JPH0539276A - イミノチアゾリン誘導体の製造法 - Google Patents
イミノチアゾリン誘導体の製造法Info
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- JPH0539276A JPH0539276A JP19530091A JP19530091A JPH0539276A JP H0539276 A JPH0539276 A JP H0539276A JP 19530091 A JP19530091 A JP 19530091A JP 19530091 A JP19530091 A JP 19530091A JP H0539276 A JPH0539276 A JP H0539276A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 一般式 化１
【化１】
〔式中、Ｒ1 はハロゲン原子等を表し、Ｒ3 は（Ｃ１〜
Ｃ６アルキル）カルボニル基等を表す。〕で示されるチ
オウレア誘導体と、一般式 化２ 【化２】 〔式中、Ｘは塩素原子等を表わし、Ｒ2 は水素原子等を
表わす。〕で示されるハロアルデヒド誘導体を塩基存在
下で反応させ、次いで、該反応生成物を酸処理すること
を特徴とする、一般式 化３ 【化３】 〔式中、Ｒ1 ，Ｒ2 及びＲ3 は前記と同じ意味を表わ
す。〕で示されるイミノチアゾリン誘導体の製造法。 【効果】 本発明方法により、一般式 化３で示される
イミノチアゾリン誘導体が容易に製造できる。
Ｃ６アルキル）カルボニル基等を表す。〕で示されるチ
オウレア誘導体と、一般式 化２ 【化２】 〔式中、Ｘは塩素原子等を表わし、Ｒ2 は水素原子等を
表わす。〕で示されるハロアルデヒド誘導体を塩基存在
下で反応させ、次いで、該反応生成物を酸処理すること
を特徴とする、一般式 化３ 【化３】 〔式中、Ｒ1 ，Ｒ2 及びＲ3 は前記と同じ意味を表わ
す。〕で示されるイミノチアゾリン誘導体の製造法。 【効果】 本発明方法により、一般式 化３で示される
イミノチアゾリン誘導体が容易に製造できる。
Description
【０００１】
【発明の目的】本発明はイミノチアゾリン誘導体の製造
法に関する。より詳しくは、下記一般式 化６で示され
るイミノチアゾリン誘導体の製造法に関する。
法に関する。より詳しくは、下記一般式 化６で示され
るイミノチアゾリン誘導体の製造法に関する。
【０００２】
【発明の構成】本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、
一般式 化４
一般式 化４
【化４】 〔式中、Ｒ1 はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ２ハロアルキル
基またはＣ１〜Ｃ２ハロアルコキシ基を表し、Ｒ3 は
（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）カルボニル基、Ｃ１〜Ｃ２アル
コキシ基もしくはフェニル基で置換されていてもよい
（Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ）カルボニル基、メチル基で置
換されていてもよい（Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル）カル
ボニル基、（Ｃ３〜Ｃ６シクロアルコキシ）カルボニル
基、ベンゾイル基、（Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル）カルボ
ニル基を表す。〕で示されるチオウレア誘導体と、一般
式 化５
基またはＣ１〜Ｃ２ハロアルコキシ基を表し、Ｒ3 は
（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）カルボニル基、Ｃ１〜Ｃ２アル
コキシ基もしくはフェニル基で置換されていてもよい
（Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ）カルボニル基、メチル基で置
換されていてもよい（Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル）カル
ボニル基、（Ｃ３〜Ｃ６シクロアルコキシ）カルボニル
基、ベンゾイル基、（Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル）カルボ
ニル基を表す。〕で示されるチオウレア誘導体と、一般
式 化５
【化５】 〔式中、Ｘは塩素原子、臭素原子、よう素原子を表わ
し、Ｒ2 は水素原子又は低級アルキル基を表わす。〕で
示されるハロアルデヒド誘導体を塩基存在下で反応さ
せ、次いで、該反応生成物を酸処理することにより、一
般式 化６
し、Ｒ2 は水素原子又は低級アルキル基を表わす。〕で
示されるハロアルデヒド誘導体を塩基存在下で反応さ
せ、次いで、該反応生成物を酸処理することにより、一
般式 化６
【化６】 〔式中、Ｒ1 ，Ｒ2 及びＲ3 は前記と同じ意味を表わ
す。〕で示されるイミノチアゾリン誘導体を簡便に収率
よく製造できることを見出し、本発明に至った。
す。〕で示されるイミノチアゾリン誘導体を簡便に収率
よく製造できることを見出し、本発明に至った。
【０００３】本発明の製造法について以下に述べる。前
段の反応は、通常溶媒中、塩基の存在下で行い、反応温
度の範囲は通常２０〜１００℃、反応時間の範囲は通常
0.5〜２０時間であり、反応に供される試剤の量は、一
般式化４で示されるチオウレア誘導体１当量に対して一
般式 化５で示されるハロアルデヒド誘導体は通常１〜
１０当量、塩基は通常１〜１０当量である。用いられる
塩基としては、例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水素化ナトリウムなどの無機塩基
があげられる。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リ
グロイン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、四塩化
炭素、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン
化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレング
リコールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホ
ロン、シクロヘキサノン等のケトン類、蟻酸エチル、酢
酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、
ニトロエタン、ニトロベンゼン等のニトロ化物、アセト
ニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ピリジ
ン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ト
リブチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の第三級アミ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジメ
チルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、水など
