JPH09235279A - 3−アミノ−2−メルカプト安息香酸誘導体及びその製造方法 - Google Patents
3−アミノ−2−メルカプト安息香酸誘導体及びその製造方法Info
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Abstract
るベンゾ−1,2,3−チアジアゾール誘導体を良好な
収率で容易に製造しうる新規3−アミノ−2−メルカプ
ト安息香酸誘導体を提供すること。 【解決手段】 式I: 【化1】 (式中、Xはハロゲン原子;nは0,1,2又は3;Z
はCN,CO−A又はCS−A;Aは水素原子、ハロゲ
ン原子、OR1 ,SR2 ,又はN(R3 )R 4;R1 乃
至R 4は水素原子,飽和又は不飽和炭化水素基,ベンジ
ル基又はフェネチル基,アルカノイル基,ベンゾイル基
又は複素環基等)で表わされる化合物又はそのジスルフ
ィド又はその塩。
Description
れらの製造方法並びに次式III;
合物の製造のためのその使用に関する。上記式I及び式
IIIの化合物において、Xはハロゲン原子を表し;n
は0,1,2又は3を表し;ZはCN,CO−A又はC
S−Aを表し;Aは水素原子,ハロゲン原子、OR1 ,
SR2 ,又はN(R3 )R 4を表し;R1 乃至R 4は水
素原子;8個より多くない炭素原子を含有する置換又は
未置換の開鎖,飽和又は不飽和炭化水素基;10個より
多くない炭素原子を含有する置換又は未置換の環状飽和
又は不飽和炭化水素基;置換又は未置換のベンジル基又
はフェネチル基;8個より多くない炭素原子を含有する
置換又は未置換のアルカノイル基;置換又は未置換のベ
ンゾイル基;又は置換又は未置換のヘテロサイクリル基
を表し;又はR3 とR 4はそれらが結合する窒素原子と
一緒になつて5又は6員の、1乃至3個のヘテロ原子
O,S及び/又はNを有する置換又は未置換の複素環基
を表す。
疫感作作用を有する式IIIの化合物及びその製造方法
は、例えば、EP−A−313,512により公知であ
る。そこに記載された方法は、多くの反応工程からな
り、該工程の若干のものは複雑であり、そのため全体と
して不満足な収量をもたらすので、工業的な方法として
は適当ではない。それ故、そのような化合物に対する新
規で,工業的により優位な合成法が必要とされる。
は、式IIIの化合物に対する新規な入手を許す。後述
するように、式Iの化合物に基づく式IIIの化合物の
合成法は、中間生成物を単離しない場合であつても、前
駆体の入手の容易性、慣用の反応成分の使用及び良好な
収量により特徴付けられる。
基性基を有し、それゆえ酸付加塩を形成することができ
る。これらの酸付加塩は、例えば、鉱酸例えば硫酸,燐
酸又は塩酸との;有機カルボン酸例えば酢酸,蓚酸,マ
ロン酸,マレイン酸,フマル酸又はフタル酸との;ヒド
ロキシカルボン酸例えばアスコルビン酸,乳酸,リンゴ
酸,酒石酸又はクエン酸との;又は安息香酸との;又は
有機スルホン酸例えばメタン−又はp−トルエンスルホ
ン酸との塩である。
て、式Iの化合物は更に塩基との塩を形成することがで
きる。適当な塩基との塩は、例えば、アルカリ金属又は
アルカリ土類金属塩のような金属塩,例えばナトリウ
ム,カリウム又はマグネシウム塩;アンモニア又は有機
アミン,例えばモルホリン,ピペリジン,ピロリジン,
モノ−,ジ−又はトリ−低級アルキルアミン,例えばエ
チル−,ジエチル−,トリエチル−又はジメチル−プロ
ピル−アミン,又はモノ−,ジ−又はトリ−ヒドロキシ
−低級アルキルアミン,例えばモノ−,ジ−又はトリエ
タノールアミンとの塩である。もし適するならば、相当
する内部塩も更に形成することができる。
用した一般的用語は次に示す意味を有する。
は環状,又は開鎖及び環状の混合,例えばシクロプロピ
ルメチル又はベンジル基であり得る。
鎖又は分枝であることができ、例えば、メチル,エチ
ル,n−プロピル,イソ−プロピル,n−ブチル,第2
ブチル,イソブチル,第3ブチル,第2アミル,第3ア
ミル,1−ヘキシル又は3−ヘキシル基である。
キニル基又は少なくとも3個の多重結合を有するアルケ
ニイニイル基,例えばブタジエニル,ヘキサトリエニ
ル,2−ペンテン−4−イニルである。
基,例えばアリル,メタリル,1−メチルビニル又はブ
テ−2−エン−1−イル等を意味するものとして理解す
べきである。3乃至4の炭素原子の鎖長を有するアルケ
ニル基が好ましい。
存して、直鎖又は分枝であることができ、例えばプロパ
ギル基,ブテ−1−イン−1−イル基等である。プロパ
ギル基が好ましい。
及びナフチル等の芳香族基又は例えばシクロペンテニ
ル,シクロヘキセニル,シクロヘプテニル及びシクロオ
クタジエニル等の非−芳香族基又は例えばテトラヒドロ
ナフチル及びインダニル等の部分的に芳香族基であり得
る。
素,臭素又は沃素,好ましくは塩素又は臭素である。
ル,ジフルオロメチル,ジフルオロクロロメチル,トリ
フルオロメチル,クロロメチル,ジクロロメチル,トリ
クロロメチル,2,2,2−トリフルオロエチル,2−
フルオロエチル,2−クロロエチル,2,2,2−トリ
クロロエチル及び3,3,3−トリフルオロプロピルの
ように同一又は異なるハロゲン原子を含むことができ
る。
キシ,プロピルオキシ,i−プロピルオキシ,n−ブチ
ルオキシ,イソ−ブチルオキシ,第2−ブチルオキシ及
び第3−ブチルオキシ基であり、好ましくは、メトキシ
及びエトキシ基である。
メトキシ,トリフルオロエトキシ,2,2,2−トリフ
ルオロエトキシ,1,1,2,2−テトラフルオロエト
キシ,2−フルオロエトキシ,2−フルオロエトキシ,
2−クロロエトキシ及び2,2−ジフルオロエトキシ基
である。
クロブチル,シクロペンチル又はシクロヘキシル基であ
る。
かである。その例は、フォミル,アセチル,プロピオニ
ル,ブチリル,ピバロイル又はオクタノイル基である。
及び/又はSを有する5又は6員の芳香族又は非芳香族
環基を意味するものとして理解される。未置換又は置換
ベンゾ基は、更に、該分子の残りに対して結合したヘテ
ロサイクリル基のように縮合されることができる。ヘテ
ロサイクリル基の例は、ピリジル,ピリミジニル,イミ
ダゾリル,チアゾリル,1,3,4−チアジアゾリル,
トリアゾリル,チエニル,フラニル,ピロリル,モルホ
リニル,オキザゾリル及びそれらに対応する部分的に又
