JP2001296681A - 電子写真感光体、それを用いた電子写真方法、電子写真装置および電子写真装置用プロセスカートリッジ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高性能、長寿命、高信頼性を高いレ
ベルで達成する有機系電子写真感光体を提供すること、
特に画質再現性、耐摩耗性に優れ、耐久性及び光感度に
も優れた有機系電子写真感光体を提供すること。 【解決手段】 導電性支持体上に少なくとも、平均
粒径の異なる二種の無機化合物を含有する中間層、電荷
発生層、電荷輸送層を順次形成してなる電子写真感光体
において、該中間層に含まれる無機化合物の一方の平均
粒径をＤ₁とし、他方の無機化合物の平均粒径をＤ₂とし
た場合、Ｄ₂／Ｄ₁≦１／５の関係を満たし、かつ導電性
基体より最も離れた表面側からの少なくとも１層に、高
分子電荷輸送物質を含有するものであることを特徴とす
る電子写真感光体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真複写機、
ファクシミリ、レーザープリンタ、ダイレクトデジタル
製版機等の電子写真プロセスに用いられる電子写真感光
体に関するものであり、さらに詳しくは高感度、高画質
で、耐久性に非常に優れた電子写真感光体に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】複写機、ファクシミリ、レーザープリン
タ、ダイレクトデジタル製版機等に応用されている電子
写真感光体を用いた電子写真方法とは、少なくとも電子
写真感光体に一次帯電、画像露光、現像の過程を経た
後、画像保持体（転写紙）へのトナー画像の転写、定着
及び電子写真感光体表面のクリーニングというプロセス
よりなる方法である。

【０００３】電子写真感光体が、この電子写真法におい
て要求される基本的な特性としては、暗所で適当な電
位に帯電できること；暗所に於いて電荷の散逸が少な
いこと；光照射によって速やかに電荷を散逸できるこ
と；等が挙げられる。更にこれらの特性以外に画質特性
等の長期信頼性や低公害性、コストの低さ等も要求され
る。

【０００４】従来、電子写真方式に於いて使用される感
光体としては導電性支持体上にセレンないしセレン合金
を主体とする光導電層を設けたもの、酸化亜鉛・硫化カ
ドミウム等の無機系光導電材料をバインダー中に分散さ
せたもの、及び非晶質シリコン系材料を用いたもの等が
一般的に知られているが、近年ではコストの低さ、感光
体設計の自由度の高さ、無公害性等から有機系感光体が
広く利用されるようになってきている。

【０００５】有機系の電子写真感光体には、ポリビニル
カルバゾール（ＰＶＫ）に代表される光導電性樹脂、Ｐ
ＶＫ−ＴＮＦ（２，４，７−トリニトロフルオレノン）
に代表される電荷移動錯体型、フタロシアニン−バイン
ダーに代表される顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送
物質とを組み合わせて用いる機能分離型の感光体などが
知られており、特に機能分離型の感光体が注目されてい
る。

【０００６】この機能分離型の感光体における静電潜像
形成のメカニズムは、感光体を帯電した後光照射する
と、光は透明な電荷輸送層を通過し、電荷発生層中の電
荷発生物質により吸収され、光を吸収した電荷発生物質
は電荷担体を発生し、この電荷担体は電荷輸送層に注入
され、帯電によって生じている電界にしたがって電荷輸
送層中を移動し、感光体表面の電荷を中和することによ
り静電潜像を形成するものである。機能分離型感光体に
おいては、主に紫外部に吸収を持つ電荷輸送物質と、主
に可視部に吸収を持つ電荷発生物質とを組み合わせて用
いることが知られており、かつ有用である。

【０００７】ところが、電子写真方法に用いられる有機
系電子写真感光体の電荷輸送物質は多くが低分子化合物
として開発されているが、低分子化合物は単独で成膜性
がないため、通常、不活性高分子に分散・混合して用い
られる。しかるに、低分子電荷輸送物質と不活性高分子
からなる電荷輸送層は一般に柔らかく、電子写真プロセ
スにおいて繰り返し使用された場合に現像システムやク
リーニングシステムによる機械的な感光体表面への負荷
により膜削れを生じやすいという耐摩耗性の低さが短所
として挙げられる。

【０００８】更に、この構成の電荷輸送層は電荷移動度
に限界があり、電子写真プロセスの高速化あるいは小型
化の障害となっていた。これは通常低分子電荷輸送物質
の含有量が５０重量％以下で使用されることに起因して
いる。即ち低分子電荷輸送物質の含有量を増すことで確
かに電荷移動度は上げられるが、このとき逆に製膜性や
耐摩耗性が劣化するためである。

【０００９】この有機系感光体の特性を改善する技術と
して有機系感光体のバインダー樹脂を改良したもの（特
開平５−２１６２５０号公報）や高分子型の電荷輸送物
質（特開昭５１−７３８８８号公報、特開昭５４−８５
２７号公報、特開昭５４−１１７３７号公報、特開昭５
６−１５０７４９号公報、特開昭５７−７８４０２号公
報、特開昭６３−２８５５５２号公報、特開平１−１７
２８号公報、特開平１−１９０４９号公報、特開平３−
５０５５５号公報、特開平４−２２５０１４号公報、特
開平５−３３１２３８号公報等）が注目され開示されて
いる。

【００１０】しかしながら近年、耐摩耗性だけでなく、
電子写真複写機の高速化、高耐久化、大型化等が進むな
か、感光体に対しても長期繰返し使用に際し、高画質を
保つことのできる信頼性（種々特性の安定性、耐摩耗
性、剥離に対する耐久性等）が強く要求されるようにな
ってきている。

【００１１】有機系感光体における本特性を改善する技
術の一つとして、導電性支持体上に中間層を設けたのち
感光層を設けることが提案されている。この例として、
導電性支持体上に樹脂層を設けたもの、無機顔料（酸化
チタン、酸化スズ等）を樹脂中に分散させたもの（特開
昭６１−２０４６４２号公報他）等が知られている。こ
の方法は比較的コストも低く、効果も良好なため数多く
の感光体に応用されている。

【００１２】しかしながら樹脂のみの中間層、または樹
脂中に無機顔料を分散した中間層を設けた構成の感光体
は、初期のうちは、良好な特性を維持しているが、数万
枚以上長期的に繰り返し使用された場合、徐々に画像上
の欠陥（地汚れ、黒ポチ等）が顕著になるという問題を
有しているのが実状である。

【００１３】したがって、これら従来の感光体は耐摩耗
性、光照射によって速やかに電荷を散逸できるという条
件すなわち光感度、画像品質のいずれかが未だ不十分で
あった。

【００１４】すなわち、耐摩耗性、光感度、画像品質の
全てを満足し、かつこれらの特性の長期持続性を有して
いる電子写真感光体は得られていなかった。言い換える
とこれまでの電子写真感光体は、電子写真エンジンが近
年要求されている高性能、長寿命、高信頼性を高いレベ
ルで達成するためには不十分であり改良が強く望まれて
いた。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高性
能、長寿命、高信頼性を高いレベルで達成する有機系電
子写真感光体を提供することにあり、特に画質再現性、
耐摩耗性に優れ、耐久性及び光感度にも優れた有機系電
子写真感光体を提供することにある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】上記課題は、本発明の、
（１）「導電性支持体上に少なくとも、平均粒径の異な
る二種の無機化合物を含有する中間層、電荷発生層、電
荷輸送層を順次形成してなる電子写真感光体において、
該中間層に含まれる無機化合物の一方の平均粒径をＤ₁
とし、他方の無機化合物の平均粒径をＤ₂とした場合、
Ｄ₂／Ｄ₁≦１／５の関係を満たし、かつ導電性基体より
最も離れた表面側からの少なくとも１層に、高分子電荷
輸送物質を含有するものであることを特徴とする電子写
真感光体」、（２）「前記中間層に含まれる無機化合物
のうち少なくとも一つは酸化チタンであることを特徴と
する前記第（１）項記載の電子写真感光体」、（３）
「前記中間層に含まれる結着樹脂がアルキッド樹脂とメ
ラミン樹脂からなることを特徴とする前記第（１）項ま
たは前記第（２）項記載の電子写真感光体」、（４）
「前記、導電性基体より最も離れた表面側からの少なく
とも１層に含まれる高分子電荷輸送物質が下記一般式
（１）で表わされることを特徴とする前記第（１）項乃
至前記第（３）項の何れか１に記載の電子写真感光体。

【００１７】

【化１３】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃はそれぞれ独立して置換もしく
は無置換のアルキル基又はハロゲン原子、Ｒ₄は水素原
子又は置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ₅、Ｒ ₆は置
換もしくは無置換のアリール基、ｏ、ｐ、ｑはそれぞれ
独立して０〜４の整数、ｋ、ｊは組成を表わし、０．１
≦ｋ≦１、０≦ｊ≦０．９、ｎは繰り返し単位数を表わ
し５〜５０００の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、環
状脂肪族の２価基、または下記一般式で表わされる２価
基を表わす。

【００１８】

【化１４】 式中、Ｒ₁₀₁，Ｒ₁₀₂は各々独立して置換もしくは無置換
のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を表わ
す。ｌ、ｍは０〜４の整数、Ｙは単結合、炭素原子数１
〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキレン基、
−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−
ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の２価基を
表わす。）または、

【００１９】

【化１５】 （式中、ａは１〜２０の整数、ｂは１〜２０００の整
数、Ｒ₁₀₃、Ｒ₁₀₄は置換または無置換のアルキル基又は
アリール基を表わす。）を表わす。ここで、Ｒ₁₀₁とＲ
₁₀₂、Ｒ₁₀₃とＲ₁₀₄は、それぞれ同一でも異なってもよ
い。）」、（５）「前記、導電性基体より最も離れた表
面側からの少なくとも１層に含まれる高分子電荷輸送物
質が下記一般式（２）で表わされることを特徴とする前
記第（１）項乃至前記第（３）項の何れか１に記載の電
子写真感光体。

