JPH02270882A - 7α―メトキシセファロスポリン化合物の製造法 - Google Patents
7α―メトキシセファロスポリン化合物の製造法Info
- Publication number
- JPH02270882A JPH02270882A JP1703290A JP1703290A JPH02270882A JP H02270882 A JPH02270882 A JP H02270882A JP 1703290 A JP1703290 A JP 1703290A JP 1703290 A JP1703290 A JP 1703290A JP H02270882 A JPH02270882 A JP H02270882A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cephem
- methanol
- methoxy
- salts
- carboxylic acids
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 87
- -1 alkali metal salt Chemical class 0.000 claims abstract description 27
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 claims abstract description 12
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- IKWLIQXIPRUIDU-ZCFIWIBFSA-N (6r)-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid Chemical class OC(=O)C1=CCS[C@@H]2CC(=O)N12 IKWLIQXIPRUIDU-ZCFIWIBFSA-N 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 24
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 abstract description 6
- IXZDIALLLMRYOU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl hypochlorite Chemical compound CC(C)(C)OCl IXZDIALLLMRYOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- 238000000034 method Methods 0.000 description 28
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 10
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- JILPJDVXYVTZDQ-UHFFFAOYSA-N lithium methoxide Chemical compound [Li+].[O-]C JILPJDVXYVTZDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexylamine Chemical class C1CCCCC1NC1CCCCC1 XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006198 methoxylation reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 3
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 2
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 2
- 229940088710 antibiotic agent Drugs 0.000 description 2
- SNBUBQHDYVFSQF-HIFRSBDPSA-N cefmetazole Chemical compound S([C@@H]1[C@@](C(N1C=1C(O)=O)=O)(NC(=O)CSCC#N)OC)CC=1CSC1=NN=NN1C SNBUBQHDYVFSQF-HIFRSBDPSA-N 0.000 description 2
- 229960003585 cefmetazole Drugs 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- HSPSCWZIJWKZKD-UHFFFAOYSA-N n-chloroacetamide Chemical compound CC(=O)NCl HSPSCWZIJWKZKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- VYPDUQYOLCLEGS-UHFFFAOYSA-M sodium;2-ethylhexanoate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)C([O-])=O VYPDUQYOLCLEGS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004055 thiomethyl group Chemical group [H]SC([H])([H])* 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUTQHTOXGKVJPN-XCGJVMPOSA-N (6r)-7-amino-3-[(1-methyltetrazol-5-yl)sulfanylmethyl]-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid Chemical compound CN1N=NN=C1SCC1=C(C(O)=O)N2C(=O)C(N)[C@H]2SC1 XUTQHTOXGKVJPN-XCGJVMPOSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexanoic acid Chemical compound CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108020004256 Beta-lactamase Proteins 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930186147 Cephalosporin Natural products 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000102542 Kara Species 0.000 description 1
- DBTDEFJAFBUGPP-UHFFFAOYSA-N Methanethial Chemical compound S=C DBTDEFJAFBUGPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical class CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003115 biocidal effect Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000007 calcium salts Chemical class 0.000 description 1
- SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N caproic acid ethyl ester Natural products CCCCCC(=O)OCC SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- YGBFLZPYDUKSPT-MRVPVSSYSA-N cephalosporanic acid Chemical compound S1CC(COC(=O)C)=C(C(O)=O)N2C(=O)C[C@H]21 YGBFLZPYDUKSPT-MRVPVSSYSA-N 0.000 description 1
- 229940124587 cephalosporin Drugs 0.000 description 1
- 150000001780 cephalosporins Chemical class 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- CGHIOUUTIMEXJH-UHFFFAOYSA-N cyanomethylthiourea Chemical compound NC(=S)NCC#N CGHIOUUTIMEXJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOMZQBUUXIFYSA-UHFFFAOYSA-N cyanomethylthiourea hydrochloride Chemical compound Cl.C(#N)CNC(S)=N IOMZQBUUXIFYSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003946 cyclohexylamines Chemical class 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007257 deesterification reaction Methods 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical class CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- VBTQNRFWXBXZQR-UHFFFAOYSA-N n-bromoacetamide Chemical compound CC(=O)NBr VBTQNRFWXBXZQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHVZPRDGLWBEMJ-UHFFFAOYSA-N n-chlorobenzenesulfonamide Chemical compound ClNS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 CHVZPRDGLWBEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 238000006053 organic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N potassium methoxide Chemical compound [K+].[O-]C BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical class N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000013102 re-test Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 102220113114 rs7248372 Human genes 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 1
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- CYTQBVOFDCPGCX-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphite Chemical compound COP(OC)OC CYTQBVOFDCPGCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003952 β-lactams Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、7α−メトキシ−7β−R1SO3CH2C
ONH−△3−セフェム−4−カルボン酸類(R1はア
リール基又は低級アルキル基を意味する)を中間体とし
て用いる7α−メトキシ−7β−R2SCH2CoNH
−△6−セフェム−4−カルボン酸類(R2はシアノメ
チル基を意味する)の製造法に関するものである。
ONH−△3−セフェム−4−カルボン酸類(R1はア
リール基又は低級アルキル基を意味する)を中間体とし
て用いる7α−メトキシ−7β−R2SCH2CoNH
−△6−セフェム−4−カルボン酸類(R2はシアノメ
チル基を意味する)の製造法に関するものである。
本発明方法によって得られる7α−メトキシ−7β−R
2SCH2CONH−△3−セフェム−4−カルボン酸
類(L、は前と同じ)は医薬上非常に有用であり、例え
ば、本発明により製造される7α−メトキシ−7β−シ
アノメチルチオアセトアミド−3−(1−メチル−IH
−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸(一般名:セフメタゾール)は特開昭
50−83383に示される如く広範囲にわだシ非常に
強い抗菌スペクトルを有する化合物として広く知られて
いる。
2SCH2CONH−△3−セフェム−4−カルボン酸
類(L、は前と同じ)は医薬上非常に有用であり、例え
ば、本発明により製造される7α−メトキシ−7β−シ
アノメチルチオアセトアミド−3−(1−メチル−IH
−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸(一般名:セフメタゾール)は特開昭
50−83383に示される如く広範囲にわだシ非常に
強い抗菌スペクトルを有する化合物として広く知られて
いる。
7α−メトキシ−7β−R2SCH2CON)I−△6
−セフェム−4−カルぎン酸類の製造法については、こ
れまで数多く検討されてきた。たとえば特開昭51−5
9890号公報およびJ 、 Antibiotics
、 29 。
−セフェム−4−カルぎン酸類の製造法については、こ
れまで数多く検討されてきた。たとえば特開昭51−5
9890号公報およびJ 、 Antibiotics
、 29 。
969(1976)に記載の方法では、次の製造工程[
110 〔■〕 に従って7−アミノ−3−(1−メチル−IH−テトラ
ゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸〔I〕から3段階を経て7α−メトキシ−7β
−アミノ体CCV)とし、これに酸壌化物法等によシ一
般式[V] で示される化合物に導びくというものであるが、この方
法は反応工程がやや長く、また実際に追試してみると中
間体の〔■〕がやや不安定であるためにその取υ扱い方
法が難かしいということが判明した。また、特開昭50
−50394号公報およびJ、 Antibiotic
s、 29 、554 (1976)に記載の方法のよ
うに、CI)の4位カルボン酸をエステルで保護し、7
−メトキシ化する方法では、反応工程がさらに長くなり
、4位カルボン酸のエステル化および脱エステル化に際
して、かなりの純分の損失がさけられない。
110 〔■〕 に従って7−アミノ−3−(1−メチル−IH−テトラ
ゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸〔I〕から3段階を経て7α−メトキシ−7β
−アミノ体CCV)とし、これに酸壌化物法等によシ一
般式[V] で示される化合物に導びくというものであるが、この方
法は反応工程がやや長く、また実際に追試してみると中
間体の〔■〕がやや不安定であるためにその取υ扱い方
法が難かしいということが判明した。また、特開昭50
−50394号公報およびJ、 Antibiotic
s、 29 、554 (1976)に記載の方法のよ