は全部ハロゲン化された環である。ベンゾ基に縮合した
ヘテロサイクリル基は、キノリル,イソキノリル,ベン
ゾオキサゾリル,キノキサリニル,ベンゾチアゾリル,
ベンズイミダゾリル,インドリル及びインドリニル基で
ある。
式IIIの化合物及びその製造方法は、例えば、EP−
A−313,512により公知である。そこに記載され
た方法は、多くの反応工程からなり、該工程の若干のも
のは複雑であり、そのため全体として不満足な収量をも
たらすので、工業的な方法としては適当ではない。それ
故、そのような化合物に対する新規で,工業的により優
位な合成法が必要とされる。
れる、式IIIの化合物に対する新規な接近を許す。こ
の合成法は、中間生成物を単離しない場合であつても、
前駆体の入手の容易性、慣用の反応成分の使用及び良好
な収量により特徴付けられる。本発明はまた、このよう
な合成法に関する。
る。そして、Tは水素原子、炭素数1乃至12のアルキ
ル基,特に炭素数1乃至6のアルキル基、炭素原子数3
乃至6のアルケニル基、炭素原子数3乃至6のアルキニ
ル基、炭素原子数3乃至6のシクロアルキル基並びに置
換又は未置換のフェニル,ベンジル又はフェネチル基で
ある。式Vの前駆体は工業的に入手し得るか、又は公知
の方法、例えば相当するニトロ化合物を還元することに
より製造することができる。
することができる。 (1)SCN−T/例えばメチルイソチオシアネート/
不活性溶媒/適当ならば酸又は塩基;又はSCN塩の存
在下 (2)酸化剤例えば、SO2 Cl2 又はBr2 又はH2
SO4 /臭素又はCl2 (3)強水性塩基,例えば水酸化カリウム溶液,好まし
くは不活性雰囲気下。
ば、Org.Synthesis,Coll.Volu
meIII,page76;J.Het.Chem.V
olume17,page1325,(1980);U
S−5,374,737;Ukrain.Khim.Z
hur.Volume22,363,1956;cit
ed in Chem.Abstr.22,4358
b,(1957)で引用; (3a)ジアゾ化/H3 PO2 (Synth.Com
m.Volume10,page167 1980) (4)環化を伴うジアゾ化,例えば亜硝酸(=HON
O)と共に、又は無機又は有機ニトリット,例えば亜硝
酸ナトリウム又はイソアミルニトリット(例えばEP
A313,512)to共に; (4a)例えばヒドラジン/エタノール又は塩基加水分
解,又は4)のように(Synth.Comm.Vol
ume10,page167 1980); (4b)例えばZn/酸又はFe/酸(Heteroc
yclic Compounds,Volume7,p
age541及び次の頁);又はH2 /触媒. (5)基COOHの基Z(Zは式Iの定義と同じ)への
変換は、式(2)に示されているように、公知の方法で
実施される。
表し;ZはCN,CO−A又はCS−Aを表し;AはO
R1 ,SR2 ,又はN(R3 )R 4を表し;R1 ,R2
及びR3 は水素原子;未置換であるか、又は1乃至5個
のハロゲン原子,炭素原子数3乃至6のシクロアルキル
基,炭素原子数1乃至4のアルコキシ基,フェノキシ
基,ベンジルオキシ炭素数1乃至4アシルオキシ基,ベ
ンゾイルオキシ基,ヒドロキシル基,ニトロ基,シアノ
基,炭素原子数1乃至4のアルカノイル基,ベンゾイル
基,カルボキシル基,炭素原子数1乃至4のアルコキシ
カルボニル基,ベンジルオキシカルボニル基,アミノ
基,炭素原子数1乃至4のアルキルアミノ基,炭素原子
数1乃至4のジアルキルアミノ基又はヘテロサイクリル
基により置換された炭素原子数1乃至8のアルキル基;
未置換又は1乃至5個のハロゲン原子により置換された
炭素原子数3乃至6のアルケニル基;炭素原子数3乃至
6のアルキニル基;炭素原子数3乃至6のシクロアルキ
ル基;炭素原子数1乃至4のアルカノイル基;フェニル
環が未置換であるか、又はハロゲン原子,ヒドロキシル
基,炭素原子数1乃至4のアルキル基,ハロゲノ−炭素
原子数1乃至2のアルキル基,炭素原子数1乃至2のア
ルコキシ基,ハロゲノ−炭素原子数1乃至2のアルコキ
シ基又はニトロ基により1乃至3回置換されたフェニル
基,ベンジル基又はフェネチル基;未置換であるか、又
はハロゲン原子,炭素原子数1乃至2のアルキル基,ハ
ロゲノメチル基又はニトロ基により同一又は異なる仕方
で1乃至3回置換されたナフチル基,ベンゾイル基又は
ヘテロサイクリル基を表し;R 4は水素原子,炭素原子
数1乃至6のアルキル基,フェニル基又はベンジル基を
表し;又はR3 とR 4はそれらが結合する窒素原子と一
緒になつて、1乃至2個のヘテロ原子O,S及び/又は
Nを有する5または6員の環を表し、該環は未置換であ
るか又はハロゲン原子,炭素原子数1乃至3のアルキル
基又は炭素原子数1乃至2のアルコキシカルボニル基に
より同一又は異なる仕方で1乃至2回置換されている化
合物。
は1を表し;ZはCN又はCO−Aを表し;AはO
R1 ,SR2 ,又はN(R3 )R 4を表し;R1 乃至R
4は請求項2の定義と同じである化合物。
は1を表し;ZはCN又はCO−Aを表し;AはOR1
又はSR2 を表し;及びR1 及びR2 は水素原子;未置
換又は1乃至3個のハロゲン原子,炭素原子数3乃至6
のシクロアルキル基又は炭素原子数1乃至2のアルコキ
シ基により置換された炭素原子数1乃至6のアルキル
基;未置換又は1乃至3個のハロゲン原子により置換さ
れた炭素原子数3乃至4のアルケニル基;炭素原子数3
乃至4のアルキニル基;炭素原子数3乃至6のシクロア
ルキル基;又はフェニル環が未置換であるか、又はハロ
ゲン原子,ヒドロキシル基,炭素原子数1乃至4のアル
キル基,ハロゲノ炭素原子数1乃至2のアルキル基,炭
素原子数1乃至2のアルコキシ基,ハロゲノ−炭素原子
数1乃至2のアルコキシ基又はニトロ基により1乃至2
回置換されたフェニル基,ベンジル基又はフェネチル基
である化合物。
塩。
式2に従って、相当するベンゾジチアゾリニウム塩VI
又はヒドロキシベンゾジチアゾールVIIを経由して製
造することができる(Houben−Weyl,E8
d,Heteroarene〔Heteroarene
s〕III,Part4;page2及び次の頁並びに
page59及び次の頁)。反応式2 :
えばS2 Cl2 又はSCl2 (この場合、アニリン誘導
体Vは最初好ましくは相当する塩酸塩に変換され