【００２０】

【化１６】 （式中、Ｒ₇、Ｒ₈は置換もしくは無置換のアリール基、
Ａｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ₃は同一又は異なるアリレン基を表
わす。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎは、一般式（１）の場合と同
じである。）」、（６）「前記、導電性基体より最も離
れた表面側からの少なくとも１層に含まれる高分子電荷
輸送物質が下記一般式（３）で表わされることを特徴と
する前記第（１）項乃至前記第（３）項の何れか１に記
載の電子写真感光体。

【００２１】

【化１７】 （式中、Ｒ₉、Ｒ₁₀は置換もしくは無置換のアリール
基、Ａｒ₄、Ａｒ₅、Ａｒ₆は同一又は異なるアリレン基
を表わす。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎは、一般式（１）の場合
と同じである。）」、（７）「前記、導電性基体より最
も離れた表面側からの少なくとも１層に含まれる高分子
電荷輸送物質が下記一般式（４）で表わされることを特
徴とする前記第（１）項乃至前記第（３）項の何れか１
に記載の電子写真感光体。

【００２２】

【化１８】 （式中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂は置換もしくは無置換のアリール
基、Ａｒ₇、Ａｒ₈、Ａｒ₉は同一又は異なるアリレン
基、ｓは１〜５の整数を表わす。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎ
は、一般式（１）の場合と同じである。）」、（８）
「前記、導電性基体より最も離れた表面側からの少なく
とも１層に含まれる高分子電荷輸送物質が下記一般式
（５）で表わされることを特徴とする前記第（１）項乃
至前記第（３）項の何れか１に記載の電子写真感光体。

【００２３】

【化１９】 （式中、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄は置換もしくは無置換のアリール
基、Ａｒ₁₀、Ａｒ₁₁、Ａｒ ₁₂は同一又は異なるアリレン
基、Ｘ₁、Ｘ₂は置換もしくは無置換のエチレン基、又は
置換もしくは無置換のビニレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ
およびｎは、一般式（１）の場合と同じである。）」、
（９）「前記、導電性基体より最も離れた表面側からの
少なくとも１層に含まれる高分子電荷輸送物質が下記一
般式（６）で表わされることを特徴とする前記第（１）
項乃至前記第（３）項の何れか１に記載の電子写真感光
体。

【００２４】

【化２０】 （式中、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈は置換もしくは無置換
のアリール基、Ａｒ₁₃、Ａｒ₁₄、Ａｒ₁₅、Ａｒ₁₆は同一
又は異なるアリレン基、Ｙ₁、Ｙ₂、Ｙ₃は単結合、置換
もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換の
シクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレン
エーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わし
同一であっても異なってもよい。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎ
は、一般式（１）の場合と同じである。）」、（１０）
「前記、導電性基体より最も離れた表面側からの少なく
とも１層に含まれる高分子電荷輸送物質が下記一般式
（７）で表わされることを特徴とする前記第（１）項乃
至前記第（３）項の何れか１に記載の電子写真感光体。

【００２５】

【化２１】 （式中、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀は水素原子、置換もしくは無置換の
アリール基を表わし、Ｒ ₁₉とＲ₂₀は環を形成していても
よい。Ａｒ₁₇、Ａｒ₁₈、Ａｒ₁₉は同一又は異なるアリレ
ン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎは、一般式（１）の
場合と同じである。）」、（１１）「前記、導電性基体
より最も離れた表面側からの少なくとも１層に含まれる
高分子電荷輸送物質が下記一般式（８）で表わされるこ
とを特徴とする前記第（１）項乃至前記第（３）項の何
れか１に記載の電子写真感光体。

【００２６】

【化２２】 （式中、Ｒ₂₁は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ
₂₀、Ａｒ₂₁、Ａｒ₂₂、Ａｒ₂₃は同一又は異なるアリレン
基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎは、一般式（１）の場
合と同じである。）」、（１２）「前記、導電性基体よ
り最も離れた表面側からの少なくとも１層に含まれる高
分子電荷輸送物質が下記一般式（９）で表わされること
を特徴とする前記第（１）項乃至前記第（３）項の何れ
か１に記載の電子写真感光体。

【００２７】

【化２３】 （式中、Ｒ₂₂、Ｒ₂₃、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は置換もしくは無置換
のアリール基、Ａｒ₂₄、Ａｒ₂₅、Ａｒ₂₆、Ａｒ₂₇、Ａｒ
₂₈は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊお
よびｎは、一般式（１）の場合と同じである。）」、
（１３）「前記、導電性基体より最も離れた表面側から
の少なくとも１層に含まれる高分子電荷輸送物質が下記
一般式（１０）で表わされることを特徴とする前記第
（１）項乃至前記第（３）項の何れか１に記載の電子写
真感光体。

【００２８】

【化２４】 （式中、Ｒ₂₆、Ｒ₂₇は置換もしくは無置換のアリール
基、Ａｒ₂₉、Ａｒ₃₀、Ａｒ ₃₁は同一又は異なるアリレン
基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎは、一般式（１）の場
合と同じである。）」により達成される。

【００２９】また、上記課題は、本発明の、（１４）
「電子写真感光体に、少なくとも帯電、画像露光、現
像、転写、クリーニング、除電を繰返し行なう電子写真
方式において、該電子写真感光体が前記第（１）項乃至
前記第（１３）項の何れか１に記載のものであることを
特徴とする電子写真方法」により達成される。

【００３０】また、上記課題は、本発明の、（１５）
「少なくとも電子写真感光体を具備してなる電子写真装
置であって、該電子写真感光体が請求項１乃至１３の何
れか１に記載のものであることを特徴とする電子写真装
置」、及び（１６）「少なくとも電子写真感光体を具備
してなる電子写真装置用プロセスカートリッジであっ
て、該電子写真感光体が請求項１乃至１３の何れか１に
記載のものであることを特徴とする電子写真装置用プロ
セスカートリッジ」により達成される。

【００３１】すなわち、本発明者らは鋭意検討した結
果、導電性支持体上に少なくとも平均粒径の異なる二種
の無機化合物を含有する中間層、電荷発生層、電荷輸送
層を順次形成してなる電子写真感光体において、該無機
化合物の一方の平均粒径をＤ₁とし、他方の無機化合物
の平均粒径をＤ₂とした場合、Ｄ₂／Ｄ₁≦１／５の関係
を満たし、かつ導電性基体より最も離れた表面側からの
少なくとも１層に、高分子電荷輸送物質を含有するもの
であることを特徴とする電子写真感光体を用いることに
よって上記目的を達成できることが明らかになった。

【００３２】これはまず導電性支持体上に、上記中間層
を設けることにより、繰り返し使用時においても残留電
位の上昇を抑え、また画像品質においても黒ポチなどと
称される画像欠陥が発生しにくくなることが挙げられ
る。

【００３３】更に中間層に含まれる無機化合物を特定の
化合物とすることでより一層の電子写真特性の安定性、
特に欠陥の無い優れた画像品質を長期間保つことができ
る。

【００３４】また本発明では、有機系感光層最表面側か
らの少なくとも１層に高分子電荷輸送物質を含有する構
成とすることにより、電子写真プロセスにおける現像シ
ステムやクリーニングシステム等の機械的ハザードを受
けても電荷移動成分が高分子マトリクス中に化学結合に
より固定されているため摩耗に非常に強く、摩耗に起因
する帯電性の低下などの問題が生じない。加えて本発明
の電荷輸送剤である高分子電荷輸送物質を本発明の特定
の構造とすることにより、非常に良好な特性が得られ、
また各種電子写真方式画像形成装置を設計する上で大き
なメリットが得られることも判明した。

【００３５】まず、本発明に用いられる高分子電荷輸送
物質について述べる。本発明に用いられる高分子電荷輸
送物質として、下記一般式（１）〜（１０）で表わされ
る高分子電荷輸送物質が有効に用いられる。一般式
（１）〜（１０）で表わされる高分子電荷輸送物質を以
下に例示し、具体例を示す。

【００３６】

【化２５】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃はそれぞれ独立して置換もしく
は無置換のアルキル基又はハロゲン原子、Ｒ₄は水素原
子又は置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ₅、Ｒ ₆は置
換もしくは無置換のアリール基、ｏ、ｐ、ｑはそれぞれ
独立して０〜４の整数、ｋ、ｊは組成を表わし、０．１
≦ｋ≦１、０≦ｊ≦０．９、ｎは繰り返し単位数を表わ
し５〜５０００の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、環
状脂肪族の２価基、または下記一般式で表わされる２価
基を表わす。

【００３７】

【化２６】 式中、Ｒ₁₀₁、Ｒ₁₀₂は各々独立して置換もしくは無置換
のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を表わ
す。ｌ、ｍは０〜４の整数、Ｙは単結合、炭素原子数１
〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキレン基、
−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−
ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の２価基を
表わす。）または、

【００３８】

【化２７】 （式中、ａは１〜２０の整数、ｂは１〜２０００の整
数、Ｒ₁₀₃、Ｒ₁₀₄は置換または無置換のアルキル基又は
アリール基を表わす。）を表わす。ここで、Ｒ₁₀₁とＲ
₁₀₂、Ｒ₁₀₃とＲ₁₀₄は、それぞれ同一でも異なってもよ
い。）

【００３９】一般式１の具体例 Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃はそれぞれ独立して置換もしくは無置換
のアルキル基又はハロゲン原子を表わすが、その具体例
としては以下のものを挙げることができ、同一であって
も異なってもよい。