うに、CI)の4位カルボン酸をエステルで保護し、7
−メトキシ化する方法では、反応工程がさらに長くなり
、4位カルボン酸のエステル化および脱エステル化に際
して、かなりの純分の損失がさけられない。
このように、いずれも製造工程が長いとか、収率が悪い
とか、7α位にメトキシ基のない未反応物が多く残存し
てくるなどの理由で工業的製造法として満足のいくもの
はなく簡便かつ高収率に行ないうる製造法の出現が待ち
望まれていだ。
とか、7α位にメトキシ基のない未反応物が多く残存し
てくるなどの理由で工業的製造法として満足のいくもの
はなく簡便かつ高収率に行ないうる製造法の出現が待ち
望まれていだ。
そこで本発明者等は、7位のメトキシ化が容易に進行す
る7位アミン基の保護基を用い、しかもその保蹄基は、
7α−メトキシ化の後も除去することなく、直接、7α
−メトキシ−7β−Ft2SCH2CONH−△5−
* フェム−4−力/l/ ホ/酸類に容易に導びくこ
との出来る製造法を1い出す目的で鋭意研究を重ねた結
果、本発明方法を完成するに至った。
る7位アミン基の保護基を用い、しかもその保蹄基は、
7α−メトキシ化の後も除去することなく、直接、7α
−メトキシ−7β−Ft2SCH2CONH−△5−
* フェム−4−力/l/ ホ/酸類に容易に導びくこ
との出来る製造法を1い出す目的で鋭意研究を重ねた結
果、本発明方法を完成するに至った。
本発明において用いられる7β−R1SO3CH2C’
0NH−△3−セフェム−4−カルボン酸M、!:ld
7β位側鎖がR1505CH2CON[(であり、通常
、反応に関与しない基で置換されている△3−セフェム
−4−カルボン酸およびその塩を表わし、たとえば、一
般式 で示される化合物類を表わす。ここでR1はメチル、エ
チル、プロピル等の低級アルキル基、置換または無置換
のフェニル、ナフチル等のアリール基を示し、それらの
置換基としては、メチル、シアンがあげられる。捷たA
で示される有機残基は、反応に関与しないものであれば
倒でもよいが、一般的には、水素原子、クロル等のハロ
ゲン原子、メチル、エチル、プロピル等のアルキル基、
水酸基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ等のアルコキ
シ基、アセトオキシメチル基、複素環チオメチル基等を
示すが、その複素環チオメチルの複素環としては、例え
ばテトラゾール、チアジアゾール、チアゾール、インチ
アゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、オキサゾ
ール、イミダゾール等であり、それはメチル、エチル等
の低級アルキル基で置換されていてもよい。また、その
低級アルキル基は、カルブキシル基、スルホン酸基、ア
ミノ基等の置換基を有していても良い。また−〇〇〇W
はカルボン酸又はその塩を表わし、塩類としては、ナト
リウム塩、カリウム塩等のアルカリ金AM、マグネシウ
ム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩等の無機塩
基との塩類、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルア
ミン塩、シクロヘキシルアミン塩、ジメチルベンジルア
ミン塩等の有機アミン塩もしくはキノリン塩等の有機塩
基との塩類を表わす。
0NH−△3−セフェム−4−カルボン酸M、!:ld
7β位側鎖がR1505CH2CON[(であり、通常
、反応に関与しない基で置換されている△3−セフェム
−4−カルボン酸およびその塩を表わし、たとえば、一
般式 で示される化合物類を表わす。ここでR1はメチル、エ
チル、プロピル等の低級アルキル基、置換または無置換
のフェニル、ナフチル等のアリール基を示し、それらの
置換基としては、メチル、シアンがあげられる。捷たA
で示される有機残基は、反応に関与しないものであれば
倒でもよいが、一般的には、水素原子、クロル等のハロ
ゲン原子、メチル、エチル、プロピル等のアルキル基、
水酸基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ等のアルコキ
シ基、アセトオキシメチル基、複素環チオメチル基等を
示すが、その複素環チオメチルの複素環としては、例え
ばテトラゾール、チアジアゾール、チアゾール、インチ
アゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、オキサゾ
ール、イミダゾール等であり、それはメチル、エチル等
の低級アルキル基で置換されていてもよい。また、その
低級アルキル基は、カルブキシル基、スルホン酸基、ア
ミノ基等の置換基を有していても良い。また−〇〇〇W
はカルボン酸又はその塩を表わし、塩類としては、ナト
リウム塩、カリウム塩等のアルカリ金AM、マグネシウ
ム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩等の無機塩
基との塩類、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルア
ミン塩、シクロヘキシルアミン塩、ジメチルベンジルア
ミン塩等の有機アミン塩もしくはキノリン塩等の有機塩
基との塩類を表わす。
また、7α−メトキシ−7β−R,5o3CH2CON
H−△3−セフェム−4−カルボン酸類とは7β−R1
SO3CH2CONH−△3−セフェム−4−カルボン
酸類の7α−位の水素原子をメトキシ基で置換した化合
物類を表わし、他の位置については7β−R1S○3C
H2CONH−△6−セフェム−4−カルボン酸類と同
様の意味を示す。たとえば、一般式 で示される化合物類を表わし、R1およびAは前記と同
じ意味を示す。W′は前記Wで規定した範囲内の意味を
示すが、W′とWとは必ずしも同じでなくてもよい。
H−△3−セフェム−4−カルボン酸類とは7β−R1
SO3CH2CONH−△3−セフェム−4−カルボン
酸類の7α−位の水素原子をメトキシ基で置換した化合
物類を表わし、他の位置については7β−R1S○3C
H2CONH−△6−セフェム−4−カルボン酸類と同
様の意味を示す。たとえば、一般式 で示される化合物類を表わし、R1およびAは前記と同
じ意味を示す。W′は前記Wで規定した範囲内の意味を
示すが、W′とWとは必ずしも同じでなくてもよい。
また、7α−メトキシ−7β−R2SCH2CONH−
△5−セフェム−4−カルボン酸類とは、7α−メトキ
シ−7β−R1SO5CH2CONH−△3−−1=
7 エム−4−カルボン酸類のR15o5基をR2s基
で置換した化合物類を表わし、他の位置については7α
−メトキシ−7β−R1SO3CH2CO’NH−△5
−11! 7 ! ム−4−:l’7 /l/がン酸類
と同様の意味を示す。たとえば式で示される化合物類を
表わし、Aは前記と同じ意味を示す。W“は前記Wで規
定した範囲内の意味を示すが、W”とWは必ずしも同じ
でなくてもよい。
△5−セフェム−4−カルボン酸類とは、7α−メトキ
シ−7β−R1SO5CH2CONH−△3−−1=
7 エム−4−カルボン酸類のR15o5基をR2s基
で置換した化合物類を表わし、他の位置については7α
−メトキシ−7β−R1SO3CH2CO’NH−△5
−11! 7 ! ム−4−:l’7 /l/がン酸類
と同様の意味を示す。たとえば式で示される化合物類を
表わし、Aは前記と同じ意味を示す。W“は前記Wで規
定した範囲内の意味を示すが、W”とWは必ずしも同じ
でなくてもよい。
また、7α−メトキシ−7β−R1SO3CH2CON
H−△3−セフェム−4−カルボン酸類と反応させるチ
オール類またはその塩類とは、式R25Hで示される化
合物またはその塩類を表わし、R2は上記と同じ意味を
表わし、その塩類としては、7β−R1SO3CH2C
ONT(−△3−セフェム−4−カルボン酸類で述べた
塩類と同じ意味を表わす。
H−△3−セフェム−4−カルボン酸類と反応させるチ
オール類またはその塩類とは、式R25Hで示される化
合物またはその塩類を表わし、R2は上記と同じ意味を
表わし、その塩類としては、7β−R1SO3CH2C
ONT(−△3−セフェム−4−カルボン酸類で述べた
塩類と同じ意味を表わす。