る。)、0〜120℃において(J.Org.Che
m.30,2763,J.Het.Chem3,51
8,同書5,1149),(b1)H2 O/又はH2 O
/NaOAc(0〜50℃)(Khim.Get.So
ed.(9),1205(1979);Synth.C
oom.23,263),(b2)H2 O/20〜10
0℃,重炭酸ナトリウム,炭酸ナトリウム又は希釈した
アルカリ金属又はアルカリ土類金属水酸化物又は酸化物
のような塩基を用い又は用いることなく〔J.Am.C
hem.Soc.68,1594(1946)〕,
(c)二ハロゲン化硫黄(例えばSCl2 ),チオニル
ハライド(SOCl2 )−20〜100℃(J.He
t.Chem.3,518),(d)S(O)L2 ,L
は、ハロゲン,イミダゾール−1′−イル又は1,2,
4−トリアゾール−1−イル、例えば、チオニルイミダ
ゾール又はSOl2 のような脱離基、−30〜100
℃,不活性溶媒〔J.Org.Chem.30,276
3(1965)〕,ベンゾジチアゾリウム塩VI及びV
IIは、また更にその場で、単離することなく、適当な
条件下で反応させ〔J.Chem.Soc.1970,
2250,Houben Weyl E8d,Hete
roarene(Heteroarenes)III,
part4,page59及び次の頁)〕,ベンゾチア
ジアゾールIII又はIIIaを得ることができる。
K+ ,1/2Mg2+ 又は第4級アンモニウムイオン及
びAは式Iの定義と同じ; (c)チオネイティング剤,例えばホスホラスペンタサ
ルファイド又は4−メトキシフェニルチオホスホニック
アシドシクロジチオアンハイドライド(”Lawess
on’s 試薬); (d)NH3 ; (e)脱水剤,例えばSOCl2 又はCOCl2 ; (f)還元,例えば水素/触媒による又は錯水素化物,
例えばLiAlH2 (OCH2 CH2 OCH3 )2 によ
る。
ば、通常は適当な溶媒又は希釈剤又はそれらの混合物の
存在下又は不存在下に実施され、また該反応は、必要に
応じて冷却して、室温において又は加熱して,例えば、
約−80℃から反応媒体の沸点までの温度範囲で、好ま
しくは約−20〜約+170℃の温度範囲で、そして必
要ならば閉塞した容器中で、加圧下に、不活性ガス雰囲
気及び/又は無水条件下で実施される。
無機又は有機ニトリットとの反応は優位には−20〜+
30℃において実施される。
沃素;メチルチオ,エチルチオ又はプロピルチオのよう
な炭素原子数1乃至8のアルキルチオ基;アセトキシの
ような炭素原子数1乃至8のアルカノイルオキシ基;メ
タンスルフォニルオキシ,エタンスルフォニルオキシ又
はトリフルオロメタンスルフォニルオキシのような(ハ
ロゲノ)−炭素原子数1乃至8アルカンスルフォニルオ
キシ基;ベンゼンスルフォニルオキシ又はp−トルエン
スルフォニルオキシのような置換又は未置換フェニルス
ルフォニルオキシ基;イミダゾール,トリアゾール,ヒ
ドロキシ又は水,好ましくは塩素,臭素,沃素及びp−
トルエンスルフォニルオキシ基である。
アルカリ土類金属水酸化物,水素化物,アミド,アルカ
ノレート,炭酸塩,ジアルキルアミド又はアルキルシリ
ルアミド,アルキルアミン,アルキレジアミン,非−ア
ルキル化又はN−アルキル化飽和又は不飽和シクロアル
キルアミン,塩基性複素環化合物,アンモニウムハイド
ロオキサイド及びカルボサイクリックアミンである。具
体例としては、ナトリウムハイドロオキサイド,ハイド
ライド,アミド,メタノレート及びカーボネート;カリ
ウム第3ブチレート及びカーボネート;リチュウムジイ
ソプロピルアミド,カリウムビス(トリメチルシリル)
アミド,カルシウムハイドライド,トリエチルアミン,
トリエチレンジアミン,シクロヘキシルアミン,N−シ
クロヘキシル−N,N−ジメチルジアミン,N,N−ジ
エチルアニリン,ピリジン,4−(N,N−ジメチルア
ミノ)ピリジン,N−メチルモルホリン,ベンジル−ト
リメチル−アンモニウムハイドロオキサイド及び1,8
−ジアザビシクロ[ 5,4,0 ]−ウンデク−5−エン
(DBU)が挙げられる。
を添加することなく、例えば溶融状態で反応させること
ができる。しかしながら、不活性溶剤又は希釈剤又はそ
れらの混合物の添加が通常は好ましい。そのような溶剤
又希釈剤は;ベンゼン,トルエン,キシレン,クロロベ
ンゼン,ブロモベンゼン,石油エーテル,ヘキサン,シ
クロヘキサン,メチレンクロライド,クロロホルム,ジ
クロロエタン又はジオキサンのような芳香族,脂肪族及
び脂環族炭化水素並びにハロゲン化炭化水素;ジエチル
エーテル,第3ブチルメチルエーテル,テトラヒドロフ
ラン又はジオキサンのようなエーテル類;アセトン又は
メチルエチルケトンのようなケトン類;メタノール,エ
タノール,プロパノール,ブタノール,エチレングリコ
ール又はグリセロールのようなアルコール類;エチルア
セテート又はブチルアセテートのようなエステル類;
N,N−ジメチルホルムアミド,N,N−ジメチルアセ
トアミド,N−メチルピロリドン又はヘキサメチレンホ
スホリックアシドトリアミドのようなアミド類:アセト
ニトリルのようなニトリル類;及びジメチルスルフォキ
サイドのようなスルフォキサイド類である。トリエチル
アミン,ピリジン,N−メチルモルホリン又はN,N−
ジエチルアニリンのような過剰に使用される塩基は、ま
た溶剤又は希釈剤として使用することができる。反応
は、また、有機溶剤,例えばメチレンクロライド又はト
ルエン中の相間移動触媒下に、水性塩基性溶液,例えば
水酸化ナトリウム溶液及び相間移動触媒,例えばテトラ
ブチルアンモニウムハイドロジェンサルファイドの存在
下に実施することができる。典型的な反応条件は実施例
において見られる。
該製造方法において、(1)乃至(6)に記載する式
で、置換基は反応式1に定義されたものと同じである。
aの化合物又はその塩を得、そして更にそれを反応させ
て式Iの化合物又はその塩を得ることからなる式Iの化
合物又はその塩の製造方法。
ウム溶液又は水酸化ナトリウム溶液と、1〜5バールの
圧力下、120〜150℃で反応させて式Iaの化合物
又はその塩を製造する方法。
化合物又はその塩を得、そして所望により、 b1)該化合物又はその塩を、亜硝酸又は無機又は有機
ニトリットによりジアゾ化することにより、式IIIa