【００４０】アルキル基として好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₁₂
とりわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ₄の直鎖ま
たは分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基は
さらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアル
コキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ₁〜Ｃ₄の
アルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基で置換され
たフェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−
ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル
基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、
２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メト
キシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４
−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フ
ェニルベンジル基等が挙げられる。

【００４１】ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。

【００４２】Ｒ₄は水素原子又は置換もしくは無置換の
アルキル基を表わすがそのアルキル基の具体例としては
上記のＲ₁、Ｒ₂、Ｒ₃と同様のものが挙げられる。

【００４３】Ｒ₅、Ｒ₆は置換もしくは無置換のアリール
基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げる
ことができ、同一であっても異なってもよい。

【００４４】芳香族炭化水素基。芳香族炭化水素基とし
ては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレ
ニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−
フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフ
ェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニ
ル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデン
フェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ター
フェニリル基などが挙げられる。

【００４５】複素環基。複素環基としては、チエニル
基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、
カルバゾリル基などが挙げられる。

【００４６】上述のアリール基は以下に示す基を置換基
として有してもよい。 （１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 （２）アルキル基。アルキル基としては、上記のＲ₁、
Ｒ₂、Ｒ₃と同様のものが挙げられる。 （３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₀₅）。アルコキシ基（−
ＯＲ₁₀₅）としては、Ｒ_{10 5}は（２）で定義したアルキル
基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ
−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、
ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２
−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベン
ジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフル
オロメトキシ基等が挙げられる。 （４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられ
る。これは、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアル
キル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良
い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ
基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、
４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、
６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。 （５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基。
置換メルカプト基またはアリールメルカプト基として
は、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニル
チオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。 （６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基と
しては、アルキル基は（２）で定義したアルキル基を表
わす。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ
基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベ
ンジルアミノ基等が挙げられる。 （７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。

【００４７】Ｘは下記一般式（Ａ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、またはブロック共重合体となる。また、Ｘは下
記一般式（Ａ）のトリアリールアミノ基を有するジオー
ル化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロ
ホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導
入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交
互共重合体となる。

【００４８】

【化２８】

【００４９】

【化２９】

【００５０】一般式（Ｂ）のジオール化合物の具体例と
しては以下のものが挙げられる。１，３−プロパンジオ
ール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオ
ール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジ
オール、１，１０−デカンジオール、２−メチル−１，
３−プロパンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プ
ロパンジオール、２−エチル−１，３−プロパンジオー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレンエーテル
グリコール等の脂肪族ジオールや１，４−シクロヘキサ
ンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、シクロ
ヘキサン−１，４−ジメタノール等の環状脂肪族ジオー
ルが挙げられる。

【００５１】また、芳香環を有するジオールとして、
４，４’−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−１−フェニルエタン、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、２，
２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジメチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス
（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’
−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、３，３’−ジメ
チル−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、
４，４’−ジヒドロキシジフェニルオキシド、２，２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレ
ン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）キサンテ
ン、エチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾ
エート）、ジエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキ
シベンゾエート）、トリエチレングリコール−ビス（４
−ヒドロキシベンゾエート）１，３−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−テトラメチルジシロキサン、フェノー
ル変性シリコーンオイル等が挙げられる。

【００５２】

【化３０】 （式中、Ｒ₇、Ｒ₈は置換もしくは無置換のアリール基、
Ａｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ₃は同一又は異なるアリレン基を表
わす。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎは、一般式（１）の場合と同
じである。）

【００５３】一般式２の具体例 Ｒ₇、Ｒ₈は置換もしくは無置換のアリール基を表わす
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。

【００５４】芳香族炭化水素基。芳香族炭化水素基とし
ては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレ
ニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−
フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフ
ェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニ
ル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデン
フェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ター
フェニリル基、または、

【００５５】

【化３１】 （ここで、Ｗは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ
₂−、−ＣＯ−及び以下の２価基を表わす。

【００５６】

【化３２】 （ｃは１〜１２の整数）

【００５７】

【化３３】 （ｄは１〜３の整数）

【００５８】

【化３４】 （ｅは１〜３の整数）

【００５９】

【化３５】 （ｆは１〜３の整数））で表わされる。

【００６０】複素環基。複素環基としては、チエニル
基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、
カルバゾリル基などが挙げられる。

【００６１】また、Ａｒ₁、Ａｒ₂およびＡｒ₃で示され
るアリレン基としてはＲ₇およびＲ₈で示したアリール基
の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。

【００６２】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。また、これら置換
基は上記一般式中のＲ₁₀₆、Ｒ₁₀₇、Ｒ₁₀₈の具体例とし
て表わされる。 （１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 （２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
Ｃ₁〜Ｃ₁₂とりわけＣ₁〜Ｃ₁₈、さらに好ましくはＣ₁〜
Ｃ₄の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらの
アルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ
₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原
子、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキ
シ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的
には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロ
ピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、
ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシ
エチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル
基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベ
ンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジ
ル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。 （３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₀₉）。アルコキシ基（−
ＯＲ₁₀₉）としては、Ｒ_{10 9}は（２）で定義したアルキル
基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ
−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、
ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２
−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベン
ジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフル
オロメトキシ基等が挙げられる。 （４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられ
る。これは、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアル
キル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良
い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ
基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、
４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、
６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。 （５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基。
置換メルカプト基またはアリールメルカプト基として
は、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニル
チオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。 （６）次式で表わされる置換アミノ基。

【００６３】

【化３６】 （式中、Ｒ₁₁₀及びＲ₁₁₁は各々独立に（２）で定義した
アルキル基またはアリール基を表わし、アリール基とし
ては例えばフェニル基、ビフェニル基、またはナフチル
基が挙げられ、これらはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁
〜Ｃ₄のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として
含有しても良い。またアリール基上の炭素原子と共同で
環を形成しても良い。具体的には、ジエチルアミノ基、
Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニ
ルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｐ−トリル）アミノ基、ジベ
ンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ユロリ
ジル基等が挙げられる。） （７）メチレンジオキシ基、またはメチレンジチオ基等
のアルキレンジオキシ基またはアルキレンジチオ基、等
が挙げられる。

【００６４】Ｘは下記一般式（Ｃ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ｃ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。

【００６５】

【化３７】

【００６６】

【化３８】 一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式（１）と同じも
のが挙げられる。

【００６７】

【化３９】 （式中、Ｒ₉、Ｒ₁₀は置換もしくは無置換のアリール
基、Ａｒ₄、Ａｒ₅、Ａｒ₆は同一又は異なるアリレン基
を表わす。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎは、一般式（１）の場合
と同じである。）

【００６８】一般式３の具体例 Ｒ₉、Ｒ₁₀は置換もしくは無置換のアリール基を表わす
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。

【００６９】芳香族炭化水素基。芳香族炭化水素基とし
ては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレ
ニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−
フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフ
ェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニ
ル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデン
フェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ター
フェニリル基などが挙げられる。

【００７０】複素環基。複素環基としては、チエニル
基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、
カルバゾリル基などが挙げられる。

【００７１】また、Ａｒ₄、Ａｒ₅、およびＡｒ₆で示さ
れるアリレン基としてはＲ₉およびＲ ₁₀で示したアリー
ル基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよ
い。上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を
置換基として有してもよい。 （１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 （２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
Ｃ₁〜Ｃ₁₂とりわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ
₄の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのア
ルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁
〜Ｃ₄のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原
子、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキ
シ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的
には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロ
ピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、
ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシ
エチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル
基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベ
ンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジ
ル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。 （３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₁₂）。アルコキシ基（−
ＯＲ₁₁₂）としては、Ｒ_{11 2}は（２）で定義したアルキル
基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ
−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、
ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２
−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベン
ジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフル
オロメトキシ基等が挙げられる。 （４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられ
る。これは、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアル
キル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良
い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ
基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、
４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、
６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。 （５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基。
置換メルカプト基またはアリールメルカプト基として
は、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニル
チオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。 （６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基と
しては、アルキル基は（２）で定義したアルキル基を表
わす。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ
基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベ
ンジルアミノ基等が挙げられる。 （７）アシル基；具体的にはアセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げら
れる。

【００７２】Ｘは下記一般式（Ｄ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ｄ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。

【００７３】

【化４０】

【００７４】

【化４１】 一般式(Ｂ)のジオール化合物は一般式（１）と同じもの
が挙げられる。

【００７５】

【化４２】 （式中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂は置換もしくは無置換のアリール
基、Ａｒ₇、Ａｒ₈、Ａｒ₉は同一又は異なるアリレン
基、ｓは１〜５の整数を表わす。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎ
は、一般式（１）の場合と同じである。）

【００７６】一般式４の具体例 Ｒ₁₁、Ｒ₁₂は置換もしくは無置換のアリール基を表わす
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。

【００７７】芳香族炭化水素基。芳香族炭化水素基とし
ては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレ
ニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−
フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフ
ェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニ
ル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデン
フェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ター
フェニリル基などが挙げられる。

【００７８】複素環基。複素環基としては、チエニル
基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、
カルバゾリル基などが挙げられる。

【００７９】また、Ａｒ₇、Ａｒ₈、およびＡｒ₉で示さ
れるアリレン基としてはＲ₁₁およびＲ₁₂で示したアリー
ル基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよ
い。

【００８０】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。 （１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 （２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
Ｃ₁〜Ｃ₁₂とりわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ
₄の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのア
ルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁
〜Ｃ₄のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原
子、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキ
シ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的
には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロ
ピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、
ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシ
エチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル
基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベ
ンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジ
ル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。 （３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₁₃）。アルコキシ基（−
ＯＲ₁₁₃）としては、Ｒ_{11 3}は（２）で定義したアルキル
基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ
−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、
ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２
−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベン
ジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフル
オロメトキシ基等が挙げられる。 （４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられ
る。これは、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアル
キル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良
い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ
基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、
４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、
６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。 （５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基。
置換メルカプト基またはアリールメルカプト基として
は、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニル
チオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。 （６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基と
しては、アルキル基は（２）で定義したアルキル基を表
わす。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ
基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベ
ンジルアミノ基等が挙げられる。 （７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。

