JPH0710856B2 - チアゾリジン−2−オン誘導体の製造方法 - Google Patents

チアゾリジン−2−オン誘導体の製造方法

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JPH0710856B2
JPH0710856B2 JP60223919A JP22391985A JPH0710856B2 JP H0710856 B2 JPH0710856 B2 JP H0710856B2 JP 60223919 A JP60223919 A JP 60223919A JP 22391985 A JP22391985 A JP 22391985A JP H0710856 B2 JPH0710856 B2 JP H0710856B2
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thiazolidin
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康弘 辻井
達男 磯貝
時也 木村
貞夫 塚田
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Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
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  • Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、農薬や医薬などの中間体として有用なチアゾ
リジン‐2-オン誘導体を工業的にかつ有利に製造する新
規な方法に関する。
(先行技術の問題点) 従来、チアゾリジン‐2-オン誘導体の製造する方法とし
て、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソシエ
ティ78巻5350頁(1956年)に記載された方法が知られて
おり、この方法では2-アミノエタンチオールを尿素と反
応させてチアゾリジン‐2-オンが得られる。しかしなが
らこの方法では原料として高価な2-アミノエタンチオー
ルを使用しなければならない。また特開昭50-117772号
公報に記載された方法も知られているが、この方法では
2-アミノエタンチオールをセレン及び第3級アミンの存
在下に一酸化炭素を導入してチアゾリジン‐2-オンが得
られる。しかしながらこの方法でも原料として高価な2-
アミノエタンチオール及びセレンを使用しなければなら
ない。さらに特開昭56-92280号公報に記載された方法も
知られているが、この方法ではアミノエチル硫酸塩と二
硫化炭素の反応で得たチアゾリジン‐2-チオンにホスゲ
ンを反応させてチアゾリジン‐2-オンが得られる。しか
しながらこの方法は工程が煩雑であること及び有毒なホ
スゲンを使用しなければならないなどの欠点があり、工
業的実施においてチアゾリジン‐2-オン誘導体の有利な
製造方法の出現が求められている。
(問題点の解決のための経緯) 本発明者等は、出発原料として安価なものに着目し、 一般式(I): 〔式中、R1、R2、R3及びR4は水素原子又はアルキル基で
あり、Xは 基又は塩素原子であり、Yは−NH2基又は−NH2・HCl基
である。
但し、Xが 基の時、Yは−NH2基であり、Xが塩素原子の時、Yは
−NH2・HClである〕で表わされる脂肪族アミノ化合物と
硫化カルボニルとを特定の条件で反応させると、80%以
上の高収率で工業的に有利に一般式(II): 〔式中、R1、R2、R3およびR4は前述の通りである〕で表
わされるチアゾリジン‐2-オンを得ることができるとの
知見を得、本発明を完成した。
(発明の開示) すなわち、本発明は、 一般式(I): 〔式中、R1、R2、R3及びR4は水素原子又はアルキル基で
あり、Xは 基又は塩素原子であり、Yは−NH2基又は−NH2・HCl基
である。但し、Xが 基の時、Yは−NH2基であり、Xが塩素原子の時、Yは
−NH2・HClである〕で表わされる脂肪族アミノ化合物1
モルに対して、硫化カルボニルを1〜10モル使用し、脱
酸剤の存在下、溶媒中、0〜100℃の温度で反応させる
ことを特徴とする、 一般式(II): 〔式中、R1、R2、R3及びR4は前述の通りである〕で表わ
されるチアゾリジン‐2-オン誘導体の製造方法である。
前記一般式(I)及び(II)中のR1、R2、R3及びR4で表
わされるアルキル基としてはメチル基、エチル基、n-プ
ロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル
基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などが挙げられる。
本発明方法で用いる硫化カルボニルの使用量は前記
(I)で表わされる脂肪族アミノ化合物1モルに対し1
〜10モル、望ましくは1.5〜3モルである。硫化カルボ
ニルの使用量が前記範囲より少な過ぎると反応が進み難
くなり、また多過ぎてもその反応性が著しく上がること
はなく、無駄となり実用的でない。
脱酸剤としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムなどのアルカリ金属、アルカリ土類金属の水酸化
物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウムな
どの炭酸塩、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シドなどのアルコラートのような無機塩基、トリメチル
アミン、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基な
どが挙げられ、中でもアルカリ金属の水酸化物が望まし
い。
溶媒としては、前記一般式(I)で表わされる脂肪族ア
ミノ化合物および脱酸剤を溶解できるものであればいず
れのものでもよく、例えばメチルアルコール、エチルア
ルコールなどのアルコール類、ベンゼン、トルエンなど
の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭酸などの
ハロゲン化炭化水素類、水などが挙げられ、中でもメチ
ルアルコール、エチルアルコールなどのアルコール類が
望ましい。
また前記一般式(I)で表わされる化合物と硫化カルボ
ニルとの反応の温度は0〜100℃、望ましくは40〜80℃
である。この反応温度が前述の範囲より高すぎると、副
生物が多くなり収率の低下をきたす。反面低すぎても反
応の収率が低下し実用的でなくなる。この反応は1〜10
時間、望ましくは2〜5時間で完結する。
以下に本発明の方法をより詳しく説明するために実施例
を記すが、これらの実施例は本発明方法を限定するもの
ではない。
実施例1 撹拌機、温度計及び還流冷却管を備えた1の四ツ口フ
ラスコ中にあらかじめ500mlのエチルアルコールを仕込
んでおき、そこへ硫酸水素‐2-アミノエチル20g(0.142
モル)を加え、次いで撹拌下0〜5℃で28%の水酸化ナ
トリウム溶液40.4gを滴下した。続いて硫酸水素‐2-ア
ミノエチルに対して2.0倍モルの硫化カルボニルを反応
溶液中に導入しながら徐々に加温して反応温度を45〜50
℃まで上げた。硫化カルボニルの導入終了後、2時間撹
拌を続けて反応を終了し、反応生成物中の不溶解物を瀘
過により除去し、続いて瀘液中の溶液を減圧下留去し
た。この残留物にジオキサン200mlを加え、よく混合し
た後、再び不溶解物を瀘過により除去し、瀘液中の溶媒
を減圧下に留去し12.5gの粗結晶物を得た。
得られた粗結晶をn-ヘキサン:酢酸エチル=1:1の混合
溶液で再結晶し、融点50〜51.5℃のチアゾリジン‐2-オ
ン12.1gを得た。収率は83%であった。
実施例2 実施例1と同様の装置にあらかじめ400mlのトルエン及
び16.5gの2-クロロエチルアミン塩酸塩を仕込んでお
き、撹拌下0〜5℃で32gのトリエチルアミンを徐々に
滴下した。次いで2-クロロエチルアミン塩酸塩に対し1.
6倍モルの硫化カルボニルを反応溶液中に導入しながら
徐々に加温し、反応温度を40〜50℃まで上げた。硫化カ
ルボニルの導入終了後2時間撹拌を続けて反応を終了し
た。
反応終了後、反応物を室温まで冷却後瀘過し、瀘液中の
溶媒を減圧下に留去して得た残渣物に200mlのトルエン
を加えてよく混合し、不溶解物を瀘過により除去し、蒸
留により沸点123℃/1mmHgでチアゾリジン‐2-オン12.9g
を得た。収率は88%であった。
実施例3 2-クロロエチルアミン塩酸塩の代わりに2-クロロ‐1,1-
ジメチルエチルアミン塩酸塩または2-クロロ‐2-メチル
エチルアミン塩酸塩を用いて、前記実施例2の場合と同
様の方法で反応させると、ほぼ同様の結果が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−92280(JP,A) Chem.Pharm.Bull.Vo l.23 No.9 P.2134〜2139

