JPH11344820A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐摩耗性に優れた長寿命、高信頼性を高いレ
ベルで達成する電子写真感光体を提供することにあり、
また感光体製造工程において感光層膜厚の均一性、表面
の均一性に優れた欠陥のない電子写真感光体を歩留まり
よく提供することにある。 【解決手段】 導電性支持体上に高分子電荷輸送物質を
含む感光層を設けた電子写真感光体において、この電荷
輸送物質がトリアリールアミン構造を分岐鎖に有するポ
リカーボネート樹脂からなり、重量平均分子量が１００
０００以上、５０００００未満であることを特徴とする
電子写真感光体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、有機電子写真感光
体に関し、詳しくは、電子写真複写機、プリンターなど
に用いられる電子写真感光体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】複写機、ファクシミリ、レーザープリン
タ、ダイレクトデジタル製版機等に応用されている電子
写真感光体を用いた電子写真方法とは、少なくとも電子
写真感光体に帯電、画像露光、現像の過程を経た後、画
像保持体（転写紙）へのトナー画像の転写、定着及び電
子写真用感光体表面のクリーニングというプロセスより
なる方法である。

【０００３】電子写真感光体が、この電子写真法におい
て要求される基本的な特性としては、 暗所で適当な電位に帯電できること 暗所において電荷の散逸が少ないこと 光照射によって速やかに電荷を散逸できること 等が挙げられる。

【０００４】更にこれらの特性以外に画質特性等の長期
信頼性や低公害性、コストの低さ等も要求される。従
来、電子写真方式に於いて使用される感光体としては導
電性支持体上にセレンないしセレン合金を主体とする光
導電層を設けたもの、酸化亜鉛・硫化カドミウム等の無
機系光導電材料をバインダー中に分散させたもの、及び
非晶質シリコン系材料を用いたもの等が一般的に知られ
ているが、近年ではコストの低さ、感光体設計の自由度
の高さ、無公害性等から有機系感光体が広く利用される
ようになってきている。

【０００５】有機系の電子写真感光体には、ポリビニル
カルバゾール（ＰＶＫ）に代表される光導電性樹脂、Ｐ
ＶＫ−ＴＮＦ（２，４，７−トリニトロフルオレノン）
に代表される電荷移動錯体型、フタロシアニン−バイン
ダーに代表される顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送
物質とを組み合わせて用いる機能分離型の感光体などが
知られており、特に機能分離型の感光体が注目されてい
る。

【０００６】この機能分離型の感光体における静電潜像
形成のメカニズムは、感光体を帯電した後光照射する
と、光は透明な電荷輸送層を通過し、電荷発生層中の電
荷発生物質により吸収され、光を吸収した電荷発生物質
は電荷担体を発生し、この電荷担体は電荷輸送層に注入
され、帯電によって生じている電界にしたがって電荷輸
送層中を移動し、感光体表面の電荷を中和することによ
り静電潜像を形成するものである。機能分離型感光体に
おいては、主に紫外部に吸収を持つ電荷輸送物質と、主
に可視部に吸収を持つ電荷発生物質とを組み合わせて用
いることが知られており、かつ有用である。

【０００７】ところが、電子写真方法に用いられる有機
系電子写真感光体の電荷輸送物質は多くが低分子化合物
として開発されており、低分子化合物は単独で成膜性が
ないため、通常、不活性高分子に分散・混合して用いら
れる。しかるに、低分子電荷輸送物質と不活性高分子か
らなる電荷輸送層は一般に柔らかく、電子写真プロセス
において繰り返し使用された場合に現像システムやクリ
ーニングシステムによる機械的な感光体表面への負荷に
より膜削れを生じやすいという耐摩耗性の低さが短所と
して挙げられる。

【０００８】更に、この構成の電荷輸送層は電荷移動度
に限界があり、電子写真プロセスの高速化あるいは小型
化の障害となっていた。これは通常低分子電荷輸送物質
の含有量が５０重量％以下で使用されることに起因して
いる。即ち低分子電荷輸送物質の含有量を増すことで確
かに電荷移動度は上げられるが、このとき逆に成膜性や
耐摩耗性が劣化するためである。

【０００９】この有機系感光体の特性を改善する技術と
して有機系感光体のバインダー樹脂を改良したもの（特
開平５−２１６２５０号公報）や高分子型の電荷輸送物
質（特開昭５１−７３８８８号公報、特開昭５４−８５
２７号公報、特開昭５４−１１７３７号公報、特開昭５
６−１５０７４９号公報、特開昭５７−７８４０２号公
報、特開昭６３−２８５５５２号公報、特開平１−１７
２８号公報、特開平１−１９０４９号公報、特開平３−
５０５５５号公報、特開平４−２２５０１４号公報、特
開平５−３３１２３８号公報等、特開平７−３２５４０
９号公報、特開平９−１２７７１３号公報、特開平９−
２９７４１９号公報、特開平９−８０７８３号公報、特
開平９−８０７８４号公報、特開平９−８０７７２号公
報、特開平９−２２２７４０号公報、特開平９−２６５
１９７号公報、特開平９−２６５２０１号公報、特開平
９−２１１８７７号公報、特開平９−３０４９５６号公
報、特開平９−３０４９５７号公報、特開平９−３２９
９０７号公報等）が開示され注目されている。

【００１０】上記公報において、高分子電荷輸送物質を
用いた電子写真感光体は、一般的に高い耐摩耗性を有
し、電子写真感光体の長寿命化が図られることが示され
ているが、感光層のほとんどが高分子電荷輸送物質で占
められるため摩耗特性は高分子電荷輸送物質の機械的強
度に大きく依存している。一般的に高分子膜の機械的強
度は重合度（分子量）、繰り返し構造単位、モルホロジ
ーなどと関係があるが、用いられるプロセス条件によっ
ても必要とされる強度が異なる。このため高分子型電荷
輸送物質を用いても必ずしも高い耐摩耗性が達成される
わけではなく、特に分子量が小さいことにより感光層の
クラック、ハガレが発生する場合がある。

【００１１】また、電子写真感光体は感光層成分を適当
な溶媒に溶解し、この液を塗布、乾燥することにより製
造される。このため均一で且つ目的とする膜厚の感光層
を形成するためには塗布液の固形分割合と粘度が重要な
因子となる。この塗布液の粘度は固形分中の高分子成分
の割合と分子量に依存する。したがって、感光層成分の
ほとんどが高分子電荷輸送物質で占められている場合、
塗布液の粘度からも高分子電荷輸送物質の分子量が制約
され、適正化が必要となる。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、耐摩
耗性に優れた長寿命、高信頼性を高いレベルで達成する
電子写真感光体を提供することにあり、また感光体製造
工程において感光層膜厚の均一性、表面の均一性に優れ
た欠陥のない電子写真感光体を歩留まりよく提供するこ
とにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明者らが上記目的に
対し鋭意検討を重ねた結果、導電性支持体上に感光層と
してトリアリールアミン構造を分岐鎖に有するポリカー
ボネート樹脂からなる高分子電荷輸送物質を含有させ、
且つこのトリアリールアミン構造を分岐鎖に有するポリ
カーボネート樹脂の重量平均分子量が１０００００以
上、５０００００未満のものを用いることにより、前記
目的が達成できることが発見され本発明に到った。

