JPH11258843A - 電子写真用感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 高感度、高画質で耐久性に非常に優れた電子
写真感光体を提供する。 【解決手段】 導電性基体より最も離れた表面側から少
なくとも１層に、下記一般式１の高分子電荷輸送物質及
びフッ素オイルからなる潤滑剤を含有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真複写機、
ファクシミリ、レーザープリンタ、ダイレクトデジタル
製版機等の電子写真プロセスに用いられる電子写真用感
光体に関するものであり、さらに詳しくは高感度、高画
質で、耐久性に非常に優れた電子写真感光体に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】複写機、ファクシミリ、レーザープリン
タ、ダイレクトデジタル製版機等に応用されている電子
写真用感光体を用いた電子写真方法とは、少なくとも電
子写真用感光体に一次帯電、画像露光、現像の過程を経
た後、画像保持体（転写紙）へのトナー画像の転写、定
着及び電子写真用感光体表面のクリーニングというプロ
セスよりなる方法である。

【０００３】電子写真用感光体が、この電子写真法にお
いて要求される基本的な特性としては、 暗所で適当な電位に帯電できること 暗所に於いて電荷の散逸が少ないこと 光照射によって速やかに電荷を散逸できること 等が挙げられる。

【０００４】更にこれらの特性以外に画質特性等の長期
信頼性や低公害性、コストの低さ等も要求される。従
来、電子写真方式に於いて使用される感光体としては導
電性支持体上にセレンないしセレン合金を主体とする光
導電層を設けたもの、酸化亜鉛・硫化カドミウム等の無
機系光導電材料をバインダー中に分散させたもの、及び
非晶質シリコン系材料を用いたもの等が一般的に知られ
ているが、近年ではコストの低さ、感光体設計の自由度
の高さ、無公害性等から有機系感光体が広く利用される
ようになってきている。

【０００５】有機系の電子写真感光体には、ポリビニル
カルバゾール（ＰＶＫ）に代表される光導電性樹脂、Ｐ
ＶＫ−ＴＮＦ（２，４，７−トリニトロフルオレノン）
に代表される電荷移動錯体型、フタロシアニン−バイン
ダーに代表される顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送
物質とを組み合わせて用いる機能分離型の感光体などが
知られており、特に機能分離型の感光体が注目されてい
る。

【０００６】この機能分離型の感光体における静電潜像
形成のメカニズムは、感光体を帯電した後光照射する
と、光は透明な電荷輸送層を通過し、電荷発生層中の電
荷発生物質により吸収され、光を吸収した電荷発生物質
は電荷担体を発生し、この電荷担体は電荷輸送層に注入
され、帯電によって生じている電界にしたがって電荷輸
送層中を移動し、感光体表面の電荷を中和することによ
り静電潜像を形成するものである。機能分離型感光体に
おいては、主に紫外部に吸収を持つ電荷輸送物質と、主
に可視部に吸収を持つ電荷発生物質とを組み合わせて用
いることが知られており、かつ有用である。

【０００７】ところが、電子写真方法に用いられる有機
系電子写真用感光体の電荷輸送物質は多くが低分子化合
物として開発されているが、低分子化合物は単独で製膜
性がないため、通常、不活性高分子に分散・混合して用
いられる。しかるに、低分子電荷輸送物質と不活性高分
子からなる電荷輸送層は一般に柔らかく、電子写真プロ
セスにおいて繰り返し使用された場合に現像システムや
クリーニングシステムによる機械的な感光体表面への負
荷により膜削れを生じやすいという耐摩耗性の低さが短
所として挙げられる。

【０００８】更に、この構成の電荷輸送層は電荷移動度
に限界があり、電子写真プロセスの高速化あるいは小型
化の障害となっていた。これは通常低分子電荷輸送物質
の含有量が５０重量％以下で使用されることに起因して
いる。即ち低分子電荷輸送物質の含有量を増すことで確
かに電荷移動度は上げられるが、このとき逆に製膜性や
耐摩耗性が劣化するためである。

【０００９】この有機系感光体の特性を改善する技術と
して有機系感光体のバインダー樹脂を改良したもの（特
開平５−２１６２５０公報）や高分子型の電荷輸送物質
（特開昭５１−７３８８８号公報、特開昭５４−８５２
７号公報、特開昭５４−１１７３７号公報、特開昭５６
−１５０７４９号公報、特開昭５７−７８４０２号公
報、特開昭６３−２８５５５２号公報、特開平１−１７
２８号公報、特開平１−１９０４９号公報、特開平３−
５０５５５号公報、特開平４−２２５０１４公報、特開
平５−３３１２３８公報等）が注目され開示されてい
る。

【００１０】また、電子写真用感光体は機械的な耐久性
以外に、コロナ放電等の各種帯電システムから発生する
オゾンやＮＯｘと大気中水分等が複合的に反応すること
によって発生する低抵抗物質の付着や、トナーのフィル
ミング等により画質劣化が引き起こされるという問題を
抱えている。したがって、感光体にはこれらの物質が付
着しにくい特性も要求されている。

【００１１】有機系感光体における本特性を改善する技
術として、電荷輸送層を含む最表面層に種々の潤滑効果
を有する添加剤を含有させる方法（特開昭５７−３５８
６３号公報、特開昭６２−７５６４１号公報、特開昭６
３−６１２５６号公報、特開昭６３−７３２６７号公
報、特開昭６４−３５４４８号公報、特開平２−１８９
５５０号公報）等が開示されている。

【００１２】しかしながら、これらの感光体は耐摩耗性
の不十分な電荷輸送層中に潤滑剤が含有されているた
め、初期的には各種物質の付着抑制に効果が認められる
ものの、その長期持続性に関しては未だ不十分である。
この様に、これまでの電子写真用感光体は、電子写真エ
ンジンが近年要求されている高性能、長寿命、高信頼性
を高いレベルで達成するためには不十分であり、改良が
強く望まれている。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、この高性
能、長寿命、高信頼性を高いレベルで達成する有機系電
子写真用感光体を提供することであり、特に画質再現
性、耐摩耗性に優れ、耐久性及び光感度に優れた有機系
電子写真用感光体を提供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明者らはこれら有機
系感光体表面の潤滑性が長期間持続しない問題を解析し
た結果、有機系感光体の結着樹脂マトリクスの各種潤滑
剤に対する拘束力が、有機系感光体中に低分子量成分
（電荷移動剤）が多量に、例えば電荷輸送層中に４０〜
７０ｗｔ％程度も含有されていることにより小さく、電
子写真プロセスにおける現像システムやクリーニングシ
ステム等の機械的ハザードにより、感光層表面の摩耗と
ともに各種潤滑剤も有機系感光体系外へ消失してしまう
ためと判明した。

【００１５】さらに、電子写真用感光体が要求される光
感度、耐摩耗性も同時に実現させるための手段を鋭意検
討した結果、電子写真用感光体を、導電性支持体から最
も離れた表面側から、少なくとも１層中に特定の構造を
有する高分子電荷輸送物質及び潤滑剤を含有した電子写
真用感光体とすることにより上記目的を達成できること
が明らかになった。

【００１６】これは有様系感光層最表面側から少なくと
も１層に特定の構造を有する高分子電荷輸送物質を含有
する構成とすると、電子写真プロセスにおける現像シス
テムやクリーニングシステム等の機械的ハザードを受け
ても電界移動成分が高分子マトリクス中に化学結合によ
り固定されているため摩耗に非常に強く、また各種潤滑
剤に対する拘束力も従来の低分子電荷輸送材の樹脂分散
型感光体と比較した場合より強く、その効果を長期的に
持続することが出来るためである。

【００１７】更に、感光体の光感度も高分子電荷輸送物
質を本発明の特定の構造とすることにより、非常に良好
な物が得られ、各種電子写真方式画像形成装置を設計す
る上で大きなメリットが得られることも判明した。以下
図面に沿って本発明で用いられる電子写真感光体を説明
する。

【００１８】図１は、本発明において用いられる電子写
真感光体の断面図であり、導電性支持体２１上に、感光
層２３が形成されたものである。図２は、別の構成を示
す断面図であり、導電性支持体２１上に、電荷発生層３
１と電荷輸送層３３からなる感光層２３が形成されたも
のである。図３は、更に別の構成を示す断面図であり、
導電性支持体２１と感光層２３との間に下引き層２５が
形成されたものである。次に、本発明に用いられる高分
子電荷輸送物質について述べる。