の化合物に変換し、所望により該化合物を式IIIの化
合物に変換するか、又は b2)該化合物又はその塩を、式Iの化合物に変換し、
そして該変換した化合物を、亜硝酸又は無機又は有機ニ
トリットによりジアゾ化することにより、式IIIの化
合物に変換して式IIIの化合物を製造する方法。
aの化合物又はその塩を得、そして更にそれを、単離す
ることなく、直接に、亜硝酸又は無機又は有機ニトリッ
トによりジアゾ化することにより、式IIIaの化合物
に変換することからなり、その際、特に第1段の反応
を、水酸化カリウム溶液中で、1〜5バールの圧力下、
120〜170℃で実施し、そしてジアゾ化を亜硝酸ナ
トリウムで実施することからなる式IIIaの化合物を
製造する方法。
水分解することからなる式Iの化合物を製造する方法。
媒中で、適当であるならば酸又は塩基の存在下に反応さ
せ、そして得られた式IVの化合物を、酸化剤例えば、
SO2 Cl2 又はBr2 又はH2 SO4 /臭素又はCl
2 と反応させ、式IIの化合物を得ることからなる式I
Iの化合物の製造方法。炭素原子数1乃至6のアルキル
イソチオシアネート、特にメチルイソチオシアネートが
第1反応工程で好ましくは使用される。適当な溶剤は、
無水のカルボン酸、例えば蟻酸及び酢酸;アルコール、
例えばエタノール及びイソプロパノール、ケトン、エー
テル及びハロゲン化炭化水素である。二つの反応工程
は、特に好ましくは同一溶剤、例えば酢酸中で、式IV
の化合物を単離することなく実施される。
I:
3を表し;Tは水素原子,炭素数1乃至6のアルキル
基,炭素原子数3乃至6のアルケニル基,炭素原子数3
乃至6のアルキニル基,炭素原子数3乃至6のシクロア
ルキル基,置換又は未置換のフェニル,ベンジル又はフ
ェネチル基を表し;ZはCN,CO−A又はCS−Aを
表し;Aは水素原子、ハロゲン原子、OR1 ,SR2 ,
又はN(R3 )R 4を表し;R1 乃至R 4は水素原子;
8個より多くない炭素原子を含有する置換又は未置換の
開鎖,飽和又は不飽和炭化水素基;10個より多くない
炭素原子を含有する置換又は未置換の環状飽和又は不飽
和炭化水素基;置換又は未置換のベンジル基又はフェネ
チル基;8個より多くない炭素原子を含有する置換又は
未置換のアルカノイル基;置換又は未置換のベンゾイル
基;又は置換又は未置換のヘテロサイクリル基を表し;
又はR3 とR 4はそれらが結合する窒素原子と一緒にな
つて5又は6員の、1乃至3個のヘテロ原子O,S及び
/又はNを有する置換又は未置換の複素環基を表す。)
で表し;そしてHalはハロゲン原子、ClO4 又はB
F4 を表す。〕で表される新規中間体にも関するもので
ある。但し、ZがCOOC2 H5 ,nが0そしてTが水
素原子である化合物(該化合物は、Ukrain.Kh
im.Zhur.Volume22,363,195
6;Chem.Abstr.22,4358b,195
7に引用;により既に知られている。)及びZがCOO
CH3 でnが0である式VIの化合物(該化合物は、
J.Chem.Soc.1970,2250,で既に知
られている。但し単離及び特徴付けられていない。)は
除く。
は、Xはフッ素原子を表し;nは0又は1を表し;Tは
水素原子又は炭素数1乃至6のアルキル基を表し;Zは
CN又はCO−Aを表し;AはOR1 ,SR2 ,又はN
(R3 )R 4を表し;そしてR1 乃至R 4は前記定義と
同一である化合物である。
R2 を表し;そしてR1 及びR2 は水素原子;未置換又
は1乃至3個のハロゲン原子,炭素原子数3乃至6のシ
クロアルキル基又は炭素原子数1乃至2のアルコキシ基
により置換された炭素原子数1乃至6のアルキル基;未
置換又は1乃至3個のハロゲン原子により置換された炭
素原子数3乃至4のアルケニル基;炭素原子数3乃至4
のアルキニル基;炭素原子数3乃至6のシクロアルキル
基;又はフェニル環が未置換であるか、又はハロゲン原
子,ヒドロキシル基,炭素原子数1乃至4のアルキル
基,ハロゲノ炭素原子数1乃至2のアルキル基,炭素原
子数1乃至2のアルコキシ基,ハロゲノ−炭素原子数1
乃至2のアルコキシ基又はニトロ基により1乃至3回置
換されたフェニル基,ベンジル基又はフェネチル基を表
す化合物である。
は水素原子又はメチル基を表し;ZはCO−Aを表し;
AはOR1 を表し;そしてR1 は水素原子;未置換又は
1乃至3個のハロゲン原子により置換された炭素原子数
1乃至6のアルキル基;炭素原子数1乃至2個のアルコ
キシ基;炭素原子数3乃至6のシクロアルキル基;又は
フェニル環がハロゲン原子,ヒドロキシル基,炭素原子
数1乃至4のアルキル基,ハロゲノ−炭素原子数1乃至
2のアルキル基,炭素原子数1乃至2のアルコキシ基,
ハロゲノ−炭素原子数1乃至2のアルコキシ基又はニト
ロ基により1乃至2回置換された、又は未置換のフェニ
ル基,ベンジル基又はフェネチル基を表す化合物であ
る。式VIの化合物において、Halは好ましくは塩素
原子である。
a1) 水38mlに溶解した28.9gの水酸化カルシウム
(85%)を、ジオキサン38ml中3.5gの2−ア
ミノ−ベンゾチアゾール−7−安息香酸メチルエステル
に、窒素雰囲気下、20分にわたって、内部温度が25
℃を越えないように攪拌及び氷で冷却しながら、滴下す
る。その後、混合物を140℃の浴中で還流し、そして
反応の終わりに向かって、内部温度を170℃まで上昇
させ、そしてジオキサンを降下凝縮器により留出させ
る。次いで、混合物を0℃まで冷却し、窒素雰囲気下で
ろ過し、そして残渣を氷水30mlですすぐ。厳格に冷
却及び攪拌しながら最高0℃において、pH5.5まで
酸性化し、エチルアセテート/テトラヒドロフラン
(8:2)で抽出し、そして濃厚塩化ナトリウム溶液で
洗浄することにより、上記の化合物がろ液から単離され
る。ジサルファイドの形成の危険性から、ろ液中のカリ
ウム塩(カリウム3−アミノ−2−メルカプト−ベンゾ
エート)を、好ましくは、更に直接的に反応させる。
ール−7−カルボン酸 17,6mmolの 2−アミノ−ベンゾチアゾール−
7−カルボン酸メチルエステルから上記の加水分解によ
り得られた、3−アミノ−2−メルカプト−ベンゾイッ
クアシドのカリウム塩のろ過水性溶液を、完全に攪拌し
そして厳格に冷却しながら、最高0℃にて、窒素雰囲気
下で、31.6mlの濃硫酸により、酸に変え、水3.
