JPH1083090A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 繰り返し使用時の耐摩耗性に優れ、且つ高感
度で光減衰曲線の裾切れが良好で、また繰り返し使用時
の帯電電位の変動が少なく長期にわたり安定した画像が
得られる電子写真感光体を提供する。 【解決手段】 導電性支持体上に少なくとも電荷発生層
と電荷輸送層が積層されてなる電子写真感光体におい
て、電荷輸送層がトリアリールアミノ基を主鎖または側
鎖に有するポリカーボネート樹脂を主成分とし、少なく
とも下記一般式（ａ）で表される化合物を含有する。 （式中、Ｒは低級アルキル基を，Ｒ′、Ｒ″はメチレン
基またはエチレン基を，Ａｒ、Ａｒ′はアリール基を表
す。Ｉ′は０〜４の整数、ｍ′またはｎ′は０〜２の整
数を表し、ｍ′＋ｎ′は２以上の整数であり、Ｉ′＋
ｍ′＋ｎ′は６以下の整数である。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真感光体に
関し、更に詳しくは、複写機、レーザープリンター、レ
ーザーファクシミリなどに好適に使用される電子写真感
光体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】電子写真方法としては、カールソンプロ
セスやその様々の変形プロセスなどが知られており、複
写機やプリンターなどに広く使用されている。この様な
電子写真方法に用いられる感光体の中でも、有機系の感
光材料を用いたものが、安価、大量生産性、無公害性な
どをメリットとして、近年使用されてきている。

【０００３】有機系の電子写真感光体には、ポリビニル
カルバゾール（ＰＶＫ）に代表される光導電性樹脂、Ｐ
ＶＫ−ＴＮＦ（２，４，７−トリニトロフルオレノン）
に代表される電荷移動錯体型、フタロシアニン−結着剤
に代表される顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送物質
とを組み合わせて用いる機能分離型の感光体などが知ら
れており、特に機能分離型の電子写真感光体が注目され
ている。

【０００４】この機能分離型の電子写真感光体における
静電潜像形成のメ力ニズムは、感光体を帯電したのち光
照射すると、光は透明な電荷輸送層を通過して電荷発生
層中の電荷発生物質により吸収され、光を吸収した電荷
発生物質は電荷担体を発生し、この電荷担体は電荷輸送
層に注入され、帯電によって生じている電界にしたがっ
て電荷輸送層中を移動し、感光体表面の電荷を中和する
ことにより静電潜像を形成するものである。

【０００５】機能分離型の電子写真感光体においては、
主に紫外部に吸収を持つ電荷輸送物質と、主に可視部か
ら近赤外部に吸収を持つ電荷発生物質とを組み合わせて
用いることが知られており、かつ有用である。

【０００６】電荷輸送層に用いられる電荷輸送物質とし
ては、多くの低分子化合物が開発されているが、低分子
化合物は単独では成膜性がないため、通常、不活性高分
子化合物に分散・混合して用いられる。しかるに、低分
子電荷輸送物質と不活性高分子化合物からなる電荷輸送
層は一般に柔らかく、カールソンプロセスにおいては、
繰り返し使用による膜削れが生じやすいという欠点があ
る。また、この構成の電荷輸送層は電荷移動度に限界が
あり、カールソンプロセスの高速化あるいは小型化の障
害となっていた。これは、通常、低分子電荷輸送物質が
電荷輸送層において５０重量％以下の含有量で使用され
ることに起因しており、低分子電荷輸送物質の含有量を
増すことにより電荷移動度をある程度上げることは可能
であるが、低分子電荷輸送物質の含有量を増すと成膜性
が劣化し、繰り返し使用による膜削れが大きくなるとい
う欠点がある。

【０００７】このような欠点を改良するために高分子型
の電荷輸送物質が注目され、例えば、特開昭５０−８２
０５６号公報、特開昭５１−７３８８８号公報、特開昭
５４−８５２７号公報、特開昭５４−１１７３７号公
報、特開昭５６−１５０７４９号公報、特開昭５７−７
８４０２号公報、特開昭６３−２８５５５２号公報、特
開平１−１７２８号公報及び特開平３−５０５５５号公
報などに高分子型の電荷輸送物質が開示されている。こ
れらの高分子型の電荷輸送物質を用いた場合には、電荷
輸送層を高分子化合物だけで構成することができるた
め、成膜性が良好で機械的強度が強く耐摩耗性に優れた
電荷輸送層を得ることができ、繰り返し使用による膜削
れを防止することができる。

【０００８】しかしながら、これら高分子電荷輸送物質
を用いた電荷輸送層と電荷発生層とを積層してなる感光
層を有する機能分離型の電子写真感光体は、低分子電荷
輸送物質と不活性高分子化合物からなる電荷輸送層を有
する機能分離型の電子写真感光体に比べて光感度が劣っ
ており、特に表面電位の光照射減衰に電界強度依存性が
あり、光減衰曲線の裾切れが悪いという欠点がある。ま
た、繰り返し使用時における帯電電位の変動も十分とは
言えず、更なる安定化が望まれる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題は
このような問題点を解決し、繰り返し使用時の耐摩耗性
に優れ、且つ高感度で光減衰曲線の裾切れが良好で、ま
た繰り返し使用時の帯電電位の変動が少なく長期にわた
り安定した画像が得られる電子写真感光体を提供するこ
とにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、導
電性支持体上に少なくとも電荷発生層と電荷輸送層が積
層されてなる電子写真感光体において、電荷輸送層がト
リアリールアミノ基を主鎖または側鎖に有するポリカー
ボネート樹脂を主成分とし、少なくとも下記一般式
（ａ）で表される化合物を含有することを特徴とする電
子写真感光体によって達成される。

【００１１】

【化３２】 （式中、Ｒは低級アルキル基を表し、Ｒ′、Ｒ″は置換
もしくは無置換のメチレン基またはエチレン基を表す。
Ａｒ、Ａｒ′は置換もしくは無置換のアリール基を表
す。ｌ′は０〜４の整数、ｍ′またはｎ′は０〜２の整
数を表し、ｍ′＋ｎ′は２以上の整数であり、ｌ′＋
ｍ′＋ｎ′は６以下の整数である。ベンゼン環の未置換
部位は水素原子を表す。）

【００１２】トリアリールアミノ基を主鎖または側鎖に
有するポリカーボネート樹脂としては、特開昭６４−９
９６４号公報、特開昭６４−１９０４９号公報、特開平
３−２２１５２２号公報、特開平４−１１６２７号公
報、特開平６−２９３８２７号公報などに記載されてい
るものが使用できるが、特に下記一般式（１）〜（１
０）で表される高分子化合物が好ましい。

【００１３】

【化３３】 ｛式中、Ｒ'₁、Ｒ'₂、Ｒ'₃は、それぞれ独立して置換も
しくは無置換のアルキル基またはハロゲン原子を表し、
Ｒ'₄は水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基
を表す。Ｒ₁、Ｒ₂は置換もしくは無置換のアリール基を
表す。ｏ、ｐ、ｑは、それぞれ独立して０〜４の整数を
表す。ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦１、０≦ｊ≦
０．９であり、ｎは繰り返し単位数を表し、５〜５００
０の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、環状脂肪族の２
価基、または下記一般式（Ａ）で表される２価基を表
す。

【化３４】 〔式中、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は、それぞれ独立して置換もしくは
無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
表し、ｌ、ｍは０〜４の整数を表す。Ｙは単結合、炭素
原子数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
レン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｃ
Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の
２価基を表す）または下記一般式（Ｂ）

【化３５】 （式中、ａは１〜２０の整数を表し、ｂは１〜２０００
の整数を表す。Ｒ₂₆、Ｒ₂₇は置換または無置換のアルキ
ル基またはアリール基を表す。）を表す。Ｒ₂₄とＲ₂₅、
Ｒ₂₆とＲ₂₇はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
い。〕｝

【００１４】Ｒ'₁、Ｒ'₂、Ｒ'₃のアルキル基は、好まし
くは、Ｃ₁〜Ｃ₁₂とりわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくは
Ｃ₁〜Ｃ₄の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これ
らのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ
基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲ
ン原子、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアル
コキシ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具
体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−
プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル
基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロ
キシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチ
ル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロ
ベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベン
ジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。

【００１５】ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。

【００１６】Ｒ'₄の置換もしくは無置換のアルキル基と
しては、上記のＲ'₁、Ｒ'₂、Ｒ'₃と同様のものが挙げら
れる。

【００１７】Ｒ₁、Ｒ₂のアリール基としては、フェニル
基などの芳香族炭化水素基、ナフチル基、ピレニル基、
２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレ
ニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニ
ル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５
Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル
基などの縮合多環基、ビフェニリル基、ターフェニリル
基などの非縮合多環基、チェニル基、ベンゾチェニル
基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基など
の複素環基などが挙げられる。

【００１８】上述のアリール基は以下に示す基を置換基
として有していてもよい。 （１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 （２）アルキル基：上記のＲ'₁、Ｒ'₂、Ｒ'₃のアルキル
基として示したものと同様のものが挙げられる。 （３）アルコキシ基（−ＯＲ₄₁）：Ｒ₄₁は上記（２）で
示したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、
エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ
−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−
ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエ
トキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキ
シ基、トリフルオロメトキシ基などが挙げられる。 （４）アリールオキシ基：アリール基としてフェニル
基、ナフチル基が挙げられる。これらは、Ｃ₁〜Ｃ₄のア
ルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基またはハロゲン原子
を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキ
シ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、
４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、
４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオ
キシ基などが挙げられる。 （５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基：
具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ
基、ｐ−メチルフェニルチオ基などが挙げられる。 （６）アルキル置換アミノ基：アルキル基は上記（２）
で示したアルキル基を表わす。具体的にはジメチルアミ
ノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基などが挙げられ
る。 （７）アシル基：具体的にはアセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基などが挙げ
られる。