【００１９】本発明に用いられる高分子電荷輸送物質と
して、下記一般式１〜１０で表される高分子電荷輸送物
質が有効に用いられる。一般式１〜１０で表される高分
子電荷輸送物質を以下に例示し、具体例を示す。

【００２０】（一般式１）

【００２１】

【化１３】

【００２２】式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃はそれぞれ独立して
置換もしくは無置換のアルキル基又はハロゲン原子、Ｒ
₄は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基、
Ｒ₅，Ｒ ₆は置換もしくは無置換のアリール基、ｏ，ｐ，
ｑはそれぞれ独立して０〜４の整数、ｋ，ｊは組成を表
し、０．１≦ｋ≦１、０≦ｊ≦０．９、ｎは繰り返し単
位数を表し５〜５０００の整数である。Ｘは脂肪族の２
価基、環状脂肪族の２価基、または下記一般式で表され
る２価基を表す。

【００２３】

【化１４】

【００２４】式中、Ｒ₁₀₁，Ｒ₁₀₂は各々独立して置換も
しくは無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン
原子を表す。１，ｍは０〜４の整数、Ｙは単結合、炭素
原子数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
レン基、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＳＯ−，−ＳＯ₂−，−Ｃ
Ｏ−，−ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の
２価基を表す。）または、

【００２５】

【化１５】

【００２６】（式中、ａは１〜２０の整数、ｂは１〜２
０００の整数、Ｒ₁₀₃，Ｒ₁₀₄は置換または無置換のアル
キル基又はアリール基を表す。）を表す。ここで、Ｒ
₁₀₁とＲ₁₀₂，Ｒ₁₀₃とＲ₁₀₄は、それぞれ同一でも異なっ
てもよい。

【００２７】一般式１の具体例 Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃はそれぞれ独立して置換もしくは無置換
のアルキル基又はハロゲン原子を表すが、その具体例と
しては以下のものを挙げることができ、同−であっても
異なってもよい。

【００２８】アルキル基として好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₁₂
とりわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ₄の直鎖ま
たは分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基は
さらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアル
コキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ₁〜Ｃ₄の
アルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基で置換され
たフェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−
ブチル基、Ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル
基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、
２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メト
キシエチル基、ベンジル基、４−クロロペンジル基、４
−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フ
ェニルベンジル基等が挙げられる。ハロゲン原子として
は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙
げられる。

【００２９】Ｒ₄は水素原子又は置換もしくは無置換の
アルキル基を表すがそのアルキル基の具体例としては上
記のＲ₁，Ｒ₂，Ｒ₃と同様のものが挙げられる。Ｒ₅，Ｒ
₆は置換もしくは無置換のアリール基を表すが、その具
体例としては以下のものを挙げることができ、同一であ
っても異なってもよい。

【００３０】芳香族炭化水素基としては、フェニル基、
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオ
レニル基、９，９−ジメチルー２−フルオレニル基、ア
ズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリ
セニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジペン
ゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合
多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが
挙げられる。複素環基としては、チエニル基、ペンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。

【００３１】上述のアリール基は以下に示す基を置換基
として有してもよい。 （１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 （２）アルキル基としては、上記のＲ₁，Ｒ₂，Ｒ₃と同
様のものが挙げられる。

【００３２】（３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₀₅）として
は、Ｒ₁₀₅は（２）で定義したアルキル基を表わす。具
体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ
基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシ
エトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ
基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキ
シ基等が挙げられる。

【００３３】（４）アリールオキシ基としては、アリー
ル基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これ
は、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基ま
たはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体
的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナ
フチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキ
シフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル
−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。

【００３４】（５）置換メルカプト基またはアリールメ
ルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチル
チオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等
が挙げられる。 （６）アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は
（２）で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プ
ロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げ
られる。 （７）アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等
が挙げられる。

【００３５】Ｘは下記一般式（Ａ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ａ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。

【００３６】

【化１６】

【００３７】一般式（Ｂ）のジオール化合物の具体例と
しては以下のものが挙げられる。１，３−プロパンジオ
ール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオ
ール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジ
オール、１，１０−デカンジオール、２−メチル−１，
３−プロパンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プ
ロパンジオール、２−エチル−１，３−プロパンジオー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレンエーテル
グリコール等の脂肪族ジオールや１，４−シクロヘキサ
ンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、シクロ
ヘキサン−１，４−ジメタノール等の環状脂肪族ジオー
ルが挙げられる。

【００３８】また、芳香環を有するジオールとしては、
４，４’−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−１−フェニルエタン、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、２，
２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジメチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス
（３，５−ジプロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’
−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、３，３’−ジメ
チル−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフイド、
４，４’−ジヒドロキシジフェニルオキシド、２，２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロブロバ
ン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレ
ン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）キサンテ
ン、エチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾ
エート）、ジエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキ
シペンゾエ−ト）、トリエチレングリコール−ビス（４
−ヒドロキシベンゾエート）１，３−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−テトラメチルジシロキサン、フェノー
ル変性シリコーンオイル等が挙げられる。

【００３９】（一般式２）

【００４０】

【化１７】

【００４１】式中、Ｒ₇，Ｒ₈は置換もしくは無置換のア
リール基、Ａｒ₁，Ａｒ₂，Ａｒ₃は同一又は異なるアリ
レン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合
と同じである。

【００４２】一般式２の具体例 Ｒ₇，Ｒ₈は置換もしくは無置換のアリール基を表すが、
その具体例としては以下のものを挙げることができ、同
一であっても異なってもよい。芳香族炭化水素基として
は、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニ
ル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フ
ルオレニル基、アズレニル基、アントリル基・トリフェ
ニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル
基、５Ｈ−ジペンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテニリデンフ
ェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフ
ェニリル基、または、

【００４３】

【化１８】

【００４４】ここで、Ｗは−Ｏ−，−ＳＯ−，−ＳＯ₂
−，−ＣＯ−及び以下の２価基を表す。

【００４５】

【化１９】

【００４６】で表される。複素環基としては、チエニル
基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、
カルバゾリル基などが挙げられる。

【００４７】また、Ａｒ₁，Ａｒ₂およびＡｒ₃で示され
るアリレン基としてはＲ₇およびＲ₈で示したアリール基
の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換
基として有してもよい。また、これら置環基は上記一般
式中のＲ₁₀₆、Ｒ₁₀₇、Ｒ₁₀₈の具体例として表される。

【００４８】（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、ニトロ基。 （２）アルキル基としては、好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₁₂と
りわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ₄の直鎖また
は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさ
らにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコ
キシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ₁〜Ｃ₄のア
ルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基で置換された
フェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチ
ル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ト
リフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シ
アノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエ
チル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチ
ルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニル
ベンジル基等が挙げられる。

【００４９】（３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₀₉）として
は、Ｒ₁₀₉は（２）で定義したアルキル基を表わす。具
体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ
基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシ
エトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ
基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキ
シ基等が挙げられる。

【００５０】（４）アリールオキシ基としては、アリー
ル基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる．これ
はＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基また
はハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的
には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフ
チルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシ
フェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−
２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。

【００５１】（５）置換メルカプト基またはアリールメ
ルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチル
チオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等
が挙げられる。

【００５２】（６）

【００５３】

【化２０】

【００５４】式中、Ｒ₁₁₀及びＲ₁₁₁は各々独立に（２）
で定義したアルキル基またはアリール基を表し、アリー
ル基としては例えばフェニル基、ビフェニル基、または
ナフチル基が挙げられ、これらはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ
基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基またはハロゲン原子を置換基
として含有しても良い。またアリール基上の炭素原子と
共同で環を形成しても良い。具体的には、ジエチルアミ
ノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ
フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｐ−トリル）アミノ
基、ジベンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ
基、ユロリジル基等が挙げられる。 （７）メチレンジオキシ基、またはメチレンジチオ基等
のアルキレンジオキシ基またはアルキレンジチオ基等が
挙げられる。

【００５５】Ｘは下記一般式（Ｃ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ｃ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。

【００５６】

【化２１】

【００５７】一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１
と同じものが挙げられる。

【００５８】（一般式３）

【００５９】

【化２２】

【００６０】式中、Ｒ₉，Ｒ₁₀は置換もしくは無置換の
アリール基、Ａｒ₄，Ａｒ₅，Ａｒ₆は同一又は異なるア
リレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場
合と同じである。