【００１４】従来の電子写真感光体は、光減衰の感度の
制約から低分子電荷輸送物質を高分子樹脂バインダー中
に５０％程度分散させた電荷輸送層を表層に用いてお
り、このため繰り返し使用における膜削れが生じやすい
という欠点を有している。この電荷輸送層の摩耗により
感光体の帯電電位の低下、異常画像の発生が問題となっ
ている。これに対し、近年高分子電荷輸送物質を感光層
の主成分とする検討がなされてきた。これにより感光層
中に多量の低分子成分（従来の低分子電荷輸送物質）を
含有させる必要がなく、感光層の強度の向上にともなう
膜削れの低減がなされた。しかし、このように高分子電
荷輸送物質を感光層の主成分とした場合、摩耗特性は用
いられる高分子電荷輸送物質の機械的強度に大きく依存
する。一般的に高分子膜の機械的強度は高分子鎖構造、
繰り返し単位構造、重合度（分子量）、モルホロジー等
に大きく影響されるが、高分子電荷輸送物質の場合、合
わせて暗所での高抵抗性、高い電荷輸送性等の良好な光
導電性を有していなければならない。本発明においては
これらの点について鋭意検討した結果、高分子電荷輸送
物質としてはトリアリールアミン構造を分岐鎖に有する
ポリカーボネート樹脂が良好で、且つその重量平均分子
量が１０００００以上が必要であることが見い出され
た。

【００１５】高分子鎖構造がポリスチレン等のビニル系
重合体の場合、膜はもろくクラック、ハガレが発生す
る。ポリエーテル、ポリシロキサンの場合、膜が柔らか
く引き裂き強度が弱い。また、極性の高い高分子鎖結合
は光感度の低下、残留電位の上昇などの静電特性に悪影
響を及ぼす。ポリカーボネート構造は、強靱で且つ弾性
があり、静電特性にも影響が少ない。繰り返し単位構造
は、膜の粘弾性、歪みと関係があり、トリアリールアミ
ン構造を主鎖に有すると剛直性が上がり、製膜時の内部
応力増加によりクラックが発生しやすくなる。

【００１６】更に、トリアリールアミン構造を分岐鎖に
有する場合、この電荷輸送サイトの運動性の自由度が高
く、電荷輸送性が向上し良好な光感度が得られる。これ
らの結果、特開平７−３２５４０９号公報、特開平９−
２９７４１９号公報、特開平９−８０７８３号公報、特
開平９−８０７８４号公報、特開平９−８０７７２号公
報、特開平９−２６５２０１号公報等に開示されている
トリアリールアミン構造を分岐鎖に有するポリカーボネ
ート樹脂が耐摩耗性と光減衰の感度の両面で効果的であ
った。

【００１７】本発明のトリアリールアミン構造を分岐鎖
に有するポリカーボネート樹脂の分子量に関しては、２
００００以下の重量平均分子量では膜形成能が弱く感光
層のひび割れ、ハガレが発生する。重量平均分子量が２
００００〜１０００００に上がるに連れ耐摩耗性が向上
するが、１０００００以上ではほぼ一定となり、機械的
強度が飽和する。

【００１８】一方、電子写真感光体は感光層成分を適当
な溶媒に溶解し、この液を塗布、乾燥することにより製
造される。このため均一で且つ目的とした膜厚の感光層
を形成するためには塗布液の固形分割合と粘度が重要な
因子となる。この塗布液の粘度は固形分中の高分子成分
の割合と分子量に依存する。本発明のように、感光層成
分のほとんどが高分子電荷輸送物質で占められている場
合、高分子電荷輸送物質の分子量が５０００００以上で
は塗布液の粘度が上昇し、均一な表面性を有する感光体
が得られない。また、塗布液の固形分割合を下げ、粘度
を低下させた場合、容易に目的膜厚の感光層が形成でき
ない。

【００１９】したがって、導電性支持体上に感光層とし
てトリアリールアミン構造を分岐鎖に有するポリカーボ
ネート樹脂からなる高分子電荷輸送物質を含有させ、且
つこのトリアリールアミン構造を分岐鎖に有するポリカ
ーボネート樹脂の重量平均分子量が１０００００以上、
５０００００未満のものを用いることにより、耐摩耗性
に優れた長寿命、高信頼性を高いレベルで達成する電子
写真感光体を提供でき、また感光体製造工程において感
光層膜厚の均一性、表面の均一性に優れた欠陥のない電
子写真感光体を歩留まりよく提供することが可能となる
ことが見い出された。

【００２０】また、更に本発明で用いられるトリアリー
ルアミン構造を分岐鎖に有するポリカーボネート樹脂か
らなる高分子電荷輸送物質を特定な構造とすることによ
り、前記効果が非常に良好に発現されることが見い出さ
れた。

【００２１】また、本発明の電子写真感光体の層構成と
して、導電性支持体上に少なくとも電荷発生層と高分子
電荷輸送物質を含有する電荷輸送層を順次積層した積層
型電子写真感光体において更に前記効果が長期間持続す
ることが見い出された。

【００２２】本発明における重量平均分子量の測定法に
は、光散乱法、Ｘ線小角散乱法、中性子小角散乱法、沈
降平衡法、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
（ＧＰＣ）法などがあるが、中でもＧＰＣを用いポリス
チレン換算の相対的分子量が簡便な測定法として有用に
用いられる。

【００２３】次に、本発明に用いられるトリアリールア
ミン構造を分岐鎖に有するポリカーボネート樹脂からな
る高分子電荷輸送物質について述べる。トリアリールア
ミン構造を分岐鎖に有するポリカーボネート樹脂とは、
トリアリールアミン構造の３つのアリール基のうちの１
つのアリール基が何らかの結合基を介して又は介しない
で、ポリカーボネート結合の主鎖から分岐している高分
子構造を指す。本発明に用いられる高分子電荷輸送物質
として、下記（１）〜（６）式で表わされるトリアリー
ルアミン構造を分岐鎖に有するポリカーボネート樹脂が
有効に用いられる。（１）〜（６）式で表わされる高分
子電荷輸送物質を例示し、具体例を示す。

【００２４】

【化９】 式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃はそれぞれ独立して置換若しくは
無置換のアルキル基又はハロゲン原子、Ｒ₄は水素原子
又は置換若しくは無置換のアルキル基、Ｒ₅、Ｒ₆は置換
若しくは無置換のアリール基、ｏ、ｐ、ｑはそれぞれ独
立して０〜４の整数、ｋ、ｊは組成を表わし、０．１≦
ｋ≦１、０≦ｊ≦０．９、ｎは繰り返し単位数を表わし
５〜５０００の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、環状
脂肪族の２価基、又は下記一般式で表わされる２価基を
表わす。

【００２５】

【化１０】 式中、Ｒ₁₀₁、Ｒ₁₀₂は各々独立して置換若しくは無置換
のアルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表わす。
ｌ、ｍは０〜４の整数、Ｙは単結合、炭素原子数１〜１
２の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基、−Ｏ
−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−ＣＯ
−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の２価基を表わ
す。）又は、

【００２６】

【化１１】 （式中、ａは１〜２０の整数、ｂは１〜２０００の整
数、Ｒ₁₀₃、Ｒ₁₀₄は置換又は無置換のアルキル基又はア
リール基を表わす。）を表わす。ここで、Ｒ₁₀₁と
Ｒ₁₀₂、Ｒ₁₀₃とＲ₁₀₄は、それぞれ同一でも異なっても
よい。