4ml中亜硝酸1.28g(18.6mmol)の溶液
を、最高10℃で、表面下に滴下し、次いで混合物を4
時間攪拌し、温度を約25℃まで上昇させる。形成され
た沈澱をろ過し、氷水で洗浄し、テトラヒドロフラン中
にとり、そして活性炭で処理後、混合物を少量のシリカ
ゲルでろ過する。ろ液の蒸発後、融点232〜233℃
のクルードの表記の化合物2.64g(二工程で88
%)が得られた。HPLC分析は、表記の化合物が少な
くとも83%及び異性体ベンゾ−1,2,3−チアジア
ゾール−5−カルボン酸8〜17%の含有量であること
が示された。ジオキサンからの再結晶により、融点23
9〜240℃の純粋な表記の化合物が得られた。
ゾール−7−カルボニルクロライド 290gのベンゾ−1.2.3−チアジアゾール−7−
カルボン酸を1.6リットルのトルエン中に懸濁させ、
3.5mlのジメチルホルムアミド及び129mlのチ
オニルクロライドを添加し、その混合物を80〜90℃
において攪拌すると懸濁液はガスの放出を進めながら溶
液に変換した。反応が終了したら、溶液を冷却し、少量
のハイフロ(Hyflo)でろ過し、残渣をトルエンで
すすぎ、ろ液を蒸発させる。297g(93%)の粗酸
クロライド(このものは更に直接反応させることができ
る。)が得られる。
−チアジアゾール−7−カルボキシレート 210mlのトリエチルアミン及び2.1gの4−ジメ
チルアミノピリジンを、1450mlのメチレンクロラ
イド中60.7g(1.26モル)の溶液に、0℃にて
添加する。メチレンクロライド1.2リットルに溶解し
た250.1g(1.26モル)の上記酸クロライドを
冷却しながら0〜5℃で滴下し、次いで混合物を室温で
3時間攪拌し、次いで氷水を加え、水性相をメチレンク
ロライドで抽出し、そして集めた有機の抽出物を水で洗
い、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、少量のシリカゲル上
でろ過し、蒸発させると融点132〜134のS−メチ
ルベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−7−カルボキ
シレート236g(89%が残る。
ステル 130ml(1.78モル)のチオニルクロライドを−
5℃に冷却した500mlのメタノールに、攪拌しなが
ら滴下し、混合物を0℃で15分完全に攪拌する。次い
で、70g(0.5モル)の固体3−アミノ−安息香酸
を同じ温度で導入し、混合物を15分間攪拌し、昇温
し、そして形成された溶液を一夜70℃に保つ。次い
で、それを蒸発させ、酢酸エチル及び氷水を残渣に添加
しそして飽和重炭酸ソーダ溶液を添加することによりp
Hを7.5にする。生成物を酢酸エチルで抽出し、抽出
物を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして蒸
発させる。69.8g(92.2%)の純粋なメチルエ
ステルが油状で得られる。該油を放置しておくと結晶化
する。融点37〜38℃。
チルエステル 11.3gのメチル−3−アミノベンゾエートを75m
lのクロロベンゼン溶液として反応容器に導入する。
2.07mlの濃硫酸(96%)を−5〜0℃で15分
間にわたって添加し、攪拌を5分間続行し、次いで6.
8gのナトリウムチオシアネートを最高0℃で分割導入
し、そして混合物を更に15分間攪拌する。次いで、
0.2mlの15−クラウン−5を添加し、混合物を1
00℃の浴温度で10時間攪拌し、冷却し、そして形成
された沈澱をろ過し、水で3回洗浄する。融点が171
〜172℃の表記の化合物が13.9g(85.9%)
得られる。
7−カルボン酸メチルエステル 8.3gのメチル3−チオウレイド−ベンゾエートを1
20mlのクロロベンゼン中に懸濁させ、30mlのク
ロロベンゼン中2.2mlの臭素を、できるだけ完全に
攪拌しながら、0℃で1時間にわたって添加し、ついで
混合物を室温で攪拌する。ついで、それを70℃で4時
間保持し、ただちに冷却し、少量のジエチルエーテルを
添加し、沈澱をろ過し、重炭酸ソーダ水溶液70mlと
完全に混合し、再びろ過しそして水で洗う。融点が23
1〜232℃の粗生成物7.7g(88%)が得られ
た。HPLC分析は、異性体2−アミノ−ベンゾチアゾ
ール−5−カルボン酸メチルエステルの8〜18%に加
えて、純粋な標記の化合物88%以上の含有量を示し
た。酢酸エチルに分散し、酢酸エチルとともに70℃で
短時間加熱し、30℃まで冷却しそしてろ過すると、融
点が>250℃の純粋な標記の化合物が得られる。反応
を酢酸エチル(クロロベンゼンの代わりに)中で実施す
ると、望まない異性体2−アミノ−ベンゾチアゾール−
5−カルボン酸メチルエステルの含有量は僅かに約5%
であつた。
7−カルボン酸メチルエステルからベンゾ−1,2,3
−チアジアゾール−7−カルボン酸の直接的製造法
ン酸メチルエステル3.5kgのKOH(50%)中で
4時間、120℃/1〜2バールに保持し、ついで混合
物を0〜5℃で、塩酸水溶液で中和する。この溶液に、
亜硝酸ナトリウム40%水溶液を0℃〜+10℃にて、
計量して入れ、そして沈澱した生成物をろ過し、洗浄乾
燥した。ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−7−カ
ルボン酸1.03kg、融点230〜233℃(2工程
にわたって理論量の91%)。
ール−7−カルボン酸からベンゾ−1,2,3−チアジ
アゾール−7−カルボン酸の直接的製造法
ルボン酸(92.7%)及び596gの47%KOHの
懸濁液をオートクレーブ中で、12時間、155℃/
1.7〜1.8バールに保持し、次いで20〜25℃で
ろ過して透明にする。ろ液を635gの37%塩酸に滴
下し、50mlのメタノールを添加する。この懸濁液
に、30%亜硝酸ナトリウム水溶液200gを−10℃
〜−5℃で添加し、混合物を−5℃〜0℃で、2時間完
全に反応させる。吸引ろ過及び水で洗浄すると、融点が
260〜262℃の粗ベンゾ−1,2,3−チアジアゾ
ール−7−カルボン酸が112g得られる。HPLC分
析は純粋な標記の化合物の含有量が90〜93%である
ことを示した。
安息香酸の製造法 1.3gの2−アミノ−7−メトキシカルボニル安息香
酸メチルエステルを、50%水酸化カリウム溶液3.4
gに、窒素雰囲気下、攪拌しながら導入し、混合物をボ
ンベ中で120℃で12時間維持する。次いで、それを
冷却し、更に50%水酸化カリウム溶液1.3gを添加
し、混合物を150℃で更に4時間維持する。次いで、
それを冷却し、不活性雰囲気下、0℃で、5.5のpH
が得られるような量の希硫酸に滴下する。形成された沈
澱をろ過し、氷水で洗浄する。高真空下で乾燥後、マス
スペクトルに基づく相当するジサルファイドの痕跡を含
有する融点が255〜258の標記の化合物が得られ
た。
レイド)−安息香酸の製造法
メチルイソチオシアネート及び1000gの100%酢
酸の混合物を80〜85℃まで加熱する。更に加熱する
ことなしに、20分に渡って温度を95〜100℃まで
上昇させると透明な溶液が形成される。該溶液からは生
成物がゆっくり晶出する。この懸濁物を90〜100℃
で2時間保持し、次いで15〜20℃まで冷却し、吸引
ろ過し、吸引フィルター上の物質を酢酸で洗浄すると、
標記の化合物が404g得られる。純度:99.5%,
融点:190−91℃,分解.収率:理論値の95.7
%。
アゾール−7−カルボン酸の製造法
12gの3−(N′−メチルチオウレイド)−安息香酸
及び500gの100%酢酸の懸濁液に、45〜50℃
で、2時間に渡って添加する。次いでこの混合物を2.