【００６１】一般式３の具体例 Ｒ₉，Ｒ₁₀は置換もしくは無置換のアリール基を表す
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。芳香族炭化水素基
としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、
ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−
２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、ト
リフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフ
ェニル基、５Ｈ−ジペンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテニリ
デンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、
ターフェニリル基などが挙げられる。

【００６２】複素環基としては、チエニル基、ペンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。また、Ａｒ₄，Ａｒ₅、およびＡｒ
₆で示されるアリレン基としてはＲ₉およびＲ₁₀で示した
アリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なっ
てもよい。上述のアリール基及びアリレン基は以下に示
す基を置換基として有してもよい。

【００６３】（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、ニトロ基。 （２）アルキル基としては、好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₁₂と
りわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ₄の直鎖また
は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさ
らにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコ
キシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ₁〜Ｃ₄のア
ルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基で置換された
フェニル基を含有しても良い、具体的には、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−プチ
ル基、ｓ−プチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ト
リフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シ
アノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエ
チル基、ペンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチ
ルペンジル基、４−メトキシペンジル基、４−フェニル
ベンジル基等が挙げられる。

【００６４】（３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₁₂）として
は、Ｒ₁₁₂は（２）で定義したアルキル基を表わす。具
体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ
基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシ
エトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ
基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキ
シ基等が挙げられる。

【００６５】（４）アリールオキシ基としては、アリー
ル基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これ
は、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基ま
たはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体
的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナ
フチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキ
シフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル
−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。

【００６６】（５）置換メルカプト基またはアリールメ
ルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチル
チオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等
が挙げられる。 （６）アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は
（２）で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プ
ロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げ
られる。

【００６７】（７）アシル基；具体的にはアセチル基、
プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル
基等が挙げられる。

【００６８】Ｘは下記一般式（Ｄ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ｄ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。

【００６９】

【化２３】

【００７０】一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１
と同じものが挙げられる。 一般式４

【００７１】

【化２４】

【００７２】式中、Ｒ₁₁，Ｒ₁₂は置換もしくは無置換の
アリール基、Ａｒ₇、Ａｒ₈、Ａｒ₉は同一又は異なるア
リレン基、ｓは１〜５の整数を表す。Ｘ，ｋ、ｊおよび
ｎは、一般式１の場合と同じである。

【００７３】一般式４の具体例 Ｒ₁₁，Ｒ₁₂は置換もしくは無置換のアリール基を表す
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。芳香族炭化水素基
としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、
ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−
２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、ト
リフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフ
ェニル基、５Ｈ−ジベンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテニリ
デンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、
ターフェニリル基などが挙げられる。

【００７４】複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ペンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。また、Ａｒ₇，Ａｒ₈およびＡｒ₉
で示されるアリレン基としてはＲ₁₁およびＲ_{1 2}で示した
アリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なっ
てもよい。上述のアリール基及びアリレン基は以下に示
す基を置換基として有してもよい。

【００７５】（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、ニトロ基。 （２）アルキル基としては、好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₁₂と
りわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ₄の直鎖また
は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさ
らにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコ
キシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ₁〜Ｃ₄のア
ルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基で置換された
フェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチ
ル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ト
リフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シ
アノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエ
チル基、ベンジル基、４−クロロペンジル基、４−メチ
ルペンジル基、４−メトキシペンジル基、４−フェニル
ペンジル基等が挙げられる。

【００７６】（３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₁₃）として
は、Ｒ₁₁₃は（２）で定義したアルキル基を表わす。具
体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ
基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシ
エトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ
基、４−メチルペンジルオキシ基、トリフルオロメトキ
シ基等が挙げられる。

【００７７】（４）アリールオキシ基としては、アリー
ル基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これ
は、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基ま
たはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体
的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナ
フチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキ
シフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル
−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。

【００７８】（５）置換メルカブト基またはアリールメ
ルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチル
チオ基、フェニルチオ基、Ｐ−メチルフェニルチオ基等
が挙げられる。 （６）アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は
（２）で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プ
ロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げ
られる。

【００７９】（７）アシル基としては、具体的にはアセ
チル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベ
ンゾイル基等が挙げられる。

【００８０】Ｘは下記一般式（Ｅ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ｅ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。

【００８１】

【化２５】

【００８２】一般式（Ｂ）のジオール化合物は−般式１
と同じものが挙げられる。 一般式５

【００８３】

【化２６】

【００８４】式中、Ｒ₁₃，Ｒ₁₄は置換もしくは無置換の
アリール基、Ａｒ₁₀、Ａｒ₁₁，Ａｒ₁₂は同一又は異なる
アリレン基、Ｘ₁，Ｘ₂は置換もしくは無置換のエチレン
基、又は置換もしくは無置換のビニレン基を表す。Ｘ，
ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。

【００８５】一般式５の具体例 Ｒ₁₃，Ｒ₁₄は置換もしくは無置換のアリール基を表す
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。芳香族炭化水素基
としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、
ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−
２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、ト
リフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフ
ェニル基、５Ｈ−ジペンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテニリ
デンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、
ターフェニリル基などが挙げられる。

【００８６】複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。また、Ａｒ₁₀，Ａｒ₁₁およびＡｒ
₁₂で示されるアリレン基としてはＲ₁₃およびＲ₁₄で示し
たアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異な
ってもよい。上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。

【００８７】（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、ニトロ基。 （２）アルキル基としては、好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₁₂と
りわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ₄の直鎖また
は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさ
らにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコ
キシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ₁〜Ｃ₄のア
ルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基で置換された
フェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチ
ル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ト
リフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シ
アノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエ
チル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチ
ルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニル
ベンジル基等が挙げられる。

【００８８】（３）アルコキシ基（一ＯＲ₁₁₄）として
は、Ｒ₁₁₄は（２）で定義したアルキル基を表わす。具
体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ
基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシ
エトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ
基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキ
シ基等が挙げられる。

【００８９】（４）アリールオキシ基としては、アリー
ル基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これ
は、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基ま
たはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体
的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナ
フチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキ
シフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル
ー２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。

【００９０】（５）置換メルカプト基またはアリールメ
ルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチル
チオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等
が挙げられる。 （６）アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は
（２）で定義したアルキル基を表す。具体的には。ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プ
ロピルアミノ基。Ｎ，Ｎ−ジペンジルアミノ基等が挙げ
られる。

【００９１】（７）アシル基としては、具体的にはアセ
チル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基。ペ
ンゾイル基等が挙げられる。Ｘ₁，Ｘ₂は置換もしくは無
置換のエチレン基、置換もしくは無置換のビニレン基を
表し。この置換基としては、シアノ基、ハロゲン原子、
ニトロ基、上記Ｒ₁₃,R₁₄のアリール基、上記（２）のア
ルキル基が挙げられる。

【００９２】Ｘは下記一般式（Ｆ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ｆ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。

【００９３】

【化２７】

【００９４】一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１
と同じものが挙げられる。 一般式６

【００９５】

【化２８】

【００９６】式中、Ｒ₁₅，Ｒ₁₆，Ｒ₁₇，Ｒ₁₈は置換もし
くは無置換のアリール基、Ａｒ₁₃，Ａｒ₁₄，Ａｒ₁₅，Ａ
ｒ₁₆は同一又は異なるアリレン基、Ｙ₁，Ｙ₂，Ｙ₃は単
結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしく
は無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換の
アルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン
基を表し同一であっても異なってもよい。Ｘ，ｋ，ｊお
よびｎは、一般式１の場合と同じである。

【００９７】一般式６の具体例 Ｒ₁₅，Ｒ₁₆，Ｒ₁₇，Ｒ₁₈は置換もしくは無置換のアリー
ル基を表すが。その具体例としては以下のものを挙げる
ことができ、同一であっても異なってもよい。芳香族炭
化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフ
チル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジ
メチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリ
ル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニ
リデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘ
プテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニ
リル基、ターフェニリル基などが挙げられる。複素環基
としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、
ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。