【００２７】（１）式の具体例 Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃はそれぞれ独立して置換若しくは無置換
のアルキル基又はハロゲン原子を表わすが、その具体例
としては以下のものを挙げることができ、同一であって
も異なってもよい。

【００２８】アルキル基として好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₁₂
とりわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ₄の直鎖又
は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさ
らにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコ
キシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ₁〜Ｃ₄のア
ルキル基若しくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基で置換された
フェニル基を含有していてもよい。具体的には、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−
ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル
基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、
２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メト
キシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４
−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フ
ェニルベンジル基等が挙げられる。

【００２９】ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。Ｒ₄は水素
原子又は置換若しくは無置換のアルキル基を表わすが、
そのアルキル基の具体例としては上記のＲ₁、Ｒ₂、Ｒ₃
と同様のものが挙げられる。Ｒ₅、Ｒ₆は置換若しくは無
置換のアリール基（芳香族炭化水素基及び不飽和複素環
基）を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げ
ることができ、同一であっても異なってもよい。

【００３０】芳香族炭化水素基としては、フェニル基、
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオ
レニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、ア
ズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリ
セニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベン
ゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合
多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが
挙げられる。複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。

【００３１】上記のアリール基は以下に示す基を置換基
として有してもよい。 （１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 （２）アルキル基。アルキル基としては、上記のＲ₁、
Ｒ₂、Ｒ₃と同様のものが挙げられる。

【００３２】（３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₀₅）。アル
コキシ基（−ＯＲ₁₀₅）としては、Ｒ₁₀₅が上記（２）で
定義したアルキル基であるものが挙げられ、具体的に
は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−
プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−
ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ
基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メ
チルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙
げられる。 （４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するもの
が挙げられる。これは、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁
〜Ｃ₄のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含
有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチ
ルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノ
キシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノ
キシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げら
れる。

【００３３】（５）置換メルカプト基又はアリールメル
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 （６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基と
しては、アルキル基が前記（２）で定義したアルキル基
のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、
Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。 （７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。

【００３４】前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式
（Ａ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、Ｘで表わされる構造部分は下記一般式
（Ａ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメー
トとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重
合体となる。

【００３５】

【化１２】 一般式（Ｂ）のジオール化合物の具体例としては以下の
ものが挙げられる。１，３−プロパンジオール、１，４
−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６
−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，
１０−デカンジオール、２−メチル−１，３−プロパン
ジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオー
ル、２−エチル−１，３−プロパンジオール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレン
グリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール等
の脂肪族ジオールや１，４−シクロヘキサンジオール、
１，３−シクロヘキサンジオール、シクロヘキサン−
１，４−ジメタノール等の環状脂肪族ジオール等が挙げ
られる。

【００３６】また、芳香環を有するジオールとしては、
４，４’−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−１−フェニルエタン、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、２，
２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジメチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス
（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’
−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、３，３’−ジメ
チル−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、
４，４’−ジヒドロキシジフェニルオキシド、２，２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレ
ン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）キサンテ
ン、エチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾ
エート）、ジエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキ
シベンゾエート）、トリエチレングリコール−ビス（４
−ヒドロキシベンゾエート）、１，３−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−テトラメチルジシロキサン、フェノ
ール変性シリコーンオイル等が挙げられる。

【００３７】

【化１３】 式中、Ｒ₇、Ｒ₈は置換若しくは無置換のアリール基、Ａ
ｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ₃は同一又は異なるアリレン基を表わ
す。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、（１）式の場合と同じであ
る。

【００３８】（２）式の具体例 Ｒ₇、Ｒ₈は置換若しくは無置換のアリール基を表わす
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。芳香族炭化水素
基。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環
基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル
基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニ
ル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル
基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ
［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多
環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基、又は

【００３９】

【化１４】 （ここで、Ｗは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ
₂−、−ＣＯ−又は以下の２価基を表わす。）

【００４０】

【化１５】

【００４１】

【化１６】

【００４２】

【化１７】

【００４３】

【化１８】 で表わされる２価基。

【００４４】複素環基。複素環基としては、チエニル
基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、
カルバゾリル基などが挙げられる。また、Ａｒ₁、Ａｒ₂
及びＡｒ₃で示されるアリレン基としてはＲ₇及びＲ₈で
示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても
異なってもよい。上述のアリール基及びアリレン基は以
下に示す基（１）〜基（７）を置換基として有してもよ
い。また、これら置換基は上記一般式中のＲ₁₀₆、
Ｒ₁₀₇、Ｒ₁₀₈と同じ意味を有する。

【００４５】（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、ニトロ基。 （２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくはＣ
₁〜Ｃ₁₂とりわけＣ₁〜Ｃ₁₈さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ₄の
直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル
基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁〜Ｃ₄の
アルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ₁〜
Ｃ₄のアルキル基若しくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基で置
換されたフェニル基を含有していてもよい。具体的に
は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピ
ル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ
−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエ
チル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、
２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジ
ル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル
基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。

【００４６】（３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₀₉）。アル
コキシ基（−ＯＲ₁₀₉）としては、Ｒ_{10 9}が（２）で定義
したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エ
トキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−
ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブ
トキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエト
キシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ
基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。 （４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するもの
が挙げられる。これは、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁
〜Ｃ₄のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含
有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチ
ルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノ
キシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノ
キシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げら
れる。

【００４７】（５）置換メルカプト基又はアリールメル
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 （６）次式で表わされるアルキル置換アミノ基。

【００４８】

【化１９】 式中、Ｒ₁₁₀及びＲ₁₁₁は各々独立に前記（２）で定義し
たアルキル基又はアリール基を表わす。アリール基とし
ては例えばフェニル基、ビフェニル基、又はナフチル基
が挙げられ、これらはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜
Ｃ₄のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有
してもよい。またアリール基上の炭素原子と共同で環を
形成してもよい。このアルキル置換アミノ基としては具
体的には、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニ
ルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ
（ｐ−トリル）アミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリ
ジノ基、モルホリノ基、ユロリジル基等が挙げられる。

【００４９】（７）メチレンジオキシ基、又はメチレン
ジチオ基等のアルキレンジオキシ基又はアルキレンジチ
オ基等が挙げられる。

【００５０】前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式
（Ｃ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、Ｘの構造部分は下記一般式（Ｃ）のト
リアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般
式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合
反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場
合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体とな
る。

【００５１】

【化２０】 一般式（Ｂ）のジオール化合物としては（１）式の電荷
輸送物質を製造する際に用いられるジオール化合物と同
じものが挙げられる。

【００５２】

【化２１】 式中、Ｒ₉、Ｒ₁₀は置換若しくは無置換のアリール基、
Ａｒ₄、Ａｒ₅、Ａｒ₆は同一又は異なるアリレン基を表
わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、（１）式の場合と同じであ
る。

【００５３】（３）式の具体例 Ｒ₉、Ｒ₁₀は置換若しくは無置換のアリール基を表わす
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。芳香族炭化水素
基。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環
基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル
基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニ
ル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル
基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ
［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多
環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙
げられる。複素環基。複素環基としては、チエニル基、
ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カル
バゾリル基などが挙げられる。