本発明は、7β−R,5OjCH2CONH−△5−
セフ エム−4−カルボン酸類で表わされる化合物を不
活性乾燥溶媒中−95〜−10℃のあいだの温度でメタ
ノールのアルカリ金属塩と反応させ、次に反応溶液中に
同温度で陽性ハロゲンを発生し得るハロゲン化剤を加え
る。反応時間は特に制限されないが、一般に比較的短時
間で進行し、約5分ないし、2時間で完了する。反応の
方法としては、メタノールのアルカリ金属塩およびハロ
ゲン化剤の添加を2回以上に分割して加えてもよく、%
、に反応物および生成物がメタノールのアルカリ金属塩
によって分解を受けやすい場合には、2回以上に分割し
た方が好ましい結果を与える。次にこのよ5にして、メ
タノールのアルカリ金属塩とハロゲン化剤で処理した反
応液中にカルボン酸たとえは蟻酸または酢酸等を加え過
剰のメタノールのアルカリ金属塩を分解する。過剰のハ
ロゲン化剤が存在している場合には必要に応じて還元剤
たとえば亜リン酸トリメチル、トリフェニルホスフィン
、チオ硫酸ソーダ等をカルボン酸を加える前または後に
加えることによってハロゲン化剤を分解し、7α−メト
キシ−7β−R1SO3CH2CONH−△6−セフェ
ム−4−カルボン酸類で得ることが出来る。本方法にお
いて使用できるメタノールのアルカリ金属塩は、たとえ
ば、リチウムメトキサイド、ナトリウムメトキサイド、
カリウムメトキサイド等があげられるが、好ましくはリ
チウムメトキサイドがあげられる。一般にメタノールの
アルカリ金属塩は不活性溶媒中過剰量のメタノールの存
在下、アルカリ金属塩を加えることによりあるいは、メ
タノール溶液中にアルカリ金属を加えることにより製造
される。得られたメタノールのアルカリ金属塩は必ずし
も単離する必要はなく、この溶液を7β−R4S○6C
H2CONH−△3−セフェム−4−カルボン酸類の溶
液中に添加することによって本発明の目的は達せられる
。本方法に使用できるメタノールのアルカリ金属塩の量
は、原料のセファロスポリンに対して約2〜10当量の
アルカリ金属塩が使用されるが前にも述べたように反応
物捷たは生成物がアルカリ金属塩によって分解をうけや
すい場合には、過剰のアルカリ金属塩を用いることは好
壕しくなく、場合によっては2回以上に分割してメタノ
ールのアルカリ金属塩およびハロゲン化剤を添加するこ
とが好ましい。
セフ エム−4−カルボン酸類で表わされる化合物を不
活性乾燥溶媒中−95〜−10℃のあいだの温度でメタ
ノールのアルカリ金属塩と反応させ、次に反応溶液中に
同温度で陽性ハロゲンを発生し得るハロゲン化剤を加え
る。反応時間は特に制限されないが、一般に比較的短時
間で進行し、約5分ないし、2時間で完了する。反応の
方法としては、メタノールのアルカリ金属塩およびハロ
ゲン化剤の添加を2回以上に分割して加えてもよく、%
、に反応物および生成物がメタノールのアルカリ金属塩
によって分解を受けやすい場合には、2回以上に分割し
た方が好ましい結果を与える。次にこのよ5にして、メ
タノールのアルカリ金属塩とハロゲン化剤で処理した反
応液中にカルボン酸たとえは蟻酸または酢酸等を加え過
剰のメタノールのアルカリ金属塩を分解する。過剰のハ
ロゲン化剤が存在している場合には必要に応じて還元剤
たとえば亜リン酸トリメチル、トリフェニルホスフィン
、チオ硫酸ソーダ等をカルボン酸を加える前または後に
加えることによってハロゲン化剤を分解し、7α−メト
キシ−7β−R1SO3CH2CONH−△6−セフェ
ム−4−カルボン酸類で得ることが出来る。本方法にお
いて使用できるメタノールのアルカリ金属塩は、たとえ
ば、リチウムメトキサイド、ナトリウムメトキサイド、
カリウムメトキサイド等があげられるが、好ましくはリ
チウムメトキサイドがあげられる。一般にメタノールの
アルカリ金属塩は不活性溶媒中過剰量のメタノールの存
在下、アルカリ金属塩を加えることによりあるいは、メ
タノール溶液中にアルカリ金属を加えることにより製造
される。得られたメタノールのアルカリ金属塩は必ずし
も単離する必要はなく、この溶液を7β−R4S○6C
H2CONH−△3−セフェム−4−カルボン酸類の溶
液中に添加することによって本発明の目的は達せられる
。本方法に使用できるメタノールのアルカリ金属塩の量
は、原料のセファロスポリンに対して約2〜10当量の
アルカリ金属塩が使用されるが前にも述べたように反応
物捷たは生成物がアルカリ金属塩によって分解をうけや
すい場合には、過剰のアルカリ金属塩を用いることは好
壕しくなく、場合によっては2回以上に分割してメタノ
ールのアルカリ金属塩およびハロゲン化剤を添加するこ
とが好ましい。
7β−R1S03CH2CONH−△3−セフェム−4
−カルボン酸類は、一般に本発明方法に用いられる有機
溶媒に対する溶解度が非常に良く、本反応にtlIE常
に好都合であるが、ジシクロヘキシルアミン塩のような
比較的難溶性の塩類の場合には、p−)ルエンスルホン
酸等の酸を当モル加えて溶解させた後、本発明の通常方
法によシ反応させることが出来る。本反応に適当な溶媒
としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホルトリアミド、メタノール、
ff[エチル、トルエン、テトラヒドロフラン、二塩化
エチレン、アセトニトリル、アセトン、クロロホルム等
通常の有機反応に使用できる不活性溶媒があげられ、必
要に応じてこれらまたは他の不活性溶媒を2種以上の混
合溶媒として用いてもよい。本反応に使用できるハロゲ
ン化剤は一般に陽性ハロゲンを発生し得るものであシ、
この様なハロゲン化剤としては。
−カルボン酸類は、一般に本発明方法に用いられる有機
溶媒に対する溶解度が非常に良く、本反応にtlIE常
に好都合であるが、ジシクロヘキシルアミン塩のような
比較的難溶性の塩類の場合には、p−)ルエンスルホン
酸等の酸を当モル加えて溶解させた後、本発明の通常方
法によシ反応させることが出来る。本反応に適当な溶媒
としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホルトリアミド、メタノール、
ff[エチル、トルエン、テトラヒドロフラン、二塩化
エチレン、アセトニトリル、アセトン、クロロホルム等
通常の有機反応に使用できる不活性溶媒があげられ、必
要に応じてこれらまたは他の不活性溶媒を2種以上の混
合溶媒として用いてもよい。本反応に使用できるハロゲ
ン化剤は一般に陽性ハロゲンを発生し得るものであシ、
この様なハロゲン化剤としては。
たとえば塩素、臭素、N−ハロアミド類、たとえばN−
クロロアセトアミド、N−ブロムアセトアミド;N−ハ
ロイミド類、たとえばN−クロロアセトアミド、N−プ
ロムサクシンイミr;N−ハロスルホンアミF′類たと
えはN−クロロベンゼンスルホンアミド;または次亜塩
素酸t−ブチルの如き次亜塩素酸アルキルがあげられる
が、次亜地素酸t−ブチルが特に好1しく、必要に応じ
て酢酸エチル等の不活性溶媒で希釈して用いてもよい。
クロロアセトアミド、N−ブロムアセトアミド;N−ハ
ロイミド類、たとえばN−クロロアセトアミド、N−プ
ロムサクシンイミr;N−ハロスルホンアミF′類たと
えはN−クロロベンゼンスルホンアミド;または次亜塩
素酸t−ブチルの如き次亜塩素酸アルキルがあげられる
が、次亜地素酸t−ブチルが特に好1しく、必要に応じ
て酢酸エチル等の不活性溶媒で希釈して用いてもよい。
この様にして得られた7α−メトキシ−7β−R1S0
3CH2CONH−△5− セフ !ムー4−カルボン
酸類を好ましくは塩基の存在下でチオール類またはその
塩類と反応させれば、目的とする7α−メトキシ−7β
−R2scH2coNH−△3−セフェム−4−カルボ
ン酸類な得ることが出来る。この反応は一般に溶媒中地
基の存在下で行なわれるが、7α−メトキシ−7β−R
,5O3CH2CONH−△3− セフ エム−4−カ
ルyW:y酸類またはチオール類が、その塩類として用
いられる場合には塩基を特別に加えなくても好ましい結
果が得られる。この反応における反応温度は特に限定さ
れないが、通常室温以下で反応させることが好ましい。
3CH2CONH−△5− セフ !ムー4−カルボン
酸類を好ましくは塩基の存在下でチオール類またはその
塩類と反応させれば、目的とする7α−メトキシ−7β