【００９８】また、Ａｒ₁₃，Ａｒ₁₄，Ａｒ₁₅およびＡｒ
₁₆で示されるアリレン基としては、Ｒ₁₅，Ｒ₁₆，Ｒ₁₇お
よびＲ₁₈で示した上記のアリール基の２価基が挙げら
れ、同一であっても異なってもよい。上述のアリール基
及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有しても
よい。

【００９９】（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、ニトロ基。 （２）アルキル基としては、好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₁₂と
りわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ₄の直鎖また
は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさ
らにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコ
キシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ₁〜Ｃ₄のア
ルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基で置換された
フェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチ
ル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ト
リフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シ
アノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエ
チル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチ
ルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニル
ベンジル基等が挙げられる。

【０１００】（３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₁₅）として
は、Ｒ₁₁₅は（２）で定義したアルキル基を表わす。具
体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ
基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシ
エトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ
基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキ
シ基等が挙げられる。

【０１０１】（４）アリールオキシ基としては、アリー
ル基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これ
は。Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基ま
たはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体
的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナ
フチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキ
シフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル
−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。

【０１０２】Ｙ₁，Ｙ₂，Ｙ₃は単結合、置換もしくは無
置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアル
キレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル
基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表し同一であっ
ても異なってもよい。アルキレン基としては、上記
（２）で示したアルキル基より誘導される２価基を表
す。具体的には、メチレン基、エチレン基、１，３−プ
ロピレン基、１，４−ブチレン基、２−メチル−１，３
−プロピレン基、ジフルオロメチレン基、ヒドロキシエ
チレン基、シアノエチレン基、メトキシエチレン基、フ
ェニルメチレン基、４−メチルフェニルメチレン基、
２，２−プロピレン基、２，２−ブチレン基、ジフェニ
ルメチレン基等を挙げることができる。

【０１０３】シクロアルキレン基としては、１，１−シ
クロペンチレン基、１，１−シクロヘキシレン基、１，
１−シクロオクチレン基等を挙げることができる。アル
キレンエーテル基としては、ジメテレンエーテル基、ジ
エチレンエーテル基、エチレンメチレンエーテル基、ビ
ス（トリエチレン）エーテル基、ポリテトラメチレンエ
ーテル基等が挙げられる。

【０１０４】Ｘは下記一般式（Ｇ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ｇ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。

【０１０５】

【化２９】

【０１０６】一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１
と同じものが挙げられる。 一般式７

【０１０７】

【化３０】

【０１０８】式中、Ｒ₁₉，Ｒ₂₀は水素原子、置換もしく
は無置換のアリール基を表し、Ｒ₁₉とＲ₂₀は環を形成し
ていてもよい。Ａｒ₁₇，Ａｒ₁₈，Ａｒ₁₉は同一又は異な
るアリレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、−般式１
の場合と同じである。

【０１０９】一般式７の具体例 Ｒ₁₉，Ｒ₂₀は置換もしくは無置換のアリール基を表す
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同−であっても異なってもよい。芳書族炭化水素基
としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、
ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−
２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、ト
リフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフ
ェニル基、５Ｈ−ジベンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテニリ
デンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、
ターフェニリル基などが挙げられる。

【０１１０】複素環基としては、チエニル基、ペンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。また、Ｒ₁₉，Ｒ₂₀は環を形成する
場合、９−フルオリニリデン、５Ｈ−ジベンゾ〔ａ，
ｄ〕シクロヘブテニリデンなどが挙げられる。また、Ａ
ｒ₁₇，Ａｒ₁₈およびＡｒ₁₉で示されるアリレン基として
はＲ₁₉およびＲ₂₀で示したアリール基の２価基が挙げら
れ、同一であっても異なってもよい。上述のアリール基
及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有しても
よい。

【０１１１】（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、ニトロ基。 （２）アルキル基としては、好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₁₂と
りわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ₄の直鎖また
は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさ
らにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコ
キシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ₁〜Ｃ₄のア
ルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基で置換された
フェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチ
ル基、Ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ト
リフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シ
アノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエ
チル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチ
ルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニル
ベンジル基等が挙げられる。

【０１１２】（３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₁₆）として
は、Ｒ₁₁₆は（２）で定義したアルキル基を表わす。具
体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ
基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシ
エトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ
基、４−メチルペンジルオキシ基、トリフルオロメトキ
シ基等が挙げられる。

【０１１３】（４）アリールオキシ基としては、アリー
ル基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これ
は、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基ま
たはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体
的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナ
フチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキ
シフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル
−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。

【０１１４】（５）置換メルカプト基またはアリールメ
ルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチル
チオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等
が挙げられる。

【０１１５】（６）アルキル置換アミノ基としては、ア
ルキル基は（２）で定義したアルキル基を表す。具体的
には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ
基等が挙げられる。 （７）アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等
が挙げられる。

【０１１６】Ｘは下記一般式（Ｈ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート掛脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ｈ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。

【０１１７】

【化３１】

【０１１８】一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１
と同じものが挙げられる。 （一般式８）

【０１１９】

【化３２】

【０１２０】式中、Ｒ₂₁は置換もしくは無置換のアリー
ル基、Ａｒ₂₀，Ａｒ₂₁，Ａｒ₂₂，Ａｒ₂₃は同一又は異な
るアリレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１
の場合と同じである。

【０１２１】一般式８の具体例 Ｒ₂₁は置換もしくは無置換のアリール基を表すが、その
具体例としては以下のものを挙げることができ、同一で
あっても異なってもよい。芳香族炭化水素基としては、
フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル
基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フル
オレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニ
レニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル
基、５Ｈ−ジベンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテニリデンフ
ェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフ
ェニリル基などが挙げられる。

【０１２２】複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。また、Ａｒ₂₀，Ａ₂₁，Ａｒ₂₂およ
びＡｒ₂₃で示されるアリレン基としてはＲ₂₁で示したア
リール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なって
もよい。上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す
基を置換基として有してもよい。

【０１２３】（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、ニトロ基。 （２）アルキル基としては、好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₁₂と
りわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ₄の直鎖また
は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさ
らにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコ
キシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ₁〜Ｃ₄のア
ルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基で置換された
フェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチ
ル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ト
リフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シ
アノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエ
チル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチ
ルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニル
ベンジル基等が挙げられる。

【０１２４】（３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₁₇）として
は、Ｒ₁₁₇は（２）で定義したアルキル基を表わす。具
体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ
基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシ
エトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ
基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキ
シ基等が挙げられる。

【０１２５】（４）アリールオキシ基としては、アリー
ル基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これ
は、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基ま
たはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体
的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナ
フチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキ
シフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル
−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。

【０１２６】（５）置換メルカプト基またはアリールメ
ルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチル
チオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等
が挙げられる。 （６）アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は
（２）で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プ
ロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げ
られる。 （７）アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等
が挙げられる。

【０１２７】Ｘは下記一般式（Ｊ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート掛脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ｊ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。

【０１２８】

【化３３】

【０１２９】一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１
と同じものが挙げられる。 （一般式９）

【０１３０】

【化３４】

【０１３１】式中、Ｒ₂₂，Ｒ₂₃，Ｒ₂₄，Ｒ₂₅は置換もし
くは無置換のアリール基、Ａｒ₂₄，Ａｒ₂₅，Ａｒ₂₆，Ａ
ｒ₂₇，Ａｒ₂₈は同一又は異なるアリレン基を表す。Ｘ，
ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。

【０１３２】一般式９の具体例 Ｒ₂₂，Ｒ₂₃，Ｒ₂₄，Ｒ₂₅は置換もしくは無置換のアリー
ル基を表すが、その具体例としては以下のものを挙げる
ことができ、同一であっても異なってもよい。芳香族炭
化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフ
チル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジ
メチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリ
ル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニ
リデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘ
プテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニ
リル基、ターフェニリル基などが挙げられる。

【０１３３】複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。また、Ａｒ₂₄，Ａｒ₂₅，Ａｒ₂₆，
Ａｒ₂₇およびＡｒ₂₈で示されるアリレン基としては、Ｒ
₂₂，Ｒ₂₃，Ｒ₂₄およびＲ₂₅で示した上記のアリール基の
２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。上
述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基
として有してもよい。

