JP2003528105A - 新規チアゾール化合物を用いたセファロスポリン系抗生物質の製造方法 - Google Patents
新規チアゾール化合物を用いたセファロスポリン系抗生物質の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、セフタジジム、セフィクシムなどを始めとするセファロスポリン系抗生物質の新規で簡便な製造方法に関する。
【解決手段】 本発明は、下記構造式（ＩＩ）で示される新規結晶性アミノチアゾール誘導体を使用して下記構造式（ＩＩＩ）で示される７−アミノセファロスポリン酸誘導体を溶媒中でアシル化反応をさせて構造式（Ｉ）で示されるセファロスポリン系抗生物質を製造する方法を提供する。
【化１】
式中、Ｒ１およびＲ２は同一でも異なってもよく、各々独立して、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基、Ｃ３〜Ｃ５のシクロアルキル基などを表し、Ｒ４はアセトキシメチル、ピリジニウムメチル、ビニルを表し、Ｘは塩素またはブロムを表す。酸付加塩の酸は、無機酸（塩酸、ブロム酸、硫酸、過塩素酸など）または有機酸（ホルム酸、酢酸、三フッ化酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸など）を表す。
Description
【０００１】
本発明は、セフタジジム、セフィクシムなどを始めとするセファロスポリン系
抗生物質の新規で簡便な製造方法に関し、下記一般式（ＩＩ）で表される新規の
結晶性アミノチアゾール誘導体を使用して下記一般式（ＩＩＩ）で表される７−
アミノセファロスポリン酸誘導体を溶媒中でアシル化反応させて一般式（Ｉ）で
表されるセファロスポリン系抗生物質を製造する方法に関する。
抗生物質の新規で簡便な製造方法に関し、下記一般式（ＩＩ）で表される新規の
結晶性アミノチアゾール誘導体を使用して下記一般式（ＩＩＩ）で表される７−
アミノセファロスポリン酸誘導体を溶媒中でアシル化反応させて一般式（Ｉ）で
表されるセファロスポリン系抗生物質を製造する方法に関する。
【０００２】
【化２】
【０００３】
式中、Ｒ１およびＲ２は、同一でも異なってもいてもよく、各々独立して、Ｈ
、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基、Ｃ３〜Ｃ５のシクロアルキル基などを表し、Ｒ４は
アセトキシメチル、ピリジニウムメチル、ビニルを表し、Ｘは塩素またはブロム
を表す。酸付加塩の酸は、無機酸（塩酸、ブロム酸、硫酸、過塩素酸など）また
は有機酸（ホルム酸、酢酸、三フッ化酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸、
ベンゼンスルホン酸など）を表す。
、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基、Ｃ３〜Ｃ５のシクロアルキル基などを表し、Ｒ４は
アセトキシメチル、ピリジニウムメチル、ビニルを表し、Ｘは塩素またはブロム
を表す。酸付加塩の酸は、無機酸（塩酸、ブロム酸、硫酸、過塩素酸など）また
は有機酸（ホルム酸、酢酸、三フッ化酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸、
ベンゼンスルホン酸など）を表す。
【０００４】
セフタジジム、セフィクシムを始めとする前記一般式（ＩＩ）を含むセファロ
スポリン系抗生物質の製造方法に対する先行技術は、各種文献や特許文献により
公知されているが、例えば、米国特許第４２５８０４１号、オーストリア特許公
告第８６−２４２７、８６−２４２８、 Ｊ. of Antibiotics、１９８５年３８
巻１７３８頁、韓国特許公告第８４−１８２７号、同第８４−１９８７〜９０号
、同第８７−１８０７号、同第９３−７８１０号などにその製造方法が開示され
ている。
スポリン系抗生物質の製造方法に対する先行技術は、各種文献や特許文献により
公知されているが、例えば、米国特許第４２５８０４１号、オーストリア特許公
告第８６−２４２７、８６−２４２８、 Ｊ. of Antibiotics、１９８５年３８
