JPS6242989A - 溶接電極の自動整形および交換装置 - Google Patents

溶接電極の自動整形および交換装置

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JPS6242989A
JPS6242989A JP18314786A JP18314786A JPS6242989A JP S6242989 A JPS6242989 A JP S6242989A JP 18314786 A JP18314786 A JP 18314786A JP 18314786 A JP18314786 A JP 18314786A JP S6242989 A JPS6242989 A JP S6242989A
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JP
Japan
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methoxy
cephem
salt
carboxylic acids
7alpha
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Application number
JP18314786A
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English (en)
Inventor
Seiichi Masai
成一 正井
Hisao Tohiki
戸引 久雄
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Sumitomo Pharmaceuticals Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Pharmaceuticals Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6242989A publication Critical patent/JPS6242989A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、7α−メトキシ−7−β−R,SC几−CO
NH−△−セフェム−4−カルボン酸類(R。
は有機残基を意味する)の製造法に関するものである。
本発明方法によって得られる7α−メトキシ−7β−R
,SC山C0NH−Δ3−セフェム−4−カルボン酸類
(R1は前と同じ)は医薬上非常に有用であり、例えば
、本発明により製造される7α−メトキシ−7β−シア
ノメチルチオアセトアミド−3−(1−メチル−I H
−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフゴム
−4−カルボン酸(一般名:セフメタゾール)および7
α−メトキシ−7β−(1,8,4−チアジアゾール−
2−チオアセトアミド)−8−(1−メチル−IH−テ
トラゾール−5−イル)チオメチル−8−セフェム−4
を一カルボン酸等は特開昭50−88888に示される
如く広範囲にわたり非常に強い抗菌スペクトルを有する
化合物として広く知られている。
7α−メトキシ−7β−R,’5CI(2CONH−△
8−セフェムー4−カルボン酸類の製造法については、
これまで数多く検討されてきた。たとえば特開昭51−
59890号公報およびJ 、 An tibioti
el。
29.969(1976)に記載の方法では、次の製造
工程 CI)          (2)         
   C置〕M+=N” (CH,、)s CH,Ph
に従って7−アミノ−8−CI−・メチル−IH−テト
ラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸(1)から3段階を経で7α−メトキシ−7
β−アミノ体〔]V〕とし、これに酸塩化物法等により
一般式CD で示される化合物に導ひくというものであるが、この方
法は反応工程がやや長く、また実際に追試してみると中
間体の(’IV)がやや不安定であるためにその取り扱
い方法が雛かしいということが判明した。また、特開昭
51−50894号公卯およびJ、 Antibiot
ics、 29 、554 (1976)に記載の方法
のように、〔1〕の4位カルボン酸をエステルで保護し
、7−メトキシ化する方法では、反応工程がさらに長く
なり、4位カルボン酸のエステル化および脱エステル化
に際して、かなりの縮分の損失がさけられない。
このように、いずれも製造工程が長いとノ、シ、収率が
悪いとか、76位にメトキシ基のない未反応物が多く残
存してくろなどの理由で工業的製造法とし゛1゛満足の
いくものは、了く簡便がっ高収率に行ないう、ζ)!!
