4はイオウ原子を含む酸化防止剤あるいは
老化防止剤化合物を含有している。図3は、別の構成の
電子写真感光体を模式的に示す断面図であり、導電性支
持体1と感光層2の間に下引き層5が設けられている。
面によって説明する。図1は、本発明の電子写真感光体
の一例を模式的に示す断面図であり、導電性支持体1の
上に、電荷発生物質、高分子電荷輸送物質およびイオウ
原子を含む酸化防止剤あるいは老化防止剤化合物を含有
する感光層2が設けられている。図2は、他の構成の電
子写真感光体を模式的に示す断面図であり、導電性支持
体1の上に、電荷発生物質を含有する電荷発生層3と高
分子電荷輸送物質を含有する電荷輸送層4とが積層され
た感光層2が設けられている。電荷発生層3および/又
は電荷輸送層4はイオウ原子を含む酸化防止剤あるいは
老化防止剤化合物を含有している。図3は、別の構成の
電子写真感光体を模式的に示す断面図であり、導電性支
持体1と感光層2の間に下引き層5が設けられている。
【0096】導電性支持体1としては、体積抵抗1×1
010Ωcm以下の導電性を示すもの、例えばアルミニウ
ム、ニッケル、クロム、銅、銀、金、白金などの金属、
酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着ま
たはスパッタリングによりフィルム状もしくは円筒状の
プラスチックまたは紙などに被覆したもの、あるいはア
ルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス
などの板およびそれらをD.I.、I.I.、押し出
し、引き抜き等の工法で素管化したのち切削、超仕上
げ、研磨等で表面処理した管などを使用することができ
る。
010Ωcm以下の導電性を示すもの、例えばアルミニウ
ム、ニッケル、クロム、銅、銀、金、白金などの金属、
酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着ま
たはスパッタリングによりフィルム状もしくは円筒状の
プラスチックまたは紙などに被覆したもの、あるいはア
ルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス
などの板およびそれらをD.I.、I.I.、押し出
し、引き抜き等の工法で素管化したのち切削、超仕上
げ、研磨等で表面処理した管などを使用することができ
る。
【0097】そのほか、上記支持体上に導電性粉体を適
当なバインダー樹脂に分散して塗工し導電性層を形成し
たものも導電性支持体として用いることができる。導電
性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラッ
ク、またはアルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、
銅、亜鉛、鉄などの金属粉、あるいはチタンブラック、
導電性酸化スズ、ITOなどの金属酸化物粉などが挙げ
られ、また、バインダー樹脂としては、ポリスチレン、
スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、
ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート
樹脂、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポ
リビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニ
ルトルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル
樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、
ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの
熱可塑性、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂が挙げられ
る。このような導電性層はこれらの導電性粉体とバイン
ダー樹脂を適当な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、
メチレンジクロライド、メチルエチルケトン、トルエン
などに分散して塗布することにより設けることができ
る。
当なバインダー樹脂に分散して塗工し導電性層を形成し
たものも導電性支持体として用いることができる。導電
性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラッ
ク、またはアルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、
銅、亜鉛、鉄などの金属粉、あるいはチタンブラック、
導電性酸化スズ、ITOなどの金属酸化物粉などが挙げ
られ、また、バインダー樹脂としては、ポリスチレン、
スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、
ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート
樹脂、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポ
リビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニ
ルトルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル
樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、
ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの
熱可塑性、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂が挙げられ
る。このような導電性層はこれらの導電性粉体とバイン
ダー樹脂を適当な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、
メチレンジクロライド、メチルエチルケトン、トルエン
などに分散して塗布することにより設けることができ
る。
【0098】更に、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、
ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リエチレン、塩化ゴム、テフロンなどに上記導電性粉体
を含有させた熱収縮チューブによって適当な円筒基体上
に導電性層を設けてなるものも導電性支持体として良好
に用いることができる。
ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リエチレン、塩化ゴム、テフロンなどに上記導電性粉体
を含有させた熱収縮チューブによって適当な円筒基体上
に導電性層を設けてなるものも導電性支持体として良好
に用いることができる。
【0099】本発明の電子写真感光体における感光層
は、電荷発生物質および高分子電荷輸送物質を含有する
単層構成の感光層、或いは電荷発生物質を含有する電荷
発生層と高分子電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とが
積層された積層構成の感光層のいずれでもよい。
は、電荷発生物質および高分子電荷輸送物質を含有する
単層構成の感光層、或いは電荷発生物質を含有する電荷
発生層と高分子電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とが
積層された積層構成の感光層のいずれでもよい。
【0100】以下に、まず積層構成の感光層について説
明する。電荷発生層は電荷発生物質のみから形成するこ
とも、また電荷発生物質をバインダー樹脂中に均一に分
散して形成することもできる。電荷発生層中には前記の
イオウ原子を含む酸化防止剤あるいは老化防止剤化合物
を含有させることができ、その含有量としては電荷発生
物質100重量部に対して0.01〜20重量部が適当
であり、特に0.1〜10重量部が好ましい。
明する。電荷発生層は電荷発生物質のみから形成するこ
