JPH0247473B2 - - Google Patents
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/02—Preparation
- C07D501/04—Preparation from compounds already containing the ring or condensed ring systems, e.g. by dehydrogenation of the ring, by introduction, elimination or modification of substituents
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
臨床医薬として新しく登場したセフアロスポリ
ン抗生物質のひとつとしてセフアクロールがあ
る。セフアクロールは巾広い抗菌スペクトルを持
つており、経口投与によるヒトの感染症治療に極
めて有効である。セフアクロールは化学的には7
−D−フエニルグリシルアミド−3−クロロ−3
−セフエム−4−カルボン酸として知られてお
り、米国特許第3925372号に開示されている。セ
フアクロールは、3−クロロ核、即ち、7−アミ
ノ−3−クロロ−3−セフエム−4−カルボン酸
またはそのエステルをアシル化すると得られる。
遊離アミノ酸型の3−クロロ核は下記式で示され
る。
ン抗生物質のひとつとしてセフアクロールがあ
る。セフアクロールは巾広い抗菌スペクトルを持
つており、経口投与によるヒトの感染症治療に極
めて有効である。セフアクロールは化学的には7
−D−フエニルグリシルアミド−3−クロロ−3
−セフエム−4−カルボン酸として知られてお
り、米国特許第3925372号に開示されている。セ
フアクロールは、3−クロロ核、即ち、7−アミ
ノ−3−クロロ−3−セフエム−4−カルボン酸
またはそのエステルをアシル化すると得られる。
遊離アミノ酸型の3−クロロ核は下記式で示され
る。
この核およびそのエステルは、セフアクロール
の合成および他の3−ハロ置換セフアロスポリン
の製造における中間体として有用である。3−ク
ロロ核および他の3−ハロゲン核は米国特許第
4064343号に開示されている。
の合成および他の3−ハロ置換セフアロスポリン
の製造における中間体として有用である。3−ク
ロロ核および他の3−ハロゲン核は米国特許第
4064343号に開示されている。
本発明以前は、米国特許第4064343号に記載さ
れているように、7−アシルアミノ−3−クロロ
セフアロスポリンエステルのN−脱アシル化によ
つて3−クロロ核を製造していた。7−アシルア
ミノ−3−クロロセフアロスポリンは7−アシル
アミノ−3−ヒドロキシセフアロスポリンを
DMF中、三塩化リンでクロロ化すると得られる
が、7−アミノ−3−ヒドロキシセフアロスポリ
ンエステルを三塩化リン/DMFでクロロ化する
と7−〔(ジメチルアミノメチレン)アミノ〕−3
−クロロ核エステルが形成される。しかしがら、
ジメチルアミノメチレン基は数多くの開裂反応に
対して抵抗する。これらのセフアロスポリン核の
重要性のために、その核の別の製造法が3−ハロ
置換セロフアロスポリン抗生物質の工業的製造上
重要となつて来た。
れているように、7−アシルアミノ−3−クロロ
セフアロスポリンエステルのN−脱アシル化によ
つて3−クロロ核を製造していた。7−アシルア
ミノ−3−クロロセフアロスポリンは7−アシル
アミノ−3−ヒドロキシセフアロスポリンを
DMF中、三塩化リンでクロロ化すると得られる
が、7−アミノ−3−ヒドロキシセフアロスポリ
ンエステルを三塩化リン/DMFでクロロ化する
と7−〔(ジメチルアミノメチレン)アミノ〕−3
−クロロ核エステルが形成される。しかしがら、
ジメチルアミノメチレン基は数多くの開裂反応に
対して抵抗する。これらのセフアロスポリン核の
重要性のために、その核の別の製造法が3−ハロ
置換セロフアロスポリン抗生物質の工業的製造上
重要となつて来た。
本発明は、3−クロロ核の別途製造方法を提供
するものである。特に、本発明は3−ヒドロキシ
核、即ち、7−アミノ−3−ヒドロキシ−3−セ
フエム−4−カルボン酸エステルを、容易に開裂
し得る3−クロロ核のN−ホルミル誘導体に直接
変換する方法を提供するものである。
するものである。特に、本発明は3−ヒドロキシ
核、即ち、7−アミノ−3−ヒドロキシ−3−セ
フエム−4−カルボン酸エステルを、容易に開裂
し得る3−クロロ核のN−ホルミル誘導体に直接
変換する方法を提供するものである。
本発明は7−アミノ−3−クロロ−3−セフエ
ム−4−カルボン酸およびそのエステルの製造方
法に関する。さらに詳述すれば、本発明は3−ク
ロロ核の製造方法に関するものであつて、その要
旨は、7−アミノ−3−ヒドロキシ−3−セフエ
ムエステルをジメチルホルムアミド中でクロロ化
剤(例えば、三塩化リン)と反応させて7β−
〔(ジメチルアミノメチレン)アミノ〕−3−クロ