【００１９】Ｘは下記一般式（１′）のトリアリールア
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式（Ｃ）のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘ
は下記一般式（１′）のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式（Ｃ）から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。

【００２０】

【化３６】

【００２１】一般式（Ｃ）のジオール化合物の具体例と
しては以下のものが挙げられる。ｌ，３−プロパンジオ
ール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオ
ール、１，６−へキサンジオール、１，８−オクタンジ
オール、１，１０−デカンジオール、２−メチル−１，
３−プロパンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プ
ロパンジオール、２−エチル−１，３−プロパンジオー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレンエーテル
グリコール等の脂肪族ジオール、１，４−シクロヘキサ
ンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、シクロ
ヘキサン−１，４‐ジメタノール等の環状脂肪族ジオー
ルなどが挙げられる。

【００２２】また、芳香環を有するジオールとしては、
４，４′−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）エタン、１，１ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−フェニルエタン、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、２，２−
ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，
５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４′
‐ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４′−ジ
ヒドロキシジフェニルスルフィド、３，３′−ジメチル
−４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，
４′−ジヒドロキシジフェニルオキシド、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）キサンテン、
エチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエー
ト）、ジエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベ
ンゾエート）、トリエチレングリコール−ビス（４−ヒ
ドロキシベンゾエート）、１，３−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−テトラメチルジシロキサン、フェノール
変性シリコーンオイルなどが挙げられる。

【００２３】次に、一般式（２）で表される高分子化合
物を示す。

【化３７】 〔式中、Ｒ₃、Ｒ₄は置換もしくは無置換のアリール基を
表し、Ａｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ₃は同一または異なるアリレ
ン基を表す。ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦１、０
≦ｊ≦０．９であり、ｎは繰り返し単位数を表し、５〜
５０００の整数である。Ｘは前記一般式（１）に記載さ
れたものと同様の基を表す。〕

【００２４】Ｒ₃、Ｒ₄のアリール基としては、フェニル
基などの芳香族炭化水素基、ナフチル基、ピレニル基、
２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレ
ニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニ
ル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５
Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル
基などの縮合多環基、チェニル基、ベンゾチェニル基、
フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などの複
素環基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、または下
記一般式（イ）で示される非縮合多環基などが挙げられ
る。

【００２５】

【化３８】 〔式中、Ｗは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ
₂−、−ＣＯ−および下記一般式（ロ）、（ハ）、
（ニ）、（ホ）で示す２価基を表す。

【化３９】 （式中、ｃは１〜１２の整数を表し、ｄ、ｅ、ｆは１〜
３の整数表す。）〕

【００２６】また、Ａｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ₃のアリレン基
としては、Ｒ₃、Ｒ₄で示したアリール基の２価の基が挙
げられる。Ｒ₃、Ｒ₄のアリール基、Ａｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ
₃のアリレン基は以下に示す基を置換基として有しても
よい。また、これらの置換基は上記一般式（イ）、
（ニ）、（ホ）におけるＲ₃₁、Ｒ₃₂、Ｒ₃₃の具体例でも
ある。 （１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 （２）アルキル基：好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₁₂とりわけＣ₁
〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ₄の直鎖または分岐鎖
のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ
素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、
フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基
もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基で置換されたフェニル
基を含有しても良い。具体的には、メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、
ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフル
オロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエ
チル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル
基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベ
ンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベン
ジル基等が挙げられる。 （３）アルコキシ基（−ＯＲ₄₁）：Ｒ₄₁は上記（２）で
示したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、
エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ
−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−
ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエ
トキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキ
シ基、トリフルオロメトキシ基などが挙げられる。 （４）アリールオキシ基：アリール基としてフェニル
基、ナフチル基が挙げられる。これらは、Ｃ₁〜Ｃ₄のア
ルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基またはハロゲン原子
を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキ
シ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、
４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、
４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオ
キシ基などが挙げられる。 （５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基：
具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ
基、ｐ−メチルフェニルチオ基などが挙げられる。 （６）一般式−Ｎ（Ｒ₄₂）（Ｒ₄₃）で表される置換アミ
ノ基。 （式中、Ｒ₄₂及びＲ₄₃は各々独立に上記（２）で示した
アルキル基、または上記Ｒ₃、Ｒ₄で示したアリール基を
表し、好ましいアリール基としては、例えばフェニル
基、ビフェニル基またはナフチル基が挙げられ、これら
はＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基また
はハロゲン原子を置換基として含有しても良い。またア
リール基上の炭素原子と共同で環を形成しても良い。具
体的には、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニ
ルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジ
（ｐ−トリル）アミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリ
ジノ基、モルホリノ基、ユロリジル基などが挙げられ
る。 （７）メチレンジオキシ基、またはメチレンジチオ基等
のアルキレンジオキシ基またはアルキレンジチオ基な
ど。

【００２７】Ｘは下記一般式（２′）のトリアリールア
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式（Ｃ）のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘ
は下記一般式（２′）のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式（Ｃ）から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。

【００２８】

【化４０】 一般式（Ｃ）のジオール化合物の具体例としては、前記
一般式（１）の説明において例示したものを挙げること
ができる。

【００２９】次に、一般式（３）で表される高分子化合
物を示す。

【化４１】 〔式中、Ｒ₅、Ｒ₆は置換もしくは無置換のアリール基を
表し、Ａｒ₄、Ａｒ₅、Ａｒ₆は同一または異なるアリレ
ン基を表す。ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦１、０
≦ｊ≦０．９であり、ｎは繰り返し単位数を表し、５〜
５０００の整数である。Ｘは前記一般式（１）に記載さ
れたものと同様の基を表す。〕

【００３０】Ｒ₅、Ｒ₆のアリール基としては、フェニル
基などの芳香族炭化水素基、ナフチル基、ピレニル基、
２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレ
ニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニ
ル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５
Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフェニル
基などの縮合多環基、ビフェニリル基、ターフェニリル
基などの非縮合多環基、チェニル基、ベンゾチェニル
基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基など
の複素環基などが挙げられる。

【００３１】また、Ａｒ₄、Ａｒ₅、Ａｒ₆のアリレン基
としては、Ｒ₅、Ｒ₆で示したアリール基の２価の基が挙
げられる。Ｒ₅、Ｒ₆のアリール基、Ａｒ₄、Ａｒ₅、Ａｒ
₆のアリレン基は以下に示す基を置換基として有しても
よい。 （１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 （２）アルキル基：好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₁₂とりわけＣ₁
〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ₄の直鎖または分岐鎖
のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ
素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、
フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基
もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基で置換されたフェニル
基を含有しても良い。具体的には、メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、
ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフル
オロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエ
チル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル
基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベ
ンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベン
ジル基等が挙げられる。 （３）アルコキシ基（−ＯＲ₄₁）：Ｒ₄₁は上記（２）で
示したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、
エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ
−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−
ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエ
トキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキ
シ基、トリフルオロメトキシ基などが挙げられる。 （４）アリールオキシ基：アリール基としてフェニル
基、ナフチル基が挙げられる。これらは、Ｃ₁〜Ｃ₄のア
ルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基またはハロゲン原子
を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキ
シ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、
４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、
４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオ
キシ基などが挙げられる。 （５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基：
具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ
基、ｐ−メチルフェニルチオ基などが挙げられる。 （６）アルキル置換アミノ基：アルキル基は上記（２）
で示したアルキル基を表わす。具体的にはジメチルアミ
ノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基などが挙げられ
る。 （７）アシル基：具体的にはアセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基などが挙げ
られる。

【００３２】Ｘは下記一般式（３′）のトリアリールア
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式（Ｃ）のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘ
は下記一般式（３′）のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式（Ｃ）から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。

【００３３】

【化４２】 一般式（Ｃ）のジオール化合物の具体例としては、前記
一般式（１）の説明において例示したものを挙げること
ができる。

【００３４】次に、一般式（４）で表される高分子化合
物を示す。

【化４３】 〔式中、Ｒ₇、Ｒ₈は置換もしくは無置換のアリール基を
表し、Ａｒ₇、Ａｒ₈、Ａｒ₉は同一または異なるアリレ
ン基を表す。ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦１、０
≦ｊ≦０．９であり、ｎは繰り返し単位数を表し、５〜
５０００の整数である。ｒは１〜５の整数を表す。Ｘは
前記一般式（１）に記載されたものと同様の基を表
す。〕

【００３５】Ｒ₇、Ｒ₈のアリール基の具体例としては、
一般式（３）の説明においてＲ₅、Ｒ₆のアリール基の具
体例として例示したものを挙げることができ、Ａｒ₇、
Ａｒ₈、Ａｒ₉のアリレン基の具体例としては、それらア
リール基の２価の基を挙げることができる。また、これ
らアリール基またはアリレン基における置換基の具体例
としては、一般式（３）の説明においてアリール基また
はアリレン基における置換基として例示したものを挙げ
ることができる。

【００３６】Ｘは下記一般式（４′）のトリアリールア
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式（Ｃ）のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘ
は下記一般式（４′）のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式（Ｃ）から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。