l!造法の出口16が待ち望まれCいた。
そこで:も、発明゛を等(、シ ″7′心’i、CD 
−’ p 4−シ化が容易に進行する7位ア゛ミノ基の
保護基を用い、しかもその保に箋基は、7α−メ1キシ
化の観も除去することなく、直接、?゛Q・−メトキシ
−7β−R,SC坑COf”=IH−△8−セフェムー
4−カルボン酸類に容易に導ひくことの出来る製造法を
見い出す11的で鋭意研究を蔦ねた結果、7α−メトキ
シ−7β−RlSo、 CI(、、C0NH−△6−セ
フェムー4−カルボン酸類(R1は炭化水素基を意味す
る)とチオール類またはその塩類とを反応させることに
より上記目的化合物を容易に製造できることを見い出し
、本発明方法を完成するに至った。
本発明製造法は一般に溶媒中で、好懐しくは塩基の存在
下で行なわれるが、7α−メトキシ−7β−R,So、
CH2C0NH−Δ−セフェムー4−カルボン酸類また
はチオール類が、その塩類として用いられる場合には塩
基を特別に加えなくても好ましい結果が得られる。この
反応における反応温度は特に限定されないが、通常室温
以下で反応させることが好ましい。まt二、反応溶媒と
しては、ジメチルホルノ\ア廻ド、ジノチル1セトアミ
ド、水、アセトン、ジオキャン、アセトニトリル、塩化
メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジクロ
)q、r ′f−タン、ベンゼン、トルエン、ピリジン
、酢酸エチル等、その他この発明の反応に悪影響をIj
えない−e’溶媒があげられ、2種類以上の溶暉を混合
し°[用いでも(〔) よい。
本発明方法により7α−メト、1ニジ−7β−シアノメ
チルチオアセトアミド−3−(1−メチル−I H−5
Fトンシ一ツ人ノー・b−イル)チオメチル−8−セフ
ァム−4−カルボン酸(一般名:セフメタゾール−など
は、持に簡便カン・)好収率で得ることが出来、本発明
は、工業的製法として、おおいに価値のある方法である
このようにしで得られた?び−メトキシー7β−R,S
C搗C0NH−Δ−セブ1.ムー4−カルボン酸類は、
一般に、モノ10スポリヅーゼに対して安定であり、且
つ広範囲抗菌スペクトルを有する優れyr杭生物質゛り
島る1、 原料化合物であるl(γ−メtキシー7β・−R,80
,CH,C0NH−一△−−−−i・1々ム・−4−カ
ルボン酸類は、例えば以下のよ・1jl−C製造するこ
とができ2>7.””i” 4(わ[8,7“17−烏
SへCH,、C0NH−△−セ”ニア :tムー4−カ
ルボン酸類を不活性繁燥溶媒中、−υh・−10’cの
r/21の温度でメク一ルのアルカリ金属塩と反応させ
、と・<つζ反応診液中に同温度で陽性ハロゲンを発生
し得るハロゲン化剤を加える。反応時間は特に制限され
ないが、一般に比較的短時間で進行し、約5分ないし、
2時間で完了する。反応の方法としては、メタノールの
アルカリ金属塩およびハロゲン化剤の添加を2回置」二
に分割して加えてもよく、特に反応物および生成物がメ
タノールのアルカリ金属塩によって分解を受けやすい場
合には、2回置」−に分割した方が好ましい結果を与え
る。
次に、このようにしてメタノールのアルカリ金属塩とハ
ロゲン化剤で処理した反応液中にカルボン酸、たとえば
蟻酸または酢酸等を加え過剰のメタノールのアルカリ金
属塩を分解する。過剰のハロゲン化剤が存在している場
合には必要に応じて還元剤、たとえば亜リン酸トリメチ
ル、トリフェニルホスフィン、チオ硫酸ソーダ等をカル
ボン酸を加える前または後に加えることによってハロゲ
ン化剤を分解し、7α−メトキシ−7β−R,SへCH
2C0NH−△ −セフェム−4−カルボン酸類を得る
ことが出来る。本方法において使用できるメタノールの
アルカリ金属塩は、たとえば、リチウムメトキサイド、
ナトリウムメトキサイド、カリウムメトキづイド等があ
げられるが、好ましくはリチウムメトキサイドがあげら