−R2scH2coNH−△3−セフェム−4−カルボ
ン酸類な得ることが出来る。この反応は一般に溶媒中地
基の存在下で行なわれるが、7α−メトキシ−7β−R
,5O3CH2CONH−△3− セフ エム−4−カ
ルyW:y酸類またはチオール類が、その塩類として用
いられる場合には塩基を特別に加えなくても好ましい結
果が得られる。この反応における反応温度は特に限定さ
れないが、通常室温以下で反応させることが好ましい。
また、反応溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、水、アセトン、ジオキサン、アセト
ニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロ
フラン、ジクロルエタン、ベンゼン、トルエン、ピリジ
ン、酢酸エチル等、その他この発明の反応に悪影響を与
えない一般溶媒があけられ、2種類以上の溶媒を混合し
て用いてもよい。また、この反応は7β−R1BO5C
H2CONH−△3−セフェム−4−カルボン酸類で示
される化合物をメタノールのアルカリ金属塩とメタノー
ルの存在下ハロゲン化剤で処理して7α−メトキシ〜7
β−R1S03CH2CONH−△3−セフェム−4−
カルボン酸類を得、これを単離してからチオール類また
はその塩類と反応させてもよいし、また、単離せずに、
その反応液中にチオール如才たはその塩類を加えること
によっても目的とする7α−メトキシ−7β−R2SC
H2CONH−△3−セフェム−4−カルボン酸類を好
収率で得ることが出来る。
チルアセトアミド、水、アセトン、ジオキサン、アセト
ニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロ
フラン、ジクロルエタン、ベンゼン、トルエン、ピリジ
ン、酢酸エチル等、その他この発明の反応に悪影響を与
えない一般溶媒があけられ、2種類以上の溶媒を混合し
て用いてもよい。また、この反応は7β−R1BO5C
H2CONH−△3−セフェム−4−カルボン酸類で示
される化合物をメタノールのアルカリ金属塩とメタノー
ルの存在下ハロゲン化剤で処理して7α−メトキシ〜7
β−R1S03CH2CONH−△3−セフェム−4−
カルボン酸類を得、これを単離してからチオール類また
はその塩類と反応させてもよいし、また、単離せずに、
その反応液中にチオール如才たはその塩類を加えること
によっても目的とする7α−メトキシ−7β−R2SC
H2CONH−△3−セフェム−4−カルボン酸類を好
収率で得ることが出来る。
本発明方法により7α−メトキシ−7β−シアノメチル
チオアセトアミド−3−(1−メチル−1H−テトラゾ
ール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸(一般名:セフメタゾール)などは、特に簡便か
つ好収率で得ることが出来、本発明は、工業的製法とし
て、おおいに価値のある方法である。
チオアセトアミド−3−(1−メチル−1H−テトラゾ
ール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸(一般名:セフメタゾール)などは、特に簡便か
つ好収率で得ることが出来、本発明は、工業的製法とし
て、おおいに価値のある方法である。
このようにして得られた7α−メトキシ−7β−R2S
CH2CONI−T−△3−セフェム−4−カルゴン酸
類は、一般に、セファロスポリナーゼに対シて安定であ
シ、且つ広範囲抗菌スペクトルを有する優れた抗生物質
である。
CH2CONI−T−△3−セフェム−4−カルゴン酸
類は、一般に、セファロスポリナーゼに対シて安定であ
シ、且つ広範囲抗菌スペクトルを有する優れた抗生物質
である。
本発明方法を、R,So、基を有する原料化合物に代え
て堪素原子を有する化合物を用いる方法と対比させ、2
つの工程にわけて以下に説明する。
て堪素原子を有する化合物を用いる方法と対比させ、2
つの工程にわけて以下に説明する。
〔第1工程〕
an5−(ワ>BO2−65係(本発明方法)CH2S
O3−70% // <III>CH2SO3−60チ 〃CI−24係(
比較例) 上記の比較実験結果から明らかなように、本発明方法に
よシ、ハロゲン化合物を用いる場合からはとうてい予測
できない高収率で目的とするメトキシ体を製造すること
ができる。
O3−70% // <III>CH2SO3−60チ 〃CI−24係(
比較例) 上記の比較実験結果から明らかなように、本発明方法に
よシ、ハロゲン化合物を用いる場合からはとうてい予測
できない高収率で目的とするメトキシ体を製造すること
ができる。
〔第2工程〕
CH3バ乙)−8o378係(本発明、方法1)cH3
so3− 8o % (本発明、方法2〕C1−
50% (特開昭54−1.03887)上記の表から
明らかなように、本発明方法によシ、特開昭54−10
3887号公報に記載のハロゲン化合物を用める方法か
らはとうてい予測できない高収率で目的生成物を得るこ
とができる。
so3− 8o % (本発明、方法2〕C1−
50% (特開昭54−1.03887)上記の表から
明らかなように、本発明方法によシ、特開昭54−10
3887号公報に記載のハロゲン化合物を用める方法か
らはとうてい予測できない高収率で目的生成物を得るこ
とができる。
しかも、得られる生成物の純度は高く、本発明方法1で
は純度97係、本発明方法2では純度99壬(いずれも
HPLC法)の目的生成物が得られた。
は純度97係、本発明方法2では純度99壬(いずれも
HPLC法)の目的生成物が得られた。
次に本発明を実施例によって更に詳細に説明するが、こ
の実施例によって本発明はなんら限定されるものではな
い。
の実施例によって本発明はなんら限定されるものではな
い。
実施例 1
(1)7β−[2−(p−)ルエンスルホニルオキシ)
アセトアミド〕セファロスポラン酸ジシクロヘキシルア
ミン塩1071をジメチルホルムアミド4CIA’、テ
トラヒドロフラン10+Jおよび酢酸エチル40罰の混
合溶液にp−)ルエンスルホン酸2.75Fを加えて攪
拌溶解した。
アセトアミド〕セファロスポラン酸ジシクロヘキシルア
ミン塩1071をジメチルホルムアミド4CIA’、テ
トラヒドロフラン10+Jおよび酢酸エチル40罰の混
合溶液にp−)ルエンスルホン酸2.75Fを加えて攪
拌溶解した。
この溶液を−6()℃に冷却し、金1iA IJチウム
0.48fとメタノール2611Leから調製したりチ
ウムメトキサイド溶液を20分かけて滴下した。滴下終
了後−60℃で30分間攪拌し、さらに次亜塩素酸t−
ブチル3752を酢酸エチル261で希釈した液を25
分間で滴下した。さらに10分間−60℃のまま攪拌後
、トリフェニルホスフィン13fを酢酸エチル60dに
溶解しだ液および酢酸2.1 miを加えて反応を停止
させた。5℃まで40分間で昇温し、生じた不溶物を炉
別し、不溶物をアセトン50mで洗い涙液とあわせ、こ
の中に酢酸エチル600rILlを加えると結晶が析出
した。
0.48fとメタノール2611Leから調製したりチ
ウムメトキサイド溶液を20分かけて滴下した。滴下終
了後−60℃で30分間攪拌し、さらに次亜塩素酸t−
ブチル3752を酢酸エチル261で希釈した液を25
分間で滴下した。さらに10分間−60℃のまま攪拌後
、トリフェニルホスフィン13fを酢酸エチル60dに
溶解しだ液および酢酸2.1 miを加えて反応を停止
させた。5℃まで40分間で昇温し、生じた不溶物を炉
別し、不溶物をアセトン50mで洗い涙液とあわせ、こ
の中に酢酸エチル600rILlを加えると結晶が析出
した。
この結晶を沖取し、酢酸エチルで洗浄後減圧乾燥して、
7α−メトキシ−7β−(2−(p−トルエンスルホニ
ルオキシ)アセトアミド〕セファロスポラン酸リチウム
塩を得た。
7α−メトキシ−7β−(2−(p−トルエンスルホニ
ルオキシ)アセトアミド〕セファロスポラン酸リチウム
塩を得た。
IR(r+ujol) : v t−1780crn−
” (β−ラクタム)C−○ NMR(CF3COOH) :δ 2.30(3H,s)、2.55(3H,s)、3.6
0(2H,ブロードS)、3.73(3H,s)、4.