【０１３４】（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、ニトロ基。 （２）アルキル基としては、好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₁₂と
りわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ₄の直鎖また
は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさ
らにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコ
キシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ₁〜Ｃ₄のア
ルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基で置換された
フェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチ
ル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ト
リフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シ
アノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエ
チル基、ベンジル基、４−クロロペンジル基、４−メチ
ルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニル
ベンジル基等が挙げられる。

【０１３５】（３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₁₈）として
は、Ｒ₁₁₈は（２）で定義したアルキル基を表わす。具
体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ
基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシ
エトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ
基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキ
シ基等が挙げられる。

【０１３６】（４）アリールオキシ基としては、アリー
ル基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これ
はＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基また
はハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的
には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフ
チルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシ
フェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−
２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。

【０１３７】（５）置換メルカプト基またはアリールメ
ルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチル
チオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等
が挙げられる。 （６）アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は
（２）で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プ
ロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げ
られる。 （７）アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等
が挙げられる。

【０１３８】Ｘは下記一般式（Ｌ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ｌ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーポネートは交互
共重合体となる。

【０１３９】

【化３５】

【０１４０】一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１
と同じものが挙げられる。 一般式１０

【０１４１】

【化３６】

【０１４２】式中、Ｒ₂₆，Ｒ₂₇は置換もしくは無置換の
アリール基、Ａｒ₂₉，Ａｒ₃₀，Ａｒ₃₁は同一又は異なる
アリレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の
場合と同じである。

【０１４３】一般式１０の具体例 Ｒ₂₆，Ｒ₂₇は置換もしくは無置換のアリール基を表す
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同−であっても異なってもよい。芳香族炭化水素基
として、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピ
レニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２
−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリ
フェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェ
ニル基、５Ｈ−ジベンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテニリデ
ンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、タ
ーフェニリル基などが挙げられる。

【０１４４】複素環基として、チエニル基、ベンゾチエ
ニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基
などが挙げられる。また、Ａｒ₂₉，Ａｒ₃₀およびＡｒ₃₁
で示されるアリレン基としてはＲ₂₆およびＲ₂₇で示した
アリール基の２価基が挙げられ、同−であっても異なっ
てもよい。上述のアリール基及びアリレン基は以下に示
す基を置換基として有してもよい。

【０１４５】（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、ニトロ基。 （２）アルキル基としては、好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₁₂と
りわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ₄の直鎖また
は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさ
らにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコ
キシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ₁〜Ｃ₄のア
ルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基で置換された
フェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチ
ル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ト
リフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シ
アノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエ
チル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチ
ルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニル
ベンジル基等が挙げられる。

【０１４６】（３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₁₉）として
は、Ｒ₁₁₉は（２）で定義したアルキル基を表わす。具
体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ
基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシ
エトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ
基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキ
シ基等が挙げられる。 （４）アリールオキシ基としては、アリール基としてフ
ェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、Ｃ₁〜Ｃ₄
のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基またはハロゲン
原子を置換基として含有しても良い。具体的には、フェ
ノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ
基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ
基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチ
ルオキシ基等が挙げられる。

【０１４７】（５）置換メルカプト基またはアリールメ
ルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチル
チオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等
が挙げられる。 （６）アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は
（２）で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プ
ロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げ
られる。 （７）アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等
が挙げられる。

【０１４８】Ｘは下記一般式（Ｍ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ｍ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。

【０１４９】

【化３７】

【０１５０】一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１
と同じものが挙げられる。導電性支持体２１としては、
体積抵抗１０¹⁰Ω以下の導電性を示すもの、例えばアル
ミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、銀、金、
白金、鉄などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの
酸化物を、蒸着またはスパッタリングによりフィルム状
もしくは円筒状のプラスチック、紙等に被覆したもの、
あるいはアルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、
ステンレスなどの板およびそれらをＤ．１．，ｌ．
ｌ．，押出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、
超仕上げ、研磨などで表面処理した管などを使用するこ
とが出来る。

【０１５１】本発明における感光層２３は、単層型でも
積層型でもよいが、ここでは説明の都合上、まず積層型
について述べる。はじめに、電荷発生層３１について説
明する。電荷発生層３１は、電荷発生物質を主成分とす
る層で、必要に応じてバインダー樹脂を用いることもあ
る。電荷発生物質としては、無機系材料と有機系材料を
用いることができる。

【０１５２】無機系材料には、結晶セレン、アモルファ
ス・セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲ
ン、セレン−ヒ素化合物や、アモルファス・シリコン等
が挙げられる。アモルファス・シリコンにおいては、ダ
ングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子でターミネ
ートしたものや、ホウ素原子、リン原子等をドープした
ものが良好に用いられる。

【０１５３】一方、有機系材料としては、公知の材料を
用いることが出来る。例えば、金属フタロシアニン、無
金属フタロシアニンなどのフタロシアニン系顔料、アズ
レニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバ
ゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格
を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ
顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フル
オレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格
を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔
料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔
料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペ
リレン系顔料、アントラキノン系または多環キノン系顔
料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフ
ェニルメタン系顔料、ペンゾキノン及びナフトキノン系
顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系
顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料などが挙げられ
る。これらの電荷発生物質は、単独または２種以上の混
合物として用いることが出来る。

【０１５４】電荷発生層３１に必要に応じて用いられる
バインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、
エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコ
ーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリ
ビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリステレン、
ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミドな
どが用いられる。これらのバインダー樹脂は、単独また
は２種以上の混合物として用いることが出来る。

【０１５５】また、電荷発生層のバインダー樹脂として
上述のバインダー樹脂の他に、先に記した一般式１〜１
０の高分子電荷輸送物質が良好に用いられるが、その他
の高分子電荷輸送物質として以下のものが挙げられる。

【０１５６】（ａ）主鎖および／または側鎖にカルバゾ
ール環を有する重合体 例えば、ポリーＮ−ビニルカルバゾール、特開昭５０−
８２０５６号公報、特開昭５４−９６３２号公報、特開
昭５４−１１７３７号公報、特開平４−１８３７１９号
公報に記載の化合物等が例示される。

【０１５７】（ｂ）主鎖および／または側鎖にヒドラゾ
ン構造を有する重合体 例えば、特開昭５７−７８４０２号公報、特開平３−５
０５５５号公報に記戦の化合物等が例示される。 （ｃ）ポリシリレン重合体 例えば、特開昭６３−２８５５５２号公報、特開平５−
１９４９７号公報、特開平５−７０５９５号公報に記載
の化合物等が例示される。

【０１５８】（ｄ）主鎖および／または側鎖に第３級ア
ミン構造を有する重合体 例えば、Ｎ，Ｎ−ビス（４−メチルフェニル）−４−ア
ミノポリスチレン、特開平１−１３０６１号公報、特開
平１−１９０４９号公報、特開平１−１７２８号公報、
特開平１−１０５２６０号公報、特開平２−１６７３３
５号公報、特開平５−６６５９８号公報、特開平５−４
０３５０号公報に記載の化合物等が例示される。

【０１５９】（ｅ）その他の重合体 例えば、ニトロピレンのホルムアルデヒド縮重合体、特
開昭５１−７３８８８号公報、特開昭５６−１５０７４
９号公報に記載の化合物等が例示される。本発明に使用
される電子供与性基を有する重合体は、上記重合体だけ
でなく、公知単量体の共重合体や、ブロック重合体、グ
ラフト重合体、スターポリマーや、また、例えば特開平
３−１０９４０６号公報に開示されているような電子供
与性基を有する架橋重合体等を用いることも可能であ
る。更に、必要に応じて低分子電荷輸送物質を添加して
もよい。電荷発生層３１に併用できる低分子電荷輸送物
質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。

【０１６０】電子輸送物質としては、たとえばクロルア
ニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシ
アノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フル
オレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオ
レノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、
２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−
トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン
−４オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン
−５，５−ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げら
れる。これらの電子輸送物質は、単独または２種以上の
混合物として用いることが出来る。

【０１６１】正孔輸送物質としては、以下に表わされる
電子供与性物質が挙げられ、良好に用いられる。たとえ
ば、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イ
ミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、９−
（ｐ−ジエチルアミノスチリルアントラセン）、１，１
−ビス−（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、
スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニル
ヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体、チアゾ
ール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナジン誘導体、
アクリジン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ベンズイミダ
ゾール誘導体、チオフェン誘導体などが挙げられる。こ
れらの正孔輸送物質は、単独または２種以上の混合物と
して用いることが出来る。

