JPH0559026A - イミノチアゾリン誘導体の製造法およびその製造中間体 - Google Patents

イミノチアゾリン誘導体の製造法およびその製造中間体

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JPH0559026A
JPH0559026A JP21717291A JP21717291A JPH0559026A JP H0559026 A JPH0559026 A JP H0559026A JP 21717291 A JP21717291 A JP 21717291A JP 21717291 A JP21717291 A JP 21717291A JP H0559026 A JPH0559026 A JP H0559026A
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JP
Japan
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formula
group
general formula
hydrogen atom
production
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Pending
Application number
JP21717291A
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English (en)
Inventor
Shinichi Kawamura
伸一 河村
Keiichi Izumi
恵一 泉
Junichi Sato
純一 佐藤
Minoru Sanemitsu
穰 実光
Hideyuki Shibata
秀之 柴田
Tatsuhiro Hamada
達裕 浜田
Makoto Sato
良 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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  • Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】 一般式 〔R1 はハロゲン原子等、R2 、R3 はH等、R 4 は低
級アルキル基、X- はBr- 等を各々表わす。〕で示さ
れるチアゾリウム塩と、一般式 〔R5 は水素原子等を表わす。〕で示されるアミン誘導
体を、塩基の存在下反応させることを特徴とする、一般
で示されるイミノチアゾリン誘導体の製造法、ならび
に、その製造中間体である式(1)で示されるチアゾリ
ウム塩。 【効果】 この方法によれば、上記のイミノチアゾリン
誘導体を簡便に収率よく製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の目的】本発明はイミノチアゾリン誘導体の製造
法およびその製造中間体に関する。より詳しくは、本発
明は一般式 化7で示されるイミノチアゾリン誘導体の
製造法、および、ー般式 化5で示されるその製造中間
体に関する。
【0002】
【発明の構成】本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、一
般式 化5
【化5】 〔式中、R1 はハロゲン原子、C1〜C2ハロアルキル
基又は低級C1〜C2ハロアルコキシ基を表わし、R2
は水素原子又はハロゲン原子を表わし、R3 は水素原子
又はメチル基を表わし、R4 は低級アルキル基を表わ
す。X- はBr- 、I- 、1/2 SO4 2-又はCH3 OS
3 - を表わす。〕で示されるチアゾリウム塩と、一般
式 化6
【化6】 〔式中、R5 は水素原子(C1〜C6アルキル)カルボ
ニル基又は(C1〜C6パーフルオロアルキル)カルボ
ニル基を表わす。〕で示されるアミン誘導体を、塩基の
存在下反応させることによって 一般式 化7
【化7】 〔式中、R1 、R2 、R3 およびR5 は前記と同じ意味
を表わす。〕で示されるイミノチアゾリン誘導体が簡便
に収率よく製造できること、ならびに、一般式 化5で
示されるチアゾリウム塩が一般式 化7で示されるイミ
ノチアゾリン誘導体を製造する際の有用な中間体となる
ことを見出し、本発明に至った。
【0003】本発明の製造法において反応は、通常溶媒
中、塩基の存在下で行い、反応温度の範囲は通常0〜2
00℃、反応時間の範囲は通常 0.1〜100時間であ
り、反応に供される試剤の量は、一般式 化5で示され
るチアゾリウム塩1当量に対して一般式 化6で示され
るアミン誘導体は通常1〜1000当量、塩基は通常1〜10
00当量である。用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘ
プタン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化
炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、
エタノール、イソプロパノール、t−ブタノール、オク
タノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、ジ
エチレングリコール、グリセリン等のアルコール類、蟻
酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等の
エステル類、ニトロエタン、ニトロベンゼン等のニトロ
化物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリ
ル類、ピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジエチル
アニリン、トリブチルアミン、N−メチルモルホリン等
の第三級アミン、N,N−ジメチルホルムアミド、アセ
トアミド等の酸アミド、ジメチルスルホキシド、スルホ
ラン等の硫黄化合物、水など、あるいは、それらの混合
物から選ぶことができるが、用いる塩基に応じて異なる
ことは言うまでもない。用いられる塩基としては、ピリ
ジン、トリエチルアミン、N,N−ジエチルアニリン等
の有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、アンモ
ニア等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、水素化ナト