【００３７】

【化４４】 一般式（Ｃ）のジオール化合物の具体例としては、前記
一般式（１）の説明において例示したものを挙げること
ができる。

【００３８】次に、一般式（５）で表される高分子化合
物を示す。

【化４５】 〔式中、Ｒ₉、Ｒ₁₀は置換もしくは無置換のアリール基
を表し、Ａｒ₁₀、Ａｒ₁₁、Ａｒ₁₂は同一または異なるア
リレン基を表す。Ｘ₁、Ｘ₂は置換もしくは無置換のエチ
レン基または置換もしくは無置換のビニレン基を表す。
ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦１、０≦ｊ≦０．９
であり、ｎは繰り返し単位数を表し、５〜５０００の整
数である。Ｘは前記一般式（１）に記載されたものと同
様の基を表す。〕

【００３９】Ｒ₉、Ｒ₁₀のアリール基の具体例として
は、一般式（３）の説明においてＲ₅、Ｒ₆のアリール基
の具体例として例示したものを挙げることができ、Ａｒ
₁₀、Ａｒ₁₁、Ａｒ₁₂のアリレン基の具体例としては、そ
れらアリール基の２価の基を挙げることができる。ま
た、これらアリール基またはアリレン基における置換基
の具体例としては、一般式（３）の説明においてアリー
ル基またはアリレン基における置換基として例示したも
のを挙げることができる。

【００４０】Ｘ₁、Ｘ₂のエチレン基またはビニレン基に
おける置換基としては、シアノ基、ハロゲン原子、ニト
ロ基、一般式（３）の説明においてＲ₅、Ｒ₆のアリール
基の具体例として例示したアリール基、あるいは一般式
（３）の説明においてアリール基またはアリレン基にお
ける置換基として例示したアルキル基などが挙げられ
る。

【００４１】Ｘは下記一般式（５′）のトリアリールア
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式（Ｃ）のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘ
は下記一般式（５′）のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式（Ｃ）から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。

【００４２】

【化４６】 一般式（Ｃ）のジオール化合物の具体例としては、前記
一般式（１）の説明において例示したものを挙げること
ができる。

【００４３】次に、一般式（６）で表される高分子化合
物を示す。

【化４７】 〔式中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄は置換もしくは無置換
のアリール基を表し、Ａｒ₁₃、Ａｒ₁₄、Ａｒ₁₅、Ａｒ₁₆
は同一または異なるアリレン基を表す。Ｙ₁、Ｙ₂、Ｙ₃
は単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換も
しくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置
換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子または
ビニレン基を表し、同一であっても異なっていてもよ
い。ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦１、０≦ｊ≦
０．９であり、ｎは繰り返し単位数を表し、５〜５００
０の整数である。Ｘは前記一般式（１）に記載されたも
のと同様の基を表す。〕

【００４４】Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄のアリール基の具
体例としては、一般式（３）の説明においてＲ₅、Ｒ₆の
アリール基の具体例として例示したものを挙げることが
でき、Ａｒ₁₃、Ａｒ₁₄、Ａｒ₁₅、Ａｒ₁₆のアリレン基の
具体例としては、それらアリール基の２価の基を挙げる
ことができる。また、これらアリール基またはアリレン
基における置換基の具体例としては、一般式（３）の説
明においてアリール基またはアリレン基における置換基
として例示したものを挙げることができる。

【００４５】Ｙ₁、Ｙ₂、Ｙ₃のアルキレン基としては、
一般式（３）の説明においてアリール基またはアリレン
基における置換基として例示したアルキル基より誘導さ
れる２価の基が挙げられる。具体的には、メチレン基、
エチレン基、１，３−プロピレン基、１，４−ブチレン
基、２−メチル−１，３−プロピレン基、ジフルオロメ
チレン基、ヒドロキシエチレン基、シアノエチレン基、
メトキシエチレン基、フェニルメチレン基、４−メチル
フェニルメチレン基、２，２−プロピレン基、２，２−
ブチレン基、ジフェニルメチレン基などを挙げることが
できる。シクロアルキレン基としては、１，１−シクロ
ペンチレン基、１，１−シクロヘキシレン基、１，１−
シクロオクチレン基などを挙げることができる。また、
アルキレンエーテル基としては、ジメチレンエーテル
基、ジエチレンエーテル基、エチレンメチレンエーテル
基、ビス（トリエチレン）エーテル基、ポリテトラメチ
レンエーテル基などが挙げられる。

【００４６】Ｘは下記一般式（６′）のトリアリールア
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式（Ｃ）のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘ
は下記一般式（６′）のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式（Ｃ）から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。

【００４７】

【化４８】 一般式（Ｃ）のジオール化合物の具体例としては、前記
一般式（１）の説明において例示したものを挙げること
ができる。

【００４８】次に、一般式（７）で表される高分子化合
物を示す。

【化４９】 〔式中、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆は水素原子、置換もしくは無置換の
アリール基を表し、Ｒ₁₅とＲ₁₆は環を形成していてもよ
い。Ａｒ₁₇、Ａｒ₁₈、Ａｒ₁₉は同一または異なるアリレ
ン基を表す。ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦１、０
≦ｊ≦０．９であり、ｎは繰り返し単位数を表し、５〜
５０００の整数である。Ｘは前記一般式（１）に記載さ
れたものと同様の基を表す。〕

【００４９】Ｒ₁₅、Ｒ₁₆のアリール基の具体例として
は、一般式（３）の説明においてＲ₅、Ｒ₆のアリール基
の具体例として例示したものを挙げることができ、また
Ｒ₁₅とＲ₁₆が環を形成する場合としては、９−フルオリ
ニデン、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデ
ンなどを挙げることができる。

【００５０】Ａｒ₁₇、Ａｒ₁₈、Ａｒ₁₉のアリレン基の具
体例としては、それらアリール基の２価の基を挙げるこ
とができる。また、これらアリール基またはアリレン基
における置換基の具体例としては、一般式（３）の説明
においてアリール基またはアリレン基における置換基と
して例示したものを挙げることができる。

【００５１】Ｘは下記一般式（７′）のトリアリールア
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式（Ｃ）のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘ
は下記一般式（７′）のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式（Ｃ）から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。

【００５２】

【化５０】 一般式（Ｃ）のジオール化合物の具体例としては、前記
一般式（１）の説明において例示したものを挙げること
ができる。

【００５３】次に、一般式（８）で表される高分子化合
物を示す。

【化５１】 〔式中、Ｒ₁₇は置換もしくは無置換のアリール基を表
し、Ａｒ₂₀、Ａｒ₂₁、Ａｒ₂₂、Ａｒ₂₃は同一または異な
るアリレン基を表す。ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ
≦１、０≦ｊ≦０．９であり、ｎは繰り返し単位数を表
し、５〜５０００の整数である。Ｘは前記一般式（１）
に記載されたものと同様の基を表す。〕

【００５４】Ｒ₁₇のアリール基の具体例としては、一般
式（３）の説明においてＲ₅、Ｒ₆のアリール基の具体例
として例示したものを挙げることができ、Ａｒ₂₀、Ａｒ
₂₁、Ａｒ₂₂、Ａｒ₂₃のアリレン基の具体例としては、そ
れらアリール基の２価の基を挙げることができる。ま
た、これらアリール基またはアリレン基における置換基
の具体例としては、一般式（３）の説明においてアリー
ル基またはアリレン基における置換基として例示したも
のを挙げることができる。

【００５５】Ｘは下記一般式（８′）のトリアリールア
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式（Ｃ）のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘ
は下記一般式（８′）のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式（Ｃ）から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。

【００５６】

【化５２】 一般式（Ｃ）のジオール化合物の具体例としては、前記
一般式（１）の説明において例示したものを挙げること
ができる。

【００５７】次に、一般式（９）で表される高分子化合
物を示す。

【化５３】 〔式中、Ｒ₁₈、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂₁は置換もしくは無置換
のアリール基を表し、Ａｒ₂₄、Ａｒ₂₅、Ａｒ₂₆、Ａ
ｒ₂₇、Ａｒ₂₈は同一または異なるアリレン基を表す。
ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦１、０≦ｊ≦０．９
であり、ｎは繰り返し単位数を表し、５〜５０００の整
数である。Ｘは前記一般式（１）に記載されたものと同
様の基を表す。〕

【００５８】Ｒ₁₈、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂₁のアリール基の具
体例としては、一般式（３）の説明においてＲ₅、Ｒ₆の
アリール基の具体例として例示したものを挙げることが
でき、Ａｒ₂₄、Ａｒ₂₅、Ａｒ₂₆、Ａｒ₂₇、Ａｒ₂₈のアリ
レン基の具体例としては、それらアリール基の２価の基
を挙げることができる。また、これらアリール基または
アリレン基における置換基の具体例としては、一般式
（３）の説明においてアリール基またはアリレン基にお
ける置換基として例示したものを挙げることができる。

【００５９】Ｘは下記一般式（９′）のトリアリールア
ミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル
交換法等を用い重合するときに、下記一般式（Ｃ）のジ
オール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘ
は下記一般式（９′）のトリアリールアミノ基を有する
ジオール化合物と下記一般式（Ｃ）から誘導されるビス
クロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位
中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネー
トは交互共重合体となる。