【０１６２】電荷発生層３１を形成する方法には、真空
薄膜作製法と溶液分散系からのキャスティング法とが大
きく挙げられる。前者の方法には、真空蒸着法、グロー
放電重合法、イオンプレーティング法、スパッタリング
法、反応性スパッタリング法、ＣＶＤ法等が用いられ、
上述した無機系材料、有機系材料が良好に形成できる。

【０１６３】また、後述のキャスティング法によって電
荷発生層を設けるには、上述した無機系もしくは有機系
電荷発生物質を必要ならばバインダー樹脂と共にテトラ
ヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジクロ
ロエタン、ブタノン等の溶媒を用いてボールミル、アト
ライター、サンドミル等により分散し、分散液を適度に
希釈して塗布することにより、形成できる。塗布は、浸
漬塗工法やスプレーコート、ビードコート法などを用い
て行なうことができる。

【０１６４】以上のようにして設けられる電荷発生層の
膜厚は、０．０１〜５μｍ程度が適当であり、好ましく
は０．０５〜２μｍである。次に、電荷輸送層３３につ
いて説明する。

【０１６５】電荷輸送層３３は、高分子電荷輸送物質及
び潤滑剤を主成分とする層であり、高分子電荷輸送物質
及び潤滑剤を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを塗
布、乾燥することにより形成できる。高分子電荷輸送物
質は先述の公知材料を用いることができるが、前記一般
式１〜１０の高分子電荷輸送物質が本発明の目的を達成
するために特に良好に使用される。また、必要により高
分子電荷輸送物質及び潤滑剤以外に適当なバインダー樹
脂、低分子電荷輸送物質、可塑剤やレベリング剤等を適
量添加することもできる。

【０１６６】電荷輸送層３３に併用できるバインダー樹
脂としては、ポリカーボネート（ビスフェノールＡタイ
プ、ビスフェノールＺタイプ）、ポリエステル、メタク
リル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、塩化ビニル、
酢酸ビニル、ポリスチレン、フェノール樹脂、エポキシ
樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニリデン、アルキッド
樹脂、シリコン樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリビ
ニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリアクリレ
ート、ポリアクリルアミド、フェノキシ樹脂などが用い
られる。これらのバインダーは、単独または２種以上の
混合物として用いることが出来る。

【０１６７】電荷輸送層３３に併用できる低分子電荷輸
送物質は、電荷発生層３１の説明に記載したものと同じ
ものを用いることができる。電荷輸送層３３の膜厚は、
５〜１００μｍ程度が適当であり、好ましくは、１０〜
４０μｍ程度が適当である。また、本発明において電荷
輸送層３３中に可塑剤やレベリング剤を添加してもよ
い。

【０１６８】可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジ
オクチルフタレート等の一般の樹脂の可塑剤として使用
されているものがそのまま使用でき、その使用量は、バ
インダー樹脂１００重量部に対して０〜３０重量部程度
が適当である。

【０１６９】レベリング剤としては、ジメチルシリコー
ンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコ
ーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有す
るポリマーあるいはオリゴマーが使用され、その使用量
は、バインダー樹脂１００重量部に対して０〜１重量部
程度が適当である。次に、感光層２３が単層構成の場合
について述べる。

【０１７０】キャスティング法で単層感光層を設ける場
合、多くは電荷発生物質と低分子ならびに高分子電荷輸
送物質及び潤滑剤を適当な溶剤に溶解ないし分散し、こ
れを塗布、乾燥することにより形成できる。電荷発生物
貫ならびに電荷輸送物質には、前出の材料を用いること
ができる。

【０１７１】また、必要により可塑剤やレベリング剤を
添加することもできる。更に、必要に応じて用いること
の出来るバインダー樹脂としては、先に電荷輸送層３３
で挙げたバインダー樹脂をそのまま用いる他に、電荷発
生層３１で挙げたバインダー樹脂を混合して用いてもよ
い。単層感光体の膜厚は、５〜１００μｍ程度が適当で
あり、好ましくは、１０〜４０μｍ程度が適当である。

【０１７２】本発明において、導電性基体より最も離れ
た表面側から少なくとも１層に、高分子電荷輸送物質と
ともに含有され、感光体最表面の摩擦係数、撥水性、離
型性を改善する潤滑剤としては、フッ素オイルが用いら
れる。

【０１７３】フッ素オイルとしては例えば直鎖構造を有
するパーフルオロポリエーテルオイルが挙げられ、平均
分子量として２０００〜９０００のものを用いることが
でき、それらの中から１種あるいはそれ以上が適宜選択
される。フッ素オイルの添加量は、高分子電荷輸送物質
とともに含有される場合の感光体表面層中への拘束力を
良好に保持可能なこと及び膜形成性を妨げないことか
ら、０．１〜５ｗｔ％が好ましい。

【０１７４】本発明に用いられる電子写真感光体には、
導電性支持体２１と感光層２３（積層タイプの鴇合に
は、電荷発生層３１）との間に下引き層２５を設けるこ
とができる。下引き層２５は、接着性を向上する、モワ
レなどを防止する、上層の塗工性を改良する、残留電位
を低減するなどの目的で設けられる。下引き層２５は一
般に樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感
光層を溶剤を用いて塗布することを考えると、一般の有
機溶剤に対して耐溶解性の高い樹脂であることが望まし
い。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、
カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、
共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコ
ール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、アルキ
ッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造
を形成する硬化型樹脂などが挙げられる。また、酸化チ
タン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化ス
ズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物、あるい
は金属硫化物、金属窒化物などの微粉末を加えてもよ
い。これらの下引き層は、前述の感光層のごとく適当な
溶媒、塗工法を用いて形成することができる。

【０１７５】更に本発明の下引き層として、シランカッ
プリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリン
グ剤等を使用して、例えばゾル−ゲル法等により形成し
た金属酸化物層も有用である。この他に、本発明の下引
き層にはＡｌ₂Ｏ₃を陽極酸化にて設けたものや、ポリパ
ラキシリレン（パリレン）等の有機物や、ＳｉＯ，Ｓｎ
Ｏ₂，ＴｉＯ₂，ＩＴＯ，ＣｅＯ₂等の無機物を真空薄膜
作製法にて設けたものも良好に使用できる。下引き層の
膜厚は０〜５μｍが適当である。

【０１７６】また、本発明においては、耐環境性の改善
のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止す
る目的で、酸化防止剤を添加することができる。酸化防
止剤は、有機物を含む層ならばいずれに添加してもよい
が、電荷輸送物質を含む層に添加すると良好な結果が得
られる。本発明に用いることができる酸化防止剤とし
て、下記のものが挙げられる。

【０１７７】モノフエノール系化合物 ２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒ
ドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エ
チルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートな
ど。

【０１７８】ビスフェノール系化合物 ２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブ
チルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス−（４−
エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオ
ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
４，４’−ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔ−ブ
チルフェノール）など。

【０１７９】高分子フェノール系化合物 １，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−
５−ｔ−プチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメ
チル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス−〔メ
チレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒ
ドロキシフェニル）プロビオネート〕メタン、ビス
〔３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチ
ルフェニル）ブチリックアッシド〕クリコールエステ
ル、トコフエロール類など。

【０１８０】パラフェニレンジアミン類 Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレ
ンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ
−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’
−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミンなど。

【０１８１】ハイドロキノン類 ２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジ
ドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノ
ン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ
−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オ
クタデセニル）−５−メチルハイドロキノンなど。

【０１８２】有機硫黄化合物類 ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステ
アリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジテトラデ
シル−３，３’−チオジプロピオネートなど。 有機燐化合物類 トリフェニルホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホス
フィン、トリ（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリク
レジルホスフィン、トリ（２，４−ジブチルフェノキ
シ）ホスフィンなど。

【０１８３】これら化合物は、ゴム、プラスチック、油
脂類などの酸化防止剤として知られており、市販品を容
易に入手できる。本発明における酸化防止剤の添加量
は、電荷輸送物質１００重量部に対して０．１〜１００
重量部、好ましくは２〜３０重量部である。