とも、また電荷発生物質をバインダー樹脂中に均一に分
散して形成することもできる。電荷発生層中には前記の
イオウ原子を含む酸化防止剤あるいは老化防止剤化合物
を含有させることができ、その含有量としては電荷発生
物質100重量部に対して0.01〜20重量部が適当
であり、特に0.1〜10重量部が好ましい。
【0101】電荷発生層を形成するには、例えば、電荷
発生物質を必要に応じてバインダー樹脂およびイオウ原
子を含む酸化防止剤あるいは老化防止剤化合物と共に適
当な溶剤中にボールミル、アトライター、サンドミル、
超音波などを用いて分散し、これを導電性支持体上に塗
布し、乾燥させればよい。
発生物質を必要に応じてバインダー樹脂およびイオウ原
子を含む酸化防止剤あるいは老化防止剤化合物と共に適
当な溶剤中にボールミル、アトライター、サンドミル、
超音波などを用いて分散し、これを導電性支持体上に塗
布し、乾燥させればよい。
【0102】電荷発生物質としては、例えば、シーアイ
ピグメントブルー25〔カラーインデックス(CI 2
1180)〕、シーアイピグメントレッド41(CI
21200)、シーアイアシッドレッド52(CI 4
5100)、シーアイベーシックレッド3(CI 45
210)等のほかに、フタロシアニン系顔料、カルバゾ
ール骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−95033号
公報)、スチルベン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53
−138229号公報)、ジスチリルベンゼン骨格を有
するアゾ顔料(特開昭53−133455号公報)、ト
リフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−
132547号公報)、ジベンゾチオフェン骨格を有す
るアソ顔料(持開昭54−21728号公報)、オキサ
ジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−127
42号公報)、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料(特
開昭54−22834号公報)、ビススチルベン骨格を
有するアゾ顔料(特開昭54−17733号公報)、ジ
スチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開
昭54−2129号公報)、ジスチリルカルバゾール骨
格を有するアゾ顔料(特開昭54−17734号公
報)、カルバゾール骨格を有するトリスアゾ顔料(特開
昭57−195767号公報、同57−195758号
公報)、オキサゾール骨格を有するアゾ顔料等、更には
シーアイピグメントブルー16(CI 74100)等
のフタロシアニン系顔料、シーアイバットブラウン5
(CI 73410)、シーアイバットダイ(CI 73
030)等のインジゴ系顔料、アルゴスカーレットB
(バイオレット社製)、インダンスレンスカーレットR
(バイエル社製)等のペリレン系顔料、スクエアリック
系顔料、4,10−ジブロモアントアントロン等の多環
キノン顔料等の有機顔料、或いはSe、Se合金、Cd
S、アモルファスSi等の無機顔料などを挙げることが
できる。
ピグメントブルー25〔カラーインデックス(CI 2
1180)〕、シーアイピグメントレッド41(CI
21200)、シーアイアシッドレッド52(CI 4
5100)、シーアイベーシックレッド3(CI 45
210)等のほかに、フタロシアニン系顔料、カルバゾ
ール骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−95033号
公報)、スチルベン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53
−138229号公報)、ジスチリルベンゼン骨格を有
するアゾ顔料(特開昭53−133455号公報)、ト
リフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−
132547号公報)、ジベンゾチオフェン骨格を有す
るアソ顔料(持開昭54−21728号公報)、オキサ
ジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−127
42号公報)、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料(特
開昭54−22834号公報)、ビススチルベン骨格を
有するアゾ顔料(特開昭54−17733号公報)、ジ
スチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開
昭54−2129号公報)、ジスチリルカルバゾール骨
格を有するアゾ顔料(特開昭54−17734号公
報)、カルバゾール骨格を有するトリスアゾ顔料(特開
昭57−195767号公報、同57−195758号
公報)、オキサゾール骨格を有するアゾ顔料等、更には
シーアイピグメントブルー16(CI 74100)等
のフタロシアニン系顔料、シーアイバットブラウン5
(CI 73410)、シーアイバットダイ(CI 73
030)等のインジゴ系顔料、アルゴスカーレットB
(バイオレット社製)、インダンスレンスカーレットR
(バイエル社製)等のペリレン系顔料、スクエアリック
系顔料、4,10−ジブロモアントアントロン等の多環
キノン顔料等の有機顔料、或いはSe、Se合金、Cd
S、アモルファスSi等の無機顔料などを挙げることが
できる。
【0103】バインダー樹脂としては、例えば、ポリア
ミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリ
カーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビ
ニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケ
トン、ポリスチレン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、
ポリアクリルアミドなどが挙げられ、これらは単独また
は2種以上の混合物として用いることができる。バイン
ダー樹脂の使用量は電荷発生物質100重量部に対し0
〜500重量部、好ましくは10〜200重量部が適当
である。
ミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリ
カーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビ
ニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケ
トン、ポリスチレン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、
ポリアクリルアミドなどが挙げられ、これらは単独また
は2種以上の混合物として用いることができる。バイン
ダー樹脂の使用量は電荷発生物質100重量部に対し0
〜500重量部、好ましくは10〜200重量部が適当
である。
【0104】電荷発生物質を必要に応じてバインダー樹
脂およびイオウ原子を含む酸化防止剤あるいは老化防止
剤化合物と共に分散するために用いられる溶媒として
は、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジオキサ
ン、ジクロロエタン、シクロヘキサン、メチルエチルケ
トン、エチルセロソルブなどが好ましい。
脂およびイオウ原子を含む酸化防止剤あるいは老化防止
剤化合物と共に分散するために用いられる溶媒として
は、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジオキサ
ン、ジクロロエタン、シクロヘキサン、メチルエチルケ
トン、エチルセロソルブなどが好ましい。
【0105】塗工法としては、浸漬塗工法やスプレーコ
ート法、ビードコート法、ノズルコート法、リング塗工
法などを用いることができる。
ート法、ビードコート法、ノズルコート法、リング塗工
法などを用いることができる。
【0106】このようにして形成される電荷発生層の膜