【００６０】

【化５４】 一般式（Ｃ）のジオール化合物の具体例としては、前記
一般式（１）の説明において例示したものを挙げること
ができる。

【００６１】次に、一般式（１０）でで表される高分子
化合物を示す。

【化５５】 〔式中、Ｒ₂₂、Ｒ₂₃は置換もしくは無置換のアリール基
を表し、Ａｒ₂₉、Ａｒ₃₀、Ａｒ₃₁は同一または異なるア
リレン基を表す。ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦
１、０≦ｊ≦０．９であり、ｎは繰り返し単位数を表
し、５〜５０００の整数である。Ｘは前記一般式（１）
に記載されたものと同様の基を表す。〕

【００６２】Ｒ₂₂、Ｒ₂₃のアリール基の具体例として
は、一般式（３）の説明においてＲ₅、Ｒ₆のアリール基
の具体例として例示したものを挙げることができ、Ａｒ
₂₉、Ａｒ₃₀、Ａｒ₃₁のアリレン基の具体例としては、そ
れらアリール基の２価の基を挙げることができる。ま
た、これらアリール基またはアリレン基における置換基
の具体例としては、一般式（３）の説明においてアリー
ル基またはアリレン基における置換基として例示したも
のを挙げることができる。

【００６３】Ｘは下記一般式（１０′）のトリアリール
アミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステ
ル交換法等を用い重合するときに、下記一般式（Ｃ）の
ジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はラン
ダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘ
は下記一般式（１０′）のトリアリールアミノ基を有す
るジオール化合物と下記一般式（Ｃ）から誘導されるビ
スクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単
位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネ
ートは交互共重合体となる。

【００６４】

【化５６】 一般式（Ｃ）のジオール化合物の具体例としては、前記
一般式（１）の説明において例示したものを挙げること
ができる。

【００６５】

【発明の実施の形態】次に、本発明をさらに詳細に説明
する。まず下記一般式（ａ）で表される化合物から説明
を進める。

【化５７】 （式中、Ｒは低級アルキル基を表し、Ｒ′、Ｒ″は置換
もしくは無置換のメチレン基またはエチレン基を表す。
Ａｒ、Ａｒ′は置換もしくは無置換のアリール基を表
す。ｌ′は０〜４の整数、ｍ′またはｎ′は０〜２の整
数を表し、ｍ′＋ｎ′は２以上の整数であり、ｌ′＋
ｍ′＋ｎ′は６以下の整数である。ベンゼン環の未置換
部位は水素原子を表す。）

【００６６】一般式（ａ）におけるＲの低級アルキル基
としては、炭素数１〜６の低級アルキル基が好ましく、
メチル基、エチル基などが挙げられる。また、Ｒ′、
Ｒ″のメチレン基またはエチレン基における置換基とし
ては、メチル基、エチル基等のアルキル基、ベンジル基
等のアラルキル基、フェニル基等のアリール基などが挙
げられる。Ｒ′、Ｒ″は同一でも異なっていてもよい。
Ａｒ、Ａｒ′のアリール基としては、フェニル基、ビフ
ェニル基、ナフチル基などが挙げられ、その置換基とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル
基、ベンジル基等のアラルキル基などが挙げられる。ま
た、Ａｒ、Ａｒ′は同一でも異なっていてもよい。

【００６７】以下に一般式（ａ）で表される化合物の具
体例を表１〜表１０に示すが、これらの具体例に限定さ
れるものではない。

【００６８】

【表１】

【００６９】

【表２】

【００７０】

【表３】

【００７１】

【表４】

【００７２】

【表５】

【００７３】

【表６】

【００７４】

【表７】

【００７５】

【表８】

【００７６】

【表９】

【００７７】

【表１０】

【００７８】次に、本発明の電子写真感光体の構成を図
面によって説明する。図１は、本発明の電子写真感光体
の一例を模式的に示す断面図であり、導電性支持体１の
上に電荷発生層２と電荷輸送層３との積層からなる感光
層４が設けられている。図２は、他の構成の電子写真感
光体を模式的に示す断面図であり、導電性支持体１と感
光層４の間に中間層５が設けられている。図３は、別の
構成の電子写真感光体を模式的に示す断面図であり、感
光層４の上に保護層６が設けられている。図４は、さら
に別の構成の電子写真感光体を模式的に示す断面図であ
り、導電性支持体１と感光層４の間に中間層５が設けら
れ、感光層４の上に保護層６が設けられている。

【００７９】導電性支持体１としては、体積抵抗１×１
０¹⁰Ωｃｍ以下の導電性を示すもの、例えばアルミニウ
ム、ニッケル、クロム、銅、銀、金、白金などの金属、
酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着ま
たはスパッタリングによりフィルム状もしくは円筒状の
プラスチックまたは紙などに被覆したもの、あるいはア
ルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス
などの板およびそれらをＤ．Ｉ．、Ｉ．Ｉ．、押し出
し、引き抜き等の工法で素管化したのち切削、超仕上
げ、研磨等で表面処理した管などを使用することができ
る。

【００８０】電荷発生層２は、電荷発生物質を主成分と
する層であり、電荷発生物質としては、無機系の電荷発
生物質あるいは有機系の電荷発生物質のいずれも用いる
ことができる。

【００８１】無機系の電荷発生物質としては、結晶セレ
ン、アモルファスセレン、セレン−テルル、セレン−テ
ルル−ハロゲン、セレン−ヒ素等のセレン化合物やアモ
ルファスシリコンなどが挙げられる。アモルファスシリ
コンにおいては、ダングリングボンドを水素原子、ハロ
ゲン原子でターミネートしたものや、ホウ素原子、リン
原子等をドープしたものが良好に用いられる。

【００８２】一方、有機系の電荷発生物質としては、公
知の電荷発生物質を用いることが出来る。例えば、金属
フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシ
アニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリツク酸
メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリ
フェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミ
ン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有
するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オ
キサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン
骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨
格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有
するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系また
は多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニル
メタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及
びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔
料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔
料などが挙げられる。これらの電荷発生物質は、単独ま
たは２種以上の混合物として用いることができる。

【００８３】電荷発生層２には、必要に応じてバインダ
ー樹脂を用いることができ、バインダー樹脂としては、
例えばポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリ
ケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル
樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、
ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ−Ｎ−ビニルカ
ルバゾール、ポリアクリルアミドなどが挙げられる。こ
れらは単独または２種以上の混合物として用いることが
できる。

【００８４】電荷発生層２を形成する方法としては、大
別すると、真空薄膜作製法と溶液分散系からのキャステ
ィング法とが挙げられる。真空薄膜作製法としては、真
空蒸着法、グロー放電分解法、イオンプレーティング
法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＣＶ
Ｄ法などが挙げられ、上述した無機系あるいは有機系の
電荷発生物質を用いて電荷発生層を良好に形成すること
ができる。また、キャスティング法によって電荷発生層
を形成するには、上述した無機系あるいは有機系の電荷
発生物質を、必要によりバインダー樹脂と共に、テトラ
ヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジクロ
ロエタン、ブタノン等の溶媒を用いてボールミル、アト
ライター、サンドミルなどにより分散し、分散液を適度
に希釈して塗布し乾燥させればよい。塗布方法として
は、浸漬塗工法、スプレーコート法、ビードコート法な
どを用いることができる。

【００８５】このようにして形成される電荷発生層の膜
厚は、０．０１〜５μｍ程度が適当であり、特に０．０
５〜２μｍが好ましい。

【００８６】電荷輸送層３はトリアリールアミノ基を主
鎖または側鎖に有するポリカーボネート樹脂を主成分と
し、さらに少なくとも前記一般式（ａ）で表される化合
物を含有してなる層であり、トリアリールアミノ基を主
鎖または側鎖に有するポリカーボネート樹脂の含有量と
しては、電荷輸送層の総構成材料１００重量部に対し３
０重量部以上が好ましく、特に５０重量部以上が好まし
い。また、電荷輸送層における前記一般式（ａ）で表さ
れる化合物の含有量としては、トリアリールアミノ基を
主鎖または側鎖に有するポリカーボネート樹脂１００重
量部に対し０．０１〜６０重量部が好ましく、特に０．
１〜４０重量部が好ましい。

【００８７】電荷輸送層を形成するには、トリアリール
アミノ基を主鎖または側鎖に有するポリカーボネート樹
脂と前記一般式（ａ）で表される化合物を適当な溶剤、
例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、
モノクロルベンゼン、ジクロルエタン、塩化メチレン、
シクロヘキサノンなどに溶解あるいは分散し、その溶液
あるいは分散液を電荷発生層上に塗布し乾燥させればよ
い。

【００８８】電荷輸送層には、必要によりレベリング剤
などを添加することもできるし、また必要に応じて、バ
インダー樹脂を併用することも可能である。

【００８９】必要に応じて用いられるバインダー樹脂と
しては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共
重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無
水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノ
キシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エ
チルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルホルマール、ポリビニルトルエン、アクリル樹脂、シ
リコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン
樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性
または熱硬化性樹脂が挙げられる。バインダー樹脂の使
用量は、トリアリールアミノ基を主鎖または側鎖に有す
るポリカーボネート樹脂１００重量部に対して１００重
量部以下が適当である。

【００９０】レベリング剤としては、ジメチルシリコー
ンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどのシリ
コーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有
するポリマーあるいはオリゴマーが使用され、その使用
量は、電荷輸送層中の高分子成分１００重量部に対して
１重量部以下が適当である。