あるいは、それらの混合物があげられる。
段の反応は、通常溶媒中、塩基の存在下で行い、反応温
度の範囲は通常２０〜１００℃、反応時間の範囲は通常
0.5〜２０時間であり、反応に供される試剤の量は、一
般式化４で示されるチオウレア誘導体１当量に対して一
般式 化５で示されるハロアルデヒド誘導体は通常１〜
１０当量、塩基は通常１〜１０当量である。用いられる
塩基としては、例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水素化ナトリウムなどの無機塩基
があげられる。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リ
グロイン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、四塩化
炭素、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン
化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレング
リコールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホ
ロン、シクロヘキサノン等のケトン類、蟻酸エチル、酢
酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、
ニトロエタン、ニトロベンゼン等のニトロ化物、アセト
ニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ピリジ
ン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ト
リブチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の第三級アミ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジメ
チルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、水など
あるいは、それらの混合物があげられる。
【０００４】後段の酸処理は、通常溶媒中で行い、反応
温度の範囲は通常２０〜１００℃、反応時間の範囲は通
常１〜２０時間であり、前段の反応生成物は通常精製す
ることなく使用できる。反応に供される酸の量は特に限
定されるものではないが、一般式 化４で示されるチオ
ウレア誘導体１当量に対して通常１〜２０当量程度であ
る。用いられる酸としては、例えば、塩酸等の無機酸、
酢酸等の有機酸が挙げられる。溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭
化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタ
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化
炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノン等のケトン類、蟻酸、酢酸、オレ
イン酸等の脂肪酸、メタノール、エタノール、イソプロ
パノール、ｔ−ブタノール、オクタノール、シクロヘキ
サノール、メチルセロソルブ、ジエチレングリコール、
グリセリン等のアルコール類、蟻酸エチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロ
エタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニト
リル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド等の
酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫
黄化合物、水などあるいは、それらの混合物があげられ
る。
温度の範囲は通常２０〜１００℃、反応時間の範囲は通
常１〜２０時間であり、前段の反応生成物は通常精製す
ることなく使用できる。反応に供される酸の量は特に限
定されるものではないが、一般式 化４で示されるチオ
ウレア誘導体１当量に対して通常１〜２０当量程度であ
る。用いられる酸としては、例えば、塩酸等の無機酸、
酢酸等の有機酸が挙げられる。溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭
化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタ
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化
炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノン等のケトン類、蟻酸、酢酸、オレ
イン酸等の脂肪酸、メタノール、エタノール、イソプロ
パノール、ｔ−ブタノール、オクタノール、シクロヘキ
サノール、メチルセロソルブ、ジエチレングリコール、
グリセリン等のアルコール類、蟻酸エチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロ
エタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニト
リル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド等の
酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫
黄化合物、水などあるいは、それらの混合物があげられ
る。
【０００５】反応終了後の反応液は、濃縮、有機溶媒抽
出等の通常の処理を行い、必要ならば、さらにクロマト
グラフィー、再結晶等の操作によって精製することによ
り、目的の化合物を得ることができる。本発明方法にお
いて用いられる一方の原料化合物である一般式 化４で
示されるチオウレア誘導体は常法に従って得ることがで
きる。一般式 化６で示されるイミノチアゾリン誘導体
は特願平3-72379 に記載されているように除草剤の有効
成分またはその製造中間体として有用な化合物である。
出等の通常の処理を行い、必要ならば、さらにクロマト
グラフィー、再結晶等の操作によって精製することによ
り、目的の化合物を得ることができる。本発明方法にお
いて用いられる一方の原料化合物である一般式 化４で
示されるチオウレア誘導体は常法に従って得ることがで
きる。一般式 化６で示されるイミノチアゾリン誘導体
は特願平3-72379 に記載されているように除草剤の有効
成分またはその製造中間体として有用な化合物である。
【０００６】次に、下記表１に、本製造法をより具体的
に示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではな
い。
に示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではな
い。
【表１】 で示される製造法
【０００７】次に実施例をあげ本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明は本実施例のみに限定されるものでは
ない。 実施例１ Ｎ−（ｍ−トリフルオロメチル）フェニル−Ｎ’−エト
キシカルボニル チオウレア１ｇ、クロルアセトアルデ
ヒド（４０％水溶液）１ｇおよび炭酸カリウム２ｇをア