れる。一般にメタノールのアルカリ金属塩は不活性溶媒
中過剰量のメタノールの存在下、アルカリ金属塩を加え
ることによりあるいは、メタノール溶液中にアルカリ金
属を加えることにより製造される。得られたメタノール
のアルカリ金属塩は必ずしも単離する必要はなく、この
溶液を7β−R,So、CH,C0N)!−△8−セフ
ェムー4−カルボン酸類の溶液中に添加することによっ
て目的は達せられる。本方法では、原料のセファロスポ
リンに対して約2〜10当坩のメタノールのアルカリ金
属塩が使用されるが前にも述べたように反応物または生
成物がアルカリ金属塩によって分解をうけやすい場合に
は、過剰のアルカリ金属塩を用いることは好ましくなく
、場合によっては2回置−Lに分割してメタノールのア
ルカリ金属塩およびハロゲン化剤を添加することが好ま
しい。
7β−R、S 03CH2CONH−Δ3−セフェム−
4−カルボン酸類は、一般に上記メトキシ化反応に用い
られる有機溶媒に対する溶解度が非常に良く、本反応に
は非常に好都合であるが、ジシクロヘキシルアミン塩の
ような比較的難溶性の塩類として用いる場合には、p−
トルエンスルホン酸等の酸を当モル加えて溶解させた後
、前記の方法により反応させることが出来る。本反応に
適当な溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルホスホルトリアミド、メタ
ノール、酢酸エチル、トルエン、テトラヒドロフラン、
二塩化エチレン、アセトニトリル、アセトン、クロロホ
ルム等通常の有機反応に使用できる不活性溶媒があげら
れ、必要に応じてこれらまたは他の不活性溶媒を2種以
上の混合溶媒として用いてもよい。本反応に使用できる
ハロゲン化剤は一般に陽性ハロゲンを発生し得るもので
あり、この様なハロゲン化剤としては、たとえば塩素、
臭素、N−ハロアミド類、たとえばN−クロロアセトア
ミド、N−ブロムアセトアミド;N−ハロイミド類、た
とえばN−クロロアセトアミド、N−プロムサクシンイ
ミド;N−ハロスルホンアミド類たとえばN−クロロベ
ンゼンスルホンアミド;または次亜塩素酸t−ブチルの
如き次亜塩素酸アルキルがあげられるが、次亜塩素酸t
−ブチルが特に好ましく、必要に応じて酢酸エチル等の
不活性溶媒で希釈して用いてもよい。この様にして7α
−メトキシ−7β−R,503CH2CONH−Δ−セ
フェムー4−カルボン酸類を得ることができる。
上記反応で得られる7α−メトキシ−7β−R,SO,
CH,C0NH−△8−セフェムー4−カルボン酸類は
、これを単離してからチオール類またはその塩類と反応
させてもよいし、また、単離せずに、その反応液中にチ
オール類またはその塩類を加えることによっても目的と
する7α−メトキシ−7β−R,SCIちC0NH−△
8−セフェムーー4−カルボン酸類を好収率で得ること
が出来る。
本明細書において、7β−R1508CH2CONH−
△8−セフェムー4−カルボン酸類とは7β位側鎖がR
,5OaCH2CONHであり、通常、反応に関与しな
い基で置換されているΔ3−セフェム−4−カルボン酸
およびカルボン酸の誘導体(エステルおよび塩類)を表
わし、たとえば、一般式で示される化合物類を表わす。
ここでR1で示される炭化水素基とは、ハロゲン原子、
シアノ基、ニトロ基等で置換されていてもよいメチル、
エチル、プロピル等のアルキル基、置換または無置換の
ベンジル等のアラルキル基、置換または無置換のフェニ
ル、ナフチル等のアリール基を示し、それらの置換基と
しては、メチル、エチル、プロピル等の低級アルキル基
、クロル等のハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸
基またはメトキシ、エトキシ等のアルコキシ基等があげ
られる。またAで示される有機残基は、反応に関与しな
いものであれば何でもよいが、一般的には、水素原子、
クロル等のハロゲン原子、メチル、エチル、プロピル等