【０１８４】図４は本発明の電子写真用感光体及びそれ
を用いた電子写真プロセスの模式断面図の一例である。
図中、１は本発明の電子写真用感光体であり、まず帯電
チャージャー２により帯電された後、イメージ露光３を
受け、現像ローラー４を介して現像剤と接触し、トナー
像を形成する。トナー像は転写チャージャー６により紙
などの転写部材５へ転写され、定着ユニット１０を通過
してハードコピーとなる。電子写真用感光体１上の残留
トナーはクリーニングユニット７により除去され、残留
電荷は除電ランプ８で除かれて、次の電子写真サイクル
に移る。

【０１８５】ここでイメージ露光３は、複写原稿の反射
光をレンズやミラーを介して照射するアナログイメージ
露光、またはコンピュータ等からの電気信号あるいは、
複写原稿をＣＣＤ等の画像センサで読み取り変換した電
気信号等をレーザー光やＬＥＤアレイ等により光像とし
て再現するデジタルイメージ露光のいずれであってもか
まわない。

【０１８６】

【発明の実施の形態】次に、実施例によって本発明を更
に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定され
るものではない。尚、実施例中使用する部は、すべて重
量部を表わす。

【０１８７】実施例１ φ３０ｍｍのアルミニウムドラム上に、下記組成の下引
き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工
液を順次、塗布乾燥することにより、３．５μｍの下引
き層、０．２μｍの電荷発生層、２５μｍの電荷輸送層
を形成して、本発明の電子写真感光体を得た。

【０１８８】 ＜下引き層用塗工液＞ アルキッド樹脂（ベッコゾール １３０７−６０−ＥＬ、大日本 インキ化学工業製） ６部 メラミン樹脂（スーパーベッカミン Ｇ−８２１−６０、大日本 インキ化学工業製） ４部 酸化チタン ４０部 メチルエチルケトン ２００部 ＜電荷発生層用塗工液＞ オキソチタニウムフタロシアニン顔料 ２部 ポリビニルブチラール（ＵＣＣ：ＸＹＨＬ） ０．２部 テトラヒドロフラン ５０部 ＜電荷輸送層用塗工液＞ 下記構造の高分子電荷輸送物質 １０部

【０１８９】

【化３８】

【０１９０】 フッ素オイル（パーフルオロポリエーテルオイル：デムナムＳ− １００／ダイキン工業株式会社製） ０．２部 塩化メチレン １００部 実施例２ 実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送物
質を以下の構造のものに変えた以外は全く同様にして電
子写真感光体を作製した。

【０１９１】

【化３９】

【０１９２】実施例３ 実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送物
質を以下の構造のものに変え、フッ素オイルを以下のも
のに変えた以外は全く同様にして電子写真感光体を作製
した。

【０１９３】

【化４０】

【０１９４】 フッ素オイル（パーフルオロポリエーテルオイル：デムナムＳ −２０／ダイキン工業株式会社製） ０．３部 実施例４ 実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送物
質を以下の構造のものに変えた以外は全く同様にして電
子写真感光体を作製した。

【０１９５】

【化４１】

【０１９６】実施例５ 実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送物
質を以下の構造のものに変えた以外は全く同様にして電
子写真感光体を作製した。

【０１９７】

【化４２】

【０１９８】実施例６ 実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送物
質を以下の構造のものに変えた以外は全く同様にして電
子写真感光体を作製した。

【０１９９】

【化４３】

【０２００】実施例７ 実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送物
質を以下の構造のものに変えた以外は全く同様にして電
子写真感光体を作製した。

【０２０１】

【化４４】

【０２０２】実施例８ 実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送物
質を以下の構造のものに変え、フッ素オイルを以下のも
のに変えた以外は全く同様にして電子写真感光体を作製
した。

【０２０３】

【化４５】

【０２０４】 フッ素オイル（パーフルオロポリエーテルオイル：デムナムＳ −２０／ダイキン工業株式会社製） ０．３部 実施例９ 実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送物
質を以下の構造のものに変えた以外は全く同様にして電
子写真感光体を作製した。

【０２０５】

【化４６】

【０２０６】実施例１０ 実施例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送物
質を以下の構造のものに変え、フッ素オイルを以下のも
のに変えた以外は全く同様にして電子写真感光体を作製
した。

【０２０７】

【化４７】

【０２０８】 フッ素オイル（パーフルオロポリエーテルオイル：デムナムＳ −２０／ダイキン工業株式会社製） ０．３部 比較例１ 実施例１における電荷輸送層用塗工液を以下のものに変
更した以外は、実施例１と全く同様にして電子写真感光
体を作製した。

【０２０９】 〔電荷輸送層用塗工液〕 ビスフェノールＡ型ポリカーボネート（帝人：パンライトＣ １４００） １０部 下記構造の低分子電荷輸送物質 １０部

【０２１０】

【化４８】

【０２１１】 塩化メチレン １００部 比較例２ 実施例１における電荷輸送層用塗工液を以下のものに変
更した以外は、実施例１と全く同様にして電子写真感光
体を作製した。

【０２１２】 〔電荷輸送層用塗工液〕 ビスフェノールＡ型ポリカーボネート（帝人：パンライトＣ １４００） １０部 下記構造の低分子電荷輸送物質 １０部

【０２１３】

【化４９】

【０２１４】 フッ素オイル（パーフルオロポリエーテルオイル：デムナムＳ −１００／ダイキン工業株式会社製） ０．２部 塩化メチレン １００部 比較例３ 実施例１における電荷輸送層用塗工液においてフッ素オ
イルを添加しない以外は、実施例１と全く同様にして電
子写真感光体を作製した。

【０２１５】比較例４ 実施例２における電荷輸送層用塗工液においてフッ素オ
イルを添加しない以外は、実施例２と全く同様にして電
子写真感光体を作製した。 比較例５ 実施例３における電荷輸送層用塗工液においてフッ素オ
イルを添加しない以外は、実施例３と全く同様にして電
子写真感光体を作製した。

【０２１６】比較例６ 実施例４における電荷輸送層用塗工液においてフッ素オ
イルを添加しない以外は、実施例４と全く同様にして電
子写真感光体を作製した。 比較例７ 実施例５における電荷輸送層用塗工液においてフッ素オ
イルを添加しない以外は、実施例５と全く同様にして電
子写真感光体を作製した。

【０２１７】比較例８ 実施例６における電荷輸送層用塗工液においてフッ素オ
イルを添加しない以外は、実施例６と全く同様にして電
子写真感光体を作製した。 比較例９ 実施例７における電荷輸送層用塗工液においてフッ素オ
イルを添加しない以外は、実施例７と全く同様にして電
子写真感光体を作製した。

【０２１８】比較例１０ 実施例８における電荷輸送層用塗工液においてフッ素オ
イルを添加しない以外は、実施例８と全く同様にして電
子写真感光体を作製した。 比較例１１ 実施例９における電荷輸送層用塗工液においてフッ素オ
イルを添加しない以外は、実施例９と全く同様にして電
子写真感光体を作製した。

【０２１９】比較例１２ 実施例１０における電荷輸送層用塗工液においてフッ素
オイルを添加しない以外は、実施例１０と全く同様にし
て電子写真感光体を作製した。以上のように作製した実
施例１〜１０及び比較例１〜１２の電子写真感光体を実
装用にした後、以下の様にして評価を行った。

【０２２０】＜実機ランニング特性評価方法＞市販電子
写真複写機イマジオＭＦ２００（（株）リコー製）によ
り、それぞれの感光体について最高１０万枚までの通紙
試験を行った。通紙試験中及び通紙試験後に感光体の、
電位特性、画像品質特性、感光層摩耗量の評価を適時行
った。

【０２２１】暗部電位：一次帯電後、現像部位置まで移
動した際の感光体表面電位 明部電位：一次帯電後、画像露光（ベタ露光）を受け、
現像部位置まで移動した際の感光体表面電位 画像品質：ベタ濃度、細線再現性、異常画像等総合的に
評価 摩耗量 ：実機ランニングによる感光層膜厚減少量 評価結果を表１に示す。

【０２２２】

【表１】

【０２２３】

【表２】

【０２２４】表１より明らかなように、本発明の特許請
求の範囲を満たす実施例１〜１０の電子写真用感光体
は、帯電性及び光感度に優れ、電気特性の劣化が少な
く、又感光層の摩耗も少なく、高画質のハードコピーを
長期間安定して得られる事がわかる。一方比較例の低分
子電荷輸送物質を用いた電子写真用感光体では摩耗が非
常に大きく、電気特性や画像特性が短期間で大きく劣化
してしまい、本発明の感光体の優位性が明らかである。