【００９１】また、電荷輸送層には低分子の電荷輸送物
質を併用することが可能である。低分子電荷輸送物質に
は、正孔輸送物質と電子輸送物質とがあり、電子輸送物
質としては、例えば、クロルアニル、ブロムアニル、テ
トラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，
４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，
７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロ
チオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−イン
デノ［１，２−ｂ］チオフェン−４−オン、１，３，７
−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイ
ド、３，５−ジメチル−３′，５′−ジターシヤリーブ
チル−４，４′−ジフェノキノンなどの公知の電子受容
性物質が挙げられる。

【００９２】また、正孔輸送物質としては、例えば、オ
キサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾ
ール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールア
ミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘
導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導
体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導
体、９−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導
体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導休、イン
デン誘導体、ブタジエン誘導体など公知の電子供与性物
質が挙げられる。

【００９３】低分子電荷輸送物質の使用量としては、電
荷輸送層中の高分子成分１００重量部に対して５０重量
部以下が適当である。

【００９４】このようにして形成される電荷輸送層の厚
さは、５〜１００μｍが好ましく、特に１０〜５０μｍ
程度が適当である。

【００９５】本発明の電子写真感光体においては、導電
性支持体と感光層との間に中間層を設けることができ
る。中間層は一般に樹脂を主成分とするが、これらの樹
脂はその上に感光層を溶剤でもって塗布することを考え
ると、一般の有機溶剤にたいして耐溶解性の高い樹脂で
あることが望ましい。このような樹脂としては、ポリビ
ニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム
などの水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化
ナイロンなどのアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、
メラミン樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹
脂等の三次元網目構造を形成する硬化型樹脂などが挙げ
られる。

【００９６】また、中間層にはモアレ防止、残留電位の
低減などのために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化
ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示でき
る金属酸化物の微粉末を加えてもよい。これらの中間層
は、前述の電荷発生層や電荷輸送層の形成のように適当
な溶媒、塗工法を用いて形成することができる。さら
に、中間層としては、シランカップリング剤、チタンカ
ップリング剤、クロムカップリング剤などを使用して、
例えばゾル−ゲル法等により形成した金属酸化物層も有
用である。

【００９７】この他に、中間層にはＡ₁₂Ｏ₃を陽極酸化
によって設けたもの、ポリパラキシリレン（パリレン）
などの有機物や、ＳｉＯ、ＳｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＩＴＯ、
ＣｅＯ₂等の無機物を真空薄膜作製法によってて設けた
ものも良好に使用できる。中間層の膜厚としては５μｍ
以下が適当である。

【００９８】また、本発明における電子写真感光体に
は、感光層を保護する目的で、感光層の上に保護層が設
けられることもある。これに使用される材料としては、
ＡＢＳ樹脂、ＡＣＳ樹脂、オレフィン−ビニルモノマー
共重合体、塩素化ポリエーテル、アリル樹脂、フェノー
ル樹脂、ポリアセタール、ポリアミド、ポリアミドイミ
ド、ポリアクリレート、ポリアリルスルホン、ポリブチ
レン、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト、ポリエーテルスルホン、ポリエチレン、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリイミド、アクリル樹脂、ポリメ
チルペンテン、ポリプロピレン、ポリフェニレンオキシ
ド、ポリスルホン、ＡＳ樹脂、ＡＢ樹脂、ＢＳ樹脂、ポ
リウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エ
ポキシ樹脂などの樹脂が挙げられる。保護層にはその
他、耐摩耗性を向上させる目的で、ポリテトラフルオロ
エチレンのような弗素樹脂、シリコーン樹脂およびこれ
ら樹脂に酸化チタン、酸化スズ、チタン酸カリウム等の
無機材料を分散したものなどを添加することもできる。

【００９９】保護層の形成法としては、通常の塗布法が
採用される。保護層の厚さとしては、０．５〜１０μｍ
程度が適当である。また、以上のほかに真空薄膜作製法
にて形成したａ−Ｃ、ａ−ＳｉＣなど公知の材料も保護
層として用いることができる。

【０１００】さらに、本発明における電子写真感光体に
は、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度の低下、残
留電位の上昇を防止する目的で、電荷発生層、電荷輸送
層、中間層あるいは保護層などに酸化防止剤を添加する
ことができる。特に、酸化防止剤を電荷輸送層に添加す
ることにより、感度の低下や残留電位の上昇をより良く
防止することができる。酸化防止剤としては、例えば、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒ
ドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エ
チルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートなど
のモノフェノール系化合物、２，２′−メチレン−ビス
−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，
２′−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、４，４′−チオビス−（３−メチル−６
−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス
−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）などのビ
スフェノール系化合物、１，１，３−トリス−（２−メ
チル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタ
ン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
ベンゼン、テトラキス−［メチレン−３−（３′，５′
−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート］メタン、ビス［３，３′−ビス（４′−ヒド
ロキシ−３′−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッ
ド］グリコールエステル、トコフェロール類などの高分
子フェノール系化合物、Ｎ−フェニル−Ｎ′−イソプロ
ピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジ−ｓｅｃ
−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ
−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′
−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ′−ジメチル−Ｎ，Ｎ′−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェ
ニレンジアミンなどのパラフェニレンジアミン類、２，
５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジドデ
シルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノン、２
−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ−オク
チル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オクタデ
セニル）−５−メチルハイドロキノンなどのハイドロキ
ノン類、ジラウリル−３，３′−チオジプロピオネー
ト、ジステアリル−３，３′−チオジプロピオネート、
ジテトラデシル−３，３′−チオジプロピオネートなど
の有機硫黄化合物類、トリフェニルホスフィン、トリ
（ノニルフェニル）ホスフィン、トリ（ジノニルフェニ
ル）ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ（２，
４−ジブチルフェノキシ）ホスフインなどの有機燐化合
物類が挙げられる。これら化合物は、ゴム、プラスチッ
ク、油脂類などの酸化防止剤として知られており、市販
品として容易に入手できる。酸化防止剤の添加量として
は、電荷輸送層などの高分子成分１００重量部に対して
０．１〜３０重量部が好ましい。

【０１０１】

【作用】本発明によれば、導電性支持体上に少なくとも
電荷発生層と電荷輸送層が積層されてなる電子写真感光
体において、電荷輸送層に主成分としてトリアリールア
ミノ基を主鎖または側鎖に有するポリカーボネート樹脂
を含有させ、さらに少なくとも前記一般式（ａ）で表さ
れる化合物を含有させることにより、繰り返し使用時の
耐摩耗性に優れ、且つ高感度で光減衰曲線の裾切れが良
好で、また繰り返し使用時の帯電電位の変動が少なく長
期にわたり安定した画像が得られる電子写真感光体が達
成される。このような効果が達成される理由は現在明確
でないが、次のような作用によると考えられる。

【０１０２】従来の低分子電荷輸送材料を高分子樹脂バ
インダー中に５０％程度分散させた電荷輸送層は、繰り
返し使用における膜削れが生じやすいと言う欠点があ
り、これにより感光体の帯電電位の低下、異常画像の発
生が問題となっている。これに対し、本発明の電荷輸送
層はトリアリールアミノ基を主鎖または側鎖に有するポ
リカーボネート樹脂からなる高分子電荷輸送材料を主成
分として用いることにより、全高分子化合物からなる層
に近い強度を有しており、このため繰り返し使用におけ
る膜削れが低減されている。また、本発明の構成により
高感度化、光減衰曲線の裾切れが良好となる理由として
は、次のように考えられる。従来の電子写真感光体の電
荷輸送層に含有されている低分子電荷輸送材料は、自ら
がカチオンラジカルになることにより正孔を移動させて
おり、この中性分子からカチオンラジカルになるときに
立体構造上の変化が生じている。本発明に用いられてい
る高分子電荷輸送材料の場合、電荷輸送を請け負うユニ
ットが高分子鎖中に結合されているため、前記したよう
な構造変化にはより大きなエネルギーが必要とされる。
このため高分子電荷輸送材料を用いた感光体では、低電
界状態において電荷移動が遅くなり、結果として光減衰
の裾切れ低下、低感度が招かれる。本発明では、高分子
電荷輸送材料からなる電荷輸送層に、前記一般式（ａ）
で表される化合物を含有させることにより、電荷輸送層
に可塑化効果を生じ、高分子電荷輸送材料の熱運動性が
向上する。これに伴い、高分子鎖中の電荷輸送を請け負
うユニット（トリアリールアミノ基）の構造変化に必要
なエネルギーが低下し、低電界状態での電荷移動が上昇
し光減衰の裾切れの改善、感度向上が達成されたと推測
される。また、本発明の効果として、繰り返し使用時の
帯電電位の変動が抑制されることがある。電子写真プロ
セスにおいては、一般的に帯電、転写、紙の分離時にコ
ロナ放電に起因するオゾンガスが発生している。このオ
ゾンガスが繰り返し使用時に感光体内に浸透し、帯電性
を徐々に低下させることが知られており、この問題を解
決するために従来の感光体では酸化防止剤の添加、ガス
浸透性を抑える物質の添加、保護膜による表面被覆など
が試みられている。本発明においては高分子電荷輸送材
料からなる電荷輸送層に、前記一般式（ａ）で表される
化合物を含有させることにより、電荷輸送層中へのガス
の浸透性が低下し、繰り返し使用時の帯電電位の変動が
抑えられたと考えられる。