厚は0.01〜5μm程度が適当であり、0.1〜2μ
m程度が好ましい。
厚は0.01〜5μm程度が適当であり、0.1〜2μ
m程度が好ましい。
【0107】電荷発生層中にイオウ原子を含む酸化防止
剤あるいは老化防止剤化合物を含有させることにより、
反応性ガスによる影響を抑え、電子写真感光体の繰り返
し使用における帯電電位の低下や残留電位の上昇を防止
できるのは、電荷発生層上に電荷輸送層を塗布する際
に、イオウ原子を含む酸化防止剤あるいは老化防止剤化
合物が電荷輸送層中に拡散すること、電荷発生層(電荷
発生物質)と電荷輸送層(電荷輸送物質)界面において
効果的に作用すること等によるものと考えられる。
剤あるいは老化防止剤化合物を含有させることにより、
反応性ガスによる影響を抑え、電子写真感光体の繰り返
し使用における帯電電位の低下や残留電位の上昇を防止
できるのは、電荷発生層上に電荷輸送層を塗布する際
に、イオウ原子を含む酸化防止剤あるいは老化防止剤化
合物が電荷輸送層中に拡散すること、電荷発生層(電荷
発生物質)と電荷輸送層(電荷輸送物質)界面において
効果的に作用すること等によるものと考えられる。
【0108】電荷輸送層には、高分子電荷輸送物質およ
び必要に応じてバインダー樹脂と共に、イオウ原子を含
む酸化防止剤あるいは老化防止剤化合物を含有させるこ
とが好ましく、電荷輸送層を形成するには、これらの材
料を適当な溶剤に溶解ないし分散させ、それを電荷発生
層上に塗布し乾燥させればよい。
び必要に応じてバインダー樹脂と共に、イオウ原子を含
む酸化防止剤あるいは老化防止剤化合物を含有させるこ
とが好ましく、電荷輸送層を形成するには、これらの材
料を適当な溶剤に溶解ないし分散させ、それを電荷発生
層上に塗布し乾燥させればよい。
【0109】電荷輸送層におけるイオウ原子を含む酸化
防止剤あるいは老化防止剤化合物の含有量としては、高
分子電荷輸送物質100重量部に対して0.005〜3
0重量部が好ましく、特に0.01〜10重量部が好ま
しい。
防止剤あるいは老化防止剤化合物の含有量としては、高
分子電荷輸送物質100重量部に対して0.005〜3
0重量部が好ましく、特に0.01〜10重量部が好ま
しい。
【0110】必要に応じて用いられるバインダー樹脂と
しては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共
重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無
水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノ
キシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エ
チルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルホルマール、ポリビニルトルエン、アクリル樹脂、シ
リコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン
樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性
または熱硬化性樹脂が挙げられる。バインダー樹脂の使
用量は、高分子電荷輸送物質100重量部に対して10
0重量部以下が適当である。
しては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共
重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無
水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノ
キシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エ
チルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルホルマール、ポリビニルトルエン、アクリル樹脂、シ
リコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン
樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性
または熱硬化性樹脂が挙げられる。バインダー樹脂の使
用量は、高分子電荷輸送物質100重量部に対して10
0重量部以下が適当である。
【0111】溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、トルエン、モノクロルベンセン、ジクロルエタ
ン、塩化メチレンなどが用いられる。
キサン、トルエン、モノクロルベンセン、ジクロルエタ
ン、塩化メチレンなどが用いられる。
【0112】さらに、電荷輸送層には可塑剤やレベリン
グ剤を添加してもよく、可塑剤としては、ジブチルフタ
レート、ジオクチルフタレートなど一般の樹脂の可塑剤
として使用されているものがそのまま使用でき、その使
用量は、電荷輸送層中の高分子成分に対して30重量%
以下が適当である。また、レベリング剤としては、ジメ
チルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイ
ルなどのシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロア
ルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーなどが使
用され、その使用量は電荷輸送層中の高分子成分に対し
て1重量%以下が適当である。
グ剤を添加してもよく、可塑剤としては、ジブチルフタ
レート、ジオクチルフタレートなど一般の樹脂の可塑剤
として使用されているものがそのまま使用でき、その使
用量は、電荷輸送層中の高分子成分に対して30重量%
以下が適当である。また、レベリング剤としては、ジメ
チルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイ
ルなどのシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロア
ルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーなどが使
用され、その使用量は電荷輸送層中の高分子成分に対し
て1重量%以下が適当である。
【0113】このようにして形成される電荷輸送層の厚
さは、5〜50μm程度が適当である。
さは、5〜50μm程度が適当である。
【0114】次に単層構成の感光層について説明する。
単層構成の感光層は、電荷発生物質、高分子電荷輸送物
質およびイオウ原子を含む酸化防止剤あるいは老化防止
剤化合物を、必要に応じてバインダー樹脂と共に、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロエタン、シクロ
ヘキサノン等の溶媒に溶解ないし分散させ、その溶解な
いし分散液を導電性支持体上に塗布し乾燥させることに
よって形成することができる。バインダー樹脂として
は、電荷輸送層の形成において例示したバインダー樹脂
を用いることができ、また電荷発生層の形成において例
示したバインダー樹脂を混合して用いてもよい。
単層構成の感光層は、電荷発生物質、高分子電荷輸送物
質およびイオウ原子を含む酸化防止剤あるいは老化防止
剤化合物を、必要に応じてバインダー樹脂と共に、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロエタン、シクロ
ヘキサノン等の溶媒に溶解ないし分散させ、その溶解な
いし分散液を導電性支持体上に塗布し乾燥させることに
よって形成することができる。バインダー樹脂として
は、電荷輸送層の形成において例示したバインダー樹脂
を用いることができ、また電荷発生層の形成において例
示したバインダー樹脂を混合して用いてもよい。
【0115】単層構成の感光層におけるイオウ原子を含
む酸化防止剤あるいは老化防止剤化合物の含有量として
は、高分子電荷輸送物質100重量部に対して0.01
〜30重量部が好ましく、特に0.05〜10重量部が
好ましい。単層構成の感光層には必要により可塑剤やレ
ベリング剤などを添加することもできる。
む酸化防止剤あるいは老化防止剤化合物の含有量として