リウム、水素化カリウム等があげられる。尚、R5 が水
素原子を表すときは、式 化6で示される試剤それ自身
を塩基として用いることもできる。反応終了後の反応液
は、氷水に注いで生じた結晶を濾別するか、または有機
溶媒抽出および濃縮等の通常の処理を行い、必要なら
ば、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製
することにより、目的の化合物を得ることができる。
【0004】次に本発明の製造法の例を表1に示す。
【表1】
【0005】本発明の製造法において、原料化合物であ
る一般式 化5で示されるチアゾリウム塩は、一般式
化8
【化8】 〔式中、R1 、R2 及びR3 は前記と同じ意味を表わ
す。〕で示されるチアゾリン誘導体と一般式 R4 −X 又は R4 OSO2 OR4 〔式中、R4 及びXは前記と同じ意味を表わす。〕で示
されるアルキル化剤とを反応させることによって製造す
ることができる。また、一般式 化8で示されるチアゾ
リン誘導体は、一般式 化9
【化9】 〔式中、R1 、R2 及びR3 は前記と同じ意味を表
す。〕と二硫化炭素とを反応させることによって製造す
ることができる。一般式 化7で示されるイミノチアゾ
リン誘導体は特願平3-72379や特願平3-211953に記載さ
れているように除草剤またはその製造中間体として有用
である。
【0006】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。まず、イミノチアゾリン誘導体の製造例を示
す。 実施例1 トリフルオロアセトアミド101mgをテトラヒドロフラ
ン30mlに溶解し、水素化ナトリウム(油状,60%)
40mgを加えた。室温で30分攪拌後、2−メチルメル
カプト−3−(3’−トリフルオロメチルフェニル)−
5−メチルチアゾリウムアイオダイド420mgを加え室
温で2時間攪拌した。減圧下溶媒を留去した後、残渣を
氷水に注いだ。得られた結晶を濾別し、ヘキサンで洗浄
することにより、2−トリフルオロアセチルイミノ−3
−(3’−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチル
チアゾリン250mgを得た。(融点128℃) 実施例2 2−メチルメルカプト−3−(3’−トリフルオロメチ
ルフェニル)−5−メチルチアゾリウムアイオダイド1
gをメタノール50mlに溶解し、氷冷下アンモニア水
(29%)5mlを滴下した。氷冷下1時間攪拌後、減圧
下に溶媒を留去した。残渣を酢酸エチルで抽出、食塩水
で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し
た。残渣をシリカカラムクロマトグラフィー(溶出溶
媒:酢酸エチル−ヘキサン)に付し、2−イミノ−3−
(3’−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルチ
アゾリン150mgを得た。 1 HMR(CDCl3 ,TMS): 7.5−7.9 (4
H)、 6.4(1H) 5.3(1H)、 2.1(s,3H) 次に製造中間体であるチアゾリウム塩の製造例を示す。 実施例3 N−プロパルギル−3−トリフルオロメチルアニリン8
gをテトラヒドロフラン100mlに溶解し、水素化ナト
リウム(油状,60%)1.54gを加えた。更に、二硫化
炭素 3.4gを加え、2時間還流した。冷却後、減圧下溶
媒を留去し、残渣を氷水に注いだ。得られた結晶を濾別
後、ヘキサンで洗浄することにより、3−(3’−トリ
フルオロメチルフェニル)−5−メチルチアゾリン−2
−チオン4gを得た。 1 H−NMR(CDCl3 ,TMS):δ 7.7(br s,
4H)、6.85(s,1H)、2.25(s、3H) 得られた結晶をメタノール100mlに溶解し、よう化メ
チル4gを加えた。2時間還流後、冷却し、減圧下溶媒
を留去した。得られた結晶を濾別後、ヘキサンで洗浄す
ることにより、2−メチルメルカプト−3−(3’−ト
リフルオロメチルフェニル)−5−メチルチアゾリウム
アイオダイド 3.8gを得た。 1 H−NMR(CDCl3 ,TMS):δ 8.3−7.7
(m,5H)、 3.0(s,3H)、2.65(s、3H)
【0007】
【発明の効果】本発明の製造法によれば、一般式 化7
で示されるイミノチアゾリン誘導体を簡便に収率よく製
造できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 実光 穰 兵庫県宝塚市高司4丁目2番1号 住友化 学工業株式会社内 (72)発明者 柴田 秀之 兵庫県宝塚市高司4丁目2番1号 住友化 学工業株式会社内 (72)発明者 浜田 達裕 兵庫県宝塚市高司4丁目2番1号 住友化 学工業株式会社内 (72)発明者 佐藤 良 兵庫県宝塚市高司4丁目2番1号 住友化 学工業株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 化1 【化1】 〔式中、R1 は、ハロゲン原子、C1〜C2ハロアルキ
    ル基又はC1〜C2ハロアルコキシ基を表わし、R2
    水素原子又はハロゲン原子を表わし、R3 は水素原子又
    はメチル基を表わし、R4 は低級アルキル基を表わす。
    - はBr- 、I - 、1/2 SO4 2-又はCH3 OSO3
    - を表わす。〕で示されるチアゾリウム塩と、一般式
    化2 【化2】 〔式中、R5 は水素原子、(C1〜C6アルキル)カル
    ボニル基又は(C1〜C6パーフルオロアルキル)カル
    ボニル基を表わす。〕で示されるアミン誘導体を、塩基
    の存在下反応させることを特徴とする、一般式化3 【化3】 〔式中、R1 、R2 、R3 およびR5 は前記と同じ意味
    を表わす。〕で示されるイミノチアゾリン誘導体の製造
    法。
  2. 【請求項2】一般式 化4 【化4】 〔式中、R1 はハロゲン原子、C1〜C2ハロアルキル
    基又はC1〜C2ハロアルコキシ基を表わし、R2 は水
    素原子又はハロゲン原子を表わし、R3 は水素原子又は
    メチル基を表わし、R4 は低級アルキル基を表わす。X
    はBr- 、I- 、1/2 SO4 2-又はCH3 OSO3 -
    表わす。〕で示されるチアゾリウム塩。
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