86(2H,8)、5.3〜5.5(3H,m)、7.
40〜8.10 (4H,(1)、8.50(LH,5
)(2) シアノメチルイソチオ尿素地酸塩0.61
1をツメチルホルムアミド3成中で攪拌し、−35℃に
冷却した。この中へ金属ナトリウム0.181とエタノ
ール4 mlから調製したナトリウムエトキサイド溶液
を滴下した、得られたNCCH25Na溶液を10分間
の攪拌後、7α−メトキシ−7β−C2−(p −)ル
エンスルホニルオキシ)アセトアミド〕セファロスポラ
ン酸すチウム塙2.09fをジメチルホルムアミド8m
l中に溶解した液に一35℃で加え、同温度で1時間攪
拌した。酢酸0.5 mlを加えてから、反応液を蒸留
水150d中に注ぎ、1規定塩酸でpH2,5としてか
ら酢酸エチル501で4回抽出した。抽出液を飽和食塩
水30m1で洗浄後無水硫酸マグネシウムで脱水した。
” (β−ラクタム)C−○ NMR(CF3COOH) :δ 2.30(3H,s)、2.55(3H,s)、3.6
0(2H,ブロードS)、3.73(3H,s)、4.
86(2H,8)、5.3〜5.5(3H,m)、7.
40〜8.10 (4H,(1)、8.50(LH,5
)(2) シアノメチルイソチオ尿素地酸塩0.61
1をツメチルホルムアミド3成中で攪拌し、−35℃に
冷却した。この中へ金属ナトリウム0.181とエタノ
ール4 mlから調製したナトリウムエトキサイド溶液
を滴下した、得られたNCCH25Na溶液を10分間
の攪拌後、7α−メトキシ−7β−C2−(p −)ル
エンスルホニルオキシ)アセトアミド〕セファロスポラ
ン酸すチウム塙2.09fをジメチルホルムアミド8m
l中に溶解した液に一35℃で加え、同温度で1時間攪
拌した。酢酸0.5 mlを加えてから、反応液を蒸留
水150d中に注ぎ、1規定塩酸でpH2,5としてか
ら酢酸エチル501で4回抽出した。抽出液を飽和食塩
水30m1で洗浄後無水硫酸マグネシウムで脱水した。
P’A後反応液を減圧下で濃縮し、残渣をイソプロピル
アルコールに溶解させ、2−エチルへキサン酸ナトリウ
ム0.66fによりナトリウム塩として結晶化させた。
アルコールに溶解させ、2−エチルへキサン酸ナトリウ
ム0.66fによりナトリウム塩として結晶化させた。
結晶を消散後、イソプロぎルアルコールで洗浄し、減圧
下で乾燥させ、7α−メトキシ−7β−シアノメチルチ
オアセトアミド−セファロスポラン酸ナトリウムを得た
。
下で乾燥させ、7α−メトキシ−7β−シアノメチルチ
オアセトアミド−セファロスポラン酸ナトリウムを得た
。
JR(nujol) : 1775m−’NMR(CF
3COOH): δ 2.27(3H,S)、3.55〜3.85 (6H、
ピークの重なりの為に不明瞭)、3.72 (3H、s
)、5.12〜5.56 (2H。
3COOH): δ 2.27(3H,S)、3.55〜3.85 (6H、
ピークの重なりの為に不明瞭)、3.72 (3H、s
)、5.12〜5.56 (2H。
q)、5.31(IH,S)、8.43(IH,s)実
施例 2 (1)7β−(2−(p−)ルエンスルホニルオキシ)
アセトアミド)−3−(1−メチル−IH−テトラゾー
ル−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジシクロヘキシルアミンm23.1?およびp−ト
ルエンスルポン酸5.51をジメチルポルムアミド80
d、テトラヒドロンラン30.dおよび酢酸エチルS。
施例 2 (1)7β−(2−(p−)ルエンスルホニルオキシ)
アセトアミド)−3−(1−メチル−IH−テトラゾー
ル−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジシクロヘキシルアミンm23.1?およびp−ト
ルエンスルポン酸5.51をジメチルポルムアミド80
d、テトラヒドロンラン30.dおよび酢酸エチルS。
rnl中で攪拌溶解させた後、温度を一60℃に下げた
。この溶液中に、金属リチウム067tとメタノール4
2rILlから調製したリチウムメトキサイドをゆっ〈
シと滴下し、滴下終了稜30分間同温度で攪拌した。つ
いで次亜塩素& t −メチル6.95fを酢酸エチル
48Nで希釈して滴下した。30分間の攪拌後、金Mす
=19− チウム0.22fとメタノール14mから調製したリチ
ウムメトキサイドをゆっくりと滴下し、lO分後次亜坂
素酸t−ブチル1.74Fを酢酸エチル12TILlで
希釈して滴下した。10分後、さらに金属リチウム00
6fとメタノール4Mから調製したリチウムメトキサイ
ドを滴下し10分後次亜塩素酸t−ブチル0.88fを
酢酸エチル6酩で希釈して滴下した。30分間攪拌した
i、トリフェニルホスフィン131を酢酸エチル601
に溶解した液を加えさらに3規定地酸32罰を加えてか
らただちに酢酸エチル6001と氷水800fの混合液
中に注ぎ3規定塩酸でpH3として分液した。酢酸エチ
ル3001で2回抽出して最初の抽出液と合わせ、飽和
食塩水100祷で2回洗浄後無水硫酸マグネシウムで脱
水し、減圧下で濃縮した。残渣を2−エチルヘキサン酸
す)IJウム5.32tによりイソプロピルアルコール
中から結晶化させた。結晶を炉底しイソプロピルアルコ
ールで洗浄後減圧乾燥して7α−メトキシー7β−[2
−(])−)ルエンスルホニルオキシ)アセトアミド)
−3−(1−メチル−1)(−テトラゾール−5−イル
)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウ
ム塩を得た。
。この溶液中に、金属リチウム067tとメタノール4