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式: 〔式中、R1、R2、R3及びR4は水素原子又はアルキル基で
    あり、Xは 基又は塩素原子であり、Yは−NH2基又は−NH2・HCl基
    である。但し、Xが 基の時、Yは−NH2基であり、Xが塩素原子の時、Yは
    −NH2・HClである〕で表わされる脂肪族アミノ化合物1
    モルに対して、硫化カルボニルを1〜10モル使用し、脱
    酸剤の存在下、溶媒中、0〜100℃の温度で反応させる
    ことを特徴とする、 一般式: 〔式中、R1、R2、R3及びR4は前述の通りである〕で表わ
    されるチアゾリジン‐2-オン誘導体の製造方法。
  2. 【請求項2】該反応を該脂肪族アミノ化合物1モルに対
    して硫化カルボニル1.5〜3モルで行なうことを特徴と
    する特許請求の範囲第1項に記載の方法。
  3. 【請求項3】該脱酸剤がアルカリ金属の水酸化物である
    特許請求の範囲第1項に記載の方法。
  4. 【請求項4】該溶媒がアルコール類である特許請求の範
    囲第1項に記載の方法。
  5. 【請求項5】該反応を40〜80℃の温度で行なうことを特
    徴とする特許請求の範囲第1項に記載の方法。
JP60223919A 1985-10-08 1985-10-08 チアゾリジン−2−オン誘導体の製造方法 Expired - Lifetime JPH0710856B2 (ja)

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