【００５４】また、Ａｒ₄、Ａｒ₅及びＡｒ₆で示される
アリレン基としてはＲ₉及びＲ₁₀で示したアリール基の
２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。上
述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基
として有してもよい。 （１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。（２）アルキル基。アルキル基として
は、好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₁₂とりわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに
好ましくはＣ₁〜Ｃ₄の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であ
り、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、
シアノ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、フェニル基、又は
ハロゲン原子、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基若しくはＣ₁〜Ｃ₄
のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよ
い。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ
−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２
−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エト
キシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４
−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メト
キシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられ
る。

【００５５】（３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₁₂）。アル
コキシ基（−ＯＲ₁₁₂）としては、Ｒ₁₁₂が上記（２）で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポ
キシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキ
シ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。

【００５６】（４）アリールオキシ基。アリールオキシ
基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基
が挙げられる。これは、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁
〜Ｃ₄のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含
有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチ
ルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノ
キシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノ
キシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げら
れる。

【００５７】（５）置換メルカプト基又はアリールメル
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。

【００５８】（６）アルキル置換アミノ基。アルキル置
換アミノ基としては、アルキル基は（２）で定義したア
ルキル基を表わす。具体的には、ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、
Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。 （７）アシル基；具体的にはアセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げら
れる。

【００５９】前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式
（Ｄ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、Ｘの構造部分は下記一般式（Ｄ）のト
リアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般
式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合
反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場
合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体とな
る。

【００６０】

【化２２】 一般式（Ｂ）のジオール化合物は（１）式の電荷輸送物
質を製造する際に用いられるジオール化合物と同じもの
が挙げられる。

【００６１】

【化２３】 式中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂は置換若しくは無置換のアリール基、
Ａｒ₇、Ａｒ₈、Ａｒ₉は同一又は異なるアリレン基、ｐ
は１〜５の整数を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、（１）
式の場合と同じである。

【００６２】（４）式の具体例 Ｒ₁₁、Ｒ₁₂は置換若しくは無置換のアリール基を表わす
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。芳香族炭化水素
基。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環
基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル
基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニ
ル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル
基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ
［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多
環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙
げられる。複素環基。複素環基としては、チエニル基、
ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カル
バゾリル基などが挙げられる。

【００６３】また、Ａｒ₇、Ａｒ₈及びＡｒ₉で示される
アリレン基としてはＲ₁₁及びＲ₁₂で示したアリール基の
２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。上
述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基
として有してもよい。 （１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 （２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
Ｃ₁〜Ｃ₁₂とりわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ
₄の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアル
キル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁〜
Ｃ₄のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、
Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基若しくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的に
は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピ
ル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ
−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエ
チル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、
２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジ
ル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル
基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。

【００６４】（３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₁₃）。アル
コキシ基（−ＯＲ₁₁₃）としては、Ｒ₁₁₃が上記（２）で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポ
キシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキ
シ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。 （４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられ
る。これは、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアル
キル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよ
い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ
基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、
４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、
６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。

【００６５】（５）置換メルカプト基又はアリールメル
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 （６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基と
しては、アルキル基が上記（２）で定義したアルキル基
のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、
Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。 （７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。

【００６６】前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式
（Ｅ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、Ｘの構造部分は下記一般式（Ｅ）のト
リアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般
式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合
反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場
合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体とな
る。

【００６７】

【化２４】 一般式（Ｂ）のジオール化合物は（１）式の電荷輸送物
質を製造する際に用いられるジオール化合物と同じもの
が挙げられる。

【００６８】

【化２５】 式中、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈は置換若しくは無置換の
アリール基、Ａｒ₁₃、Ａｒ₁₄、Ａｒ₁₅、Ａｒ₁₆は同一又
は異なるアリレン基、Ｙ₁、Ｙ₂、Ｙ₃は単結合、置換若
しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のシ
クロアルキレン基、置換若しくは無置換のアルキレンエ
ーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わし同
一であっても異なってもよい。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、
（１）式の場合と同じである。

【００６９】（５）式の具体例 Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈は置換若しくは無置換のアリー
ル基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げ
ることができ、同一であっても異なってもよい。

【００７０】芳香族炭化水素基。芳香族炭化水素基とし
ては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレ
ニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−
フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフ
ェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニ
ル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデン
フェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ター
フェニリル基などが挙げられる。複素環基。複素環基と
しては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベ
ンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。

【００７１】また、Ａｒ₁₃、Ａｒ₁₄、Ａｒ₁₅及びＡｒ₁₆
で示されるアリレン基としてはＲ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、及び
Ｒ₁₈で示した上記のアリール基の２価基が挙げられ、同
一であっても異なってもよい。

【００７２】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。 （１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 （２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
Ｃ₁〜Ｃ₁₂とりわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ
₄の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアル
キル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁〜
Ｃ₄のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、
Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基若しくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的に
は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピ
ル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ
−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエ
チル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、
２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジ
ル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル
基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。

【００７３】（３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₁₅）。アル
コキシ基（−ＯＲ₁₁₅）としては、Ｒ₁₁₅が上記（２）で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポ
キシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキ
シ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。

【００７４】（４）アリールオキシ基。アリールオキシ
基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基
が挙げられる。これは、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁
〜Ｃ₄のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含
有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチ
ルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノ
キシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノ
キシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げら
れる。

【００７５】前記Ｙ₁、Ｙ₂、Ｙ₃の構造部分は単結合、
置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置
換のシクロアルキレン基、置換若しくは無置換のアルキ
レンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表
わし、同一であっても異なっていてもよい。

【００７６】このアルキレン基としては、上記（２）で
示したアルキル基より誘導される２価基が挙げられ、具
体的には、メチレン基、エチレン基、１，３−プロピレ
ン基、１，４−ブチレン基、２−メチル−１，３−プロ
ピレン基、ジフルオロメチレン基、ヒドロキシエチレン
基、シアノエチレン基、メトキシエチレン基、フェニル
メチレン基、４−メチルフェニルメチレン基、２，２−
プロピレン基、２，２−ブチレン基、ジフェニルメチレ
ン基等を挙げることができる。

【００７７】同シクロアルキレン基としては、１，１−
シクロペンチレン基、１，１−シクロヘキシレン基、
１，１−シクロオクチレン基等を挙げることができる。

【００７８】同アルキレンエーテル基としては、ジメチ
レンエーテル基、ジエチレンエーテル基、エチレンメチ
レンエーテル基、ビス（トリエチレン）エーテル基、ポ
リテトラメチレンエーテル基等が挙げられる。

【００７９】前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式
（Ｇ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、Ｘの構造部分は下記一般式（Ｇ）のト
リアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般
式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合
反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場
合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体とな
る。

【００８０】

【化２６】 一般式（Ｂ）のジオール化合物は（１）式の電荷輸送物
質を製造する際に用いられるジオール化合物と同じもの
が挙げられる。

【００８１】

【化２７】 式中、Ｒ₂₂、Ｒ₂₃、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は置換若しくは無置換の
アリール基、Ａｒ₂₄、Ａｒ₂₅、Ａｒ₂₆、Ａｒ₂₇、Ａｒ₂₈
は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及び
ｎは、（１）式の場合と同じである。

【００８２】（６）式の具体例 Ｒ₂₂、Ｒ₂₃、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は置換若しくは無置換のアリー
ル基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げ
ることができ、同一であっても異なってもよい。