ロ−3−セフエムエステルを生成し、さらに水溶
液中のPH値が約2.0乃至約5であるカルボン酸と
反応させて対応する7β−ホルムアミド−3−ク
ロロエステルを形成する点にある。7−アミジノ
−3−クロロ中間体を弱酸性カルボン酸と反応さ
せると7β−ホルムアミド−3−クロロ−3−セ
フエムおよび対応する2−セフエムの異性体混合
物が得られる。
ム−4−カルボン酸およびそのエステルの製造方
法に関する。さらに詳述すれば、本発明は3−ク
ロロ核の製造方法に関するものであつて、その要
旨は、7−アミノ−3−ヒドロキシ−3−セフエ
ムエステルをジメチルホルムアミド中でクロロ化
剤(例えば、三塩化リン)と反応させて7β−
〔(ジメチルアミノメチレン)アミノ〕−3−クロ
ロ−3−セフエムエステルを生成し、さらに水溶
液中のPH値が約2.0乃至約5であるカルボン酸と
反応させて対応する7β−ホルムアミド−3−ク
ロロエステルを形成する点にある。7−アミジノ
−3−クロロ中間体を弱酸性カルボン酸と反応さ
せると7β−ホルムアミド−3−クロロ−3−セ
フエムおよび対応する2−セフエムの異性体混合
物が得られる。
異性体混合物は過酸を用いてスルホキシドに酸
化し、混合物中の2−セフエムを3−セフエムス
ルホキシドに変換する。次にこの3−セフエムス
ルホキシドエステルを還元すると所望の7β−ホ
ルムアミド−3−クロロ−3−セフエム−4−カ
ルボン酸エステルが得られる。
化し、混合物中の2−セフエムを3−セフエムス
ルホキシドに変換する。次にこの3−セフエムス
ルホキシドエステルを還元すると所望の7β−ホ
ルムアミド−3−クロロ−3−セフエム−4−カ
ルボン酸エステルが得られる。
次いで、7β−ホルムアミド基を稀酸で加水分
解すると所望の7−アミノ−3−クロロ−3−セ
フエムエステルが得られる。
解すると所望の7−アミノ−3−クロロ−3−セ
フエムエステルが得られる。
本発明の製法は、3−ヒドロキシ核エステルを
3−クロロ核エステルに変換する全製法を提供す
るものであつて、実質的に無水のジメチルホルム
アミド中、 式 〔式中、Rはカルボン酸保護基を表わす。〕 で表わされる7−アミノ−3−ヒドロキシ−3−
セフエムエステルを、このエステル1モルに対し
て約2モル乃至約6モルのクロロ化剤と反応させ
て、式 〔式中、Rは前記と同意義を有する。〕 で表わされる対応する7β−〔(ジメチルアミノメ
チレン)アミノ〕−3−クロロ−3−セフエム−
4−カルボン酸エステルを得ることを特徴として
いる。次いでこの3−クロロエステルを不活性溶
媒中で、このエステル1モルに対して約1モル乃
至約6モルのカルボン酸(但し、水溶液中のPH値
は約2乃至約5である。)と反応させると7β−ホ
ルムアミド−3−クロロ−3−セフエムエステル
と対応する3−クロロ−2−セフエムエステルと
の混合物が得られる。
3−クロロ核エステルに変換する全製法を提供す
るものであつて、実質的に無水のジメチルホルム
アミド中、 式 〔式中、Rはカルボン酸保護基を表わす。〕 で表わされる7−アミノ−3−ヒドロキシ−3−
セフエムエステルを、このエステル1モルに対し
て約2モル乃至約6モルのクロロ化剤と反応させ
て、式 〔式中、Rは前記と同意義を有する。〕 で表わされる対応する7β−〔(ジメチルアミノメ
チレン)アミノ〕−3−クロロ−3−セフエム−
4−カルボン酸エステルを得ることを特徴として
いる。次いでこの3−クロロエステルを不活性溶
媒中で、このエステル1モルに対して約1モル乃
至約6モルのカルボン酸(但し、水溶液中のPH値
は約2乃至約5である。)と反応させると7β−ホ
ルムアミド−3−クロロ−3−セフエムエステル
と対応する3−クロロ−2−セフエムエステルと
の混合物が得られる。
この製法の第1工程は約15℃乃至約60℃、好ま
しくは約20℃乃至30℃で実施される。
しくは約20℃乃至30℃で実施される。
反応に用いられるクロロ化剤は、三塩化リンが
好ましい。
好ましい。
本発明の製法は、3−ヒドロキシ核エステルの
DMF溶液にクロロ化剤を加えることにより実施
される。また、クロロ化剤はDMF溶液として加
えて良い。3−ヒドロキシ核エステルの反応は、
遊離アミンあるいはその塩(例えば、塩酸塩)の
形で実施される。必要であれば、塩をDMFに溶
解させるために水を2〜3滴加えても良い。
DMF溶液にクロロ化剤を加えることにより実施
される。また、クロロ化剤はDMF溶液として加
えて良い。3−ヒドロキシ核エステルの反応は、
遊離アミンあるいはその塩(例えば、塩酸塩)の
形で実施される。必要であれば、塩をDMFに溶
解させるために水を2〜3滴加えても良い。
この第1工程では、3−ヒドロキシ核エステル
の2ヶ所において反応が生じる。つまり、3−ヒ
ドロキシ基は塩素で置換され、7−アミノ基は
N,N−ジメチルアミジノ基に変換される。
の2ヶ所において反応が生じる。つまり、3−ヒ
ドロキシ基は塩素で置換され、7−アミノ基は
N,N−ジメチルアミジノ基に変換される。