【０１０３】

【実施例】以下に本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれにより限定されるものではない。

【０１０４】実施例１ アルミニウム板上に、メタノールとブタノールとの混合
溶媒に溶解したポリアミド樹脂（ＣＭ−８０００、東レ
社製）溶液をドクターブレードで塗布し、自然乾燥させ
て厚さ０．３μｍの中間層を設けた。ついで電荷発生物
質として下記構造式で表されるビスアゾ化合物をシクロ
ヘキサノンとメチルエチルケトンとの混合溶媒中でボー
ルミルにより粉砕し、得られた分散液を中間層上にドク
ターブレードで塗布し、自然乾燥させて厚さ約１μｍの
電荷発生層を形成した。

【化５８】

【０１０５】次に、下記繰り返し単位を有するポリカー
ボネート樹脂（Ｐｃ−１）１００重量部と下記構造式で
表される添加化合物（Ｉ−１２）２０重量部とをジクロ
ロメタンに溶解し、この溶液を電荷発生層上にドクター
ブレードで塗布し自然乾燥させ、ついで１２０℃で２０
分間乾燥させて厚さ約２０μｍの電荷輸送層を形成し、
電子写真感光体を作成した。

【化５９】

【０１０６】実施例２ 実施例１における添加化合物（Ｉ−１２）を下記構造式
で表される添加化合物（Ｉ−３４）に代えた以外は実施
例１と同様にして電子写真感光体を作成した。

【化６０】

【０１０７】実施例３ 実施例１における添加化合物（Ｉ−１２）を下記構造式
で表される添加化合物（Ｉ−７０）に代えた以外は実施
例１と同様にして電子写真感光体を作成した。

【０１０８】

【化６１】

【０１０９】実施例４ 実施例１におけるポリカーボネート樹脂（Ｐｃ−１）を
下記繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂（Ｐｃ
−２）に代えた以外は実施例１と同様にして電子写真感
光体を作成した。

【化６２】

【０１１０】実施例５ 実施例１におけるポリカーボネート樹脂（Ｐｃ−１）を
下記繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂（Ｐｃ
−３）に代えた以外は実施例１と同様にして電子写真感
光体を作成した。

【化６３】

【０１１１】実施例６ 実施例１におけるポリカーボネート樹脂（Ｐｃ−１）を
下記繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂（Ｐｃ
−４）に代えた以外は実施例１と同様にして電子写真感
光体を作成した。

【化６４】

【０１１２】実施例７ 実施例１におけるポリカーボネート樹脂（Ｐｃ−１）を
下記繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂（Ｐｃ
−５）に代え、添加化合物（Ｉ−１２）を下記構造式で
表される添加化合物（Ｉ−５２）に代えた以外は実施例
１と同様にして電子写真感光体を作成した。

【化６５】

【０１１３】実施例８ 実施例１におけるポリカーボネート樹脂（Ｐｃ−１）を
下記繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂（Ｐｃ
−６）に代えた以外は実施例１と同様にして電子写真感
光体を作成した。

【化６６】

【０１１４】実施例９ 実施例１におけるポリカーボネート樹脂（Ｐｃ−１）を
下記繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂（Ｐｃ
−７）に代え、添加化合物（Ｉ−１２）を実施例２の添
加化合物（Ｉ−３４）に代えた以外は実施例１と同様に
して電子写真感光体を作成した。

【化６７】

【０１１５】実施例１０ 実施例１におけるポリカーボネート樹脂（Ｐｃ−１）を
下記繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂（Ｐｃ
−８）に代えた以外は実施例１と同様にして電子写真感
光体を作成した。

【化６８】

【０１１６】実施例１１ 実施例１におけるポリカーボネート樹脂（Ｐｃ−１）を
下記繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂（Ｐｃ
−９）に代えた以外は実施例１と同様にして電子写真感
光体を作成した。

【化６９】

【０１１７】実施例１２ 実施例１におけるポリカーボネート樹脂（Ｐｃ−１）を
下記繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂（Ｐｃ
−１０）に代え、添加化合物（Ｉ−１２）を実施例３の
添加化合物（Ｉ−７０）に代えた以外は実施例１と同様
にして電子写真感光体を作成した。

【化７０】

【０１１８】実施例１３ 実施例１におけるポリカーボネート樹脂（Ｐｃ−１）を
下記繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂（Ｐｃ
−１１）に代え、添加化合物（Ｉ−１２）を実施例７の
添加化合物（Ｉ−５２）に代えた以外は実施例１と同様
にして電子写真感光体を作成した。

【化７１】

【０１１９】実施例１４ 実施例１におけるポリカーボネート樹脂（Ｐｃ−１）を
下記繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂（Ｐｃ
−１２）に代えた以外は実施例１と同様にして電子写真
感光体を作成した。

【化７２】

【０１２０】比較例１ 実施例１において、ポリカーボネート樹脂（Ｐｃ−１）
１００重量部をジクロロメタンに溶解し、この溶液を電
荷発生層上にドクターブレードで塗布し自然乾燥させ、
ついで１２０℃で２０分間乾燥させて厚さ約２０μｍの
電荷輸送層〔化合物（Ｉ−１２）が添加されていない電
荷輸送層〕を形成した以外は実施例１と同様にして比較
例１の電子写真感光体を作成した。

【０１２１】比較例２〜１２ 比較例１におけるポリカーボネート樹脂（Ｐｃ−１）を
上記実施例において示したＰｃ−２〜Ｐｃ−１２のそれ
ぞれに代えた以外は比較例１と同様にして比較例２〜１
２の電子写真感光体を作成した。

【０１２２】このようにして得られた実施例１〜実施例
１４の電子写真感光体、および比較例１〜比較例１２の
電子写真感光体について、静電複写紙試験装置（川口電
機製作所製、ＳＰ４２８型）を用い、暗所で感光体に−
６ＫＶのコロナ放電を行い、表面電位が−８００Ｖにな
ったところで感光体表面に照度１０ルックスのタングス
テンランプ光を照射し、表面電位が−８０Ｖになるのに
必要な露光量Ｅ１／１０（ｌｕｘ・ｓｅｃ）を測定し
た。その結果を表１１に示す。

【０１２３】

【表１１】 表１１から明らかなように、トリアリールアミノ基を主
鎖または側鎖に有するポリカーボネート樹脂を主成分と
し、少なくとも前記一般式（ａ）で表される化合物を含
有させた電荷輸送層を有する実施例の電子写真感光体
は、前記一般式（ａ）で表される化合物を含有していな
い電荷輸送層を有する比較例の電子写真感光体に比べ、
高感度であり、特に光減曲線の裾切れが良好である。

【０１２４】実施例１５ メタノールとブタノールとの混合溶媒に溶解したポリア
ミド樹脂（ＣＭ−８０００、東レ社製）溶液を用い、浸
漬塗布法によりアルミ素管上に厚さ０．３μｍの中間層
を設けた。ついで実施例１におけるビスアゾ化合物をシ
クロヘキサノンとメチルエチルケトンとの混合溶媒中で
ボールミルにより粉砕し、得られた分散液を用いて浸漬
塗布法により中間層上に厚さ０．５μｍの電荷発生層を
形成した。 次に、下記繰り返し単位を有するポリカー
ボネート樹脂（Ｐｃ−１３）１００重量部と実施例１の
添加化合物（Ｉ−１２）２０重量部とをジクロロメタン
に溶解し、この溶液を浸漬塗布法により電荷発生層上に
塗布し自然乾燥させ、ついで１２０℃で２０分間乾燥さ
せて厚さ約３０μｍの電荷輸送層を形成し、電子写真感
光体を作成した。

【化７３】

【０１２５】実施例１６ 実施例１５におけるポリカーボネート樹脂（Ｐｃ−１
３）を下記繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂
（Ｐｃ−１４）に代え、添加化合物（Ｉ−１２）を実施
例７の添加化合物（Ｉ−５２）に代えた以外は実施例３
１と同様にして電子写真感光体を作成した。

【化７４】

【０１２６】比較例１３ 実施例１５と同様にしてアルミ素管上に中間層および電
荷発生層を形成し、電荷発生層上にポリカーボネート樹
脂（Ｃ−１４００、帝人化成社製）１００重量部および
下記構造式の低分子電荷輸送物質９０重量を含有する厚
さ約３０μｍの電荷輸送層を形成し、比較例の電子写真
感光体を作成した。

【化７５】

【０１２７】このようにして得られた実施例１５、実施
例１６、比較例１３の電子写真感光体を電子写真複写機
（ＦＴ−２７００、リコー社製）に搭載し、Ａ４縦長サ
イズ５万枚の複写を行った後、感光体の摩耗量（電荷輸
送層の膜厚減少量）を測定した。その結果を表１２に示
す。

【０１２８】

【表１２】

【０１２９】表１２から明らかなように、トリアリール
アミノ基を主鎖または側鎖に有するポリカーボネート樹
脂を主成分とし、少なくとも前記一般式（ａ）で表され
る化合物を含有させた電荷輸送層を有する実施例の電子
写真感光体は、低分子電荷輸送物質を含有させた電荷輸
送層を有する比較例の電子写真感光体に比べ、繰り返し
使用時における耐摩耗性に優れているものである。

【０１３０】実施例１７ φ１００ｍｍのアルミニウムドラム上に、下記組成の下
引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗
工液を順次、塗布乾燥することにより、３．５μｍの下
引き層、０．３μｍの電荷発生層、３０μｍの電荷輸送
層を形成して、本発明の電子写真感光体を作成した。