2rILlから調製したリチウムメトキサイドをゆっ〈
シと滴下し、滴下終了稜30分間同温度で攪拌した。つ
いで次亜塩素& t −メチル6.95fを酢酸エチル
48Nで希釈して滴下した。30分間の攪拌後、金Mす
=19− チウム0.22fとメタノール14mから調製したリチ
ウムメトキサイドをゆっくりと滴下し、lO分後次亜坂
素酸t−ブチル1.74Fを酢酸エチル12TILlで
希釈して滴下した。10分後、さらに金属リチウム00
6fとメタノール4Mから調製したリチウムメトキサイ
ドを滴下し10分後次亜塩素酸t−ブチル0.88fを
酢酸エチル6酩で希釈して滴下した。30分間攪拌した
i、トリフェニルホスフィン131を酢酸エチル601
に溶解した液を加えさらに3規定地酸32罰を加えてか
らただちに酢酸エチル6001と氷水800fの混合液
中に注ぎ3規定塩酸でpH3として分液した。酢酸エチ
ル3001で2回抽出して最初の抽出液と合わせ、飽和
食塩水100祷で2回洗浄後無水硫酸マグネシウムで脱
水し、減圧下で濃縮した。残渣を2−エチルヘキサン酸
す)IJウム5.32tによりイソプロピルアルコール
中から結晶化させた。結晶を炉底しイソプロピルアルコ
ールで洗浄後減圧乾燥して7α−メトキシー7β−[2
−(])−)ルエンスルホニルオキシ)アセトアミド)
−3−(1−メチル−1)(−テトラゾール−5−イル
)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウ
ム塩を得た。
IR(nujol) : v 1775 cr/
L−1−O NMR(CF3COOH) :δ 2.53(3H,s)、3.65(2H,ブロードS)
、3.68(3H,s)、4:15 (3H,s )、
4.63(2H,ブロードS)、4.80(2H,ブロ
ードS)、5.27 (I H,s )、7.45〜7
.95(4H,(1)、8.30(IH,5)(2)
実施例1(2)と同様に反応して7α−メトキシ−7
β−(2−(p −)ルエンスルホニルオキシ)アセト
アミド)−3−(,1−メチル−IH−テトラゾール−
5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルがン酸
ナトリウム塩カラ7α−メトキシ−7β−シアノメチル
チオアセトアミド−3−(1−メチル−IH−テトラゾ
ール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸ナトリウムを得た。
L−1−O NMR(CF3COOH) :δ 2.53(3H,s)、3.65(2H,ブロードS)
、3.68(3H,s)、4:15 (3H,s )、
4.63(2H,ブロードS)、4.80(2H,ブロ
ードS)、5.27 (I H,s )、7.45〜7
.95(4H,(1)、8.30(IH,5)(2)
実施例1(2)と同様に反応して7α−メトキシ−7
β−(2−(p −)ルエンスルホニルオキシ)アセト
アミド)−3−(,1−メチル−IH−テトラゾール−
5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルがン酸
ナトリウム塩カラ7α−メトキシ−7β−シアノメチル
チオアセトアミド−3−(1−メチル−IH−テトラゾ
ール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸ナトリウムを得た。
IR(nujol) : 1760cm−1NMR(C
F、C○2H):δ 3.6〜3.8 (6H、重なりの為不明瞭)、3.7
0 (3H、s )、4.15(3H,s)、44〜4
.8(2H,q)、5.28(IH。
F、C○2H):δ 3.6〜3.8 (6H、重なりの為不明瞭)、3.7
0 (3H、s )、4.15(3H,s)、44〜4
.8(2H,q)、5.28(IH。
S)、8.35(1,H,s)
実施例 3
7β−[2−(p−)ルエンスルホニルオキシ)アセト
アミド〕−3−(1−メチル−IH−テトラゾール−5
−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸2
.16fをジメチルホルムアミド24rILl中で攪拌
溶解させ温度を一50℃に冷却した。金属リチウム0.
056rとメタノール4mlから調製したリチウムメト
キサイド溶液をゆっくりと滴下し、30分間の攪拌後次
亜塩素酸t−ブチル0.434fを滴下した。20分間
攪拌してから、金属リチウム0.028fとメタノール
2mlから調製したリチウムメトキサイド溶液をゆっく
りと滴下し、30分後次亜塩素酸t−ブチル0.434
Fを滴下した。20分後、シアノメチルイソチオ尿素塩
酸JJ1.82fをジメチルホルムアミド9d中で攪拌
し、リチウムメトキサイド(金属リチウム0.17Fと
メタノール12鮮から調製)によシー30℃で発生させ
たNCCH25Li溶液を加え、反応液を一:う0℃で
15時間さらに一10℃で20分間攪拌した。酢酸21
を加えてから蒸留水200 mlと酢酸エチル100
mlの混合液中に注ぎ2規定塩酸でpH2,5として分
液した。さらに酢酸エチル5Qm7で2回抽出し、有機
層を合わせて飽和食塩水で2回洗浄後無水硫酸マグネシ
ウムで脱水し、活性炭処理をした。
アミド〕−3−(1−メチル−IH−テトラゾール−5
−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸2
.16fをジメチルホルムアミド24rILl中で攪拌
溶解させ温度を一50℃に冷却した。金属リチウム0.