セトン２０ml中に混合し、２時間加熱還流した。冷却
後、濾過によって炭酸カリウムを除去した後、アセトン
を減圧下留去した。得られた残渣を濃塩酸１mlとエタノ
ール１０mlの混合溶液に溶解し、２時間加熱還流した。
冷却後、溶媒を留去したのち、ヘキサンで粗結晶を洗浄
することにより、Ｎ−エトキシカルボニル−２−イミノ
−３−（ｍ−トリフルオロメチル）フェニルチアゾリン
0.9ｇを得た。（融点 134.5 ℃） 実施例２ クロルアセトアルデヒド（４０％水溶液）１ｇに替えて
クロルプロピオンアルデヒド１ｇを用いる以外は製造例
１と同様にしてＮ−エトキシカルボニル−２−イミノ−
３−（ｍ−トリフルオロメチル）フェニル−５−メチル
チアゾリンを得る。
明するが、本発明は本実施例のみに限定されるものでは
ない。 実施例１ Ｎ−（ｍ−トリフルオロメチル）フェニル−Ｎ’−エト
キシカルボニル チオウレア１ｇ、クロルアセトアルデ
ヒド（４０％水溶液）１ｇおよび炭酸カリウム２ｇをア
セトン２０ml中に混合し、２時間加熱還流した。冷却
後、濾過によって炭酸カリウムを除去した後、アセトン
を減圧下留去した。得られた残渣を濃塩酸１mlとエタノ
ール１０mlの混合溶液に溶解し、２時間加熱還流した。
冷却後、溶媒を留去したのち、ヘキサンで粗結晶を洗浄
することにより、Ｎ−エトキシカルボニル−２−イミノ
−３−（ｍ−トリフルオロメチル）フェニルチアゾリン
0.9ｇを得た。（融点 134.5 ℃） 実施例２ クロルアセトアルデヒド（４０％水溶液）１ｇに替えて
クロルプロピオンアルデヒド１ｇを用いる以外は製造例
１と同様にしてＮ−エトキシカルボニル−２−イミノ−
３−（ｍ−トリフルオロメチル）フェニル−５−メチル
チアゾリンを得る。
【０００８】
【発明の効果】本発明方法により、一般式 化６で示さ
れるイミノチアゾリン誘導体が容易に製造できる。
れるイミノチアゾリン誘導体が容易に製造できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 泉 恵一 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友化 学工業株式会社内 (72)発明者 柴田 秀之 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友化 学工業株式会社内 (72)発明者 浜田 達裕 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友化 学工業株式会社内 (72)発明者 佐藤 良 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友化 学工業株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 化１ 【化１】 〔式中、Ｒ1 はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ２ハロアルキル
基またはＣ１〜Ｃ２ハロアルコキシ基を表し、Ｒ3 は
（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）カルボニル基、Ｃ１〜Ｃ２アル
コキシ基もしくはフェニル基で置換されていてもよい
（Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ）カルボニル基、メチル基で置
換されていてもよい（Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル）カル
ボニル基、（Ｃ３〜Ｃ６シクロアルコキシ）カルボニル
基、ベンゾイル基、（Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル）カルボ
ニル基を表す。〕で示されるチオウレア誘導体と、一般
式 化２ 【化２】 〔式中、Ｘは塩素原子、臭素原子、よう素原子を表わ
し、Ｒ2 は水素原子又は低級アルキル基を表わす。〕で
示されるハロアルデヒド誘導体を塩基存在下で反応さ
せ、次いで、該反応生成物を酸処理することを特徴とす
る、一般式 化３ 【化３】 〔式中、Ｒ1 ，Ｒ2 及びＲ3 は前記と同じ意味を表わ
す。〕で示されるイミノチアゾリン誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19530091A JPH0539276A (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | イミノチアゾリン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19530091A JPH0539276A (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | イミノチアゾリン誘導体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0539276A true JPH0539276A (ja) | 1993-02-19 |
Family
ID=16338862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19530091A Pending JPH0539276A (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | イミノチアゾリン誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0539276A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000042032A1 (de) * | 1999-01-12 | 2000-07-20 | Bayer Aktiengesellschaft | Substituierte 2-imino-thiazoline |
| US7609587B2 (en) | 2005-03-31 | 2009-10-27 | Richemont International Sa | Lunar phase display mechanism |
| CN106432131A (zh) * | 2016-09-22 | 2017-02-22 | 青岛科技大学 | 一种三亚胺噻唑衍生物的制备方法 |
-
1991
- 1991-08-05 JP JP19530091A patent/JPH0539276A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000042032A1 (de) * | 1999-01-12 | 2000-07-20 | Bayer Aktiengesellschaft | Substituierte 2-imino-thiazoline |
| US7609587B2 (en) | 2005-03-31 | 2009-10-27 | Richemont International Sa | Lunar phase display mechanism |
| CN106432131A (zh) * | 2016-09-22 | 2017-02-22 | 青岛科技大学 | 一种三亚胺噻唑衍生物的制备方法 |
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