本発明の第2工程は、7−アミジノ基を、加水
分解し得るN−ホルミル基に分解する工程であ
る。この分解は緩和な酸を用いて実施される。水
溶液中のPH値が約2乃至約5であるカルボン酸が
用いられる。このような酸の具体例としては、ギ
酸、酢酸、プロピオン酸、安息香酸およびメタク
ロロ安息香酸などの弱酸があげられる。
分解し得るN−ホルミル基に分解する工程であ
る。この分解は緩和な酸を用いて実施される。水
溶液中のPH値が約2乃至約5であるカルボン酸が
用いられる。このような酸の具体例としては、ギ
酸、酢酸、プロピオン酸、安息香酸およびメタク
ロロ安息香酸などの弱酸があげられる。
鉱酸(例えば塩酸)のような強酸およびスルホ
ン酸(例えば、ベンゼンスルホン酸、トルエンス
ルホン酸、およびパラクロロベンゼンスルホン
酸)は7β−アミジノ基と塩を形成し、7β−ホル
ムアミド誘導体への分解は起らない。
ン酸(例えば、ベンゼンスルホン酸、トルエンス
ルホン酸、およびパラクロロベンゼンスルホン
酸)は7β−アミジノ基と塩を形成し、7β−ホル
ムアミド誘導体への分解は起らない。
緩和な酸による7β−アミジノ置換3−クロロ
エステルの分解は、不活性有機溶媒中、約20℃乃
至約45℃で実施される。溶媒としては、アセト
ン、メチルエチルケトン、およびメチルイソブチ
ルケトンのようなケトン類、酢酸メチル、酢酸エ
チル、プロピオン酸メチルおよび酢酸n−ブチル
のようなエステル類、メチレンクロリド、ジクロ
ロエタンおよびトリクロロエタンのようなハロゲ
ン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニトリ
ル類、ならびにテトラヒドロフラン、テトラヒド
ロピラン、ジオキサン、およびエチレングリコー
ルジメチルエーテルのようなエーテル類が用いら
れる。
エステルの分解は、不活性有機溶媒中、約20℃乃
至約45℃で実施される。溶媒としては、アセト
ン、メチルエチルケトン、およびメチルイソブチ
ルケトンのようなケトン類、酢酸メチル、酢酸エ
チル、プロピオン酸メチルおよび酢酸n−ブチル
のようなエステル類、メチレンクロリド、ジクロ
ロエタンおよびトリクロロエタンのようなハロゲ
ン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニトリ
ル類、ならびにテトラヒドロフラン、テトラヒド
ロピラン、ジオキサン、およびエチレングリコー
ルジメチルエーテルのようなエーテル類が用いら
れる。
カルボン酸による分解が行なわれている間、3
−4位間のセフエム二重結合が2−3位間のセフ
エム二重結合へ相当程度異性化する。7β−ホル
ムアミド−3−クロロ−3−セフエムおよび2−
セフエムエステルの異性体混合物は以下のように
して回収される。まず、混液を蒸発乾固し、得ら
れた反応生成物を酢酸エチルおよび稀酸水溶液の
ような混合有機溶媒に溶解する。稀酸は、分解中
に形成されるジメチルアミンのような塩基性副生
成物を塩の形として抽出する。生成物の有機溶媒
溶液をPH6乃至6.9の酸で水洗し、乾燥して蒸発
に付すと、7β−ホルムアミド−3−クロロ−3
−セフエムエステルと対応する2−セフエムエス
テルとの混合物が得られる。
−4位間のセフエム二重結合が2−3位間のセフ
エム二重結合へ相当程度異性化する。7β−ホル
ムアミド−3−クロロ−3−セフエムおよび2−
セフエムエステルの異性体混合物は以下のように
して回収される。まず、混液を蒸発乾固し、得ら
れた反応生成物を酢酸エチルおよび稀酸水溶液の
ような混合有機溶媒に溶解する。稀酸は、分解中
に形成されるジメチルアミンのような塩基性副生
成物を塩の形として抽出する。生成物の有機溶媒
溶液をPH6乃至6.9の酸で水洗し、乾燥して蒸発
に付すと、7β−ホルムアミド−3−クロロ−3
−セフエムエステルと対応する2−セフエムエス
テルとの混合物が得られる。
この混合物を塩基性条件下で後処理するとさら
に異性化が進むために、2−セフエムエステル異
性体が殆んど一方的に得られる。例えば、反応混
液を蒸発乾固し、2−セフエムおよび3−セフエ
ムを共に含んでいる粗製の反応生成物を有機溶媒
に溶解し、5%炭酸ナトリウムのように稀塩基性
水溶液で洗浄すると、洗浄液から7β−ホルムア
ミド−3−クロロ−2−セフエムエステルだけが
得られる。それに対して、前記のように有機溶媒
を酸で洗浄すると異性体混合物が得られる。
に異性化が進むために、2−セフエムエステル異
性体が殆んど一方的に得られる。例えば、反応混
液を蒸発乾固し、2−セフエムおよび3−セフエ
ムを共に含んでいる粗製の反応生成物を有機溶媒
に溶解し、5%炭酸ナトリウムのように稀塩基性
水溶液で洗浄すると、洗浄液から7β−ホルムア
ミド−3−クロロ−2−セフエムエステルだけが
得られる。それに対して、前記のように有機溶媒
を酸で洗浄すると異性体混合物が得られる。
本発明の2段階工程を図示すると次のようにな
る。
る。
上記式中、Rはカルボキシ保護エステル基、即