056rとメタノール4mlから調製したリチウムメト
キサイド溶液をゆっくりと滴下し、30分間の攪拌後次
亜塩素酸t−ブチル0.434fを滴下した。20分間
攪拌してから、金属リチウム0.028fとメタノール
2mlから調製したリチウムメトキサイド溶液をゆっく
りと滴下し、30分後次亜塩素酸t−ブチル0.434
Fを滴下した。20分後、シアノメチルイソチオ尿素塩
酸JJ1.82fをジメチルホルムアミド9d中で攪拌
し、リチウムメトキサイド(金属リチウム0.17Fと
メタノール12鮮から調製)によシー30℃で発生させ
たNCCH25Li溶液を加え、反応液を一:う0℃で
15時間さらに一10℃で20分間攪拌した。酢酸21
を加えてから蒸留水200 mlと酢酸エチル100
mlの混合液中に注ぎ2規定塩酸でpH2,5として分
液した。さらに酢酸エチル5Qm7で2回抽出し、有機
層を合わせて飽和食塩水で2回洗浄後無水硫酸マグネシ
ウムで脱水し、活性炭処理をした。
減圧下で濃縮後イソプロピルアルコール中から2−エチ
ルヘキサン酸ナトリウムにより、結晶化させ、結晶な消
散後減圧乾燥して、7α−メトキシ−7β−シアノメチ
ルチオアセトアミド−3−(1−メチル−IH−テトラ
ゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ナトリウムを得た。このもののIRおよび懇ス
ペクトルは実施例2(2)のものと完全に一致した。
ルヘキサン酸ナトリウムにより、結晶化させ、結晶な消
散後減圧乾燥して、7α−メトキシ−7β−シアノメチ
ルチオアセトアミド−3−(1−メチル−IH−テトラ
ゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ナトリウムを得た。このもののIRおよび懇ス
ペクトルは実施例2(2)のものと完全に一致した。
実施例1(1)または実施例2(1〕に従ってそれぞれ
下記の化合物を得だ。
下記の化合物を得だ。
さらに実施例1(2)に従って7α−メトキシ−7β−
R1803CH2CONH−△3−セフェム−4−カル
ボン酸類から7α−メトキシ−7β−R2SCH2CO
NH−△6−セフェム−4−カルはン酸類を得り。
R1803CH2CONH−△3−セフェム−4−カル
ボン酸類から7α−メトキシ−7β−R2SCH2CO
NH−△6−セフェム−4−カルはン酸類を得り。
Claims (1)
- (1)7β−R_1SO_3CH_2CONH−△^3
−セフェム−4−カルボン酸類(R_1はアリール基又
は低級アルキル基を意味する)をメタノールのアルカリ
金属塩とメタノールの存在下ハロゲン化剤で処理し、7
α−メトキシ−7β−R_1SO_3CH_2CONH
−△^3−セフェム−4−カルボン酸類(R_1は前と
同じ)に誘導し、次いでチオール類またはその塩類と反
応させることを特徴とする7α−メトキシ−7β−R_
2SCH_2CONH−△^3−セフェム−4−カルボ
ン酸類(R_2はシアノメチル基を意味する。)で表わ
される化合物の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1703290A JPH02270882A (ja) | 1990-01-26 | 1990-01-26 | 7α―メトキシセファロスポリン化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1703290A JPH02270882A (ja) | 1990-01-26 | 1990-01-26 | 7α―メトキシセファロスポリン化合物の製造法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10680779A Division JPS5630987A (en) | 1979-08-21 | 1979-08-21 | Preparation of 7alpha-methoxycephalosporin |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02270882A true JPH02270882A (ja) | 1990-11-05 |
JPH0362713B2 JPH0362713B2 (ja) | 1991-09-26 |
Family
ID=11932665
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1703290A Granted JPH02270882A (ja) | 1990-01-26 | 1990-01-26 | 7α―メトキシセファロスポリン化合物の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02270882A (ja) |
-
1990
- 1990-01-26 JP JP1703290A patent/JPH02270882A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0362713B2 (ja) | 1991-09-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4331666A (en) | 3-[(8-Carboxy-6-tetrazolo[1,5-b]pyridazinyl)-thiomethyl]-7-[2-(2-amino-4-thiazolyl)-2-methoxyimino-acetamido]-3-cephem-4-carboxylic acid | |
JP2008505169A (ja) | セファロスポリン抗生物質の製造における新規な塩 | |
KR100342600B1 (ko) | 신규한 티아졸 화합물 및 그의 제조 방법 | |
FI109127B (fi) | Menetelmä kefepiimidihydrokloridihydraattiantibiootin valmistamiseksi | |
US4247461A (en) | Esterification process using methoxymethyl-P-toluenesulfonate | |
BG61163B1 (bg) | Метод за получаване на цефалоспоринов антибиотикпри използване на син-изомер на тиазолилов междинен продукт | |
JPH02270882A (ja) | 7α―メトキシセファロスポリン化合物の製造法 | |
US5594130A (en) | Preparation of a cephalosporin antibiotic using the syn-isomer of a thiazolyl intermediate | |
KR890002107B1 (ko) | 세팔로스포린 유도체의 제조방법 | |
JP2595605B2 (ja) | 2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸の製造法 | |
DE2728578A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer beta-lactamsaeure | |
HU185977B (en) | Process for producing 7-amino-cepheme-compounds | |
KR20010031117A (ko) | 3-세펨 화합물의 제조방법 | |
JPS6242989A (ja) | 溶接電極の自動整形および交換装置 | |
KR840002142B1 (ko) | 7α-메톡시세팔로스포린 유도체의 제조방법 | |
JPH0231080B2 (ja) | ||
US4237280A (en) | Intermediate for cephalosporin type compound | |
WO2003040116A1 (en) | A process for the preparation of cephalosporins side chains | |
JP2661810B2 (ja) | 7−アミノ−3−クロロメチル−3−セフェム誘導体の製法 | |
JPH0132830B2 (ja) | ||
JP4659959B2 (ja) | 3−セフェム化合物及びその製造法 | |
JPS6251959B2 (ja) | ||
JPS6139954B2 (ja) | ||
KR20040098915A (ko) | 7-글루타릴이미드 세팔로스포란산 유도체와 이의 제조방법 | |
KR950008321B1 (ko) | 세펨 유도체 |