巻１７３８頁、韓国特許公告第８４−１８２７号、同第８４−１９８７〜９０号
、同第８７−１８０７号、同第９３−７８１０号などにその製造方法が開示され
ている。
【０００５】
前記先行技術では、下記一般式（Ｉ−１）で表される３−セフェム化合物のア
ミノ基とアシル化反応をさせる際に、下記一般式（Ｉ−２）で表される２−アミ
ノチアゾールカルボキシル酸化合物またはカルボキシル基の反応性誘導体または
その塩を使用して前記一般式（Ｉ）のセファロスポリン誘導体を製造している。
ミノ基とアシル化反応をさせる際に、下記一般式（Ｉ−２）で表される２−アミ
ノチアゾールカルボキシル酸化合物またはカルボキシル基の反応性誘導体または
その塩を使用して前記一般式（Ｉ）のセファロスポリン誘導体を製造している。
【０００６】
【化３】
【０００７】
【化４】
【０００８】
式中、Ｒ１、Ｒ２は前述の定義と同じ意味を表し、Ｒ４も前述の定義と同じ意
味を表し、Ｒ３はカルボキシ保護基であり、Ｒａは水素またはアミノ保護基であ
り、Ｒｂは水素またはジフェニルメチル、ｐ−ニトロベンゼンを含むカルボキシ
保護基である。
味を表し、Ｒ３はカルボキシ保護基であり、Ｒａは水素またはアミノ保護基であ
り、Ｒｂは水素またはジフェニルメチル、ｐ−ニトロベンゼンを含むカルボキシ
保護基である。
【０００９】
前記一般式（Ｉ−１）の７−アミノセファロスポリン酸誘導体を一般式（Ｉ−
２）のアミノチアゾール誘導体とアシル化反応させるとき、有機酸（Ｉ−２）の
酸塩化物を利用する方法は、米国特許第４２５８０４１号、韓国特許公告第８４
−１８２７号などに報告されており、これらの方法によれば、通常、有機酸（Ｉ
−２）のアミノ基を保護させた後、塩化チオニル、オキシクロリド燐（Phosphor
us Oxychloride）、五塩化燐などを使用して有機酸（Ｉ−２）の酸塩化物を製造
し、７−アミノセファロスポリン酸誘導体と反応させた後、再び保護基を除去し
ている。しかし、これらの方法は、反応条件が厳しく、アミノ基の保護工程およ
びアミノ基の保護基の除去工程がさらに求められるとともに、酸塩化物が不安定
なため酸塩化物に活性化されたアミノチアゾール化合物を分離過程なしにそのま
まアシル化反応させることから、反応中に副産物が多く生成される欠点があった
。
２）のアミノチアゾール誘導体とアシル化反応させるとき、有機酸（Ｉ−２）の
酸塩化物を利用する方法は、米国特許第４２５８０４１号、韓国特許公告第８４
−１８２７号などに報告されており、これらの方法によれば、通常、有機酸（Ｉ
−２）のアミノ基を保護させた後、塩化チオニル、オキシクロリド燐（Phosphor
us Oxychloride）、五塩化燐などを使用して有機酸（Ｉ−２）の酸塩化物を製造
し、７−アミノセファロスポリン酸誘導体と反応させた後、再び保護基を除去し
ている。しかし、これらの方法は、反応条件が厳しく、アミノ基の保護工程およ
びアミノ基の保護基の除去工程がさらに求められるとともに、酸塩化物が不安定
なため酸塩化物に活性化されたアミノチアゾール化合物を分離過程なしにそのま
まアシル化反応させることから、反応中に副産物が多く生成される欠点があった
。
【００１０】
有機酸（Ｉ−２）の反応性エステルを製造してアシル化反応をさせる方法は、
オーストリア特許第８６−２４２７号、同第８６−２４２８号、ＷＯ第９８−３
１６８５号などに報告されており、このようなエステル形態に活性化させてアシ
ル化反応を行う場合には、アミノチアゾールのアミノ基を保護基なしに７−アミ
ノセファロスポリン誘導体と反応させることができるが、これもまた、アシル化
反応の後に既に保護されたアミノチアゾール化合物のカルボキシ保護基を除去さ
せる過程を経て最終の目的化合物を作らなければならない。
オーストリア特許第８６−２４２７号、同第８６−２４２８号、ＷＯ第９８−３
１６８５号などに報告されており、このようなエステル形態に活性化させてアシ
ル化反応を行う場合には、アミノチアゾールのアミノ基を保護基なしに７−アミ
ノセファロスポリン誘導体と反応させることができるが、これもまた、アシル化
反応の後に既に保護されたアミノチアゾール化合物のカルボキシ保護基を除去さ
せる過程を経て最終の目的化合物を作らなければならない。