ち、セフアロスポリンの4−カルボキシ基を保護
するために通常用いられるエステル形成基であ
る。このような基の具体例としては、p−メトキ
シベンジル、p−ニトロベンジルおよび2,4,
6−トリメチルベンジルのようなベンジルおよび
置換ベンジル、ジフエニルメチル、4−メトキシ
ジフエニルメチルおよび4,4′−ジメトキシジフ
エニルメチルのようなジアリールメチル、ならび
にt−ブチル、t−アミル、2−ヨードエチル、
2−ブロモエチルおよび2,2,2−トリクロロ
エチルのようなアルキルおよび置換アルキルがあ
げられる。このようなエステル形成基は官能性
(脱離できる)であつて、カルボキシ基の一時的
な保護に好都合である。この保護基はその後、公
知の加水分解法あるいは還元法によつて脱離さ
れ、遊離カルボン酸を与える。
ち、セフアロスポリンの4−カルボキシ基を保護
するために通常用いられるエステル形成基であ
る。このような基の具体例としては、p−メトキ
シベンジル、p−ニトロベンジルおよび2,4,
6−トリメチルベンジルのようなベンジルおよび
置換ベンジル、ジフエニルメチル、4−メトキシ
ジフエニルメチルおよび4,4′−ジメトキシジフ
エニルメチルのようなジアリールメチル、ならび
にt−ブチル、t−アミル、2−ヨードエチル、
2−ブロモエチルおよび2,2,2−トリクロロ
エチルのようなアルキルおよび置換アルキルがあ
げられる。このようなエステル形成基は官能性
(脱離できる)であつて、カルボキシ基の一時的
な保護に好都合である。この保護基はその後、公
知の加水分解法あるいは還元法によつて脱離さ
れ、遊離カルボン酸を与える。
本発明方法の出発物質として用いられる3−ヒ
ドロキシ−3−セフエムエステルについては、
1975年11月に出願された米国特許第3917587号に
詳述されている。
ドロキシ−3−セフエムエステルについては、
1975年11月に出願された米国特許第3917587号に
詳述されている。
すでに指摘したように、N−ホルミル−3−ク
ロロ生成物は、カルボン酸を用いた場合には2−
セフエムと3−カフエムとの異性体混合物として
得られ、また、塩基性条件下で回収した場合には
2−セフエム異性体として得られる。この異性体
混合物または2−セフエム異性体は公知異性化方
法により所望のN−ホルミル3−クロロ−3−セ
フエムエステルに変換され得る。この変換法に
は、3−クロロエステルのスルホキシドの形成お
よびスルフイド型への逆還元が含まれている。ス
ルホキシドを形成すると2−3位間の二重結合が
3−4位間に異性化される。この異性化を図示す
ると次のようになる。
ロロ生成物は、カルボン酸を用いた場合には2−
セフエムと3−カフエムとの異性体混合物として
得られ、また、塩基性条件下で回収した場合には
2−セフエム異性体として得られる。この異性体
混合物または2−セフエム異性体は公知異性化方
法により所望のN−ホルミル3−クロロ−3−セ
フエムエステルに変換され得る。この変換法に
は、3−クロロエステルのスルホキシドの形成お
よびスルフイド型への逆還元が含まれている。ス
ルホキシドを形成すると2−3位間の二重結合が
3−4位間に異性化される。この異性化を図示す
ると次のようになる。
スルホキシドを形成する反応は、アセトンある
いは塩化メチレンのような溶媒中で、過酢酸、過
安息香酸、好ましくはメタクロロ過安息香酸のよ
うな過酸を用いて実施される。反応混液を蒸発に
付し、生成物を酢酸エチルのような有機溶媒に再
溶解すると3−クロロ−3−セフエムエステルス
ルホキシドが容易に単離される。副生成物のメタ
クロロ安息香酸は塩基を用いて溶液から洗出し、
溶液を乾燥して蒸発に付した後、所望であればク
ロマトグラフイーによつて生成物をさらに精製し
得る。
いは塩化メチレンのような溶媒中で、過酢酸、過
安息香酸、好ましくはメタクロロ過安息香酸のよ
うな過酸を用いて実施される。反応混液を蒸発に
付し、生成物を酢酸エチルのような有機溶媒に再
溶解すると3−クロロ−3−セフエムエステルス
ルホキシドが容易に単離される。副生成物のメタ
クロロ安息香酸は塩基を用いて溶液から洗出し、
溶液を乾燥して蒸発に付した後、所望であればク
ロマトグラフイーによつて生成物をさらに精製し
得る。
N−ホルミル 3−クロロ−3−セフエムエス
テルの還元は公知のスルホキシド還元法、例え
ば、マーフイー等(Murphy et al.)によつて米
国特許第3641014号に、およびハツトフイールド
(Hatfield)によつて米国特許第4004002号に記載
の方法に従つて実施される。後者の方法は、目的
生成物の回収が容易であるため特に有用な還元法
である。
テルの還元は公知のスルホキシド還元法、例え
ば、マーフイー等(Murphy et al.)によつて米
国特許第3641014号に、およびハツトフイールド
(Hatfield)によつて米国特許第4004002号に記載
の方法に従つて実施される。後者の方法は、目的
生成物の回収が容易であるため特に有用な還元法