【０２２５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明により光感
度特性、耐摩耗性、画質安定性に優れた電子写真用感光
体を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の電子写真感光体の溝成を示す断面図。

【図２】本発明の電子写真感光体の別の構成を示す断面
図。

【図３】本発明の電子写真感光体の更に別の構成を示す
断面図。

【図４】電子写真プロセスの一例を示す模式図。

【符号の説明】

２１ 導電性支持体 ２３ 感光層 ２５ 下引き層 ３１ 電荷発生層 ３３ 電荷輸送層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小島 成人 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 鈴木 哲郎 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 生野 弘 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 紙 英利 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性基体上に感光層を有する電子写真
   用感光体において、導電性基体より最も離れた表面側か
   ら少なくとも１層に、高分子電荷輸送物質及びフッ素オ
   イルからなる潤滑剤を含有するものであることを特教と
   する電子写真用感光体。
2. 【請求項２】 前記、導電性基体より最も離れた表面側
   から少なくとも１層に、潤滑剤とともに含まれる高分子
   電荷輸送物貫が下記一般式１で表されることを特徴とす
   る請求項１記載の電子写真用感光体。 （一般式１） 【化１】 式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃はそれぞれ独立して置換もしくは
   無置換のアルキル基又はハロゲン原子、Ｒ₄は水素原子
   又は置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ₅，Ｒ₆は置換
   もしくは無置換のアリール基、ｏ，ｐ，ｑはそれぞれ独
   立して０〜４の整数、ｋ，ｊは組成を表し、０．１≦ｋ
   ≦１、０≦ｊ≦０．９、ｎは繰り返し単位数を表し５〜
   ５０００の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、環状脂肪
   族の２価基、または下記一般式で表される２価基を表
   す。 【化２】 式中、Ｒ₁₀₁，Ｒ₁₀₂は各々独立して置換もしくは無置換
   のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を表す。
   ｌ、ｍは０〜４の整数、Ｙは単結合、炭素原子数１〜１
   ２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキレン基、−Ｏ
   −，−Ｓ−，−ＳＯ−，−ＳＯ₂−，−ＣＯ−，−ＣＯ
   −Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の２価基を表
   す。）または、 【化３】 （式中、ａは１〜２０の葦数、ｂは１〜２０００の整
   数、Ｒ₁₀₃、Ｒ₁₀₄は置換または無置換のアルキル基又は
   アリール基を表す。）を表す。ここで、Ｒ₁₀₁とＲ₁₀₂，
   Ｒ₁₀₃とＲ₁₀₄は、それぞれ同−でも異なってもよい。
3. 【請求項３】 前記、導電性基体より最も離れた表面側
   から少なくとも１層に、潤滑剤とともに含まれる高分子
   電荷輸送物質が下記一般式２で表されることを特徴とす
   る請求項１記載の電子写真用感光体。 （一般式２） 【化４】 式中、Ｒ₇，Ｒ₈は置換もしくは無置換のアリール基、Ａ
   ｒ₁，Ａｒ₂，Ａｒ₃は同一又は異なるアリレン基を表
   す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じであ
   る。
4. 【請求項４】 前記、導電性基体より最も離れた表面側
   から少なくとも１層に、潤滑剤とともに含まれる高分子
   電荷輸送物質が下記一般式３で表されることを特徴とす
   る請求項１記載の電子写真用感光体。 （一般式３） 【化５】 式中、Ｒ₉，Ｒ₁₀は置換もしくは無置換のアリール基、
   Ａｒ₄，Ａｒ₅，Ａｒ₆は同一又は異なるアリレン基を表
   す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じであ
   る。
5. 【請求項５】 前記、導電性基体より最も離れた表面側
   から少なくとも１層に、潤滑剤とともに含まれる高分子
   電荷輸送物質が下記一般式４で表されることを特徴とす
   る請求項１記載の電子写真用感光体。 （一般式４） 【化６】 式中、Ｒ₁₁，Ｒ₁₂は置換もしくは無置換のアリール基、
   Ａｒ₇，Ａｒ₈，Ａｒ₉は同一又は異なるアリレン基、Ｓ
   は１〜５の整数を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式
   １の場合と同じである。
6. 【請求項６】 前記、導電性基体より最も離れた表面側
   から少なくとも１層に、潤滑剤とともに含まれる高分子
   電荷輸送物質が下記一般式５で表されることを特徴とす
   る請求項１記載の電子写真用感光体。 （一般式５） 【化７】 式中、Ｒ₁₃，Ｒ₁₄は置換もしくは無置換のアリール基、
   Ａｒ₁₀，Ａｒ₁₁，Ａｒ₁₂は同一又は異なるアリレン基、
   Ｘ₁，Ｘ₂は置換もしくは無置換のエチレン基、又は置換
   もしくは無置換のビニレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよび
   ｎは、一般式１の場合と同じである。
7. 【請求項７】 前記、導電性基体より最も離れた表面側
   から少なくとも１層に、潤滑剤とともに含まれる高分子
   電荷輸送物質が下記一般式６で表されることを特徴とす
   る請求項１記載の電子写真用感光体。 （一般式６） 【化８】 式中、Ｒ₁₅，Ｒ₁₆，Ｒ₁₇，Ｒ₁₈は置換もしくは無置換の
   アリール基、Ａｒ₁₃，Ａｒ₁₄，Ａｒ₁₅，Ａｒ₁₆は同一又
   は異なるアリレン基、Ｙ₁，Ｙ₂，Ｙ₃は単結合、置換も
   しくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシ
   クロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエ
   ーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表し同一
   であっても異なってもよい。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一
   般式１の場合と同じである。
8. 【請求項８】 前記、導電性基体より最も離れた表面側
   から少なくとも１層に、潤滑剤とともに含まれる高分子
   電荷輸送物質が下記一般式７で表されることを特徴とす
   る請求項１記載の電子写真用感光体。 （一般式７） 【化９】 式中、Ｒ₁₉，Ｒ₂₀は水素原子、置換もしくは無置換のア
   リール基を表し，Ｒ₁₉とＲ₂₀は環を形成していてもよ
   い。Ａｒ₁₇，Ａｒ₁₈，Ａｒ₁₉は同一又は異なるアリレン
   基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同
   じである。
9. 【請求項９】 前記、導電性基体より最も離れた表面側
   から少なくとも１層に、潤滑剤とともに含まれる高分子
   電荷輸送物質が下記一般式８で表されることを特徴とす
   る請求項１記載の電子写真用感光体。 （一般式８） 【化１０】 式中、Ｒ₂₁は置換もしくは無置換のアリール基、Ａ
   ｒ₂₀，Ａｒ₂₁，Ａｒ₂₂，Ａｒ₂₃は同一又は異なるアリレ
   ン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と
   同じである。
10. 【請求項１０】 前記、導電性基体より最も離れた表面
    側から少なくとも１層に、潤滑剤とともに含まれる高分
    子電荷輸送物質が下記一般式９で表されることを特徴と
    する請求項１記載の電子写真用感光体。 （一般式９） 【化１１】 式中、Ｒ₂₂，Ｒ₂₃，Ｒ₂₄，Ｒ₂₅は置換もしくは無置換の
    アリール基、Ａｒ₂₄，Ａｒ₂₅，Ａｒ₂₆，Ａｒ₂₇，Ａｒ₂₈
    は同一又は異なるアリレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよび
    ｎは、一般式１の場合と同じである。
11. 【請求項１１】 前記、導電性基体より最も離れた表面
    側から少なくとも１層に、潤滑剤と共に含まれる高分子
    電荷輸送物質が下記一般式１０で表されることを特徴と
    する請求項１記載の電子写真用感光体。 （一般式１０） 【化１２】 式中、Ｒ₂₆，Ｒ₂₇は置換もしくは無置換のアリール基、
    Ａｒ₂₉，Ａｒ₃₀，Ａｒ₃₁は同一又は異なるアリレン基を
    表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じで
    ある。
12. 【請求項１２】 前記、導電性基体より最も離れた表面
    側から少なくとも１層に含まれる前記潤滑剤の含有率が
    ０．１〜５ｗｔ％であることを特徴とする請求項１記載
    の電子写真用感光体。