は、高分子電荷輸送物質100重量部に対して0.01
〜30重量部が好ましく、特に0.05〜10重量部が
好ましい。単層構成の感光層には必要により可塑剤やレ
ベリング剤などを添加することもできる。
【0116】このようにして形成される単層構成の感光
層の膜厚は、5〜50μm程度が適当である。
層の膜厚は、5〜50μm程度が適当である。
【0117】本発明の電子写真感光体においては、導電
性支持体と感光層との間に下引き層を設けることができ
る。下引き層は一般に樹脂を主成分とするが、これらの
樹脂はその上に感光層を溶剤でもって塗布することを考
えると、一般の有機溶剤にたいして耐溶剤性の高い樹脂
であることが望ましい。このような樹脂としては、ポリ
ビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウ
ムなどの水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル
化ナイロンなどのアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン
樹脂、メラミン樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポ
キシ樹脂等の三次元網目構造を形成する硬化型樹脂など
が挙げられる。
性支持体と感光層との間に下引き層を設けることができ
る。下引き層は一般に樹脂を主成分とするが、これらの
樹脂はその上に感光層を溶剤でもって塗布することを考
えると、一般の有機溶剤にたいして耐溶剤性の高い樹脂
であることが望ましい。このような樹脂としては、ポリ
ビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウ
ムなどの水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル
化ナイロンなどのアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン
樹脂、メラミン樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポ
キシ樹脂等の三次元網目構造を形成する硬化型樹脂など
が挙げられる。
【0118】また、下引き層にはモアレ防止、残留電位
の低減などのために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸
化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示で
きる金属酸化物の微粉末を加えてもよい。これらの下引
き層は、前述の電荷発生層や電荷輸送層、または単層構
成の感光層の形成におけるように適当な溶媒、塗工法を
用いて形成することができる。さらに、下引き層には、
シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロム
カップリング剤などを使用することができる。
の低減などのために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸
化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示で
きる金属酸化物の微粉末を加えてもよい。これらの下引
き層は、前述の電荷発生層や電荷輸送層、または単層構
成の感光層の形成におけるように適当な溶媒、塗工法を
用いて形成することができる。さらに、下引き層には、
シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロム
カップリング剤などを使用することができる。
【0119】この他に、下引き層として、A12O3を陽
極酸化によって設けたもの、ポリパラキシリレン(パリ
レン)などの有機物やSiO、SnO2、TiO2、IT
O、CeO2等の無機物を真空薄膜作製法によって設け
たものも良好に使用できる。
極酸化によって設けたもの、ポリパラキシリレン(パリ
レン)などの有機物やSiO、SnO2、TiO2、IT
O、CeO2等の無機物を真空薄膜作製法によって設け
たものも良好に使用できる。
【0120】このようにして形成される下引き層の膜厚
は5μm以下が適当である。
は5μm以下が適当である。
【0121】また、本発明の電子写真感光体には、感光
層を保護する目的で、感光層の上に保護層が設けられる
こともある。これに使用される材料としては、ABS樹
脂、ACS樹脂、オレフィン−ビニルモノマー共重合
体、塩素化ポリエーテル、アリル樹脂、フェノール樹
脂、ポリアセタール、ポリアミド、ポリアミドイミド、
ポリアクリレート、ポリアリルスルホン、ポリブチレ
ン、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、
ポリエーテルスルホン、ポリエチレン、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリイミド、アクリル樹脂、ポリメチル
ペンテン、ポリプロピレン、ポリフェニレンオキシド、
ポリスルホン、AS樹脂、AB樹脂、BS樹脂、ポリウ
レタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エポキ
シ樹脂などの樹脂が挙げられる。保護層にはその他、耐
摩耗性を向上させる目的で、ポリテトラフルオロエチレ
ンのような弗素樹脂、シリコーン樹脂およびこれら樹脂
に酸化チタン、酸化スズ、チタン酸カリウム等の無機材
料を分散したものなどを添加することもできる。
層を保護する目的で、感光層の上に保護層が設けられる
こともある。これに使用される材料としては、ABS樹
脂、ACS樹脂、オレフィン−ビニルモノマー共重合
体、塩素化ポリエーテル、アリル樹脂、フェノール樹
脂、ポリアセタール、ポリアミド、ポリアミドイミド、
ポリアクリレート、ポリアリルスルホン、ポリブチレ
ン、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、
ポリエーテルスルホン、ポリエチレン、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリイミド、アクリル樹脂、ポリメチル
ペンテン、ポリプロピレン、ポリフェニレンオキシド、
ポリスルホン、AS樹脂、AB樹脂、BS樹脂、ポリウ
レタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エポキ
シ樹脂などの樹脂が挙げられる。保護層にはその他、耐
摩耗性を向上させる目的で、ポリテトラフルオロエチレ
ンのような弗素樹脂、シリコーン樹脂およびこれら樹脂
に酸化チタン、酸化スズ、チタン酸カリウム等の無機材
料を分散したものなどを添加することもできる。
【0122】保護層の形成法としては、通常の塗布法が
採用される。保護層の厚さは、0.1〜10μm程度が
適当である。また、以上のほかに真空薄膜作製法にて形
成したa−C、a−SiCなど公知の材料も保護層とし
て用いることができる。
採用される。保護層の厚さは、0.1〜10μm程度が
適当である。また、以上のほかに真空薄膜作製法にて形
成したa−C、a−SiCなど公知の材料も保護層とし
て用いることができる。
【0123】さらに、感光層と保護層との間に中間層を
設けることもできる。このような中間層は樹脂を主成分
とするものであり、その樹脂としては、例えば、ポリア
ミド、アルコール可溶性ナイロン樹脂、水溶性ビニルブ
チラール樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルアル
コールなどが挙げられる。
設けることもできる。このような中間層は樹脂を主成分
とするものであり、その樹脂としては、例えば、ポリア
ミド、アルコール可溶性ナイロン樹脂、水溶性ビニルブ
チラール樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルアル
コールなどが挙げられる。
【0124】中間層の形成法としては、通常の塗布法が
採用される。中間層の厚さは、0.05〜2μm程度が
適当である。
採用される。中間層の厚さは、0.05〜2μm程度が
適当である。
【0125】
【作用】本発明によれば、導電性支持体上に電荷発生物