【００８３】芳香族炭化水素基。芳香族炭化水素基とし
ては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレ
ニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−
フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフ
ェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニ
ル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデン
フェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ター
フェニリル基などが挙げられる。複素環基。複素環基と
しては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベ
ンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。

【００８４】また、Ａｒ₂₄、Ａｒ₂₅、Ａｒ₂₆、Ａｒ₂₇、
及びＡｒ₂₈で示されるアリレン基としては、Ｒ₂₂、
Ｒ₂₃、Ｒ₂₄、及びＲ₂₅で示したアリール基の２価基が挙
げられ、同一であっても異なってもよい。上述のアリー
ル基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有し
てもよい。

【００８５】（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、ニトロ基。 （２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
Ｃ₁〜Ｃ₁₂とりわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ
₄の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアル
キル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁〜
Ｃ₄のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、
Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基若しくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的に
は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピ
ル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ
−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエ
チル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、
２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジ
ル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル
基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。

【００８６】（３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₁₈）。アル
コキシ基（−ＯＲ₁₁₈）としては、Ｒ₁₁₈が上記（２）で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポ
キシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキ
シ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。

【００８７】（４）アリールオキシ基。アリールオキシ
基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基
を有するものが挙げられる。これは、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコ
キシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基又はハロゲン原子を置換
基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、
１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メ
チルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−ク
ロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基
等が挙げられる。

【００８８】（５）置換メルカプト基又はアリールメル
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。

【００８９】（６）アルキル置換アミノ基。アルキル置
換アミノ基としては、アルキル基が上記（２）で定義し
たアルキル基のものが挙げられ、具体的には、ジメチル
アミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピ
ルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられ
る。 （７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。

【００９０】前記Ｘで表わされる構造部分は下記一般式
（Ｌ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、この構造部分Ｘは下記一般式（Ｌ）の
トリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一
般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重
合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場
合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体とな
る。

【００９１】

【化２８】 一般式（Ｂ）のジオール化合物は（１）式の電荷輸送物
質を製造する際に用いられるジオール化合物と同じもの
が挙げられる。

【００９２】以下図面に沿って本発明で用いられる電子
写真感光体を詳細に説明する。第１図は、本発明におい
て用いられる電子写真感光体の断面図であり、導電性支
持体（２１）上に、感光層（２３）が形成されたもので
ある。第２図は、別の構成を示す断面図であり、導電性
支持体（２１）上に、電荷発生層（３１）と電荷輸送層
（３３）からなる感光層（２３）が形成されたものであ
る。第３図は、更に別の構成を示す断面図であり、導電
性支持体（２１）と感光層（２３）との間に下引き層
（２５）が形成されたものである。

【００９３】導電性支持体（２１）としては、体積抵抗
１０¹⁰Ωｃｍ以下の導電性を示すもの、例えばアルミニ
ウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、銀、金、白
金、鉄などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの酸
化物を、蒸着またはスパッタリングによりフィルム状も
しくは円筒状のプラスチック、紙等に被覆したもの、あ
るいはアルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ス
テンレスなどの板およびそれらをＤ．Ｉ．、Ｉ．Ｉ．、
押出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上
げ、研磨などで表面処理した管などを使用することがで
きる。

【００９４】本発明における感光層（２３）は、単層型
でも積層型でもよいが、ここでは説明の都合上、まず積
層型について述べる。はじめに、電荷発生層（３１）に
ついて説明する。電荷発生層（３１）は、電荷発生物質
を主成分とする層で、必要に応じてバインダー樹脂を用
いることもある。電荷発生物質としては、無機系材料と
有機系材料を用いることができる。無機系材料には、結
晶セレン、アモルファス・セレン、セレン−テルル、セ
レン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物や、アモ
ルファス・シリコン等が挙げられる。アモルファス・シ
リコンにおいては、ダングリングボンドを水素原子、ハ
ロゲン原子でターミネートしたものや、ホウ素原子、リ
ン原子等をドープしたものが良好に用いられる。

【００９５】一方、有機系材料としては、公知の材料を
用いることができる。例えば、金属フタロシアニン、無
金属フタロシアニンなどのフタロシアニン系顔料、アズ
レニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバ
ゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格
を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ
顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フル
オレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格
を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔
料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔
料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペ
リレン系顔料、アントラキノン系または多環キノン系顔
料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフ
ェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系
顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系
顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料などが挙げられ
る。これらの電荷発生物質は、単独または２種以上の混
合物として用いることができる。

【００９６】電荷発生層（３１）に必要に応じて用いら
れるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタ
ン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シ
リコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、
ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレ
ン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミ
ドなどが用いられる。これらのバインダー樹脂は、単独
または２種以上の混合物として用いることができる。ま
た、電荷発生層のバインダー樹脂として上述のバインダ
ー樹脂の他に、特開昭５０−８２０５６号公報、特開昭
５１−７３８８８号公報、特開昭５４−８５２７号公
報、特開昭５４−９６３２号公報、特開昭５４−１１７
３７号公報、特開昭５６−１５０７４９号公報、特開昭
５７−７８４０２号公報、特開昭６３−２８５５５２号
公報、特開平１−１３０６１号公報、特開平１−１９０
４９号公報、特開平１−１０５２６０号公報、特開平２
−１６７３３５号公報、特開平３−５０５５５号公報、
特開平４−１８３７１９号公報、特開平４−２２５０１
４号公報、特開平５−１９４９７号公報、特開平５−６
６５９８号公報、特開平５−４０３５０号公報、特開平
５−７０５９５号公報、特開平５−３３１２３８号公
報、特開平７−３２５４０９号公報、特開平９−１２７
７１３号公報、特開平９−２９７４１９号公報、特開平
９−８０７８３号公報、特開平９−８０７８４号公報、
特開平９−８０７７２号公報、特開平９−２２２７４０
号公報、特開平９−２６５１９７号公報、特開平９−２
６５２０１号公報、特開平９−２１１８７７号公報、特
開平９−３０４９５６号公報、特開平９−３０４９５７
号公報、特開平９−３２９９０７号公報等の高分子電荷
輸送物質が良好に用いられる。更に、必要に応じて低分
子電荷輸送物質を添加してもよい。

【００９７】電荷発生層（３１）に併用できる低分子電
荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがあ
る。電子輸送物質としては、例えばクロルアニル、ブロ
ムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジ
メタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、
２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、
２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８
−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ
−４Ｈ−インデノ［１，２−ｂ］チオフェン−４オン、
１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−
ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げられる。これ
らの電子輸送物質は、単独または２種以上の混合物とし
て用いることができる。正孔輸送物質としては、以下に
表わされる電子供与性物質が挙げられ、良好に用いられ
る。例えば、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘
導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導
体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリルアントラセ
ン）、１，１−ビス−（４−ジベンジルアミノフェニ
ル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾ
リン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン
誘導体、チアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェ
ナジン誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾフラン誘導
体、ベンズイミダゾール誘導体、チオフェン誘導体など
が挙げられる。これらの正孔輸送物質は、単独または２
種以上の混合物として用いることができる。