【００８１】Ｘは下記一般式（Ｅ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ｅ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。

【００８２】

【化４３】

【００８３】

【化４４】 一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式（１）と同じも
のが挙げられる。

【００８４】

【化４５】 （式中、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄は置換もしくは無置換のアリール
基、Ａｒ₁₀、Ａｒ₁₁、Ａｒ ₁₂は同一又は異なるアリレン
基、Ｘ₁、Ｘ₂は置換もしくは無置換のエチレン基、又は
置換もしくは無置換のビニレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ
およびｎは、一般式（１）の場合と同じである。）

【００８５】一般式５の具体例 Ｒ₁₃、Ｒ₁₄は置換もしくは無置換のアリール基を表わす
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。

【００８６】芳香族炭化水素基。芳香族炭化水素基とし
ては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレ
ニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−
フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフ
ェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニ
ル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデン
フェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ター
フェニリル基などが挙げられる。

【００８７】複素環基。複素環基としては、チエニル
基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、
カルバゾリル基などが挙げられる。

【００８８】また、Ａｒ₁₀、Ａｒ₁₁およびＡｒ₁₂で示さ
れるアリレン基としてはＲ₁₃およびＲ₁₄で示したアリー
ル基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよ
い。

【００８９】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。 （１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 （２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
Ｃ₁〜Ｃ₁₂とりわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ
₄の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのア
ルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁
〜Ｃ₄のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原
子、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキ
シ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的
には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロ
ピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、
ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシ
エチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル
基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベ
ンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジ
ル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。 （３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₁₄）。アルコキシ基（−
ＯＲ₁₁₄）としては、Ｒ_{11 4}は（２）で定義したアルキル
基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ
−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、
ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２
−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベン
ジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフル
オロメトキシ基等が挙げられる。 （４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられ
る。これは、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアル
キル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良
い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ
基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、
４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、
６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。 （５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基。
置換メルカプト基またはアリールメルカプト基として
は、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニル
チオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。 （６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基と
しては、アルキル基は（２）で定義したアルキル基を表
わす。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ
基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベ
ンジルアミノ基等が挙げられる。 （７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。

【００９０】Ｘ₁、Ｘ₂は置換もしくは無置換のエチレン
基、置換もしくは無置換のビニレン基を表わし、この置
換基としては、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、上
記Ｒ ₁₃、Ｒ₁₄のアリール基、上記（２）のアルキル基が
挙げられる。

【００９１】Ｘは下記一般式（Ｆ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ｆ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。

【００９２】

【化４６】

【００９３】

【化４７】 一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式（１）と同じも
のが挙げられる。

【００９４】

【化４８】 （式中、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈は置換もしくは無置換
のアリール基、Ａｒ₁₃、Ａｒ₁₄、Ａｒ₁₅、Ａｒ₁₆は同一
又は異なるアリレン基、Ｙ₁、Ｙ₂、Ｙ₃は単結合、置換
もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換の
シクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレン
エーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わし
同一であっても異なってもよい。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎ
は、一般式（１）の場合と同じである。）

【００９５】一般式６の具体例 Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈は置換もしくは無置換のアリー
ル基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げ
ることができ、同一であっても異なってもよい。

【００９６】芳香族炭化水素基。芳香族炭化水素基とし
ては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレ
ニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−
フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフ
ェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニ
ル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデン
フェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ター
フェニリル基などが挙げられる。

【００９７】複素環基。複素環基としては、チエニル
基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、
カルバゾリル基などが挙げられる。

【００９８】また、Ａｒ₁₃、Ａｒ₁₄、Ａｒ₁₅およびＡｒ
₁₆で示されるアリレン基としては、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇お
よびＲ₁₈で示した上記のアリール基の２価基が挙げら
れ、同一であっても異なってもよい。

【００９９】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。 （１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 （２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
Ｃ₁〜Ｃ₁₂とりわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ
₄の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのア
ルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁
〜Ｃ₄のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原
子、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキ
シ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的
には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロ
ピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、
ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシ
エチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル
基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベ
ンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジ
ル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。 （３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₁₅）。アルコキシ基（−
ＯＲ₁₁₅）としては、Ｒ_{11 5}は（２）で定義したアルキル
基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ
−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、
ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２
−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベン
ジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフル
オロメトキシ基等が挙げられる。 （４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられ
る。これは、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアル
キル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良
い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ
基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、
４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、
６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。

【０１００】Ｙ₁、Ｙ₂、Ｙ₃は単結合、置換もしくは無
置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアル
キレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル
基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基、を表わし同一で
あっても異なってもよい。

【０１０１】アルキレン基としては、上記（２）で示し
たアルキル基より誘導される２価基を表わす。具体的に
は、メチレン基、エチレン基、１，３−プロピレン基、
１，４−ブチレン基、２−メチル−１，３−プロピレン
基、ジフルオロメチレン基、ヒドロキシエチレン基、シ
アノエチレン基、メトキシエチレン基、フェニルメチレ
ン基、４−メチルフェニルメチレン基、２，２−プロピ
レン基、２，２−ブチレン基、ジフェニルメチレン基等
を挙げることができる。

【０１０２】シクロアルキレン基としては、１，１−シ
クロペンチレン基、１，１−シクロへキシレン基、１，
１−シクロオクチレン基等を挙げることができる。

【０１０３】アルキレンエーテル基としては、ジメチレ
ンエーテル基、ジエチレンエーテル基、エチレンメチレ
ンエーテル基、ビス（トリエチレン）エーテル基、ポリ
テトラメチレンエーテル基等が挙げられる。

【０１０４】Ｘは下記一般式（Ｇ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ｇ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。

【０１０５】

【化４９】

【０１０６】

【化５０】 一般式(Ｂ)のジオール化合物は一般式（１）と同じもの
が挙げられる。

【０１０７】

【化５１】 （式中、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀は水素原子、置換もしくは無置換の
アリール基を表わし，Ｒ ₁₉とＲ₂₀は環を形成していても
よい。Ａｒ₁₇、Ａｒ₁₈、Ａｒ₁₉は同一又は異なるアリレ
ン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎは、一般式（１）の
場合と同じである。）

【０１０８】一般式７の具体例 Ｒ₁₉、Ｒ₂₀は置換もしくは無置換のアリール基を表わす
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。

【０１０９】芳香族炭化水素基。芳香族炭化水素基とし
ては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレ
ニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−
フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフ
ェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニ
ル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデン
フェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ター
フェニリル基などが挙げられる。

【０１１０】複素環基。複素環基としては、チエニル
基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、
カルバゾリル基などが挙げられる。

【０１１１】また、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀は環を形成する場合、９
−フルオレニリデン、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロ
ヘプテニリデンなどが挙げられる。

【０１１２】また、Ａｒ₁₇、Ａｒ₁₈およびＡｒ₁₉で示さ
れるアリレン基としてはＲ₁₉およびＲ₂₀で示したアリー
ル基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよ
い。

【０１１３】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。 （１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 （２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
Ｃ₁〜Ｃ₁₂とりわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ
₄の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのア
ルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁
〜Ｃ₄のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原
子、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキ
シ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的
には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロ
ピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、
ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシ
エチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル
基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベ
ンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジ
ル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。 （３）アルコキシ基（−ＯＲ_{11 6}）。アルコキシ基（−
ＯＲ_{11 6}）としては、Ｒ_{11 6}は（２）で定義したアルキル
基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ
−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、
ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２
−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベン
ジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフル
オロメトキシ基等が挙げられる。 （４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられ
る。これは、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアル
キル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良
い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ
基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、
４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、
６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。 （５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基。
置換メルカプト基またはアリールメルカプト基として
は、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニル
チオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。 （６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基と
しては、アルキル基は（２）で定義したアルキル基を表
わす。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ
基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベ
ンジルアミノ基等が挙げられる。 （７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。

【０１１４】Ｘは下記一般式（Ｈ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ｈ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。

【０１１５】

【化５２】

【０１１６】

【化５３】 一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式（１）と同じも
のが挙げられる。

【０１１７】

【化５４】 （式中、Ｒ₂₁は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ
₂₀、Ａｒ₂₁、Ａｒ₂₂、Ａｒ₂₃は同一又は異なるアリレン
基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎは、一般式（１）の場
合と同じである。）

【０１１８】一般式８の具体例 Ｒ₂₁は置換もしくは無置換のアリール基を表わすが、そ
の具体例としては以下のものを挙げることができ、同一
であっても異なってもよい。

【０１１９】芳香族炭化水素基。芳香族炭化水素基とし
ては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレ
ニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−
フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフ
ェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニ
ル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデン
フェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ター
フェニリル基などが挙げられる。

【０１２０】複素環基。複素環基としては、チエニル
基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、
カルバゾリル基などが挙げられる。

【０１２１】また、Ａｒ₂₀、Ａｒ₂₁、Ａｒ₂₂およびＡｒ
₂₃で示されるアリレン基としてはＲ ₂₁で示したアリール
基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよ
い。