のアルキル基、水酸基、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ等のアルコキシ基、アセトオキシメチル基、複素環チ
オメチル基等を示すが、その複素環チオメチルの複素環
としては、例えばテトラゾール、チアジアゾール、チア
ゾール、イソチアゾール、オキサジアゾール、トリアゾ
ール、オキサゾール、イミタゾール等であり、それはメ
チル、エチル等の低級アルキル基で置換されていてもよ
い。
また、その低級アルキル基は、カルボキシル基、スルホ
ン酸基、アミノ基等の置換基を有していても良い。また
Wは、−coowとしたとき−coowがカルボン酸お
よびカルボン酸の誘導体(エステルおよび塩類)である
ことを表わし、従ってWは例えば、水素原子、メチル、
第8級ブチル等のアルキル基、ベンジル等のアラルキル
基、フェニル、ナフチル等のアリール基等を表わし、そ
れらはクロル等のハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
水酸基、メトキシ等のアルコキシ基等で置換されていて
もよく、塩類としては、ナトリウム塩、カリウム塩等の
アルカリ金属塩、マグネシウム塩、カルシウム塩等のア
ルカリ土類金属塩等の無機塩基との塩類、トリエチルア
ミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、シクロヘキシルア
ミン塩、ジメチルベンジルアミン塩等の有機アミン塩も
しくはキノリン塩等の有機塩基との塩類を表わす。
また、7α−メトキシ−7β−RlSへCH,C0NH
−△3−セフェムー4−カルボン酸類とは7β−RlS
o、CH2C0NH−△8−セフェムー4−カルボン酸
類の7α−位の水素原子をメトキシ基で置換した化合物
類を表わし、他の位置については7β−R,SO,CH
aCONH−Δ3−セフェム−4−カルポジ酸類と同様
の意味を示す。たとえば、一般式 で示される化合物類を表わし、R1およびAは前記と同
じ意味を示す。W′は前記Wで規定した範囲内の意味を
示すが、W′とWとは必ずしも同じでなくてもよい。
また、7α−メトキシ−7β−R2SCH1jC■■−
Δ3−セフェム−4−カルボン酸類とは、7α−メトキ
シ−7β−R,SへCH2C0NN″N−△ −セフェ
ム−4−カルボン酸類のRISo、基をR,S基で置換
した化合物類を表わし、他の位置については7α−メト
キシ−7β−RIS似九C0NH−△3−セフェムー4
−カルボン酸類と同様の意味を示す。たとえば式 で示される化合物類を表わし、Aは前記と同じ意味を示
す。W″は前記Wで規定した範囲内の意味を示すが、W
″とWは必ず17も同じでなくてもよい。
R2で示される有機残基は、反応に関与しないものであ
れば何でもよいが、たとえばハロゲン原子、シアノ基、
ニトロ基等で置換してもよいメチル、エチル、プロピル
等のアルキル基、置換または無置換のベンジル等のアラ
ルキル基、置換または無置換のフェニル、ナフチル等の
アリール基、置換または無置換のピリジル、チアジアゾ
リル、テトラヒドロフリル等のN、S10原子を1個以
上含む複素環基等その他があげられ、それらの置換基と
してはメチル、エチルプロピル等の低級アルキル基、ク
ロル等のハロゲン原子、シアン基、ニトロ基、水酸基、
メトキシ、エトキシ等のアルコキシ等があげられる。
また、7α−メトキシ−7β−R1SO3CH2CON
H−△8−セフェムー4−カルボン酸類と反応させるチ
オール類またはその塩類とは、式R,SHで示される化
合物またはその塩類を表わし、R宜は上記と同じ意味を
表わし、その塩類としては、7β−R,So、C山C0
N1■−Δ3−セフェム−4−カルボン酸類で述べた塩
類と同じ意味を表わす。
次に本発明を実施例によって更に詳細に説明するが、こ
の実施例によって本発明はなんら限定されるものではな
い。