【００９８】電荷発生層（３１）を形成する方法には、
真空薄膜作製法と溶液分散系からのキャスティング法と
が大きく挙げられる。前者の方法には、真空蒸着法、グ
ロー放電重合法、イオンプレーティング法、スパッタリ
ング法、反応性スパッタリング法、ＣＶＤ法等が用いら
れ、上述した無機系材料、有機系材料が良好に形成でき
る。

【００９９】また、後述のキャスティング法によって電
荷発生層を設けるには、上述した無機系若しくは有機系
電荷発生物質を必要ならばバインダー樹脂と共にテトラ
ヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジクロ
ロエタン、ブタノン等の溶媒を用いてボールミル、ビー
ズミル、アトライター、サンドミル等により分散し、分
散液を適度に希釈して塗布することにより、形成でき
る。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコー
ト法などを用いて行なうことができる。以上のようにし
て設けられる電荷発生層の膜厚は、０．０１〜５μｍ程
度が適当であり、好ましくは０．０５〜２μｍである。

【０１００】次に、電荷輸送層（３３）について説明す
る。電荷輸送層（３３）は、重量平均分子量１００００
０以上、５０００００未満のトリアリールアミン構造を
分岐鎖に有するポリカーボネート樹脂からなる高分子電
荷輸送物質を主成分とする層であり、高分子電荷輸送物
質を適当な溶剤に溶解乃至分散し、これを塗布、乾燥す
ることにより形成できる。高分子電荷輸送物質はトリア
リールアミン構造を分岐鎖に有するポリカーボネート樹
脂を用いることができるが、前記（１）〜（６）式の高
分子電荷輸送物質が本発明の目的を達成するために特に
良好に使用される。また、必要により本発明の高分子電
荷輸送物質以外に適当なバインダー樹脂、その他の高分
子電荷輸送物質、低分子電荷輸送物質、可塑剤等を適量
添加することもできる。

【０１０１】電荷輸送層（３３）に併用できるバインダ
ー樹脂としては、ポリカーボネート（ビスフェノールＡ
タイプ、ビスフェノールＺタイプ）、ポリエステル、メ
タクリル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル、酢酸ビニ
ル、ポリスチレン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン、ポリ塩化ビニリデン、アルキッド樹脂、シ
リコン樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルホルマール、ポリアクリレート、ポ
リアクリルアミド、フェノキシ樹脂などが用いられる。
これらのバインダーは、単独又は２種以上の混合物とし
て用いることができ、その使用量は、本発明の高分子電
荷輸送物質１００重量部に対して０〜３０重量部程度が
適当である。

【０１０２】電荷輸送層（３３）に併用できるその他の
高分子電荷輸送物質、低分子電荷輸送物質は、電荷発生
層（３１）の説明に記載したものと同じものを用いるこ
とができ、その使用量は、本発明の高分子電荷輸送物質
１００重量部に対してそれぞれ０〜３０重量部程度が適
当である。

【０１０３】また、本発明において電荷輸送層（３３）
中に可塑剤を添加してもよい。可塑剤としては、ジブチ
ルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂の
可塑剤として使用されているものがそのまま使用でき、
その使用量は、本発明の高分子電荷輸送物質１００重量
部に対して０〜３０重量部程度が適当である。電荷輸送
層（３３）の膜厚は、５〜１００μｍ程度が適当であ
り、好ましくは、１０〜４０μｍ程度が適当である。

【０１０４】次に、感光層（２３）が単層構成の場合に
ついて述べる。キャスティング法で単層感光層を設ける
場合、多くは電荷発生物質と本発明の高分子電荷輸送物
質を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥
することにより形成できる。電荷発生物質ならびに本発
明の高分子電荷輸送物質には前出の材料を用いることが
できる。

【０１０５】また、必要により先に電荷輸送層（３３）
で挙げたバインダー樹脂、低分子電荷輸送物質、可塑剤
を添加することもできる。単層感光体の膜厚は、５〜１
００μｍ程度が適当であり、好ましくは、１０〜４０μ
ｍ程度が適当である。

【０１０６】本発明に用いられる電子写真感光体には、
導電性支持体（２１）と感光層（２３）（積層タイプの
場合には、電荷発生層（３１））との間に下引き層（２
５）を設けることができる。下引き層（２５）は、接着
性を向上する、モアレなどを防止する、上層の塗工性を
改良する、残留電位を低減するなどの目的で設けられ
る。下引き層（２５）は一般に樹脂を主成分とするが、
これらの樹脂はその上に感光層を溶剤を用いて塗布する
ことを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶解性の高
い樹脂であることが望ましい。このような樹脂として
は、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸
ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシ
メチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレ
タン、メラミン樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポ
キシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂など
が挙げられる。また、酸化チタン、シリカ、アルミナ、
酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示
できる金属酸化物、あるいは金属硫化物、金属窒化物な
どの微粉末を加えてもよい。これらの下引き層は、前述
の感光層の場合と同様、適当な溶媒、塗工法を用いて形
成することができる。

【０１０７】さらに、本発明の下引き層として、シラン
カップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップ
リング剤等を使用して、例えばゾル−ゲル法等により形
成した金属酸化物層も有用である。この他に、本発明の
下引き層にはＡｌ₂Ｏ₃を陽極酸化にて設けたものや、ポ
リパラキシリレン（パリレン）等の有機物や、ＳｉＯ、
ＳｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＩＴＯ、ＣｅＯ₂等の無機物を真空
薄膜作製法にて設けたものも良好に使用できる。下引き
層の膜厚は０〜５μｍが適当である。

【０１０８】また、本発明においては、耐環境性の改善
のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止す
る目的で、酸化防止剤を添加することができる。酸化防
止剤は、有機物を含む層ならばいずれに添加してもよい
が、電荷輸送物質を含む層に添加すると良好な結果が得
られる。本発明に用いることができる酸化防止剤とし
て、下記のものが挙げられる。

【０１０９】フェノール系化合物 ２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒ
ドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エ
チルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、
２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブ
チルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス−（４−
エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオ
ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
４，４’−ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔ−ブ
チルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル
−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、
１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼ
ン、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−
ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト］メタン、ビス［３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ
−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアッシド］グ
リコールエステル、トコフェノール類など。

【０１１０】パラフェニレンジアミン類 Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレ
ンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ
−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’
−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミンなど。

【０１１１】ハイドロキノン類 ２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジ
ドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノ
ン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ
−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オ
クタデセニル）−５−メチルハイドロキノンなど。

【０１１２】有機硫黄化合物類 ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステ
アリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジテトラデ
シル−３，３’−チオジプロピオネートなど。

【０１１３】有機燐化合物類 トリフェニルホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホス
フィン、トリ（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリク
レジルホスフィン、トリ（２，４−ジブチルフェノキ
シ）ホスフィンなど。

【０１１４】これら化合物は、ゴム、プラスチック、油
脂類などの酸化防止剤として知られており、市販品とし
て容易に入手できる。本発明における酸化防止剤の添加
量は、電荷輸送物質１００重量部に対して０．１〜３０
重量部である。

【０１１５】

【実施例】次に、実施例によって本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるもので
はない。尚、実施例中使用する部は、すべて重量部を表
わす。