【０１２２】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。 （１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 （２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
Ｃ₁〜Ｃ₁₂とりわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ
₄の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのア
ルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁
〜Ｃ₄のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原
子、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキ
シ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的
には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロ
ピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、
ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシ
エチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル
基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベ
ンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジ
ル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。 （３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₁₇）。アルコキシ基（−
ＯＲ₁₁₇）としては、Ｒ_{11 7}は（２）で定義したアルキル
基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ
−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、
ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２
−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベン
ジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフル
オロメトキシ基等が挙げられる。 （４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられ
る。これは、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアル
キル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良
い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ
基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、
４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、
６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。 （５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基。
置換メルカプト基またはアリールメルカプト基として
は、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニル
チオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。 （６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基と
しては、アルキル基は（２）で定義したアルキル基を表
わす。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ
基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベ
ンジルアミノ基等が挙げられる。 （７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。

【０１２３】Ｘは下記一般式（Ｊ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ｊ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。

【０１２４】

【化５５】

【０１２５】

【化５６】 一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式（１）と同じも
のが挙げられる。

【０１２６】

【化５７】 （式中、Ｒ₂₂、Ｒ₂₃、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は置換もしくは無置換
のアリール基、Ａｒ₂₄、Ａｒ₂₅、Ａｒ₂₆、Ａｒ₂₇、Ａｒ
₂₈は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊお
よびｎは、一般式（１）の場合と同じである。）

【０１２７】一般式９の具体例 Ｒ₂₂、Ｒ₂₃、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は置換もしくは無置換のアリー
ル基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げ
ることができ、同一であっても異なってもよい。

【０１２８】芳香族炭化水素基。芳香族炭化水素基とし
ては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレ
ニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−
フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフ
ェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニ
ル基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデン
フェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ター
フェニリル基などが挙げられる。

【０１２９】複素環基。複素環基としては、チエニル
基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、
カルバゾリル基などが挙げられる。

【０１３０】また、Ａｒ₂₄、Ａｒ₂₅、Ａｒ₂₆、Ａｒ₂₇お
よびＡｒ₂₈で示されるアリレン基としては、Ｒ₂₂、
Ｒ₂₃、Ｒ₂₄およびＲ₂₅で示した上記のアリール基の２価
基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。

【０１３１】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。 （１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 （２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
Ｃ₁〜Ｃ₁₂とりわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ
₄の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのア
ルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁
〜Ｃ₄のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原
子、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキ
シ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的
には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロ
ピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、
ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシ
エチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル
基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベ
ンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジ
ル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。 （３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₁₈）。アルコキシ基（−
ＯＲ₁₁₈）としては、Ｒ_{11 8}は（２）で定義したアルキル
基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ
−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、
ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２
−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベン
ジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフル
オロメトキシ基等が挙げられる。 （４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられ
る。これは、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアル
キル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良
い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ
基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、
４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、
６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。 （５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基。
置換メルカプト基またはアリールメルカプト基として
は、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニル
チオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。 （６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基と
しては、アルキル基は（２）で定義したアルキル基を表
わす。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ
基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベ
ンジルアミノ基等が挙げられる。 （７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。

【０１３２】Ｘは下記一般式（Ｌ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ｌ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。

【０１３３】

【化５８】

【０１３４】

【化５９】 一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式（１）と同じも
のが挙げられる。

【０１３５】

【化６０】 （式中、Ｒ₂₆、Ｒ₂₇は置換もしくは無置換のアリール
基、Ａｒ₂₉、Ａｒ₃₀、Ａｒ ₃₁は同一又は異なるアリレン
基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎは、一般式（１）の場
合と同じである。）

【０１３６】一般式１０の具体例 Ｒ₂₆、Ｒ₂₇は置換もしくは無置換のアリール基を表わす
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。

【０１３７】芳香族炭化水素基。芳香族炭化水素基とし
て、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニ
ル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フ
ルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェ
ニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル
基、５Ｈ−ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテニリデンフ
ェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフ
ェニリル基などが挙げられる。

【０１３８】複素環基。複素環基として、チエニル基、
ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カル
バゾリル基などが挙げられる。

【０１３９】また、Ａｒ₂₉、Ａｒ₃₀およびＡｒ₃₁で示さ
れるアリレン基としてはＲ₂₆およびＲ₂₇で示したアリー
ル基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよ
い。

【０１４０】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。 （１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 （２）アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
Ｃ₁〜Ｃ₁₂とりわけＣ₁〜Ｃ₈、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ
₄の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのア
ルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ₁
〜Ｃ₄のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原
子、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基もしくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキ
シ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的
には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロ
ピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、
ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシ
エチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル
基、２-メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベ
ンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジ
ル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。 （３）アルコキシ基（−ＯＲ₁₁₉）。アルコキシ基（−
ＯＲ₁₁₉）としては、Ｒ_{11 9}は（２）で定義したアルキル
基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ
−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、
ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２
−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベン
ジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフル
オロメトキシ基等が挙げられる。 （４）アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられ
る。これは、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアル
キル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良
い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ
基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、
４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、
６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。 （５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基。
置換メルカプト基またはアリールメルカプト基として
は、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニル
チオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。 （６）アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基と
しては、アルキル基は（２）で定義したアルキル基を表
わす。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ
基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベ
ンジルアミノ基等が挙げられる。 （７）アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。

【０１４１】Ｘは下記一般式（Ｍ）のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記
一般式（Ｍ）のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。

【０１４２】

【化６１】

【０１４３】

【化６２】 一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式（１）と同じも
のが挙げられる。

【０１４４】

【発明の実施の形態】以下図面に沿って本発明で用いら
れる電子写真感光体を説明する。図１は本発明の電子写
真感光体の構成を示す断面図であり、導電性支持体（２
１）と、電荷発生層（３１）と電荷輸送層（３３）から
なる感光層（２３）との間に中間層（２５）が形成され
たものである。

【０１４５】まず、本発明に用いられる導電性支持体
（２１）について述べる。本発明に用いられる導電性支
持体（２１）としては、体積抵抗１０¹⁰Ω以下の導電性
を示すもの、例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、
ニクロム、銅、銀、金、白金、鉄などの金属、酸化ス
ズ、酸化インジウムなどの酸化物を、蒸着またはスパッ
タリングによりフィルム状もしくは円筒状のプラスチッ
ク、紙等に被覆したもの、あるいはアルミニウム、アル
ミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板およびそ
れらをＤ．Ｉ．，Ｉ．Ｉ．，押出し、引き抜きなどの工
法で素管化後、切削、超仕上げ、研磨などで表面処理し
た管などを使用することができる。

【０１４６】次に本発明に用いられる中間層（２５）に
ついて説明する。本発明に用いられる中間層は無機化合
物および結着樹脂を主成分として形成されるが、本発明
に用いられる該樹脂は、その上に感光層を溶剤で塗布す
ることを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の
高い樹脂であることが望ましい。このような樹脂として
は、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸
ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシ
メチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレ
タン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹
脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型
樹脂等が挙げられる。中でもとりわけアルキッド樹脂と
メラミン樹脂を用いた場合その特性上良好な膜を得るこ
とができる。

【０１４７】また、本発明で用いられる無機物質として
は酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、
酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物などが挙げら
れ、これらをボールミル等の粉砕方法を用いて微粉末に
したものが用いられる。

【０１４８】本発明では導電性支持体上に平均粒径の異
なる二種類の無機化合物を含む中間層を設け、この中間
層に含まれる無機化合物のうち、一方の無機化合物の平
均粒径をＤ₁とし、他方の無機化合物の平均粒径をＤ₂と
した場合、Ｄ₂／Ｄ₁≦１／５の関係を満たせばよいが、
好ましくは上記関係を満たす条件のうち、一方の無機化
合物が平均粒径０．１μｍ以下、他方の無機化合物の平
均粒径が１μｍ以下であることが好ましい。

【０１４９】本発明の中間層は適当な溶媒、塗工法を用
いて浸漬塗工法やスプレーコート、ブレードコート法な
どの湿式塗工することにより形成することができる。本
発明で用いられる中間層の膜厚は特に限定されないが１
〜２０μｍが適当である。

【０１５０】次に本発明における感光層（２３）につい
て述べる。はじめに電荷発生を担う電荷発生層（３１）
について説明する。電荷発生層（３１）は、電荷発生物
質を主成分とする層で、必要に応じてバインダー樹脂を
用いることもある。電荷発生物質としては、公知の材料
を用いることができる。例えば、銅フタロシアニン、鉄
フタロシアニンなどの金属フタロシアニン、無金属フタ
ロシアニンなどのフタロシアニン系顔料、アズレニウム
塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨
格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有する
アゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジ
ベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン
骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有する
アゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジス
チリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチ
リルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔
料、アントラキノン系または多環キノン系顔料、キノン
イミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタ
ン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シア
ニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビス
ベンズイミダゾール系顔料などが挙げられる。これらの
電荷発生物質は二種以上混合して用いることもできる。