質と高分子電荷輸送物質を含有する感光層を有する電子
写真感光体において、感光層中にイオウ原子を含む酸化
防止剤あるいは老化防止剤化合物を含有させることによ
り、繰り返し使用時の耐摩耗性に優れ、且つ反応性ガス
による影響を抑え、繰り返し使用においても帯電電位の
低下や残留電位の上昇が少ない電子写真感光体を得るこ
とができる。感光層中にイオウ原子を含む酸化防止剤あ
るいは老化防止剤化合物を含有させることにより、反応
性ガスによる影響を抑え、繰り返し使用におけるも帯電
電位の低下や残留電位の上昇を防止することができる理
由は明確には明らかでないが、イオウ原子を含む酸化防
止剤あるいは老化防止剤化合物が酸化防止能に極めて優
れていることのほかに高分子電荷輸送物質との相溶性が
優れていること、他の感光層構成物質と反応する等の悪
影響を及ぼさないこと、電荷担体のトラップとして作用
しないことなどが考えられる。
質と高分子電荷輸送物質を含有する感光層を有する電子
写真感光体において、感光層中にイオウ原子を含む酸化
防止剤あるいは老化防止剤化合物を含有させることによ
り、繰り返し使用時の耐摩耗性に優れ、且つ反応性ガス
による影響を抑え、繰り返し使用においても帯電電位の
低下や残留電位の上昇が少ない電子写真感光体を得るこ
とができる。感光層中にイオウ原子を含む酸化防止剤あ
るいは老化防止剤化合物を含有させることにより、反応
性ガスによる影響を抑え、繰り返し使用におけるも帯電
電位の低下や残留電位の上昇を防止することができる理
由は明確には明らかでないが、イオウ原子を含む酸化防
止剤あるいは老化防止剤化合物が酸化防止能に極めて優
れていることのほかに高分子電荷輸送物質との相溶性が
優れていること、他の感光層構成物質と反応する等の悪
影響を及ぼさないこと、電荷担体のトラップとして作用
しないことなどが考えられる。
【0126】
【実施例】以下に本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれにより限定されるものではない。
発明はこれにより限定されるものではない。
【0127】実施例1 直径80mm、長さ340mmのアルミニウムシリンダ
ー上に、メタノールとn−ブタノールとの7:3(重
量)混合溶媒に溶解したポリアミド樹脂(CM−800
0、東レ社製)の1%溶液をスプレー塗工により塗布
し、乾燥させて厚さ0.3μmの下引き層を設けた。つ
いで下記構造式で表されるビスアゾ化合物5重量部、ポ
リヒニルブチラール(XYHL、ユニオンカーバイト社
製)2重量部8をシクロヘキサノン中でボールミルによ
り粉砕し、得られた分散液を下引き層上にスプレー塗工
により塗布し、乾燥させて厚さ0.2μmの電荷発生層
を形成した。
ー上に、メタノールとn−ブタノールとの7:3(重
量)混合溶媒に溶解したポリアミド樹脂(CM−800
0、東レ社製)の1%溶液をスプレー塗工により塗布
し、乾燥させて厚さ0.3μmの下引き層を設けた。つ
いで下記構造式で表されるビスアゾ化合物5重量部、ポ
リヒニルブチラール(XYHL、ユニオンカーバイト社
製)2重量部8をシクロヘキサノン中でボールミルによ
り粉砕し、得られた分散液を下引き層上にスプレー塗工
により塗布し、乾燥させて厚さ0.2μmの電荷発生層
を形成した。
【化55】
【0128】次に、前記表1における1−1の高分子電
荷輸送物質6重量部、3,3′−チオプロピオン酸ジド
デシル0.06重量部およびジクロルメタン40重量部
からなる溶液をリング塗工法により電荷発生層上に塗布
し、120℃で20分間乾燥させて厚さ20μmの電荷
輸送層を形成し、電子写真感光体を作成した。
荷輸送物質6重量部、3,3′−チオプロピオン酸ジド
デシル0.06重量部およびジクロルメタン40重量部
からなる溶液をリング塗工法により電荷発生層上に塗布
し、120℃で20分間乾燥させて厚さ20μmの電荷
輸送層を形成し、電子写真感光体を作成した。
【0129】実施例2〜12 実施例1における高分子電荷輸送物質および3,3′−
チオプロピオン酸ジドデシルを下記表20に示した高分
子電荷輸送物質およびイオウ原子を含む酸化防止剤ある
いは老化防止剤化合物に代えた以外は実施例1と同様に
して実施例2〜12の電子写真感光体を作成した。な
お、下記表20に示した高分子電荷輸送物質欄の番号は
前記表1〜表19において例示した具体例に付したの番
号である。
チオプロピオン酸ジドデシルを下記表20に示した高分
子電荷輸送物質およびイオウ原子を含む酸化防止剤ある
いは老化防止剤化合物に代えた以外は実施例1と同様に
して実施例2〜12の電子写真感光体を作成した。な
お、下記表20に示した高分子電荷輸送物質欄の番号は
前記表1〜表19において例示した具体例に付したの番
号である。
【0130】
【表20】
【0131】比較例1 実施例1において、3,3′−チオプロピオン酸ジドデ
シルを除いて電荷輸送層を形成した以外は実施例1と同
様にして比較例1の電子写真感光体を作成した。
シルを除いて電荷輸送層を形成した以外は実施例1と同
様にして比較例1の電子写真感光体を作成した。
【0132】比較例2 実施例10において、3,3′−チオプロピオン酸ジミ
リスチルを除いて電荷輸送層を形成した以外は実施例1
0と同様にして比較例2の電子写真感光体を作成した。
リスチルを除いて電荷輸送層を形成した以外は実施例1
0と同様にして比較例2の電子写真感光体を作成した。
【0133】比較例3 実施例1と同様にして下引き層、電荷発生層を設け、つ
いで、ポリカーボネート樹脂(C−1400、帝人化成
社製)10重量部、下記構造式の低分子電荷輸送物質9
重量部およびジクロルメタン80重量部からなる溶液を
リング塗工法により電荷発生層上に塗布し、120℃で
20分間乾燥させて厚さ20μmの電荷輸送層を形成
し、比較例3の電子写真感光体を作成した。
いで、ポリカーボネート樹脂(C−1400、帝人化成
社製)10重量部、下記構造式の低分子電荷輸送物質9
重量部およびジクロルメタン80重量部からなる溶液を
リング塗工法により電荷発生層上に塗布し、120℃で
20分間乾燥させて厚さ20μmの電荷輸送層を形成
し、比較例3の電子写真感光体を作成した。
【化56】
【0134】このようにして得られた実施例1〜実施例
12の電子写真感光体、および比較例1〜比較例3の電
子写真感光体を電子写真複写機(FT−2700、リコ
ー社製)に装着し、初期暗部電位(VD)を800V、
初期明部電位(VL)を80Vに設定してA4縦長サイ
ズ10万枚の複写を行った後、暗部電位(VD)及び明
部電位(VL)を測定した。初期電位からの変動量を表
21に示す。また、10万枚の複写を行った後の電荷輸
送層の摩耗量(電荷輸送層の膜厚減少量)を測定した。
その結果を表21に示す。
12の電子写真感光体、および比較例1〜比較例3の電
子写真感光体を電子写真複写機(FT−2700、リコ
ー社製)に装着し、初期暗部電位(VD)を800V、
初期明部電位(VL)を80Vに設定してA4縦長サイ
ズ10万枚の複写を行った後、暗部電位(VD)及び明
部電位(VL)を測定した。初期電位からの変動量を表
21に示す。また、10万枚の複写を行った後の電荷輸
送層の摩耗量(電荷輸送層の膜厚減少量)を測定した。
その結果を表21に示す。
【0135】
【表21】
【0136】表21から明らかなように、感光層中にイ
オウ原子を含む酸化防止剤あるいは老化防止剤化合物を
含有させた実施例の電子写真感光体は、イオウ原子を含
む酸化防止剤あるいは老化防止剤化合物を用いていない
比較例の電子写真感光体に比べ、繰り返し使用における
帯電電位の低下や残留電位の上昇が少ないものである。
また、高分子電荷輸送物質を用いた実施例の電子写真感
光体は、低分子電荷輸送物質を用いた比較例の電子写真
感光体に比べ、繰り返し使用時の耐摩耗性に優れている
ものである。
オウ原子を含む酸化防止剤あるいは老化防止剤化合物を
含有させた実施例の電子写真感光体は、イオウ原子を含
む酸化防止剤あるいは老化防止剤化合物を用いていない
比較例の電子写真感光体に比べ、繰り返し使用における
帯電電位の低下や残留電位の上昇が少ないものである。
また、高分子電荷輸送物質を用いた実施例の電子写真感
光体は、低分子電荷輸送物質を用いた比較例の電子写真
感光体に比べ、繰り返し使用時の耐摩耗性に優れている
ものである。
【0137】実施例13 直径80mm、長さ340mmのアルミニウムシリンダ