5時間に渡って90〜100℃まで加熱し、ガスの放出
が終わるまで更に2時間反応させる。150gの酢酸を
減圧下80〜85℃で留出した後、200gの水を加
え、そしてこの混合物に30%水酸化ナトリウム溶液を
滴下することによりpHを2にする。70〜80℃で吸
引ろ過し、水で洗浄すると、融点>330℃の標記の化
合物が179.2g得られる。HPLC分析は、異性体
2−メチルアミノ−ベンゾチアゾール−5−カルボン酸
3〜4%に加えて、標記の化合物94.6%の含有量を
示した。収率:理論値の81.5%
メチルアミノ−ベンゾチアゾール−7−カルボン酸の製
造法(ワン−ポット反応)
00%酢酸を、70gの3−アミノ安息香酸及び250
gの100%酢酸の懸濁液に、75〜80℃、50分に
わたって添加する。3−(N′−メチルチオウレイド)
−安息香酸がゆっくりと結晶形で沈澱する溶液が一時的
に形成される。この混合物を2時間完全に反応させ、そ
れを50℃まで冷却し、81.5gの臭素及び50gの
100%酢酸の溶液を、45〜50℃で、2時間に渡っ
て添加する。次いでこの混合物を2時間に渡って90〜
100℃まで加熱し、ガスの放出が終わるまで、2時間
完全に反応させる。160gの酢酸を、減圧下、75〜
80℃で留出させた後、残渣に200gの水を加え、3
0%水酸化ナトリウム溶液67gを滴下し、混合物を7
5〜80℃で吸引ろ過し、残渣を水で洗浄して、融点が
>330℃の生成物73gを得る。HPLC分析は、異
性体2−メチルアミノ−ベンゾチアゾール−5−カルボ
ン酸0.7%に加えて、標記の化合物97%の含有量を
示した。収率:理論値の68%
息香酸メチルエステル
3−チアジアゾール溶液を、木炭担持パラジウム0.5
g上で、150バールの初期圧下で160℃にて水素化
する。出発物質が完全に反応した後、触媒をろ過し、ジ
オキサンですすぎ、空気と接触を避けながらろ液を蒸発
させ、そして残渣をシリカゲル〔ヘキサン/酢酸エチル
(6;4)〕で精製する。融点174〜175の標記化
合物がこの操作により得られる。
の記載されたのと類似の方法で製造することができる。
Claims (23)
- 【請求項1】 次式I: 【化1】 (式中、Xはハロゲン原子を表し;nは0,1,2又は
3を表し;ZはCN,CO−A又はCS−Aを表し;A
は水素原子,ハロゲン原子、OR1 ,SR2 又はN(R
3 )R 4を表し;R1 乃至R 4は水素原子;8個より多
くない炭素原子を含有する置換又は未置換の開鎖,飽和
又は不飽和炭化水素基;10個より多くない炭素原子を
含有する置換又は未置換の環状飽和又は不飽和炭化水素
基;置換又は未置換のベンジル基又はフェネチル基;8
個より多くない炭素原子を含有する置換又は未置換のア
ルカノイル基;置換又は未置換のベンゾイル基;又は置
換又は未置換のヘテロサイクリル基を表し;又はR3 と
R 4はそれらが結合する窒素原子と一緒になつて5又は
6員の、1乃至3個のヘテロ原子O,S及び/又はNを
有する置換又は未置換の複素環基を表す。)で表わされ
る化合物又はそのジスルフィド又はその塩。 - 【請求項2】 前記式Iにおいて、Xはフッ素原子を表
し;nは0,1,2又は3を表し;ZはCN,CO−A
又はCS−Aを表し;AはOR1 ,SR2 又はN
(R3 )R 4を表し;R1 ,R2 及びR3 は水素原子;
未置換であるか又は1乃至5個のハロゲン原子,炭素原
子数3乃至6のシクロアルキル基,炭素原子数1乃至4
のアルコキシ基,フェノキシ基,ベンジルオキシ炭素数
1乃至4のアシルオキシ基,ベンゾイルオキシ基,ヒド
ロキシル基,ニトロ基,シアノ基,炭素原子数1乃至4
のアルカノイル基,ベンゾイル基,カルボキシル基,炭
素原子数1乃至4のアルコキシカルボニル基,ベンジル
オキシカルボニル基,アミノ基,炭素原子数1乃至4の
アルキルアミノ基,炭素原子数1乃至4のジアルキルア
ミノ基又はヘテロサイクリル基により置換された炭素原
子数1乃至8のアルキル基;未置換又は1乃至5個のハ
ロゲン原子により置換された炭素原子数3乃至6のアル
ケニル基;炭素原子数3乃至6のアルキニル基;炭素原
子数3乃至6のシクロアルキル基;炭素原子数1乃至4
のアルカノイル基;フェニル環が未置換であるか、又は
ハロゲン原子,ヒドロキシル基,炭素原子数1乃至4の
アルキル基,ハロゲノ−炭素原子数1乃至2のアルキル
基,炭素原子数1乃至2のアルコキシ基,ハロゲノ−炭
素原子数1乃至2のアルコキシ基又はニトロ基により1
乃至3回置換されたフェニル基,ベンジル基又はフェネ
チル基;未置換であるか、又はハロゲン原子,炭素原子
数1乃至2のアルキル基,ハロゲノメチル基又はニトロ
基により同一又は異なる仕方で1乃至3回置換されたナ
フチル基,ベンゾイル基又はヘテロサイクリル基を表
し;R 4は水素原子,炭素原子数1乃至6のアルキル
基,フェニル基又はベンジル基を表し;又はR3 とR 4
はそれらが結合する窒素原子と一緒になつて、1乃至2
個のヘテロ原子O,S及び/又はNを有する5または6
員の環を表し、該環は未置換であるか又はハロゲン原
子,炭素原子数1乃至3のアルキル基又は炭素原子数1
乃至2のアルコキシカルボニル基により同一又は異なる
仕方で1乃至2回置換されている請求項1記載の化合
物。 - 【請求項3】 前記式Iにおいて、Xはフッ素原子を表
し;nは0または1を表し;ZはCN又はCO−Aを表
し;AはOR1 ,SR2 又はN(R3 )R 4を表し;そ
して、R1 乃至R 4は請求項2の定義と同じである請求
項2記載の化合物。 - 【請求項4】 前記式Iにおいて、Xはフッ素原子を表
し;nは0または1を表し;ZはCN又はCO−Aを表
し;AはOR1 又はSR2 を表し;R1 及びR2 は水素
原子;未置換又は1乃至3個のハロゲン原子,炭素原子
数3乃至6のシクロアルキル基又は炭素原子数1乃至2
のアルコキシ基により置換された炭素原子数1乃至6の
アルキル基;未置換又は1乃至3個のハロゲン原子によ