【０１１６】実施例１ φ３０ｍｍのアルミニウムドラム上に、下記組成の下引
き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工
液を順次、塗布、乾燥することにより、３．５μｍの下
引き層、０．２μｍの電荷発生層、２５μｍの電荷輸送
層を形成して、本発明の電子写真感光体を得た。 （下引き層用塗工液） アルキッド樹脂 ６部 （ベッコゾール １３０７−６０−ＥＬ、大日本インキ化学工業製） メラミン樹脂 ４部 （スーパーベッカミン Ｇ−８２１−６０、大日本インキ化学工業製） 酸化チタン ４０部 メチルエチルケトン ２００部

【０１１７】 （電荷発生層用塗工液） オキソチタニウムフタロシアニン顔料 ２部 ポリビニルブチラール（ＵＣＣ：ＸＹＨＬ） ０．２部 テトラヒドロフラン ５０部

【０１１８】 （電荷輸送層用塗工液） 塩化メチレン ６０部 下記構造の高分子電荷輸送物質 １０部

【０１１９】

【化２９】

【０１２０】実施例２ 実施例１の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例１と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質：実施例１と同じ構造のトリアリールアミン 構造を分岐鎖に有するポリカーボネート樹脂 １０部 重量平均分子量：Ｍｗ＝１７５０００ 塩化メチレン ７０部

【０１２１】比較例１ 実施例１の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例１と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質：実施例１と同じ構造のトリアリールアミン 構造を分岐鎖に有するポリカーボネート樹脂 １０部 重量平均分子量：Ｍｗ＝７４０００ 塩化メチレン ４５部

【０１２２】比較例２ 実施例１の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例１と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質：実施例１と同じ構造のトリアリールアミン 構造を分岐鎖に有するポリカーボネート樹脂 １０部 重量平均分子量：Ｍｗ＝５５００００ 塩化メチレン １１５部

【０１２３】実施例３ 実施例１の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例１と全く同様にして感光体を作製した。 塩化メチレン ６０部 下記構造の高分子電荷輸送物質 １０部

【０１２４】

【化３０】

【０１２５】実施例４ 実施例１の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例１と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質：実施例３と同じ構造のトリアリールアミン 構造を分岐鎖に有するポリカーボネート樹脂 １０部 重量平均分子量：Ｍｗ＝１５３０００ 塩化メチレン ６５部

【０１２６】実施例５ 実施例１の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例１と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質：実施例３と同じ構造のトリアリールアミン 構造を分岐鎖に有するポリカーボネート樹脂 １０部 重量平均分子量：Ｍｗ＝１９７０００ 塩化メチレン ７５部

【０１２７】比較例３ 実施例１の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例１と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質：実施例３と同じ構造のトリアリールアミン 構造を分岐鎖に有するポリカーボネート樹脂 １０部 重量平均分子量：Ｍｗ＝６８０００ 塩化メチレン ４０部

【０１２８】比較例４ 実施例１の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例１と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質：実施例３と同じ構造のトリアリールアミン 構造を分岐鎖に有するポリカーボネート樹脂 １０部 重量平均分子量：Ｍｗ＝５４０００ 塩化メチレン ４０部

【０１２９】実施例６ 実施例１の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例１と全く同様にして感光体を作製した。 塩化メチレン ６５部 下記構造の高分子電荷輸送物質 １０部

【０１３０】

【化３１】

【０１３１】比較例５ 実施例１の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例１と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質：実施例６と同じ構造のトリアリールアミン 構造を分岐鎖に有するポリカーボネート樹脂 １０部 重量平均分子量：Ｍｗ＝７８０００ 塩化メチレン ５０部

【０１３２】実施例７ 実施例１の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例１と全く同様にして感光体を作製した。 塩化メチレン ６５部 下記構造の高分子電荷輸送物質 １０部

【０１３３】

【化３２】

【０１３４】比較例６ 実施例１の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例１と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質：実施例７と同じ構造のトリアリールアミン 構造を分岐鎖に有するポリカーボネート樹脂 １０部 重量平均分子量：Ｍｗ＝６２０００ 塩化メチレン ４０部

【０１３５】実施例８ 実施例１の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例１と全く同様にして感光体を作製した。 塩化メチレン ６５部 下記構造の高分子電荷輸送物質 １０部

【０１３６】

【化３３】

【０１３７】比較例７ 実施例１の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例１と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質：実施例８と同じ構造のトリアリールアミン 構造を分岐鎖に有するポリカーボネート樹脂 １０部 重量平均分子量：Ｍｗ＝７００００ 塩化メチレン ４５部

【０１３８】実施例９ 実施例１の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例１と全く同様にして感光体を作製した。 塩化メチレン ６５部 下記構造の高分子電荷輸送物質 １０部

【０１３９】

【化３４】

【０１４０】比較例８ 実施例１の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例１と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質：実施例９と同じ構造のトリアリールアミン 構造を分岐鎖に有するポリカーボネート樹脂 １０部 重量平均分子量：Ｍｗ＝５８０００ 塩化メチレン ４０部

【０１４１】実施例１０ 実施例１の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例１と全く同様にして感光体を作製した。 塩化メチレン ６０部 下記構造の高分子電荷輸送物質 １０部

【０１４２】

【化３５】

【０１４３】比較例９ 実施例１の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例１と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質：実施例１０と同じ構造のトリアリールアミン 構造を分岐鎖に有するポリカーボネート樹脂 １０部 重量平均分子量：Ｍｗ＝６５０００ 塩化メチレン ４０部

【０１４４】比較例１０ 実施例１における電荷輸送層用塗工液を以下のものに変
更した以外は、実施例１と全く同様に感光体を作製し
た。 （電荷輸送層用塗工液） ビスフェノールＡ型ポリカーボネート １０部 （帝人：パンライトＣ１４００） 塩化メチレン １００部 下記構造の低分子電荷輸送物質 １０部

【０１４５】

【化３６】

【０１４６】以上のように作製した実施例１〜１０およ
び比較例１〜１０の電子写真感光体を実装用にした後、
以下のようにして評価を行なった。 （実機ランニング特性評価方法）市販電子写真複写機イ
マジオＭＦ２００（株式会社リコー製）により、それぞ
れの感光体について５万枚の通紙試験を行なった。通紙
試験中および通紙試験後に感光体の画像品質特性、感光
層摩耗量の評価を適時行なった。 画像品質：ベタ濃度、細線再現性、異常画像等総合的に
評価 摩耗量：実機ランニングによる感光層膜厚減少量 評価結果を表１に示す。

【０１４７】

【表１】

【０１４８】実施例１１ 実施例１の高分子電荷輸送物質と同じ構造の７種類の重
量平均分子量のトリアリールアミン構造を分岐鎖に有す
るポリカーボネート樹脂について、接着層としてブチラ
ール樹脂（ＸＹＨＬ：ＵＣＣ社製）を０．３μｍ設けた
アルミ基板上に１５μｍの膜厚になるように塗布した。
このサンプルを用い、テーバー摩耗試験で膜の機械的強
度を測定した。テーバー摩耗試験は工業規格ＪＩＳ Ｋ
７２０４（１９９５）に準じて、テーバー摩耗試験機
（東洋精機社製）、摩耗輪ＣＳ−５を用い、荷重５００
ｇ、３０００回転にてサンプルの重量減少を膜削れ量と
して測定した。この結果を図４に示す。