【０１３１】 〔下引き層用塗工液〕 アルキッド樹脂（ベッコゾール １３０７−６０−ＥＬ、 大日本インキ化学工業社製） ６部 メラミン樹脂（スーパーベッカミン Ｇ−８２１−６０、 大日本インキ化学工業社製） ４部 酸化チタン ４０部 メチルエチルケトン ２００部

【０１３２】 〔電荷発生層用塗工液〕 オキソチタニュウムフタロシアニン顔料 ３部 ブチラール樹脂（ＸＹＨＬ、ＵＣＣ社製） ２部 テトラヒドロフラン １２０部

【０１３３】〔電荷輸送層用塗工液〕

【化７６】 Ｉ−１２ １部 ジクロロメタン １１０部

【０１３４】実施例１８ 実施例１７の電荷輸送層におけるポリカーボネート樹脂
（Ｐｃ−１５）をＰｃ−２のポリカーボネート樹脂に、
添加化合物Ｉ−１２をＩ−７０にそれぞれ変えた以外
は、実施例１７と同様にして電子写真感光体を作成し
た。

【０１３５】実施例１９ 実施例１７の電荷輸送層におけるポリカーボネート樹脂
（Ｐｃ−１５）を下記構造のポリカーボネート樹脂（Ｐ
ｃ−１６）に、添加化合物Ｉ−１２をＩ−７０にそれぞ
れ変え、以下の塗工液により塗布した以外は、実施例１
７と同様にして電子写真感光体を作成した。

【０１３６】〔電荷輸送層用塗工液〕

【化７７】 Ｉ−５２ ２部 ジクロロメタン １１０部

【０１３７】比較例１４ 実施例１７の電荷輸送層に添加化合物（Ｉ−１２）を加
えないこと以外は、実施例１７と同様にして電子写真感
光体を作成した。

【０１３８】比較例１５ 実施例１８の電荷輸送層に添加化合物（Ｉ−７０）を加
えないこと以外は、実施例１８と同様にして電子写真感
光体を作成した。

【０１３９】比較例１６ 実施例１９の電荷輸送層に添加化合物（Ｉ−５２）を加
えないこと以外は、実施例１９と同様にして電子写真感
光体を作成した。

【０１４０】このようにして得られた実施例１７〜実施
例１９、比較例１４〜比較例１６の電子写真感光体を電
子写真複写機（ｉｍａｇｉｏ ＤＡ３５５ リコー社
製）に搭載し、初期感光体表面の帯電電位（Ｖｄ）を−
８５０Ｖに設定し、Ａ４縦長サイズ１０万枚の複写を行
った後の感光体表面の帯電電位変化ΔＶｄを測定した。
その結果を表１３に示す。

【０１４１】

【表１３】

【０１４２】表１３から明らかなように、トリアリール
アミノ基を主鎖または側鎖に有するポリカーボネート樹
脂を主成分とする電荷輸送層に本発明の添加化合物を含
有させることにより、無添加の感光体に比べ繰り返し使
用時における帯電電位の変動が抑制される。

【０１４３】

【発明の効果】本発明によれば、導電性支持体上に少な
くとも電荷発生層と電荷輸送層が積層されてなる電子写
真感光体において、電荷輸送層に主成分としてトリアリ
ールアミノ基を主鎖または側鎖に有するポリカーボネー
ト樹脂を含有させ、さらに少なくとも前記一般式（ａ）
で表される化合物を含有させることにより、繰り返し使
用時における耐摩耗性に優れ、且つ高感度で光減衰曲線
の裾切れが良好で、また繰り返し使用時の帯電電位の変
動が少なく長期にわたり安定した画像が得られる電子写
真感光体を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の電子写真感光体の一例を模式的に示す
断面図である。