である。
7β−ホルムアミド−3−クロロ−3−セフエ
ム−4−カルボン酸エステルは、N−ホルミル基
の酸加水分解によつて所望の7−アミノ−3−ク
ロロ−3−セフエムエステルに変換される。この
加水分解は、メタノール、テトラヒドロフランあ
るいはこれらの混合溶媒中で、塩酸を用いて実施
される。例えば、N−ホルミル−3−クロロエス
テルをメタノールとテトラヒドロフランとの混合
溶媒に溶解し、この溶液を室温においてより少量
の濃塩酸で処理すると、7−アミノ−3−クロロ
核エステルが塩酸塩として得られる。
ム−4−カルボン酸エステルは、N−ホルミル基
の酸加水分解によつて所望の7−アミノ−3−ク
ロロ−3−セフエムエステルに変換される。この
加水分解は、メタノール、テトラヒドロフランあ
るいはこれらの混合溶媒中で、塩酸を用いて実施
される。例えば、N−ホルミル−3−クロロエス
テルをメタノールとテトラヒドロフランとの混合
溶媒に溶解し、この溶液を室温においてより少量
の濃塩酸で処理すると、7−アミノ−3−クロロ
核エステルが塩酸塩として得られる。
以下の実施例は本発明をさらに詳述するもので
ある。実施例中、下記の各略記号を使用した。
ある。実施例中、下記の各略記号を使用した。
DMF−ジメチルホルムアミド
THF−テトラヒドロフラン
s−一重線
d−二重線
q−四重線
m−多重線
融点は不正確である。
実施例 1
p−ニトロベンジル 7β−〔(ジメチルアミノ
メチレン)アミノ〕−3−クロロ−3−セフエ
ム−4−カルボキシレート p−ニトロベンジル 7−アミノ−3−ヒドロ
キシ−3−セフエム−4−カルボキシレート・塩
酸塩1.34g(3ミリモル)をDMF85mlに懸濁し、
水0.25mlを加えて溶液にした。この溶液に3塩化
リン2.7g(1.7ml、20ミリモル)を加えて室温で
3時間撹拌し、反応完了後、1N水酸化ナトリウ
ムでPH6.7に調整した酢酸水溶液に上記混液を分
散させた。酢酸エチル層を分離して数回水洗し、
硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に濃縮した。
濃縮液にジエチルエーテルを加え、沈澱した結晶
性の固体を取して乾燥し、約124℃乃至約128℃
で分解しながら溶融する生成物725mg(57%)を
得た。
メチレン)アミノ〕−3−クロロ−3−セフエ
ム−4−カルボキシレート p−ニトロベンジル 7−アミノ−3−ヒドロ
キシ−3−セフエム−4−カルボキシレート・塩
酸塩1.34g(3ミリモル)をDMF85mlに懸濁し、
水0.25mlを加えて溶液にした。この溶液に3塩化
リン2.7g(1.7ml、20ミリモル)を加えて室温で
3時間撹拌し、反応完了後、1N水酸化ナトリウ
ムでPH6.7に調整した酢酸水溶液に上記混液を分
散させた。酢酸エチル層を分離して数回水洗し、
硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に濃縮した。
濃縮液にジエチルエーテルを加え、沈澱した結晶
性の固体を取して乾燥し、約124℃乃至約128℃
で分解しながら溶融する生成物725mg(57%)を
得た。
生成物の物理恒数は次のとおりである。
UV(アセトニトリル):λnax260mμ(ε=18300)
NMR(CDCl3):τ 7.08(s、6H、N(CH3)2)、
6.34(ABq、2H、C2−H2)、5.0−4.5(m、4H、
C6−H、C7−H およびエステルメチレン)、
2.4−1.8(sおよびq、N−CH=Nおよび芳香
族H) 元素分析 C17H17N4O5SCl 計算値:C、48.06;H、4.03;N、13.19; Cl、8.34 実験値:C、48.32;H、3.91;N、12.96; Cl、8.53 実施例 2 p−ニトロベンジル 7β−ホルムアミド−3
−クロロ−3−および2−セフエム−4−カル
ボキシレート p−ニトロベンジル 7β−〔(ジメチルアミノ
メチレン)アミノ〕−3−クロロ−3−セフエム
−4−カルボキシレート212mg(0.5ミリモル)と
アセトン15mlから成る溶液にm−クロロ安息香酸
236mg(1.5ミリモル)を加えて室温で16時間撹拌
した。混液を減圧下に蒸発乾固し、生成物が含ま
れる残渣を5%塩酸と酢酸エチルとから成る混液
に溶解した。有機層を分離して水にスラリーし、
この間にPH値を6.8に調整した。有機層を分離し
て硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に蒸発乾固
し、残渣をジエチルエーテルで滴定すると生成物
が結晶化した。NMR(DMSO−d6およびDMSO
−d6−D2O)スペクトルによれば、この生成物は
p−ニトロベンジル 7β−ホルムアミド−3−
クロロ−3−セフエム−4−カルボキシレート約
30%とp−ニトロベンジル 7β−ホルムアミド
−3−クロロ−2−セフエム−4−カルボキシレ
ート約70%とから成る混合物であつた。
6.34(ABq、2H、C2−H2)、5.0−4.5(m、4H、