【００１１】
その他にも、反応性アミドおよび混合酸無水物による方法もあるが、前述の方
法と同様の問題点を抱えている。
法と同様の問題点を抱えている。
【００１２】
このような既存の反応性誘導体を使用してアシル化反応をさせるときには、ま
ず、一般式（Ｉ−２）化合物のアミノ基とカルボキシル基をＲａ、Ｒ３で保護し
酸塩化物として調製しなければならず、反応性エステルの場合もアミノ基の保護
がなくてもＲ３でカルボキシ基を保護させた状態で活性エステルを製造しなけれ
ばならないため、両者の方法ともアシル化反応の後に再び保護基を除去しなけれ
ばならない不便さがあった。
ず、一般式（Ｉ−２）化合物のアミノ基とカルボキシル基をＲａ、Ｒ３で保護し
酸塩化物として調製しなければならず、反応性エステルの場合もアミノ基の保護
がなくてもＲ３でカルボキシ基を保護させた状態で活性エステルを製造しなけれ
ばならないため、両者の方法ともアシル化反応の後に再び保護基を除去しなけれ
ばならない不便さがあった。
【００１３】
そこで、本発明者らは、反応図式に示すように、下記一般式（ＩＩ）で示され
るアミノチアゾール化合物と下記一般式（ＩＩＩ）で示される７−アミノセファ
ロスポリン酸誘導体を溶媒中でアシル化反応をさせて、アシル化反応後保護基の
除去過程なしに直接所望の目的化合物を簡便で高収率に製造することができるよ
う、本発明を完成するに至った。
るアミノチアゾール化合物と下記一般式（ＩＩＩ）で示される７−アミノセファ
ロスポリン酸誘導体を溶媒中でアシル化反応をさせて、アシル化反応後保護基の
除去過程なしに直接所望の目的化合物を簡便で高収率に製造することができるよ
う、本発明を完成するに至った。
【００１４】
【化５】
【００１５】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４およびＸ、酸付加塩は、前述の定義と同じ意味を表す
。
。
【００１６】
したがって、本発明は、セフタジジム、セフィクシムなどの製造に有用に使用
され得る一般式（ＩＩ）で表される新規アミノチアゾール化合物を用いたセファ
ロスポリン系抗生物質の製造方法を提供することにその目的がある。
され得る一般式（ＩＩ）で表される新規アミノチアゾール化合物を用いたセファ
ロスポリン系抗生物質の製造方法を提供することにその目的がある。
【００１７】
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
【００１８】
本発明で出発物質として使用された前記一般式（ＩＩ）で表されるアミノチア
ゾール化合物は、新規物質であって結晶性酸塩化物形態の反応性誘導体なので、
一般の酸塩化物に比べてさらに安定な形態を持つのみならず、低温および常温で
長期間の保管が可能であり、７−アミノセファロスポリン誘導体とのアシル化反
応時にも副産物も殆どなく、反応時間も短く、また、アシル化反応後に各種保護
基の除去が不要なことから直ちに目的化合物が得られるため、より経済的で簡便
なアシル化反応を提供することができる。
ゾール化合物は、新規物質であって結晶性酸塩化物形態の反応性誘導体なので、
一般の酸塩化物に比べてさらに安定な形態を持つのみならず、低温および常温で
長期間の保管が可能であり、７−アミノセファロスポリン誘導体とのアシル化反
応時にも副産物も殆どなく、反応時間も短く、また、アシル化反応後に各種保護
基の除去が不要なことから直ちに目的化合物が得られるため、より経済的で簡便
なアシル化反応を提供することができる。
【００１９】
前記一般式（ＩＩ）の新規アミノチアゾール誘導体は、「新規チアゾール化合
物およびその製造方法」という発明の名称で本出願前に出願された（株）韓米精
密化学の特許明細書にその製造方法が詳細に記述されており、前記一般式（ＩＩ
Ｉ）の誘導体中、本出願書に言及される３−ビニル−７−アミノセファロスポリ
ン酸および３−ピリジニウムメチル−７−アミノセファロスポリン酸は、公知の
化合物であって公知の文献、例えば、米国特許第４，４２３，２１３号または韓
国特許第１２７１１３号、英国特許第２，０５２，４９０号に詳細に記述されて
いる。
物およびその製造方法」という発明の名称で本出願前に出願された（株）韓米精