【０１５１】電荷発生層（３１）に必要に応じて用いら
れるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタ
ン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シ
リコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、
ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレ
ン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミ
ドなどが用いられる。これらのバインダー樹脂は、単独
または２種以上の混合物として用いることができる。ま
た、電荷発生層のバインダー樹脂として上述のバインダ
ー樹脂の他に、先に記した一般式（１）〜（１０）の高
分子電荷輸送物質が良好に用いられるが、その他の高分
子電荷輸送物質として以下のものが挙げられる。 （ａ）主鎖および／または側鎖にカルバゾール環を有す
る重合体 例えば、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、特開昭５０−
８２０５６号公報、特開昭５４−９６３２号公報、特開
昭５４−１１７３７号公報、特開平４−１８３７１９号
公報に記載の化合物等が例示される。 （ｂ）主鎖および／または側鎖にヒドラゾン構造を有す
る重合体 例えば、特開昭５７−７８４０２号公報、特開平３−５
０５５５号公報に記載の化合物等が例示される。 （ｃ）ポリシリレン重合体 例えば、特開昭６３−２８５５５２号公報、特開平５−
１９４９７号公報、特開平５−７０５９５号公報に記載
の化合物等が例示される。 （ｄ）主鎖および／または側鎖に第３級アミン構造を有
する重合体 例えば、Ｎ，Ｎ−ビス（４−メチルフェニル）−４−ア
ミノポリスチレン、特開平１−１３０６１号公報、特開
平１−１９０４９号公報、特開平１−１７２８号公報、
特開平１−１０５２６０号公報、特開平２−１６７３３
５号公報、特開平５−６６５９８号公報、特開平５−４
０３５０号公報に記載の化合物等が例示される。 （ｅ）その他の重合体 例えば、ニトロピレンのホルムアルデヒド縮重合体、特
開昭５１−７３８８８号公報、特開昭５６−１５０７４
９号公報に記載の化合物等が例示される。本発明に使用
される電子供与性基を有する重合体は、上記重合体だけ
でなく、公知単量体の共重合体や、ブロック重合体、グ
ラフト重合体、スターポリマーや、また、例えば特開平
３−１０９４０６号公報に開示されているような電子供
与性基を有する架橋重合体等を用いることも可能であ
る。更に、必要に応じて低分子電荷輸送物質を添加して
もよい。

【０１５２】電荷発生層（３１）に併用できる低分子電
荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがあ
る。電子輸送物質としては、たとえばクロルアニル、ブ
ロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノ
ジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノ
ン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノ
ン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，
４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリ
ニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４
オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−
５，５−ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げられ
る。これらの電子輸送物質は、単独または２種以上の混
合物として用いることができる。

【０１５３】正孔輸送物質としては、以下に表わされる
電子供与性物質が挙げられ、良好に用いられる。例え
ば、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イ
ミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、９−
（ｐ−ジエチルアミノスチリルアントラセン）、１，１
−ビス−（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、
スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニル
ヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体、チアゾ
ール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナジン誘導体、
アクリジン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ベンズイミダ
ゾール誘導体、チオフェン誘導体などが挙げられる。こ
れらの正孔輸送物質は、単独または２種以上の混合物と
して用いることができる。

【０１５４】電荷発生層（３１）を形成する方法には、
真空薄膜作製法と溶液分散系からのキャスティング法と
が大きく挙げられる。前者の方法には、真空蒸着法等が
用いられ良好に形成できる。また、後述のキャスティン
グ法によって電荷発生層を設けるには、上述した無機系
もしくは有機系電荷発生物質を必要ならばバインダー樹
脂と共にテトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジオ
キサン、ジクロロエタン、ブタノン等の溶媒を用いてボ
ールミル、アトライター、サンドミル等により分散し、
分散液を適度に希釈して塗布することにより、形成でき
る。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコー
ト法などを用いて行なうことができる。以上のようにし
て設けられる電荷発生層の膜厚は、０．０１〜５μｍ程
度が適当であり、好ましくは０．０５〜２μｍである。

【０１５５】次に、電荷輸送層（３３）について説明す
る。電荷輸送層（３３）は、高分子電荷輸送物質を主成
分とする層であり、高分子電荷輸送物質を適当な溶剤に
溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥することにより形
成できる。高分子電荷輸送物質は先述の公知材料を用い
ることができるが、前記一般式（１）〜（１０）の高分
子電荷輸送物質が本発明の目的を達成するために特に良
好に使用される。また、必要により高分子電荷輸送物質
以外に適当なバインダー樹脂、低分子電荷輸送物質、可
塑剤やレベリング剤等を適量添加することもできる。

【０１５６】電荷輸送層（３３）に併用できるバインダ
ー樹脂としては、ポリカーボネート（ビスフェノールＡ
タイプ、ビスフェノールＺタイプ）、ポリエステル、メ
タクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、塩化ビニ
ル、酢酸ビニル、ポリスチレン、フェノール樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニリデン、アルキ
ッド樹脂、シリコン樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポ
リビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリアク
リレート、ポリアクリルアミド、フェノキシ樹脂などが
用いられる。これらのバインダーは、単独または２種以
上の混合物として用いることができる。

【０１５７】電荷輸送層（３３）に併用できる低分子電
荷輸送物質は、電荷発生層（３１）の説明に記載したも
のと同じものを用いることができる。電荷輸送層（３
３）の膜厚は、５〜１００μｍ程度が適当であり、好ま
しくは、１０〜４０μｍ程度が適当である。

【０１５８】また、本発明において電荷輸送層（３３）
中に可塑剤やレベリング剤を添加してもよい。可塑剤と
しては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等
の一般の樹脂の可塑剤として使用されているものがその
まま使用でき、その使用量は、バインダー樹脂１００重
量部に対して０〜３０重量部程度が適当である。

【０１５９】レベリング剤としては、ジメチルシリコー
ンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコ
ーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有す
るポリマーあるいはオリゴマーが使用され、その使用量
は、バインダー樹脂１００重量部に対して０〜１重量部
程度が適当である。

【０１６０】また、本発明においては、耐環境性の改善
のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止す
る目的で、酸化防止剤を添加することができる。酸化防
止剤は、有機物を含む層ならばいずれに添加してもよい
が、電荷輸送物質を含む層に添加すると良好な結果が得
られる。

【０１６１】本発明に用いることができる酸化防止剤と
して、下記のものが挙げられる。 モノフェノール系化合物 ２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒ
ドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エ
チルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートな
ど。

【０１６２】ビスフェノール系化合物 ２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブ
チルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス−（４−
エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオ
ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
４，４’−ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔ−ブ
チルフェノール）など。

【０１６３】高分子フェノール系化合物 １，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−
５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメ
チル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス−［メ
チレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス
［３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチ
ルフェニル）ブチリックアッシド］グリコールエステ
ル、トコフェノール類など。

【０１６４】パラフェニレンジアミン類 Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレ
ンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ
−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’
−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミンなど。

【０１６５】ハイドロキノン類 ２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジ
ドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノ
ン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ
−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オ
クタデセニル）−５−メチルハイドロキノンなど。

【０１６６】有機硫黄化合物類 ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステ
アリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジテトラデ
シル−３，３’−チオジプロピオネートなど。

【０１６７】有機燐化合物類 トリフェニルホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホス
フィン、トリ（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリク
レジルホスフィン、トリ（２，４−ジブチルフェノキ
シ）ホスフィンなど。これら化合物は、ゴム、プラスチ
ック、油脂類などの酸化防止剤として知られており、市
販品を容易に入手できる。

【０１６８】本発明における酸化防止剤の添加量は、電
荷輸送物質１００重量部に対して０．１〜１００重量
部、好ましくは２〜３０重量部である。

【０１６９】次に本発明の電子写真方法ならびに電子写
真装置を詳しく説明する。図２は、本発明の電子写真プ
ロセスおよび電子写真装置を説明するための概略図であ
り、下記するような変形例も本発明の範疇に属するもの
である。

【０１７０】図２において、感光体（１）はドラム状の
形状を示しているが、シート状、エンドレスベルト状の
ものであっても良い。帯電チャージャ（３）、転写前チ
ャージャ（７）、転写チャージャ（１０）、分離チャー
ジャ（１１）、クリーニング前チャージャ（１３）に
は、コロトロン、スコロトロン、固体帯電器（ソリッド
・ステート・チャージャー）、帯電ローラを始めとする
公知の手段が用いられる。転写手段には、一般に上記の
帯電器が使用できるが、図に示されるように転写チャー
ジャーと分離チャージャーを併用したものが効果的であ
る。

【０１７１】また、画像露光部（５）、除電ランプ
（２）等の光源には、蛍光灯、タングステンランプ、ハ
ロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード
（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミ
ネッセンス（ＥＬ）などの発光物全般を用いることがで
きる。そして、所望の波長域の光のみを照射するため
に、シャープカットフィルター、バンドパスフィルタ
ー、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルタ
ー、干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各種
フィルターを用いることもできる。

【０１７２】かかる光源等は、図２に示される工程の他
に光照射を併用した転写工程、除電工程、クリーニング
工程、あるいは前露光などの工程を設けることにより、
感光体に光が照射される。

【０１７３】さて、現像ユニット（６）により感光体
（１）上に現像されたトナーは、転写紙（９）に転写さ
れるが、全部が転写されるわけではなく、感光体（１）
上に残存するトナーも生ずる。このようなトナーは、フ
ァーブラシ（１４）およびブレード（１５）により、感
光体より除去される。クリーニングは、クリーニングブ
ラシだけで行なわれることもあり、クリーニングブラシ
にはファーブラシ、マグファーブラシを始めとする公知
のものが用いられる。

【０１７４】電子写真感光体に正(負)帯電を施し、画像
露光を行なうと、感光体表面上には正(負)の静電潜像が
形成される。これを負(正)極性のトナー（検電微粒子）
で現像すれば、ポジ画像が得られるし、また正(負)極性
のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。かかる現
像手段には、公知の方法が適用されるし、また、除電手
段にも公知の方法が用いられる。

【０１７５】以上の図示した電子写真プロセスは、本発
明における実施形態を例示するものであって、もちろん
他の実施形態も可能である。

【０１７６】以上に示すような画像形成手段は、複写装
置、ファクシミリ、プリンター内に固定して組み込まれ
ていてもよいが、プロセスカートリッジの形でそれら装
置内に組み込まれてもよい。プロセスカートリッジと
は、感光体を内蔵し、他に帯電手段、露光手段、現像手
段、転写手段、クリーニング手段、除電手段を含んだ１
つの装置（部品）である。プロセスカートリッジの形状
等は多く挙げられるが、一般的な例として、図３に示す
ものが挙げられる。感光体（１６）は、導電性支持体上
に本発明の感光層を有してなるものである。