参考例1 7β−C2−(p−)ルエンスルホニルオキシ)アセト
アミド〕セファロスポラン酸ジシクロヘキシルアミン塩
10.7Nをジメチルホルムアミド4(1+?、テトラ
ヒドロフラン1611tおよび酢酸エチル40tgtの
混合溶液にp−トルエンスルホン酸2.75yを加えて
撹拌溶解した。この溶液を一60°Cに冷却し、金属リ
チウム0.489とメタノール26m1から調製したリ
チウムメトキサイド溶液を20分かけて滴下した。滴下
終了後−60°Cで80分間撹拌し、さらに次亜塩累酸
t−ブチル8.75fを酢酸エチル26m1で希釈した
液を25分間で滴下した。さらに10分間−60°Cの
まマ撹拌後、トリフェニルホスフィン18fを酢酸エチ
ル60gtに溶解した液および酢酸2.1mlを加えて
反応を停止させた。5°Cまで40分間で昇温し、生じ
た不溶物を炉別し、不溶物をアセトン50g+/で洗い
PIとあわせ、この中に酢酸エチル600 mlを加え
ると結晶が析出した。この結晶を炉腹し、酢酸エチルで
洗浄後減圧乾燥して、7α−メトキシ−7β−[2−(
1)−)ルエンスルホニルオキシ)アセトアミド〕セフ
ァロスポラン酸リチウム塩を得た。
IR(nujol)ニジc=0 1780cII(β−
ラクタム) NMR(CF、C00H) :δ 2.80(8H,s)、2.55 (8H、s )、8
.60(2H,ブロードS)、8.78(8H,s)、
4.86(2H,8)、5.8〜5.5 (8H、m 
)、7.40〜8.10 (4H、Q )、8.δ0(
IL(、a)実施例1 シアノメチルイソチオ尿素塩酸塩061yをジメチルホ
ルムアミドB vxl中で撹拌し、−85°Cに冷却し
た。この中へ金属ナトリウム0.18 fとエタノール
4 mlから調製したナトリウムエトキサイド溶液を滴
下した、得られたNC−CH2SNa溶液を10分間の
撹拌後、7α−メトキシ−7β−(2−CI)−)ルエ
ンスルホニルオキシ)アセトアミド〕セファロス4ラン
酸リチウム塩2.09fをジメチルホルムアミド8 m
l中に溶解した液に一85°Cで加え、同温度で1時間
撹拌した。酢酸0.5 weを加えてから、反応液を蒸
留水150g/中に注ぎ、1規定塩酸でpH2,5とし
てから酢酸エチル50g/で4回抽出した。抽出液を飽
和食塩水80震lで洗浄後無水硫酸マグネシウムで脱水
した。濾過後反応液を減圧下で濃縮し、残渣をイソプロ
ピルアルコールに溶解させ、2−エチルヘキサン酸ナト
リウム0.66Fによりナトリウム塩として結晶化させ
た。結晶を炉腹後、イソプロピルアルコールで洗浄し、
減圧下で乾燥させ、7α−メトキシ−7β−シアノメチ
ルチオアセトアミド−セファロスポラン酸ナトリウムを
得た。
IR(nujo’l):1775cM ’NMR(CF
、Co2H) :δ 2.27(8H,8)、8.55〜8.85(6H,ピ
ークの重なりの為に不明瞭)、8.72(8H,S)、
5.12〜5.56(2H,q)、5.81(IH,G
)、8.48(IH,8) 参考例2 7β−C2−(p−トルエンスルホニルオキシ)アセト
アミド)−8−(1−メチル−IH−テトラゾール−5
−イル)チオメチル−8−セフェム−4−カルボン酸ジ
シクロヘキシルアミン塩28.1FおよびT)−)ルエ
ンスルホン酸5.5Fをジメチルホルムアミド80w1
tsテトラヒドロフラン8C)xiおよび酢酸エチル8
01を中で撹拌溶解させた後、温度を一60°Cに下げ
た。この溶液中に、金属リチウム0.67 fとメタノ
ール42m1から調製したリチウムメトキサイドをゆっ
くりと滴下し、滴下終了後80分間同温度で撹拌した。
ついで次亜塩素酸t−ブチル6.95fを酢酸エチル4
8g1で希釈して滴下した。80分間の撹拌後、金属リ
チウム0.22 fとメタノール14g/から調製した
リチウムメトキサイドをゆっくりと滴下し、10分後次
亜塩素酸1−ブチル1.74fを酢酸エチル12g/で
希釈して滴下した。10分後、さらに金属リチウム0.