C6−H、C7−H およびエステルメチレン)、
2.4−1.8(sおよびq、N−CH=Nおよび芳香
族H) 元素分析 C17H17N4O5SCl 計算値:C、48.06;H、4.03;N、13.19; Cl、8.34 実験値:C、48.32;H、3.91;N、12.96; Cl、8.53 実施例 2 p−ニトロベンジル 7β−ホルムアミド−3
−クロロ−3−および2−セフエム−4−カル
ボキシレート p−ニトロベンジル 7β−〔(ジメチルアミノ
メチレン)アミノ〕−3−クロロ−3−セフエム
−4−カルボキシレート212mg(0.5ミリモル)と
アセトン15mlから成る溶液にm−クロロ安息香酸
236mg(1.5ミリモル)を加えて室温で16時間撹拌
した。混液を減圧下に蒸発乾固し、生成物が含ま
れる残渣を5%塩酸と酢酸エチルとから成る混液
に溶解した。有機層を分離して水にスラリーし、
この間にPH値を6.8に調整した。有機層を分離し
て硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に蒸発乾固
し、残渣をジエチルエーテルで滴定すると生成物
が結晶化した。NMR(DMSO−d6およびDMSO
−d6−D2O)スペクトルによれば、この生成物は
p−ニトロベンジル 7β−ホルムアミド−3−
クロロ−3−セフエム−4−カルボキシレート約
30%とp−ニトロベンジル 7β−ホルムアミド
−3−クロロ−2−セフエム−4−カルボキシレ
ート約70%とから成る混合物であつた。
実施例 3
p−ニトロベンジル 7β−ホルムアミド−3
−クロロ−2−セフエム−4−カルボキシレー
ト 実施例2に記載の方法に従つてp−ニトロベン
ジル 7β−〔(ジメチルアミノメチレン)アミノ〕
−3−クロロ−3−セフエム−4−カルボキシレ
ートをアセトン中でm−クロロ安息香酸と反応さ
せ、混液を蒸発乾固した。得られた残渣を酢酸エ
チルと5%炭酸ナトリウムから成る混液に溶解
し、有機層を分離して硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に蒸発乾固した。残渣をジエチルエー
テルで摩砕し、結晶化た生成物を取した。
−クロロ−2−セフエム−4−カルボキシレー
ト 実施例2に記載の方法に従つてp−ニトロベン
ジル 7β−〔(ジメチルアミノメチレン)アミノ〕
−3−クロロ−3−セフエム−4−カルボキシレ
ートをアセトン中でm−クロロ安息香酸と反応さ
せ、混液を蒸発乾固した。得られた残渣を酢酸エ
チルと5%炭酸ナトリウムから成る混液に溶解
し、有機層を分離して硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に蒸発乾固した。残渣をジエチルエー
テルで摩砕し、結晶化た生成物を取した。
NMRスペクトルによれば、この生成物は純粋
な2−セフエム異性体であつた。
な2−セフエム異性体であつた。
元素分析 C15H12N3O6SCl
計算値:C、45.29;H、3.04;N、10.56
実験値:C、45.26;H、3.15;N、10.68
実施例 4
p−ニトロベンジル 7−アミノ−3−クロロ
−3−セフエム−4−カルボキシレート・塩酸
塩 濃塩酸mlを含むメタノール9.6mlおよび無水
THF7mlから成る混合溶媒にp−ニトロベンジル
7β−ホルミル−3−クロロ−3−セフエム−4
−カルボキシレート500mg(1.13ミリモル)を溶
解して室温で2.5時間撹拌した。この間に結晶の
固体として沈澱した生成物を取して乾燥し下記
物理恒数を有する生成物350mg(68%)を得た。
−3−セフエム−4−カルボキシレート・塩酸
塩 濃塩酸mlを含むメタノール9.6mlおよび無水
THF7mlから成る混合溶媒にp−ニトロベンジル
7β−ホルミル−3−クロロ−3−セフエム−4
−カルボキシレート500mg(1.13ミリモル)を溶
解して室温で2.5時間撹拌した。この間に結晶の
固体として沈澱した生成物を取して乾燥し下記
物理恒数を有する生成物350mg(68%)を得た。
NMR(DMSO−d6)
τ5.95(s、2H、C2−H2)、4.85−4.50(m、4H、
C6−H、エステルCH2およびC7−H)、2.4−
1.7(q、4H、芳香族H) 元素分析 C14H13N3O5SCl2 計算値:C、41.39;H、3.23;N、10.34; Cl、17.45 実験値:C、14.14;H、3.13;N、10.07; Cl、17.46 実施例 5 p−ニトロベンジル 7β−〔(ジメチルアミノ
メチレン)アミノ〕−3−クロロ−3−セフエ
ム−4−カルボキシレート・塩酸塩 p−ニトロベンジル 7−アミノ−3−クロロ
−3−セフエム−4−カルボキシレート・塩酸塩
12.8g(31.5ミリモル)を無水DMF115mlに溶解
して撹拌し、三塩化リン10.4g(6.5ml、72ミリ
モル)を加えて室温でおよそ2日間撹拌し、5%
炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルとの混液
に分散させた。有機層を分離して1N塩酸で処理
し、析出した化合物を取して減圧乾燥し、標記
化合物11.3g(67%)を得た。
C6−H、エステルCH2およびC7−H)、2.4−
1.7(q、4H、芳香族H) 元素分析 C14H13N3O5SCl2 計算値:C、41.39;H、3.23;N、10.34; Cl、17.45 実験値:C、14.14;H、3.13;N、10.07; Cl、17.46 実施例 5 p−ニトロベンジル 7β−〔(ジメチルアミノ
メチレン)アミノ〕−3−クロロ−3−セフエ
ム−4−カルボキシレート・塩酸塩 p−ニトロベンジル 7−アミノ−3−クロロ
−3−セフエム−4−カルボキシレート・塩酸塩
12.8g(31.5ミリモル)を無水DMF115mlに溶解
して撹拌し、三塩化リン10.4g(6.5ml、72ミリ
モル)を加えて室温でおよそ2日間撹拌し、5%
炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルとの混液
に分散させた。有機層を分離して1N塩酸で処理
し、析出した化合物を取して減圧乾燥し、標記
化合物11.3g(67%)を得た。
実施例 6
実施例5に記載の方法に従つて製造したp−ニ
トロベンジル 7β−〔(ジメチルアミノメチレン)
アミノ〕−3−クロロ−3−セフエム−4−カル
ボキシレート・塩酸塩は以下の方法によつて遊離
塩基に変換した。
トロベンジル 7β−〔(ジメチルアミノメチレン)
アミノ〕−3−クロロ−3−セフエム−4−カル
ボキシレート・塩酸塩は以下の方法によつて遊離
塩基に変換した。
この塩酸塩6.3gをPH7の緩衝液と酢酸エチル
との混液に溶解して混液を撹拌し、有機層を分離
して水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下
に濃縮し、結晶化した遊離塩基3.2gを取した。
母液をさらに濃縮し、遊離塩基の二次晶1.7gを
回収した。
との混液に溶解して混液を撹拌し、有機層を分離
して水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下
に濃縮し、結晶化した遊離塩基3.2gを取した。
母液をさらに濃縮し、遊離塩基の二次晶1.7gを
回収した。
元素分析 C17H17N4O5SCl(遊離塩基)
計算値: C、48.06;H、4.03;N、13.19
実験値: C、48.36;H、4.26;N、12.99
実施例 7
7β−〔(ジメチルアミノメチレン)アミノ〕−3
−クロロ−3−セフエム−4−カルボン酸 標記化合物は、対応するp−ニトロベンジルエ
ステルを以下の方法に従つて脱エステル化して得
た。
−クロロ−3−セフエム−4−カルボン酸 標記化合物は、対応するp−ニトロベンジルエ
ステルを以下の方法に従つて脱エステル化して得
た。
p−ニトロベンジル 7β−〔(ジメチルアミノ
メチレン)アミノ〕−3−クロロ−3−セフエム
−4−カルボキシレート1.7g(14ミリモル)を
メタノール中、あらかじめ還元しておいた5%パ
ラジウム−炭素触媒1.7gの存在下に、室温で、
水素圧約60psiにおいて1時間水素化した。還元
終了後に触媒を去し、液を減圧下に蒸発乾固
した。残渣を酢酸エチル水溶液を溶解し、溶液の
PH値を7に調整した。水層を分離して酢酸エチル
に再スリラーし、、PH値を2.5に調整した。生成物
の酸が含まれる有機層を分離して水洗し、硫酸マ
グネシウムで乾燥して減圧下に蒸発乾固した。残
渣をイソプロパノールで摩砕し、下記物理恒数を
有する結晶性の遊離酸815mg(71%)を得た。
メチレン)アミノ〕−3−クロロ−3−セフエム
−4−カルボキシレート1.7g(14ミリモル)を
メタノール中、あらかじめ還元しておいた5%パ
ラジウム−炭素触媒1.7gの存在下に、室温で、
水素圧約60psiにおいて1時間水素化した。還元
終了後に触媒を去し、液を減圧下に蒸発乾固
した。残渣を酢酸エチル水溶液を溶解し、溶液の
PH値を7に調整した。水層を分離して酢酸エチル
に再スリラーし、、PH値を2.5に調整した。生成物
の酸が含まれる有機層を分離して水洗し、硫酸マ
グネシウムで乾燥して減圧下に蒸発乾固した。残
渣をイソプロパノールで摩砕し、下記物理恒数を
有する結晶性の遊離酸815mg(71%)を得た。
NMR(DMSO−d6)
τ6.90(d、6H、N(CH3)2)、6.06(ABq、2H、
C2−H2)、4.70(d、1H、36−H)、4.28(d、
1H、C7−H)、2.1(brs、COOH)、1.70(s、
1H、メチン−H) スペクトルは、微量のイソプロパノールの存在も
示した。
C2−H2)、4.70(d、1H、36−H)、4.28(d、
1H、C7−H)、2.1(brs、COOH)、1.70(s、
1H、メチン−H) スペクトルは、微量のイソプロパノールの存在も
示した。
電導滴定(66%DMFaq.)