【０１７７】

【実施例】次に、実施例によって本発明を更に詳細に説
明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものでは
ない。なお、実施例中使用する部は、すべて重量部を表
わす。 ＜実施例１＞φ３０ｍｍのアルミニウムドラム上に、下
記組成の中間層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸
送層用塗工液を順次、塗布乾燥することにより、４μｍ
の下引き層、０．２μｍの電荷発生層、２１μｍの電荷
輸送層を形成して、本発明の電子写真感光体を得た。

【０１７８】 〔中間層用塗工液〕 平均粒径０．４μｍ酸化チタン粉末 ５７部 〔タイペークCR-EL(石原産業製)〕 平均粒径０．０４μｍ超微粒子シリカ １．６部 〔TT600（日本アエロジル製）〕 アルキッド樹脂 １０部 〔ベッコライトM6401-50(大日本インキ化学工業製)〕(固形分５０％) メラミン樹脂 ７部 〔スーパーベッカミンG-821-60(大日本インキ化学工業製)〕(固形分６０％) メチルエチルケトン ６０部

【０１７９】 〔電荷発生層用塗工液〕 Ｙ型オキソチタニウムフタロシアニン顔料 ２部 ポリビニルブチラール ０．２部 （エスレックBM−S：積水化学製） テトラヒドロフラン ５０部

【０１８０】 〔電荷輸送層用塗工液〕 下記構造の高分子電荷輸送物質 １０部

【０１８１】

【化６３】

【０１８２】 塩化メチレン １００部

【０１８３】＜実施例２＞実施例１における中間層用塗
工液を以下のように変更し、膜厚を４．５μｍの中間層
とした以外は実施例１と全く同様にして実施例２の電子
写真感光体を得た。 〔中間層用塗工液〕 平均粒径０．３μｍ酸化チタン粉末 ５７部 〔TA−3000(富士チタン工業製)〕 平均粒径０．０４μｍ超微粒子シリカ １．６部 〔TT600（日本アエロジル製）〕 アルキッド樹脂 １０部 〔ベッコライトM6401-50(大日本インキ化学工業製)〕（固形分５０％） メラミン樹脂 ７部 〔スーパーベッカミンG-821-60(大日本インキ化学工業製)〕(固形分６０％) メチルエチルケトン ６０部

【０１８４】＜実施例３＞実施例１における中間層用塗
工液を以下のように変更し、膜厚を３．５μｍの中間層
とした以外は実施例１と全く同様にして実施例３の電子
写真感光体を得た。 〔中間層用塗工液〕 平均粒径０．２５μｍ酸化チタン粉末 ５７部 〔TP−2(富士チタン工業製)〕 平均粒径０．０４μｍ超微粒子シリカ １．６部 〔TT600（日本アエロジル製）〕 アルキッド樹脂 １０部 〔ベッコライトM6003-60(大日本インキ化学工業製)〕(固形分６０％） メラミン樹脂 ７部 〔スーパーベッカミンG-821-60(大日本インキ化学工業製)〕(固形分６０％) メチルエチルケトン ６０部

【０１８５】＜実施例４＞実施例１における電荷輸送層
に用いた高分子電荷輸送物質を以下の構造のものに変え
た以外は全く同様に作製した。

【０１８６】

【化６４】

【０１８７】＜実施例５＞実施例１における電荷輸送層
に用いた高分子電荷輸送物質を以下の構造のものに変え
た以外は全く同様に作製した。

【０１８８】

【化６５】

【０１８９】＜実施例６＞実施例１における電荷輸送層
に用いた高分子電荷輸送物質を以下の構造のものに変え
た以外は全く同様に作製した。

【０１９０】

【化６６】

【０１９１】＜実施例７＞実施例１における電荷輸送層
に用いた高分子電荷輸送物質を以下の構造のものに変え
た以外は全く同様に作製した。

【０１９２】

【化６７】

【０１９３】＜実施例８＞実施例１における電荷輸送層
に用いた高分子電荷輸送物質を以下の構造のものに変え
た以外は全く同様に作製した。

【０１９４】

【化６８】

【０１９５】＜実施例９＞実施例１における電荷輸送層
に用いた高分子電荷輸送物質を以下の構造のものに変え
た以外は全く同様に作製した。

【０１９６】

【化６９】

【０１９７】＜実施例１０＞実施例１における電荷輸送
層に用いた高分子電荷輸送物質を以下の構造のものに変
えた以外は全く同様に作製した。

【０１９８】

【化７０】

【０１９９】＜実施例１１＞実施例１における電荷輸送
層に用いた高分子電荷輸送物質を以下の構造のものに変
えた以外は全く同様に作製した。

【０２００】

【化７１】

【０２０１】＜実施例１２＞実施例１における電荷輸送
層に用いた高分子電荷輸送物質を以下の構造のものに変
えた以外は全く同様に作製した。

【０２０２】

【化７２】

【０２０３】＜比較例１＞実施例１における電荷輸送層
用塗工液を以下のものに変更した以外は、実施例１と全
く同様にして比較例１の電子写真感光体を作製した。 〔電荷輸送層用塗工液〕 ビスフェノールＡ型ポリカーボネート １０部 （帝人：パンライトC1400） 下記構造の低分子電荷輸送物質 １０部

【０２０４】

【化７３】

【０２０５】 塩化メチレン １００部

【０２０６】＜比較例２＞実施例１における下引き層塗
工液を以下のものに変更した以外は、実施例１と全く同
様にして比較例２の電子写真感光体を作製した。 ナイロン樹脂(CM8000：東レ製) １０部 メタノール ６０部 ｎ−ブタノール ３２部

【０２０７】＜比較例３＞実施例１における中間層用塗
工液を以下のように変更し、膜厚を４．５μｍの中間層
とした以外は実施例１と全く同様にして比較例３の電子
写真感光体を作製した。 〔中間層用塗工液〕 平均粒径０．３μｍ酸化チタン粉末 ５７部 〔TA−3000(富士チタン工業製)〕 アルキッド樹脂 １０部 〔ベッコライトM6401-50(大日本インキ化学工業製)〕(固形分５０％） メラミン樹脂 ７部 〔スーパーベッカミンG-821-60(大日本インキ化学工業製)〕(固形分６０％) メチルエチルケトン ６０部

【０２０８】＜比較例４＞実施例１における中間層用塗
工液を以下のように変更して、膜厚を６．５μｍの中間
層とした以外は実施例１と全く同様にして比較例４の電
子写真感光体を得た。 〔中間層用塗工液〕 平均粒径０．０４μｍ超微粒子シリカ ５７部 〔TT600（日本アエロジル製）〕 アルキッド樹脂 １０部 〔ベッコライトM6401-50(大日本インキ化学工業製)〕（固形分５０％） メラミン樹脂 ７部 〔スーパーベッカミンG-821-60(大日本インキ化学工業製)〕(固形分６０％) メチルエチルケトン １００部

【０２０９】＜比較例５＞実施例１における中間層用塗
工液を以下のように変更して、膜厚を４μｍの中間層と
した以外は実施例１と全く同様にして比較例５の電子写
真感光体を得た。 〔中間層用塗工液〕 平均粒径０．３μｍ酸化チタン粉末 ５０部 〔TA−3000(富士チタン工業製)〕 平均粒径０．１μｍ超微粒子アルミナ粉末 ７部 〔AKP-50(住友化学工業製）〕 アルキッド樹脂 １０部 〔ベッコライトM6401-50(大日本インキ化学工業製)〕(固形分５０％） メラミン樹脂 ７部 〔スーパーベッカミンG-821-60(大日本インキ化学工業製)〕(固形分６０％) メチルエチルケトン ８０部

【０２１０】以上のように作製した実施例１〜１２およ
び比較例１〜５の電子写真感光体を実装用にした後、以
下のようにして評価を行なった。 ［実機ランニング特性評価方法］市販電子写真複写機イ
マジオＭＦ2200［（株）リコー製］改造機により、それ
ぞれの感光体について最高１０万枚までの通紙試験を行
なった。通紙試験中及び通紙試験後に感光体の、電位特
性、画像品質特性、感光層摩耗量の評価を適時行なっ
た。 暗部電位：一次帯電の後、現像部位置まで移動した際の
感光体表面電位 明部電位：一次帯電後、画像露光(ベタ露光)を受け、現
像部位置まで移動した際の感光体表面電位 画像品質：ベタ濃度、細線再現性、黒ポチなどの局所欠
陥、地肌汚れ、異常画像等総合的に評価 摩耗量：実機ランニングによる感光層膜厚減少量 評価結果を表１に示す。

【０２１１】

【表１−１】

【０２１２】

【表１−２】

【０２１３】

【表１−３】

【０２１４】

【表１−４】

【０２１５】表１より明らかなように、本発明の特許請
求の範囲を満たす実施例１〜１２の電子写真感光体は、
帯電性及び光感度に優れ、電気特性の劣化が少なく、ま
た感光層の摩耗も少なく、高画質のハードコピーを長期
間安定して得られる事がわかる。一方比較例１〜５の電
子写真感光体では耐摩耗性、電気特性、画像特性のいず
れかが短期間で大きく劣化してしまい、本発明の感光体
の優位性が明らかである。

【０２１６】

【発明の効果】以上詳細且つ具体的な説明から明らかな
ように、本発明により、光感度特性、耐摩耗性、画質安
定性に優れた電子写真感光体を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の電子写真感光体の構成を示す断面図で
ある。