06fとメタノール4 mlから調製したリチウムメト
キサイドを滴下し10分後次亜塩素酸t−ブチル0.8
8 tを酢酸エチル6 getで希釈して滴下した。8
0分間撹拌した後、トリフlニルホスフィン18fを酢
酸エチル60m1に溶解した液を加えさらに8規定塩酸
82w/を加えてからただちに酢酸エチル600 ml
と水氷800yの混合液中に注ぎ8規定塩酸でpH8と
して分液した。酢酸エチル800 txtで2回抽出し
て最初の抽出液と合わせ、飽和食塩水100 weで2
回洗浄後無水硫酸マグネシウムで脱水し、減圧下で濃縮
した。残渣を2−エチルヘキサン酸ナトリウム5.82
9によりイソプロピルアルコール中から結晶化させた。
□結晶を炉腹しイソプロピルアルコールで洗浄後減圧乾
燥して7α−メトキシ−7β−[2−(p−)ルエンス
ルホニルオキシ)アセトアミド)−8−(1−メチル−
IH−テトラゾール−5−イル)チオメチル−8−セフ
ェム−4−カルボン酸ナトリウム塩を得た。
” ” IR(nujol) : vc=0 1775
3NMR(CF、Cool) :δ 2.58(8Hes)、8.’65(2H,ブロードS
)、j、es(aH,s)′、4.15’(8H,8)
、4.68(2H,ブ′ロード8)、4.80(2H,
ブロードS)、5.2’7 (IH,s )、7.45
〜y、′95 C4H。
q)、8.8’0 (IH,s )       ′実
施例2 実施例1と同様に反応して7α−メトキシ−7β−〔2
−(p−トルエンスルホニルオキシ)アセトアミド)−
8−(1−メチル−I H−テI・ラブ−ルー5−イル
)チオメチル−8−セフェム−4−カルボン酸ナトリウ
ム塩から7α−メトキシ−7β−シアノメチルチオアセ
トアミド−8−(1−メチル−IH−テトラゾールニ5
−イル)チオメチル−8−セ゛ラエムー4−カルボン酸
ナトリウムを得た。
IR(nujol):1760cIII’NMR(CF
3CO,H) :δ 8.6〜8.8(6H重なりの為不明瞭)、8.70(
8H,8)、4.15(8H,s)、4.4〜4.8(
2H,q)、’ 5.28(IH,s)、8.85(I
 H* s )    ゛ 実施例8 すβ−(2−(p−)ルエンスルホニルオキシ)アセト
アミド)−’8−(1−メチル−IH−テトラゾール−
5−イル)チオメチル−8−セフェム−4−カルボン酸
2.16Nをジメチルホルムアミド2411中で撹拌溶
解さく22) せ温度を一50°Cに冷却した。金属リチウム0.05
6yとメタノール4 artから調製したリチウムメト
キサイド溶液をゆっくりと滴下し、80分間の撹拌後火
亜塩素酸t−ブチル0、4841を滴下した。20分間
撹拌してから、金属リチウム0.028Nとメタノール
2mlから調製したリチウムメトキサイド溶液をゆっく
りと滴下し、80分後次亜塩素酸1−ブチル0.484
fを滴下した。20分後、シアノメチルイソチオ尿素塩
酸塩1.82Fをジメチルホルムアミド9 ml中で撹
拌し、リチウムメトキサイド(金属リチウム0.17 
fとメタノール12m/から調製)により−80°Cで
発生させたNCCH,SLi溶液を加え、反応液を=8
0°Cで1.5時間さらに−lO°Cで20分間撹拌し
た。酢酸2 wtを加えてから蒸留水200 mlと酢
酸エチル100 weの混合液中に注ぎ2規定塩酸でp
H2,5として分液した。さらに耐酸エチル50鯉/で
2回抽出し、有機層を合わせて飽和食塩水で2回洗浄後