ー上に、メタノールとn−ブタノールとの7:3(重
量)混合溶媒に溶解したポリアミド樹脂(CM−800
0、東レ社製)の1%溶液をスプレー塗工により塗布
し、乾燥させて厚さ0.3μmの下引き層を設けた。つ
いで実施例1におけるビスアゾ化合物1重量部、前記表
2に例示したNo.1−10の高分子電荷輸送物質10
重量部、3,3′−チオプロピオン酸ジドデシル0.5
重量部およびテトラヒドロフラン80重量部をボールミ
ルにより48時間粉砕分散し、得られた分散液をリング
塗工法により下引き層上に塗布し、120℃で20分間
乾燥させて厚さ25μmの感光層を形成し、電子写真感
光体を作成した。
ー上に、メタノールとn−ブタノールとの7:3(重
量)混合溶媒に溶解したポリアミド樹脂(CM−800
0、東レ社製)の1%溶液をスプレー塗工により塗布
し、乾燥させて厚さ0.3μmの下引き層を設けた。つ
いで実施例1におけるビスアゾ化合物1重量部、前記表
2に例示したNo.1−10の高分子電荷輸送物質10
重量部、3,3′−チオプロピオン酸ジドデシル0.5
重量部およびテトラヒドロフラン80重量部をボールミ
ルにより48時間粉砕分散し、得られた分散液をリング
塗工法により下引き層上に塗布し、120℃で20分間
乾燥させて厚さ25μmの感光層を形成し、電子写真感
光体を作成した。
【0138】比較例4 実施例13において3,3′−チオプロピオン酸ジドデ
シルを除いた以外は実施例13と同様にして電子写真感
光体を作成した。
シルを除いた以外は実施例13と同様にして電子写真感
光体を作成した。
【0139】このようにして得られた実施例13、比較
例4の電子写真感光体を電子写真複写機(FT−655
0、リコー社製)に搭載し、初期暗部電位(VD)を8
00V、初期明部電位(VL)を80Vに設定してA4
縦長サイズ2万枚の複写を行った後、暗部電位(VD)
及び明部電位(VL)を測定した。初期電位からの変動
量は、実施例13の電子写真感光体ではVDが−40、
VLが+10であったのに対し、比較例4の電子写真感
光体ではVDが−120、VLが+40であった。この
ように、感光層中にイオウ原子を含む酸化防止剤あるい
は老化防止剤化合物を含有させた実施例の電子写真感光
体は、イオウ原子を含む酸化防止剤あるいは老化防止剤
化合物を用いていない比較例の電子写真感光体に比べ、
繰り返し使用における帯電電位の低下や残留電位の上昇
が少ないものである。
例4の電子写真感光体を電子写真複写機(FT−655
0、リコー社製)に搭載し、初期暗部電位(VD)を8
00V、初期明部電位(VL)を80Vに設定してA4
縦長サイズ2万枚の複写を行った後、暗部電位(VD)
及び明部電位(VL)を測定した。初期電位からの変動
量は、実施例13の電子写真感光体ではVDが−40、
VLが+10であったのに対し、比較例4の電子写真感
光体ではVDが−120、VLが+40であった。この
ように、感光層中にイオウ原子を含む酸化防止剤あるい
は老化防止剤化合物を含有させた実施例の電子写真感光
体は、イオウ原子を含む酸化防止剤あるいは老化防止剤
化合物を用いていない比較例の電子写真感光体に比べ、
繰り返し使用における帯電電位の低下や残留電位の上昇
が少ないものである。
【0140】
【発明の効果】本発明によれば、導電性支持体上に電荷
発生物質と高分子電荷輸送物質を含有する感光層を有す
る電子写真感光体において、感光層中にイオウ原子を含
む酸化防止剤あるいは老化防止剤化合物を含有させるこ
とにより、繰り返し使用時の耐摩耗性に優れ、且つ反応
性ガスによる影響を抑え、繰り返し使用においても帯電
電位の低下や残留電位の上昇が少ない電子写真感光体を
得ることができる。
発生物質と高分子電荷輸送物質を含有する感光層を有す
る電子写真感光体において、感光層中にイオウ原子を含
む酸化防止剤あるいは老化防止剤化合物を含有させるこ
とにより、繰り返し使用時の耐摩耗性に優れ、且つ反応
性ガスによる影響を抑え、繰り返し使用においても帯電
電位の低下や残留電位の上昇が少ない電子写真感光体を
得ることができる。
【図1】本発明の電子写真感光体の一例を模式的に示す
断面図である。
断面図である。
【図2】本発明の他の構成の電子写真感光体を模式的に
示す断面図である。
示す断面図である。
【図3】本発明の別の構成の電子写真感光体を模式的に
示す断面図である。
示す断面図である。
1 導電性支持体 2 電荷発生層 3 電荷輸送層 4 感光層 5 下引き層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岸田 浩司 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 紙 英利 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内
Claims (12)
- 【請求項1】 導電性支持体上に電荷発生物質と高分子
電荷輸送物質を含有する感光層を有する電子写真感光体
において、感光層中にイオウ原子を含む酸化防止剤ある
いは老化防止剤化合物を含有することを特徴とする電子
写真感光体。 - 【請求項2】 高分子電荷輸送物質が下記一般式(1)
で表される高分子化合物であることを特徴とする請求項
1記載の電子写真感光体。 【化1】 {式中、R′1、R′2、R′3は、それぞれ独立して置
換もしくは無置換のアルキル基またはハロゲン原子を表
し、R′4は水素原子または置換もしくは無置換のアル
キル基を表す。R1、R2は置換もしくは無置換のアリー
ル基を表す。o、p、qは、それぞれ独立して0〜4の
整数を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0
≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜
5000の整数である。Xは脂肪族の2価基、環状脂肪
族の2価基、または下記一般式(A)で表される2価基
を表す。 【化2】 〔式中、R24、R25は、それぞれ独立して置換もしくは
無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
表し、l、mは0〜4の整数を表す。Yは単結合、炭素
原子数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
レン基、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−C
O−、−CO−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族の
2価基を表す)または下記一般式(B) 【化3】 (式中、aは1〜20の整数を表し、bは1〜2000
の整数を表す。R26、R27は置換または無置換のアルキ
ル基またはアリール基を表す。)を表す。R24とR25、
R26とR27はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
い。〕} - 【請求項3】 高分子電荷輸送物質が下記一般式(2)
で表される高分子化合物であることを特徴とする請求項
1記載の電子写真感光体。 【化4】 {式中、R3、R4は置換もしくは無置換のアリール基を
表し、Ar1、Ar2、Ar3は同一または異なるアリレ
ン基を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0
≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜
5000の整数である。Xは脂肪族の2価基、環状脂肪
族の2価基、または下記一般式(A)で表される2価基
を表す。 【化5】 〔式中、R24、R25は、それぞれ独立して置換もしくは
無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
表し、l、mは0〜4の整数を表す。Yは単結合、炭素
原子数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
レン基、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−C
O−、−CO−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族の