【図２】本発明の電子写真プロセスおよび電子写真装置
を説明するための概略図である。

【図３】本発明のプロセスカートリッジの一般的な形状
を示す概略図である。

【符号の説明】

１ 感光体 ２ 除電ランプ ３ 帯電チャージャ ４ イレーサ ５ 画像露光部 ６ 現像ユニット ７ 転写前チャージャ ８ レジストローラ ９ 転写紙 １０ 転写チャージャ １１ 分離チャージャ １２ 分離爪 １３ クリーニング前チャージャ １４ ファーブラシ １５ ブレード １６ 感光体 １７ 帯電チャージャ １８ クリーニングブラシ １９ 画像露光部 ２０ 現像ローラ ２１ 導電性支持体 ２３ 感光層 ２５ 中間層 ３１ 電荷発生層 ３３ 電荷輸送層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 61/28 Ｃ０８Ｌ 61/28 67/08 67/08 69/00 69/00 Ｇ０３Ｇ 5/07 １０３ Ｇ０３Ｇ 5/07 １０３ (72)発明者 小島 成人 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 Ｆターム(参考） 2H068 AA13 AA20 AA43 AA44 AA45 BB26 BB27 BB33 BB37 BB44 BB52 BB53 CA29 FA03 FA27 4J002 AD02W BC03W BE02W BE06W BG00W BG01W BG13W BQ00W CC03W CC182 CD00W CF01W CG00W CG022 CJ00W CK02W CL00W CL06W CP03W DE096 DE136 DJ016 EE056 EQ016 EU026 EU056 EV306 FD070 GP00 GS00 4J029 AA09 AB07 AC02 AE18 BB12A BH01 BH02 BH04 DA02 DB06 DB11 DB12 DB13 HA01 HC01 HC02 HC04A KE02 KE03

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性支持体上に少なくとも、平均粒径
   の異なる二種の無機化合物を含有する中間層、電荷発生
   層、電荷輸送層を順次形成してなる電子写真感光体にお
   いて、該中間層に含まれる無機化合物の一方の平均粒径
   をＤ₁とし、他方の無機化合物の平均粒径をＤ₂とした場
   合、Ｄ₂／Ｄ₁≦１／５の関係を満たし、かつ導電性基体
   より最も離れた表面側からの少なくとも１層に、高分子
   電荷輸送物質を含有するものであることを特徴とする電
   子写真感光体。
2. 【請求項２】 前記中間層に含まれる無機化合物のうち
   少なくとも一つは酸化チタンであることを特徴とする請
   求項１記載の電子写真感光体。
3. 【請求項３】 前記中間層に含まれる結着樹脂がアルキ
   ッド樹脂とメラミン樹脂からなることを特徴とする請求
   項１または２記載の電子写真感光体。
4. 【請求項４】 前記、導電性基体より最も離れた表面側
   からの少なくとも１層に含まれる高分子電荷輸送物質が
   下記一般式（１）で表わされることを特徴とする請求項
   １乃至３の何れか１に記載の電子写真感光体。 【化１】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃はそれぞれ独立して置換もしく
   は無置換のアルキル基又はハロゲン原子、Ｒ₄は水素原
   子又は置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ₅、Ｒ ₆は置
   換もしくは無置換のアリール基、ｏ、ｐ、ｑはそれぞれ
   独立して０〜４の整数、ｋ、ｊは組成を表わし、０．１
   ≦ｋ≦１、０≦ｊ≦０．９、ｎは繰り返し単位数を表わ
   し５〜５０００の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、環
   状脂肪族の２価基、または下記一般式で表わされる２価
   基を表わす。 【化２】 式中、Ｒ₁₀₁、Ｒ₁₀₂は各々独立して置換もしくは無置換
   のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を表わ
   す。ｌ、ｍは０〜４の整数、Ｙは単結合、炭素原子数１
   〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキレン基、
   −Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−
   ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の２価基を
   表わす。）または、 【化３】 （式中、ａは１〜２０の整数、ｂは１〜２０００の整
   数、Ｒ₁₀₃、Ｒ₁₀₄は置換または無置換のアルキル基又は
   アリール基を表わす。）を表わす。ここで、Ｒ₁₀₁とＲ
   ₁₀₂、Ｒ₁₀₃とＲ₁₀₄は、それぞれ同一でも異なってもよ
   い。）
5. 【請求項５】 前記、導電性基体より最も離れた表面側
   からの少なくとも１層に含まれる高分子電荷輸送物質が
   下記一般式（２）で表わされることを特徴とする請求項
   １乃至３の何れか１に記載の電子写真感光体。 【化４】 （式中、Ｒ₇、Ｒ₈は置換もしくは無置換のアリール基、
   Ａｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ₃は同一又は異なるアリレン基を表
   わす。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎは、一般式（１）の場合と同
   じである。）
6. 【請求項６】 前記、導電性基体より最も離れた表面側
   からの少なくとも１層に含まれる高分子電荷輸送物質が
   下記一般式（３）で表わされることを特徴とする請求項
   １乃至３の何れか１に記載の電子写真感光体。 【化５】 （式中、Ｒ₉、Ｒ₁₀は置換もしくは無置換のアリール
   基、Ａｒ₄、Ａｒ₅、Ａｒ₆は同一又は異なるアリレン基
   を表わす。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎは、一般式（１）の場合
   と同じである。）
7. 【請求項７】 前記、導電性基体より最も離れた表面側
   からの少なくとも１層に含まれる高分子電荷輸送物質が
   下記一般式（４）で表わされることを特徴とする請求項
   １乃至３の何れか１に記載の電子写真感光体。 【化６】 （式中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂は置換もしくは無置換のアリール
   基、Ａｒ₇、Ａｒ₈、Ａｒ₉は同一又は異なるアリレン
   基、ｓは１〜５の整数を表わす。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎ
   は、一般式（１）の場合と同じである。）
8. 【請求項８】 前記、導電性基体より最も離れた表面側
   からの少なくとも１層に含まれる高分子電荷輸送物質が
   下記一般式（５）で表わされることを特徴とする請求項
   １乃至３の何れか１に記載の電子写真感光体。 【化７】 （式中、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄は置換もしくは無置換のアリール
   基、Ａｒ₁₀、Ａｒ₁₁、Ａｒ ₁₂は同一又は異なるアリレン
   基、Ｘ₁、Ｘ₂は置換もしくは無置換のエチレン基、又は
   置換もしくは無置換のビニレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊ
   およびｎは、一般式（１）の場合と同じである。）
9. 【請求項９】 前記、導電性基体より最も離れた表面側
   からの少なくとも１層に含まれる高分子電荷輸送物質が
   下記一般式（６）で表わされることを特徴とする請求項
   １乃至３の何れか１に記載の電子写真感光体。 【化８】 （式中、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈は置換もしくは無置換
   のアリール基、Ａｒ₁₃、Ａｒ₁₄、Ａｒ₁₅、Ａｒ₁₆は同一
   又は異なるアリレン基、Ｙ₁、Ｙ₂、Ｙ₃は単結合、置換
   もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換の
   シクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレン
   エーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わし
   同一であっても異なってもよい。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎ
   は、一般式（１）の場合と同じである。）
10. 【請求項１０】 前記、導電性基体より最も離れた表面
    側からの少なくとも１層に含まれる高分子電荷輸送物質
    が下記一般式（７）で表わされることを特徴とする請求
    項１乃至３の何れか１に記載の電子写真感光体。 【化９】 （式中、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀は水素原子、置換もしくは無置換の
    アリール基を表わし、Ｒ ₁₉とＲ₂₀は環を形成していても
    よい。Ａｒ₁₇、Ａｒ₁₈、Ａｒ₁₉は同一又は異なるアリレ
    ン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎは、一般式（１）の
    場合と同じである。）
11. 【請求項１１】 前記、導電性基体より最も離れた表面
    側からの少なくとも１層に含まれる高分子電荷輸送物質
    が下記一般式（８）で表わされることを特徴とする請求
    項１乃至３の何れか１に記載の電子写真感光体。 【化１０】 （式中、Ｒ₂₁は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ
    ₂₀、Ａｒ₂₁、Ａｒ₂₂、Ａｒ₂₃は同一又は異なるアリレン
    基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎは、一般式（１）の場
    合と同じである。）
12. 【請求項１２】 前記、導電性基体より最も離れた表面
    側からの少なくとも１層に含まれる高分子電荷輸送物質
    が下記一般式（９）で表わされることを特徴とする請求
    項１乃至３の何れか１に記載の電子写真感光体。 【化１１】 （式中、Ｒ₂₂、Ｒ₂₃、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は置換もしくは無置換
    のアリール基、Ａｒ₂₄、Ａｒ₂₅、Ａｒ₂₆、Ａｒ₂₇、Ａｒ
    ₂₈は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊお
    よびｎは、一般式（１）の場合と同じである。）
13. 【請求項１３】 前記、導電性基体より最も離れた表面
    側からの少なくとも１層に含まれる高分子電荷輸送物質
    が下記一般式（１０）で表わされることを特徴とする請
    求項１乃至３の何れか１に記載の電子写真感光体。 【化１２】 （式中、Ｒ₂₆、Ｒ₂₇は置換もしくは無置換のアリール
    基、Ａｒ₂₉、Ａｒ₃₀、Ａｒ ₃₁は同一又は異なるアリレン
    基を表わす。Ｘ、ｋ、ｊおよびｎは、一般式（１）の場
    合と同じである。）
14. 【請求項１４】 電子写真感光体に、少なくとも帯電、
    画像露光、現像、転写、クリーニング、除電を繰返し行
    なう電子写真方式において、該電子写真感光体が請求項
    １乃至１３の何れか１に記載のものであることを特徴と
    する電子写真方法。
15. 【請求項１５】 少なくとも電子写真感光体を具備して
    なる電子写真装置用プロセスカートリッジであって、該
    電子写真感光体が請求項１乃至１３の何れか１に記載の
    ものであることを特徴とする電子写真装置用プロセスカ
    ートリッジ。