【０１４９】表１より明らかなように、本発明の特許請
求の範囲を満たす実施例１〜１０の電子写真感光体は、
感光層の摩耗が少なく、高画質のハードコピーを長期間
安定して得られることがわかる。一方、比較例の重量平
均分子量１０００００以下の高分子電荷輸送物質を用い
た電子写真感光体は感光層の削れが激しく、異常画像が
発生した。また、重量平均分子量５０００００以上の高
分子電荷輸送物質を用いた電子写真感光体は感光層の表
面均一性が悪く、初期から異常画像が発生した。更に低
分子電荷輸送物質を高分子樹脂バインダーに分散させた
電子写真感光体では摩耗が非常に大きく、画像特性が短
期間で大きく劣化した。図４よりトリアリールアミン構
造を分岐鎖に有するポリカーボネート樹脂からなる膜の
テーバー摩耗量は、重量平均分子量１０００００以上で
ほぼ一定で、１０００００を境にして急激に増加する。
このことより、膜の機械的強度として重量平均分子量１
０００００以上が必要なことが明らかである。

【０１５０】したがって、本発明の導電性支持体上に感
光層としてトリアリールアミン構造を分岐鎖に有するポ
リカーボネート樹脂からなる高分子電荷輸送物質を含有
させ、且つこのトリアリールアミン構造を分岐鎖に有す
るポリカーボネート樹脂の重量平均分子量が１００００
０以上、５０００００未満のものを用いることにより、
耐摩耗性に優れた長寿命、高信頼性を高いレベルで達成
する電子写真感光体を提供でき、また感光体製造工程に
おいて感光層膜厚の均一性、表面の均一性に優れた欠陥
のない電子写真感光体を歩留まりよく提供することが可
能となる。

【０１５１】

【発明の効果】以上、詳細かつ具体的な説明をしたよう
に、本発明により耐摩耗性に優れた長寿命、高信頼性の
電子写真感光体を歩留まりよく得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の電子写真感光体の構成を示す断面図。

【図２】本発明の電子写真感光体の別の構成を示す断面
図。

【図３】本発明の電子写真感光体の更に別の構成を示す
断面図。

【図４】テーバー摩耗試験による重量平均分子量と摩耗
量の関係図。

【符号の説明】

２１ 導電性支持体 ２３ 感光層 ２５ 下引き層 ３１ 電荷発生層 ３３ 電荷輸送層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 紙 英利 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 永目 宏 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 左近 洋太 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 栗本 鋭司 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 小島 成人 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 生野 弘 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性支持体上に高分子電荷輸送物質を
   含む感光層を設けた電子写真感光体において、この電荷
   輸送物質がトリアリールアミン構造を分岐鎖に有するポ
   リカーボネート樹脂からなり、重量平均分子量が１００
   ０００以上、５０００００未満であることを特徴とする
   電子写真感光体。
2. 【請求項２】 上記、高分子電荷輸送物質が下記（１）
   式で表わされるトリアリールアミン構造を分岐鎖に有す
   るポリカーボネート樹脂であることを特徴とする請求項
   １に記載の電子写真感光体。 【化１】 式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃はそれぞれ独立して置換若しくは
   無置換のアルキル基又はハロゲン原子、Ｒ₄は水素原子
   又は置換若しくは無置換のアルキル基、Ｒ₅、Ｒ₆は置換
   若しくは無置換のアリール基、ｏ、ｐ、ｑはそれぞれ独
   立して０〜４の整数、ｋ、ｊは組成を表わし、０．１≦
   ｋ≦１、０≦ｊ≦０．９、ｎは繰り返し単位数を表わし
   ５〜５０００の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、環状
   脂肪族の２価基、又は下記一般式で表わされる２価基を
   表わす。 【化２】 式中、Ｒ₁₀₁、Ｒ₁₀₂は各々独立して置換若しくは無置換
   のアルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表わす。
   ｌ、ｍは０〜４の整数、Ｙは単結合、炭素原子数１〜１
   ２の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基、−Ｏ
   −、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−ＣＯ
   −Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の２価基を表わ
   す。）または、 【化３】 （式中、ａは１〜２０の整数、ｂは１〜２０００の整
   数、Ｒ₁₀₃、Ｒ₁₀₄は置換又は無置換のアルキル基又はア
   リール基を表わす。）を表わす。ここで、Ｒ₁₀₁と
   Ｒ₁₀₂、Ｒ₁₀₃とＲ₁₀₄は、それぞれ同一でも異なっても
   よい。
3. 【請求項３】 上記、高分子電荷輸送物質が下記（２）
   式で表わされるトリアリールアミン構造を分岐鎖に有す
   るポリカーボネート樹脂であることを特徴とする請求項
   １に記載の電子写真感光体。 【化４】 式中、Ｒ₇、Ｒ₈は置換若しくは無置換のアリール基、Ａ
   ｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ₃は同一又は異なるアリレン基を表わ
   す。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、上記（１）式の場合と同じで
   ある。
4. 【請求項４】 上記、高分子電荷輸送物質が下記（３）
   式で表わされるトリアリールアミン構造を分岐鎖に有す
   るポリカーボネート樹脂であることを特徴とする請求項
   １に記載の電子写真感光体。 【化５】 式中、Ｒ₉、Ｒ₁₀は置換若しくは無置換のアリール基、
   Ａｒ₄、Ａｒ₅、Ａｒ₆は同一又は異なるアリレン基を表
   わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、上記（１）式の場合と同じ
   である。
5. 【請求項５】 上記、高分子電荷輸送物質が下記（４）
   式で表わされるトリアリールアミン構造を分岐鎖に有す
   るポリカーボネート樹脂であることを特徴とする請求項
   １に記載の電子写真感光体。 【化６】 式中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂は置換若しくは無置換のアリール基、
   Ａｒ₇、Ａｒ₈、Ａｒ₉は同一又は異なるアリレン基、ｐ
   は１〜５の整数を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、上記
   （１）式の場合と同じである。
6. 【請求項６】 上記、高分子電荷輸送物質が下記（５）
   式で表わされるトリアリールアミン構造を分岐鎖に有す
   るポリカーボネート樹脂であることを特徴とする請求項
   １に記載の電子写真感光体。 【化７】 式中、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈は置換若しくは無置換の
   アリール基、Ａｒ₁₃、Ａｒ₁₄、Ａｒ₁₅、Ａｒ₁₆は同一又
   は異なるアリレン基、Ｙ₁、Ｙ₂、Ｙ₃は単結合、置換若
   しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のシ
   クロアルキレン基、置換若しくは無置換のアルキレンエ
   ーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わし同
   一であっても異なってもよい。Ｘ、ｋ、ｊ及びｎは、上
   記（１）式の場合と同じである。
7. 【請求項７】 上記、高分子電荷輸送物質が下記（６）
   式で表わされるトリアリールアミン構造を分岐鎖に有す
   るポリカーボネート樹脂であることを特徴とする請求項
   １に記載の電子写真感光体。 【化８】 式中、Ｒ₂₂、Ｒ₂₃、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は置換若しくは無置換の
   アリール基、Ａｒ₂₄、Ａｒ₂₅、Ａｒ₂₆、Ａｒ₂₇、Ａｒ₂₈
   は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ及び
   ｎは、上記（１）式の場合と同じである。
8. 【請求項８】 上記、感光層が、導電性支持体上に少な
   くとも電荷発生層と高分子電荷輸送物質を含有する電荷
   輸送層を順次積層した積層型感光体であることを特徴と
   する請求項１記載の電子写真感光体。