2価基を表す)または下記一般式(B) 【化6】 (式中、aは1〜20の整数を表し、bは1〜2000
の整数を表す。R26、R27は置換または無置換のアルキ
ル基またはアリール基を表す。)を表す。R24とR25、
R26とR27はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
い。〕} - 【請求項4】 高分子電荷輸送物質が下記一般式(3)
で表される高分子化合物であることを特徴とする請求項
1記載の電子写真感光体。 【化7】 {式中、R5、R6は置換もしくは無置換のアリール基を
表し、Ar4、Ar5、Ar6は同一または異なるアリレ
ン基を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0
≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜
5000の整数である。Xは脂肪族の2価基、環状脂肪
族の2価基、または下記一般式(A)で表される2価基
を表す。 【化8】 〔式中、R24、R25は、それぞれ独立して置換もしくは
無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
表し、l、mは0〜4の整数を表す。Yは単結合、炭素
原子数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
レン基、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−C
O−、−CO−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族の
2価基を表す)または下記一般式(B) 【化9】 (式中、aは1〜20の整数を表し、bは1〜2000
の整数を表す。R26、R27は置換または無置換のアルキ
ル基またはアリール基を表す。)を表す。R24とR25、
R26とR27はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
い。〕} - 【請求項5】 高分子電荷輸送物質が下記一般式(4)
で表される高分子化合物であることを特徴とする請求項
1記載の電子写真感光体。 【化10】 {式中、R7、R8は置換もしくは無置換のアリール基を
表し、Ar7、Ar8、Ar9は同一または異なるアリレ
ン基を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0
≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜
5000の整数である。rは1〜5の整数を表す。Xは
脂肪族の2価基、環状脂肪族の2価基、または下記一般
式(A)で表される2価基を表す。 【化11】 〔式中、R24、R25は、それぞれ独立して置換もしくは
無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
表し、l、mは0〜4の整数を表す。Yは単結合、炭素
原子数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
レン基、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−C
O−、−CO−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族の
2価基を表す)または下記一般式(B) 【化12】 (式中、aは1〜20の整数を表し、bは1〜2000
の整数を表す。R26、R27は置換または無置換のアルキ
ル基またはアリール基を表す。)を表す。R24とR25、
R26とR27はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
い。〕} - 【請求項6】 高分子電荷輸送物質が下記一般式(5)
で表される高分子化合物であることを特徴とする請求項
1記載の電子写真感光体。 【化13】 {式中、R9、R10は置換もしくは無置換のアリール基
を表し、Ar10、Ar11、Ar12は同一または異なるア
リレン基を表す。X1、X2は置換もしくは無置換のエチ
レン基または置換もしくは無置換のビニレン基を表す。
k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0≦j≦0.9
であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜5000の整
数である。Xは脂肪族の2価基、環状脂肪族の2価基、
または下記一般式(A)で表される2価基を表す。 【化14】 〔式中、R24、R25は、それぞれ独立して置換もしくは
無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
表し、l、mは0〜4の整数を表す。Yは単結合、炭素
原子数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
レン基、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−C
O−、−CO−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族の
2価基を表す)または下記一般式(B) 【化15】 (式中、aは1〜20の整数を表し、bは1〜2000
の整数を表す。R26、R27は置換または無置換のアルキ
ル基またはアリール基を表す。)を表す。R24とR25、
R26とR27はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
い。〕} - 【請求項7】 高分子電荷輸送物質が下記一般式(6)
で表される高分子化合物であることを特徴とする請求項
1記載の電子写真感光体。 【化16】 {式中、R11、R12、R13、R14は置換もしくは無置換
のアリール基を表し、Ar13、Ar14、Ar15、Ar16
は同一または異なるアリレン基を表す。Y1、Y2、Y3
は単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換も
しくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置
換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子または
ビニレン基を表し、同一であっても異なっていてもよ
い。k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0≦j≦
0.9であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜500
0の整数である。Xは脂肪族の2価基、環状脂肪族の2
価基、または下記一般式(A)で表される2価基を表
す。 【化17】 〔式中、R24、R25は、それぞれ独立して置換もしくは
無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
表し、l、mは0〜4の整数を表す。Yは単結合、炭素
原子数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
レン基、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−C
O−、−CO−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族の
2価基を表す)または下記一般式(B) 【化18】 (式中、aは1〜20の整数を表し、bは1〜2000
の整数を表す。R26、R27は置換または無置換のアルキ
ル基またはアリール基を表す。)を表す。R24とR25、
R26とR27はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
い。〕} - 【請求項8】 高分子電荷輸送物質が下記一般式(7)
で表される高分子化合物であることを特徴とする請求項
1記載の電子写真感光体。 【化19】 {式中、R15、R16は水素原子、置換もしくは無置換の