無水硫酸マグネシウムで脱水し、活性炭処理をした。
減圧下で濃縮後イソプロピルアルコール中から2−エチ
ルヘキサン酸ナトリウムにより、結晶化させ、結晶を炉
腹後減圧乾燥して、7α−メトキシ−7β−シアノメチ
ルチオアセトアミド−8−(1−メチル−IH−テトラ
ゾール−5−イル)チオメチル−8−セフェム−4−カ
ルボン酸ナトリウムを得た。このもののIRおよびNM
Rスペクトルは実施例2のものと完全に一致した。
実施例4 2−メルカプト−1,8,4−チアジアゾール0.86
Fをジメチルホルムアミド2.5 wt中で撹拌し、−
80°Cに冷却後、金属リチウム0.021Fとメタノ
ール1.5 mlから調製したリチウムメトキサイドを
滴下した。この溶液を7α−メトキシ−7β−C2−(
p−トルエンスルホニルオキシ)アセトアミド〕−8−
(1−メチル−IH−テトラゾール−5−イルチオメチ
ル)−8−セフェム−4−カルボン酸すl・リウム塩1
.78yをジメチルホルムアミド12m1に溶解した液
に一80°Cで加えた。−8O°Cで1時間撹拌夜さら
に一10°Cで8.5時間反応させ、酢酸0.2 ml
を加えてから蒸留水150m/と酢酸エチル100 w
e中に注ぎ2規定塩酸でpH2,5として有機層を取り
、さらに水層から酢酸エチル100*/で2回抽出した
。有機層を合オ)せ、飽和食塩水で2回洗浄後熊水硫酸
マグネシウムで乾燥した。
濃縮後イソプロピルアルコールから、2−エチルヘギサ
ン酸すl・リウムにより結晶化させ、P取稜減圧乾燥し
て7α−メトキシ−7β−2−(1,8,4−チアジア
ゾリル)チオアセトアミド−8−(1−メチル−I H
−テトラゾール−5−イル)チオメチル−8−セフェム
−4−カルボン酸ナトリウム塩を得た。
IR(nujol):1775c11’NMR(d、−
DMSO):δ 8.1〜8.8(2H,q)、8゜41(8H,s)、
8.98 (8H,s ) 4.15〜4.40 (4
H,m)、4.98(IH,s)、9.48(IH,s
)、9.57(IH,s) 参考例1または参考例2に従ってそれぞれT1の化合物
を得た。
さらに実施例1または実施例4に従って7α−メトキシ
−7β−RIS03C几C0NH−Δ3−セフェム−4
−カルボン酸類から7α−メトキシ−7β−R,5CT
T、C0NH−△−セフェム−4(8)0完) 一84R−

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)7α−メトキシ−7β−R_1SO_3CH_2
    CONH−Δ^3−セフェム−4−カルボン酸類(R_
    1は炭化水素基を意味する)とチオール類またはその塩
    類とを反応させることを特徴とする7α−メトキシ−7
    β−R_2SCH_2CONH−Δ^3−セフェム−4
    −カルボン酸類(R_2は有機残基を意味する)の製造
    法。
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WO1999025712A1 (fr) * 1997-11-14 1999-05-27 Kowa Company, Ltd. Nouveaux composes d'amide et medicaments contenant ces derniers
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