【図２】本発明の他の構成の電子写真感光体を模式的に
示す断面図である。

【図３】本発明の別の構成の電子写真感光体を模式的に
示す断面図である。

【図４】本発明のさらに別の構成の電子写真感光体を模
式的に示す断面図である。

【符号の説明】

１ 導電性支持体 ２ 電荷発生層 ３ 電荷輸送層 ４ 感光層 ５ 中間層 ６ 保護層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大田 勝一 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 鈴木 康夫 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 新美 達也 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 田村 宏 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性支持体上に少なくとも電荷発生層
   と電荷輸送層が積層されてなる電子写真感光体におい
   て、電荷輸送層がトリアリールアミノ基を主鎖または側
   鎖に有するポリカーボネート樹脂を主成分とし、少なく
   とも下記一般式（ａ）で表される化合物を含有すること
   を特徴とする電子写真感光体。 【化１】 （式中、Ｒは低級アルキル基を表し、Ｒ′、Ｒ″は置換
   もしくは無置換のメチレン基またはエチレン基を表す。
   Ａｒ、Ａｒ′は置換もしくは無置換のアリール基を表
   す。ｌ′は０〜４の整数、ｍ′またはｎ′は０〜２の整
   数を表し、ｍ′＋ｎ′は２以上の整数であり、ｌ′＋
   ｍ′＋ｎ′は６以下の整数である。ベンゼン環の未置換
   部位は水素原子を表す。）
2. 【請求項２】 トリアリールアミノ基を主鎖または側鎖
   に有するポリカーボネート樹脂が下記一般式（１）で表
   される高分子化合物であることを特徴とする請求項１記
   載の電子写真感光体。 【化２】 ｛式中、Ｒ'₁、Ｒ'₂、Ｒ'₃は、それぞれ独立して置換も
   しくは無置換のアルキル基またはハロゲン原子を表し、
   Ｒ'₄は水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基
   を表す。Ｒ₁、Ｒ₂は置換もしくは無置換のアリール基を
   表す。ｏ、ｐ、ｑは、それぞれ独立して０〜４の整数を
   表す。ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦１、０≦ｊ≦
   ０．９であり、ｎは繰り返し単位数を表し、５〜５００
   ０の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、環状脂肪族の２
   価基、または下記一般式（Ａ）で表される２価基を表
   す。 【化３】 〔式中、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は、それぞれ独立して置換もしくは
   無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
   表し、ｌ、ｍは０〜４の整数を表す。Ｙは単結合、炭素
   原子数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
   レン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｃ
   Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の
   ２価基を表す）または下記一般式（Ｂ） 【化４】 （式中、ａは１〜２０の整数を表し、ｂは１〜２０００
   の整数を表す。Ｒ₂₆、Ｒ₂₇は置換または無置換のアルキ
   ル基またはアリール基を表す。）を表す。Ｒ₂₄とＲ₂₅、
   Ｒ₂₆とＲ₂₇はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
   い。〕｝
3. 【請求項３】 トリアリールアミノ基を主鎖または側鎖
   に有するポリカーボネート樹脂が下記一般式（２）で表
   される高分子化合物であることを特徴とする請求項１記
   載の電子写真感光体。 【化５】 ｛式中、Ｒ₃、Ｒ₄は置換もしくは無置換のアリール基を
   表し、Ａｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ₃は同一または異なるアリレ
   ン基を表す。ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦１、０
   ≦ｊ≦０．９であり、ｎは繰り返し単位数を表し、５〜
   ５０００の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、環状脂肪
   族の２価基、または下記一般式（Ａ）で表される２価基
   を表す。 【化６】 〔式中、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は、それぞれ独立して置換もしくは
   無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
   表し、ｌ、ｍは０〜４の整数を表す。Ｙは単結合、炭素
   原子数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
   レン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｃ
   Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の
   ２価基を表す）または下記一般式（Ｂ） 【化７】 （式中、ａは１〜２０の整数を表し、ｂは１〜２０００
   の整数を表す。Ｒ₂₆、Ｒ₂₇は置換または無置換のアルキ
   ル基またはアリール基を表す。）を表す。Ｒ₂₄とＲ₂₅、
   Ｒ₂₆とＲ₂₇はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
   い。〕｝
4. 【請求項４】 トリアリールアミノ基を主鎖または側鎖
   に有するポリカーボネート樹脂が下記一般式（３）で表
   される高分子化合物であることを特徴とする請求項１記
   載の電子写真感光体。 【化８】 ｛式中、Ｒ₅、Ｒ₆は置換もしくは無置換のアリール基を
   表し、Ａｒ₄、Ａｒ₅、Ａｒ₆は同一または異なるアリレ
   ン基を表す。ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦１、０
   ≦ｊ≦０．９であり、ｎは繰り返し単位数を表し、５〜
   ５０００の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、環状脂肪
   族の２価基、または下記一般式（Ａ）で表される２価基
   を表す。 【化９】 〔式中、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は、それぞれ独立して置換もしくは
   無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
   表し、ｌ、ｍは０〜４の整数を表す。Ｙは単結合、炭素
   原子数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
   レン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｃ
   Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の
   ２価基を表す）または下記一般式（Ｂ） 【化１０】 （式中、ａは１〜２０の整数を表し、ｂは１〜２０００
   の整数を表す。Ｒ₂₆、Ｒ₂₇は置換または無置換のアルキ
   ル基またはアリール基を表す。）を表す。Ｒ₂₄とＲ₂₅、
   Ｒ₂₆とＲ₂₇はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
   い。〕｝
5. 【請求項５】 トリアリールアミノ基を主鎖または側鎖
   に有するポリカーボネート樹脂が下記一般式（４）で表
   される高分子化合物であることを特徴とする請求項１記
   載の電子写真感光体。 【化１１】 ｛式中、Ｒ₇、Ｒ₈は置換もしくは無置換のアリール基を
   表し、Ａｒ₇、Ａｒ₈、Ａｒ₉は同一または異なるアリレ
   ン基を表す。ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦１、０
   ≦ｊ≦０．９であり、ｎは繰り返し単位数を表し、５〜
   ５０００の整数である。ｒは１〜５の整数を表す。Ｘは
   脂肪族の２価基、環状脂肪族の２価基、または下記一般
   式（Ａ）で表される２価基を表す。 【化１２】 〔式中、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は、それぞれ独立して置換もしくは
   無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
   表し、ｌ、ｍは０〜４の整数を表す。Ｙは単結合、炭素
   原子数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
   レン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｃ
   Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の
   ２価基を表す）または下記一般式（Ｂ） 【化１３】 （式中、ａは１〜２０の整数を表し、ｂは１〜２０００
   の整数を表す。Ｒ₂₆、Ｒ₂₇は置換または無置換のアルキ
   ル基またはアリール基を表す。）を表す。Ｒ₂₄とＲ₂₅、
   Ｒ₂₆とＲ₂₇はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
   い。〕｝
6. 【請求項６】 トリアリールアミノ基を主鎖または側鎖
   に有するポリカーボネート樹脂が下記一般式（５）で表
   される高分子化合物であることを特徴とする請求項１記
   載の電子写真感光体。 【化１４】 ｛式中、Ｒ₉、Ｒ₁₀は置換もしくは無置換のアリール基
   を表し、Ａｒ₁₀、Ａｒ₁₁、Ａｒ₁₂は同一または異なるア
   リレン基を表す。Ｘ₁、Ｘ₂は置換もしくは無置換のエチ
   レン基または置換もしくは無置換のビニレン基を表す。
   ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦１、０≦ｊ≦０．９
   であり、ｎは繰り返し単位数を表し、５〜５０００の整
   数である。Ｘは脂肪族の２価基、環状脂肪族の２価基、
   または下記一般式（Ａ）で表される２価基を表す。 【化１５】 〔式中、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は、それぞれ独立して置換もしくは
   無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
   表し、ｌ、ｍは０〜４の整数を表す。Ｙは単結合、炭素
   原子数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
   レン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｃ
   Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の
   ２価基を表す）または下記一般式（Ｂ） 【化１６】 （式中、ａは１〜２０の整数を表し、ｂは１〜２０００
   の整数を表す。Ｒ₂₆、Ｒ₂₇は置換または無置換のアルキ
   ル基またはアリール基を表す。）を表す。Ｒ₂₄とＲ₂₅、
   Ｒ₂₆とＲ₂₇はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
   い。〕｝
7. 【請求項７】 トリアリールアミノ基を主鎖または側鎖
   に有するポリカーボネート樹脂が下記一般式（６）で表
   される高分子化合物であることを特徴とする請求項１記
   載の電子写真感光体。 【化１７】 ｛式中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄は置換もしくは無置換
   のアリール基を表し、Ａｒ₁₃、Ａｒ₁₄、Ａｒ₁₅、Ａｒ₁₆
   は同一または異なるアリレン基を表す。Ｙ₁、Ｙ₂、Ｙ₃
   は単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換も
   しくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置
   換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子または
   ビニレン基を表し、同一であっても異なっていてもよ
   い。ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦１、０≦ｊ≦
   ０．９であり、ｎは繰り返し単位数を表し、５〜５００
   ０の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、環状脂肪族の２
   価基、または下記一般式（Ａ）で表される２価基を表
   す。 【化１８】 〔式中、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は、それぞれ独立して置換もしくは
   無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
   表し、ｌ、ｍは０〜４の整数を表す。Ｙは単結合、炭素
   原子数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
   レン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｃ
   Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の
   ２価基を表す）または下記一般式（Ｂ） 【化１９】 （式中、ａは１〜２０の整数を表し、ｂは１〜２０００
   の整数を表す。Ｒ₂₆、Ｒ₂₇は置換または無置換のアルキ
   ル基またはアリール基を表す。）を表す。Ｒ₂₄とＲ₂₅、
   Ｒ₂₆とＲ₂₇はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
   い。〕｝
8. 【請求項８】 トリアリールアミノ基を主鎖または側鎖
   に有するポリカーボネート樹脂が下記一般式（７）で表
   される高分子化合物であることを特徴とする請求項１記
   載の電子写真感光体。 【化２０】 ｛式中、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆は水素原子、置換もしくは無置換の
   アリール基を表し、Ｒ₁₅とＲ₁₆は環を形成していてもよ
   い。Ａｒ₁₇、Ａｒ₁₈、Ａｒ₁₉は同一または異なるアリレ
   ン基を表す。ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦１、０
   ≦ｊ≦０．９であり、ｎは繰り返し単位数を表し、５〜
   ５０００の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、環状脂肪
   族の２価基、または下記一般式（Ａ）で表される２価基
   を表す。 【化２１】 〔式中、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は、それぞれ独立して置換もしくは
   無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
   表し、ｌ、ｍは０〜４の整数を表す。Ｙは単結合、炭素
   原子数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
   レン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｃ
   Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の
   ２価基を表す）または下記一般式（Ｂ） 【化２２】 （式中、ａは１〜２０の整数を表し、ｂは１〜２０００
   の整数を表す。Ｒ₂₆、Ｒ₂₇は置換または無置換のアルキ
   ル基またはアリール基を表す。）を表す。Ｒ₂₄とＲ₂₅、
   Ｒ₂₆とＲ₂₇はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
   い。〕｝
9. 【請求項９】 トリアリールアミノ基を主鎖または側鎖
   に有するポリカーボネート樹脂が下記一般式（８）で表
   される高分子化合物であることを特徴とする請求項１記
   載の電子写真感光体。 【化２３】 ｛式中、Ｒ₁₇は置換もしくは無置換のアリール基を表
   し、Ａｒ₂₀、Ａｒ₂₁、Ａｒ₂₂、Ａｒ₂₃は同一または異な
   るアリレン基を表す。ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ
   ≦１、０≦ｊ≦０．９であり、ｎは繰り返し単位数を表
   し、５〜５０００の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、
   環状脂肪族の２価基、または下記一般式（Ａ）で表され
   る２価基を表す。 【化２４】 〔式中、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は、それぞれ独立して置換もしくは
   無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
   表し、ｌ、ｍは０〜４の整数を表す。Ｙは単結合、炭素
   原子数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
   レン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｃ
   Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の
   ２価基を表す）または下記一般式（Ｂ） 【化２５】 （式中、ａは１〜２０の整数を表し、ｂは１〜２０００
   の整数を表す。Ｒ₂₆、Ｒ₂₇は置換または無置換のアルキ
   ル基またはアリール基を表す。）を表す。Ｒ₂₄とＲ₂₅、
   Ｒ₂₆とＲ₂₇はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
   い。〕｝
10. 【請求項１０】 トリアリールアミノ基を主鎖または側
    鎖に有するポリカーボネート樹脂が下記一般式（９）で
    表される高分子化合物であることを特徴とする請求項１
    記載の電子写真感光体。 【化２６】 ｛式中、Ｒ₁₈、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂₁は置換もしくは無置換
    のアリール基を表し、Ａｒ₂₄、Ａｒ₂₅、Ａｒ₂₆、Ａ
    ｒ₂₇、Ａｒ₂₈は同一または異なるアリレン基を表す。
    ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦１、０≦ｊ≦０．９
    であり、ｎは繰り返し単位数を表し、５〜５０００の整
    数である。Ｘは脂肪族の２価基、環状脂肪族の２価基、
    または下記一般式（Ａ）で表される２価基を表す。 【化２７】 〔式中、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は、それぞれ独立して置換もしくは
    無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
    表し、ｌ、ｍは０〜４の整数を表す。Ｙは単結合、炭素
    原子数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
    レン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｃ
    Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の
    ２価基を表す）または下記一般式（Ｂ） 【化２８】 （式中、ａは１〜２０の整数を表し、ｂは１〜２０００
    の整数を表す。Ｒ₂₆、Ｒ₂₇は置換または無置換のアルキ
    ル基またはアリール基を表す。）を表す。Ｒ₂₄とＲ₂₅、
    Ｒ₂₆とＲ₂₇はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
    い。〕｝
11. 【請求項１１】 トリアリールアミノ基を主鎖または側
    鎖に有するポリカーボネート樹脂が下記一般式（１０）
    で表される高分子化合物であることを特徴とする請求項
    １記載の電子写真感光体。 【化２９】 ｛式中、Ｒ₂₂、Ｒ₂₃は置換もしくは無置換のアリール基
    を表し、Ａｒ₂₉、Ａｒ₃₀、Ａｒ₃₁は同一または異なるア
    リレン基を表す。ｋ、ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦
    １、０≦ｊ≦０．９であり、ｎは繰り返し単位数を表
    し、５〜５０００の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、
    環状脂肪族の２価基、または下記一般式（Ａ）で表され
    る２価基を表す。 【化３０】 〔式中、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は、それぞれ独立して置換もしくは
    無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を
    表し、ｌ、ｍは０〜４の整数を表す。Ｙは単結合、炭素
    原子数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキ
    レン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｃ
    Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の
    ２価基を表す）または下記一般式（Ｂ） 【化３１】 （式中、ａは１〜２０の整数を表し、ｂは１〜２０００
    の整数を表す。Ｒ₂₆、Ｒ₂₇は置換または無置換のアルキ
    ル基またはアリール基を表す。）を表す。Ｒ₂₄とＲ₂₅、
    Ｒ₂₆とＲ₂₇はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
    い。〕｝