pKa=4.2、7.7
滴定データから算出した分子量 328
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 で表わされる化合物の製造において、 (a) 式 で表わされる7−アミノ−3−ヒドロキシ−3
−セフエムエステルを、実質的に無水のジメチ
ルホルムアミド中、約15℃乃至約60℃において
三塩化リンと反応させ、 (b) (a)の反応から 式 で表わされる7β−ジメチルアミジノ−3−ク
ロロ−3−セフエムエステルを回収し、 (c) (b)の7β−アミジノ−3−クロロエステルを
不活性有機溶媒に溶かした溶液に、約20℃乃至
約45℃において、水溶液中のPH値が約2乃至約
5のカルボン酸を加えること を特徴とする製造方法 [但し、上記式中、Rはカルボン酸保護基を表
わし、セフアロスポリン核内の点線は2−3位
間または3−4位間の二重結合を表わす]。 2 7β−アミジノ−3−クロロエステルを、メ
タクロロ安息香酸、ギ酸および酢酸から選択した
酸で処理することを特徴とする特許請求の範囲第
1項に記載の製造方法。 3 酸がメタクロロ安息香酸である特許請求の範
囲第2項に記載の製造方法。 4 Rがp−ニトロベンジル、p−メトキシベン
ジルまたはジフエニルメチルである特許請求の範
囲第1項に記載の製造方法。 5 Rがp−ニトロベンジルである特許請求の範
囲第4項に記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/183,918 US4281117A (en) | 1980-09-04 | 1980-09-04 | Process for 3-chloro cephalosporin nucleus |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1229107A Division JPH02117680A (ja) | 1980-09-04 | 1989-09-04 | 3―クロロセファロスポリン骨格を有する化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5780388A JPS5780388A (en) | 1982-05-19 |
JPH0247473B2 true JPH0247473B2 (ja) | 1990-10-19 |
Family
ID=22674838
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56137674A Granted JPS5780388A (en) | 1980-09-04 | 1981-09-01 | Manufacture of 3-chlorocephalosporin nucleus |
JP1229107A Granted JPH02117680A (ja) | 1980-09-04 | 1989-09-04 | 3―クロロセファロスポリン骨格を有する化合物 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1229107A Granted JPH02117680A (ja) | 1980-09-04 | 1989-09-04 | 3―クロロセファロスポリン骨格を有する化合物 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4281117A (ja) |
JP (2) | JPS5780388A (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2107307B (en) * | 1981-07-25 | 1986-02-26 | Beecham Group Plc | B-lactum antibacterial agents |
GB2183649B (en) * | 1983-08-01 | 1987-12-16 | Fujisawa Pharmaceutical Co | New cephem compounds and processes for preparation thereof |
FR2550200B1 (fr) * | 1983-08-01 | 1988-04-08 | Fujisawa Pharmaceutical Co | Procede de preparation de composes de cephem a activite antimicrobienne et nouveaux produits ainsi obtenus |
US5604222A (en) * | 1993-12-27 | 1997-02-18 | Lupin Laboratories, Ltd. | Method for the preparation of 2-chloro sulfinyl azetidinones |
US5578721A (en) * | 1994-07-11 | 1996-11-26 | Lupin Laboratories Limited | Process for preparation of 3-exomethylene cepham sulfoxide esters |
JP4837421B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2011-12-14 | 株式会社岡村製作所 | 配線接続装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4064343A (en) * | 1974-04-01 | 1977-12-20 | Eli Lilly And Company | 3-Halo cephalosporins |
IE45158B1 (en) * | 1976-08-16 | 1982-06-30 | Lilly Co Eli | 3-chloro-cephem synthesis |
US4226986A (en) * | 1979-02-01 | 1980-10-07 | Eli Lilly And Company | Process for halogenation of β-lactam compounds |
US4223133A (en) * | 1979-02-01 | 1980-09-16 | Eli Lilly And Company | Cephalosporin reduction process |
-
1980
- 1980-09-04 US US06/183,918 patent/US4281117A/en not_active Expired - Lifetime
-
1981
- 1981-09-01 JP JP56137674A patent/JPS5780388A/ja active Granted
-
1989
- 1989-09-04 JP JP1229107A patent/JPH02117680A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4281117A (en) | 1981-07-28 |
JPH02117680A (ja) | 1990-05-02 |
JPH0248560B2 (ja) | 1990-10-25 |
JPS5780388A (en) | 1982-05-19 |
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