アリール基を表し、R15とR16は環を形成していてもよ
い。Ar17、Ar18、Ar19は同一または異なるアリレ
ン基を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0
≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜
5000の整数である。Xは脂肪族の2価基、環状脂肪
族の2価基、または下記一般式(A)で表される2価基
を表す。 【化20】 〔式中、R24、R25は、それぞれ独立して置換もしくは
無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
表し、l、mは0〜4の整数を表す。Yは単結合、炭素
原子数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
レン基、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−C
O−、−CO−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族の
2価基を表す)または下記一般式(B) 【化21】 (式中、aは1〜20の整数を表し、bは1〜2000
の整数を表す。R26、R27は置換または無置換のアルキ
ル基またはアリール基を表す。)を表す。R24とR25、
R26とR27はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
い。〕} - 【請求項9】 高分子電荷輸送物質が下記一般式(8)
で表される高分子化合物であることを特徴とする請求項
1記載の電子写真感光体。 【化22】 {式中、R17は置換もしくは無置換のアリール基を表
し、Ar20、Ar21、Ar22、Ar23は同一または異な
るアリレン基を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k
≦1、0≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表
し、5〜5000の整数である。Xは脂肪族の2価基、
環状脂肪族の2価基、または下記一般式(A)で表され
る2価基を表す。 【化23】 〔式中、R24、R25は、それぞれ独立して置換もしくは
無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
表し、l、mは0〜4の整数を表す。Yは単結合、炭素
原子数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
レン基、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−C
O−、−CO−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族の
2価基を表す)または下記一般式(B) 【化24】 (式中、aは1〜20の整数を表し、bは1〜2000
の整数を表す。R26、R27は置換または無置換のアルキ
ル基またはアリール基を表す。)を表す。R24とR25、
R26とR27はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
い。〕} - 【請求項10】 高分子電荷輸送物質が下記一般式
(9)で表される高分子化合物であることを特徴とする
請求項1記載の電子写真感光体。 【化25】 {式中、R18、R19、R20、R21は置換もしくは無置換
のアリール基を表し、Ar24、Ar25、Ar26、A
r27、Ar28は同一または異なるアリレン基を表す。
k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0≦j≦0.9
であり、nは繰り返し単位数を表し、5〜5000の整
数である。Xは脂肪族の2価基、環状脂肪族の2価基、
または下記一般式(A)で表される2価基を表す。 【化26】 〔式中、R24、R25は、それぞれ独立して置換もしくは
無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
表し、l、mは0〜4の整数を表す。Yは単結合、炭素
原子数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
レン基、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−C
O−、−CO−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族の
2価基を表す)または下記一般式(B) 【化27】 (式中、aは1〜20の整数を表し、bは1〜2000
の整数を表す。R26、R27は置換または無置換のアルキ
ル基またはアリール基を表す。)を表す。R24とR25、
R26とR27はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
い。〕} - 【請求項11】 高分子電荷輸送物質が下記一般式(1
0)で表される高分子化合物であることを特徴とする請
求項1記載の電子写真感光体。 【化28】 {式中、R22、R23は置換もしくは無置換のアリール基
を表し、Ar29、Ar30、Ar31は同一または異なるア
リレン基を表す。k、jは組成を表し、0.1≦k≦
1、0≦j≦0.9であり、nは繰り返し単位数を表
し、5〜5000の整数である。Xは脂肪族の2価基、
環状脂肪族の2価基、または下記一般式(A)で表され
る2価基を表す。 【化29】 〔式中、R24、R25は、それぞれ独立して置換もしくは
無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
表し、l、mは0〜4の整数を表す。Yは単結合、炭素
原子数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
レン基、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−C
O−、−CO−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族の
2価基を表す)または下記一般式(B) 【化30】 (式中、aは1〜20の整数を表し、bは1〜2000
の整数を表す。R26、R27は置換または無置換のアルキ
ル基またはアリール基を表す。)を表す。R24とR25、
R26とR27はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
い。〕} - 【請求項12】 感光層が電荷発生物質を含有する電荷
発生層と高分子電荷輸送物質およびイオウ原子を含む酸
化防止剤あるいは老化防止剤化合物を含有する電荷輸送
層との積層感光層であることを特徴とする請求項1、
2、3、4、5、6、7、8、9、10または11記載
の電子写真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8151808A JPH09319121A (ja) | 1996-05-24 | 1996-05-24 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8151808A JPH09319121A (ja) | 1996-05-24 | 1996-05-24 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09319121A true JPH09319121A (ja) | 1997-12-12 |
Family
ID=15526767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8151808A Pending JPH09319121A (ja) | 1996-05-24 | 1996-05-24 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09319121A (ja) |
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