り置換された炭素原子数3乃至4のアルケニル基;炭素
原子数3乃至4のアルキニル基;炭素原子数3乃至6の
シクロアルキル基;又はフェニル環が未置換であるか、
又はハロゲン原子,ヒドロキシル基,炭素原子数1乃至
4のアルキル基,ハロゲノ炭素原子数1乃至2のアルキ
ル基,炭素原子数1乃至2のアルコキシ基,ハロゲノ−
炭素原子数1乃至2のアルコキシ基又はニトロ基により
1乃至2回置換されたフェニル基,ベンジル基又はフェ
ネチル基である請求項3記載の化合物。 - 【請求項5】 次式Ia1: 【化2】 で表わされる化合物、又はそのジスルフィド又はその
塩。 - 【請求項6】 次の反応式: 【化3】 により、式II(式中、X,n及びZは、前記式Iにお
ける定義と同じであり、Tは水素原子,炭素原子数1乃
至6のアルキル基,炭素原子数3乃至6のアルケニル
基,炭素原子数3乃至6のアルキニル基,炭素原子数3
乃至6のシクロアルキル基,置換又は未置換のフェニ
ル,ベンジル又はフェネチル基を表す。)の化合物を強
水性塩基と反応させて式Iaの化合物又はその塩を得、
そして更にそれを反応させて式I(式中、X,n及びZ
は前記式Iにおける定義と同じである。)の化合物を得
ることからなる式Iの化合物の製造方法。 - 【請求項7】 次の反応式: 【化4】 により、式II(式中、X,n及びZは、前記式Iにお
ける定義と同じであり、Tは水素原子,炭素原子数1乃
至6のアルキル基,炭素原子数3乃至6のアルケニル
基,炭素原子数3乃至6のアルキニル基,炭素原子数3
乃至6のシクロアルキル基又は置換又は未置換のフェニ
ル,ベンジル又はフェネチル基を表す。)の化合物を強
水性塩基と反応させて式Iaの化合物又はその塩を製造
する方法。 - 【請求項8】 水酸化カリウム溶液又は水酸化ナトリウ
ム溶液を塩基として使用することからなる請求項7記載
の方法。 - 【請求項9】 反応を1〜5バールの圧力下、120〜
170℃で実施することからなる請求項7記載の方法。 - 【請求項10】 次の反応式: 【化5】 により、 a)式II(式中、X,n及びZは、前記式Iにおける
定義と同じであり、Tは水素原子,炭素原子数1乃至6
のアルキル基,炭素原子数3乃至6のアルケニル基,炭
素原子数3乃至6のアルキニル基,炭素原子数3乃至6
のシクロアルキル,基置換又は未置換のフェニル,ベン
ジル又はフェネチル基を表す。)の化合物を強水性塩基
と反応させて式Iaの化合物又はその塩を得、そして所
望により、 b1)該化合物又はその塩を、亜硝酸又は無機又は有機
ニトリットによりジアゾ化することにより、式IIIa
の化合物に変換し、所望により該化合物を式IIIの化
合物に変換するか、又は b2)該化合物又はその塩を、式Iの化合物に変換しそ
して該変換した化合物を、亜硝酸又は無機又は有機ニト
リットによりジアゾ化することにより、式IIIの化合
物に変換することからなる式IIIの化合物(式中、
X,n及びZは、前記式Iにおける定義と同じであり、
Tは水素原子,炭素原子数1乃至6のアルキル基,炭素
原子数3乃至6のアルケニル基,炭素原子数3乃至6の
アルキニル基,炭素原子数3乃至6のシクロアルキル
基,置換又は未置換のフェニル,ベンジル又はフェネチ
ル基を表す。)の製造方法。 - 【請求項11】 次の反応式: 【化6】 により、式II(式中、X,n及びZは、前記式Iにお
ける定義と同じであり、Tは水素原子,炭素原子数1乃
至6のアルキル基,炭素原子数3乃至6のアルケニル
基,炭素原子数3乃至6のアルキニル基,炭素原子数3
乃至6のシクロアルキル基,置換又は未置換のフェニ
ル,ベンジル又はフェネチル基を表す。)の化合物を強
水性塩基と反応させて式Iaの化合物又はその塩を得、
そして更にそれを、単離することなく、直接に、亜硝酸
又は無機又は有機ニトリットによりジアゾ化することに
より、式IIIaの化合物に変換することからなる式I
IIaの化合物の製造方法。 - 【請求項12】 第1反応工程を、水酸化カリウム溶液
中で、1〜5バールの圧力下、120〜170℃で実施
し、そしてジアゾ化を亜硝酸ナトリウムで実施すること
からなる請求項11記載の方法。 - 【請求項13】 次の反応式: 【化7】 により、式VI(式中、X,n及びZは、前記式Iにお
ける定義と同じである。)の化合物を、中性又は塩基性
条件下で加水分解することからなる式Iの化合物の製造
方法。 - 【請求項14】 次の反応式: 【化8】 により、式Vの化合物をSCN−T又はSCN塩と、溶
媒中で、適当であるならば酸又は塩基の存在下に反応さ
せ、そして得られた式IVの化合物を、酸化剤例えば、
SO2 Cl2 又はBr2 又はH2 SO4 /臭素又はCl
2 と反応させ、式IIの化合物を得ることからなる式I
Iの化合物の製造方法。 - 【請求項15】 第1反応工程でメチルイソシアネート
を使用し、そして第2反応工程でBr2 が使用し、そし
て該二つの反応工程を無水カルボン酸中で、式IVの化
合物を単離することなく実施することからなる請求項1
4記載の方法。 - 【請求項16】 次式II: 【化9】 (式中、Xはハロゲン原子を表し;nは0,1,2又は
3を表し;Tは水素原子,炭素数1乃至6のアルキル
基,炭素原子数3乃至6のアルケニル基,炭素原子数3
乃至6のアルキニル基,炭素原子数3乃至6のシクロア
ルキル基,置換又は未置換のフェニル,ベンジル又はフ
ェネチル基を表し;ZはCN,CO−A又はCS−Aを
表し;Aは水素原子、ハロゲン原子、OR1 ,SR2 ,
又はN(R3 )R 4を表し;R1 乃至R 4は水素原子;
8個より多くない炭素原子を含有する置換又は未置換の
開鎖,飽和又は不飽和炭化水素基;10個より多くない
炭素原子を含有する置換又は未置換の環状飽和又は不飽
和炭化水素基;置換又は未置換のベンジル基又はフェネ
チル基;8個より多くない炭素原子を含有する置換又は
未置換のアルカノイル基;置換又は未置換のベンゾイル
基;又は置換又は未置換のヘテロサイクリル基を表し;
又はR3 とR 4はそれらが結合する窒素原子と一緒にな
つて5又は6員の、1乃至3個のヘテロ原子O,S及び
/又はNを有する置換又は未置換の複素環基を表す。但
し、ZがCOOC2 H5 ,nが0そしてTが水素原子で
ある化合物は除く)で表わされる化合物。 - 【請求項17】 Xはフッ素原子を表し;nは0又は1
を表し;Tは水素原子又は炭素原子数1乃至6のアルキ
ル基を表し;ZはCN又はCO−Aを表し;AはO
R1 ,SR2 ,又はN(R3 )R 4を表し;そしてR1
乃至R 4は請求項2で定義したのと同一である請求項1
6記載の化合物。 - 【請求項18】 AはOR1 又はSR2 を表し;そして
R1 及びR2 は水素原子;未置換又は1乃至3個のハロ
ゲン原子,炭素原子数3乃至6のシクロアルキル基又は
炭素原子数1乃至2のアルコキシ基により置換された炭
素原子数1乃至6のアルキル基;未置換又は1乃至3個
のハロゲン原子により置換された炭素原子数3乃至4の
アルケニル基;炭素原子数3乃至4のアルキニル基;炭
素原子数3乃至6のシクロアルキル基;又はフェニル環
が未置換であるか、又はハロゲン原子,ヒドロキシル
基,炭素原子数1乃至4のアルキル基,ハロゲノ炭素原
子数1乃至2のアルキル基,炭素原子数1乃至2のアル
コキシ基,ハロゲノ−炭素原子数1乃至2のアルコキシ
基又はニトロ基により1乃至3回置換されたフェニル
基,ベンジル基又はフェネチル基である請求項17記載
の化合物。 - 【請求項19】 nは0を表し;Tは水素原子又はメチ
ル基を表し;ZはCO−Aを表し;AはOR1 を表し;
そしてR1 は水素原子;未置換又は1乃至3個のハロゲ
ン原子により置換された炭素原子数1乃至6のアルキル
基;炭素原子数1乃至2個のアルコキシ基;炭素原子数
3乃至6のシクロアルキル基;又はフェニル環がハロゲ
ン原子,ヒドロキシル基,炭素原子数1乃至4のアルキ
ル基,ハロゲノ−炭素原子数1乃至2のアルキル基,炭
素原子数1乃至2のアルコキシ基,ハロゲノ−炭素原子
数1乃至2のアルコキシ基又はニトロ基により1乃至2
回置換された、又は未置換のフェニル基,ベンジル基又
はフェネチル基である請求項18記載の化合物。 - 【請求項20】 次式IV: 【化10】 (式中、Xはハロゲン原子を表し;nは0,1,2又は
3を表し;Tは水素原子,炭素数1乃至6のアルキル
基,炭素原子数3乃至6のアルケニル基,炭素原子数3
乃至6のアルキニル基,炭素原子数3乃至6のシクロア
ルキル基,又は置換又は未置換のフェニル,ベンジル又
はフェネチル基を表し;ZはCN,CO−A又はCS−
Aを表し;Aは水素原子、ハロゲン原子、OR1 ,SR
2 ,又はN(R3 )R 4を表し;R1 乃至R 4は水素原
子;8個より多くない炭素原子を含有する置換又は未置
換の開鎖,飽和又は不飽和炭化水素基;10個より多く
ない炭素原子を含有する置換又は未置換の環状飽和又は
不飽和炭化水素基;置換又は未置換のベンジル基又はフ
ェネチル基;8個より多くない炭素原子を含有する置換
又は未置換のアルカノイル基;置換又は未置換のベンゾ
イル基;又は置換又は未置換のヘテロサイクリル基を表
し;又はR3 とR 4はそれらが結合する窒素原子と一緒
になつて5又は6員の、1乃至3個のヘテロ原子O,S
及び/又はNを有する置換又は未置換の複素環基を表
す。但し、ZがCOOC2 H5 ,nが0そしてTが水素
原子である化合物は除く)で表わされる化合物又はその
塩。 - 【請求項21】 nは0を表し;Tは水素原子又は炭素
原子数1乃至6のアルキル基を表し;ZはCO−Aを表
し;AはOR1 を表し;そしてR1 は水素原子;未置換
又は1乃至3個のハロゲン原子により置換された炭素原
子数1乃至6のアルキル基;炭素原子数1乃至2個のア
ルコキシ基;炭素原子数3乃至6のシクロアルキル基;
又はフェニル環がハロゲン原子,ヒドロキシル基,炭素
原子数1乃至4のアルキル基,ハロゲノ−炭素原子数1
乃至2のアルキル基,炭素原子数1乃至2のアルコキシ
基,ハロゲノ−炭素原子数1乃至2のアルコキシ基又は
ニトロ基により1乃至2回置換された、又は未置換のフ
ェニル基,ベンジル基又はフェネチル基である請求項2
0記載の化合物。 - 【請求項22】 次式VI: 【化11】 (式中、Xはハロゲン原子を表し;nは0,1,2又は
3を表し;ZはCN,CO−A又はCS−Aを表し;A
は水素原子、ハロゲン原子、OR1 ,SR2 ,又はN
(R3 )R 4を表し;R1 乃至R 4は水素原子;8個よ
り多くない炭素原子を含有する置換又は未置換の開鎖,
飽和又は不飽和炭化水素基;10個より多くない炭素原
子を含有する置換又は未置換の環状飽和又は不飽和炭化
水素基;置換又は未置換のベンジル基又はフェネチル
基;8個より多くない炭素原子を含有する置換又は未置
換のアルカノイル基;置換又は未置換のベンゾイル基;
又は置換又は未置換のヘテロサイクリル基を表し;又は
R3 とR 4はそれらが結合する窒素原子と一緒になつて
5又は6員の、1乃至3個のヘテロ原子O,S及び/又
はNを有する置換又は未置換の複素環基を表す。但し、
ZがCOOCH3 及びnが0である化合物は除く。)で
表わされる化合物又はその塩。 - 【請求項23】 nは0を表し;ZはCO−Aを表し;
AはOR1 を表し;そしてR1 は水素原子;未置換又は
1乃至3個のハロゲン原子により置換された炭素原子数
1乃至6のアルキル基;炭素原子数1乃至2のアルコキ
シ基;炭素原子数3乃至6のシクロアルキル基;又はフ
ェニル環がハロゲン原子,ヒドロキシル基,炭素原子数
1乃至4のアルキル基,ハロゲノ−炭素原子数1乃至2
のアルキル基,炭素原子数1乃至2のアルコキシ基,ハ
ロゲノ−炭素原子数1乃至2のアルコキシ基又はニトロ
基により1乃至2回置換された、又は未置換のフェニル
基,ベンジル基又はフェネチル基を表し;そして、Ha
lは塩素原子を表す請求項22記載の化合物。
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