密化学の特許明細書にその製造方法が詳細に記述されており、前記一般式（ＩＩ
Ｉ）の誘導体中、本出願書に言及される３−ビニル−７−アミノセファロスポリ
ン酸および３−ピリジニウムメチル−７−アミノセファロスポリン酸は、公知の
化合物であって公知の文献、例えば、米国特許第４，４２３，２１３号または韓
国特許第１２７１１３号、英国特許第２，０５２，４９０号に詳細に記述されて
いる。
【００２０】
本発明によってアシル化反応をさせる際に、前記一般式（ＩＩ）の化合物の使
用量は、前記一般式（ＩＩＩ）の化合物に対して１．０〜２．０当量を使用する
ことができるが、１．２〜１．４当量範囲内で使用するのが好ましい。反応溶媒
としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、アセトニトリル、
テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、メタノール、エタノールを単独またはこれらを組み合わせて使用するこ
とができるが、７−アミノセファロスポリン誘導体の種類によってＮ，Ｏ−ビス
トリメチルシリルアセトアミド、トリメチルクロロシラン、トリメチルヨードシ
ランなどのようなシリル化剤を溶解補助剤として使用することができる。
用量は、前記一般式（ＩＩＩ）の化合物に対して１．０〜２．０当量を使用する
ことができるが、１．２〜１．４当量範囲内で使用するのが好ましい。反応溶媒
としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、アセトニトリル、
テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、メタノール、エタノールを単独またはこれらを組み合わせて使用するこ
とができるが、７−アミノセファロスポリン誘導体の種類によってＮ，Ｏ−ビス
トリメチルシリルアセトアミド、トリメチルクロロシラン、トリメチルヨードシ
ランなどのようなシリル化剤を溶解補助剤として使用することができる。
【００２１】
反応溶媒の使用量は前記一般式（ＩＩ）の化合物１ｇに対して５ｍＬ〜３０ｍ
Ｌ、好ましくは１０ｍＬ〜１５ｍＬであり、反応温度は−１０℃〜３０℃範囲が
適当である。
Ｌ、好ましくは１０ｍＬ〜１５ｍＬであり、反応温度は−１０℃〜３０℃範囲が
適当である。
【００２２】
本発明では、塩基を使用せずに反応を行わせるか、７−アミノセファロスポリ
ン誘導体の種類によって有機塩基および無機塩基を使用することもできる。この
ときに使用される塩基は１．０〜３．０当量であり、有機塩基には、トリエチル
アミン、トリ−（ｎ−ブチル）アミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン
、ジシクロヘキシルアミンなどが使用され、アシル化反応を塩基性水溶液と有機
溶媒の混合溶液で行う場合には塩基性水溶液として炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムの水溶液を使用するのが好まし
い。
ン誘導体の種類によって有機塩基および無機塩基を使用することもできる。この
ときに使用される塩基は１．０〜３．０当量であり、有機塩基には、トリエチル
アミン、トリ−（ｎ−ブチル）アミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン
、ジシクロヘキシルアミンなどが使用され、アシル化反応を塩基性水溶液と有機
溶媒の混合溶液で行う場合には塩基性水溶液として炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムの水溶液を使用するのが好まし
い。
【００２３】
この反応で水と有機溶媒の使用量は、前記一般式（ＩＩ）の化合物に対して１
０倍〜２０倍程度が適当であり、水と有機溶媒の比率は１：４〜１：１０にする
。
０倍〜２０倍程度が適当であり、水と有機溶媒の比率は１：４〜１：１０にする
。
【００２４】
本発明によるセファロスポリン誘導体の製造方法は、前述の如く、前記一般式
（ＩＩ）の新規チアゾール化合物を反応性有機酸誘導体として使用して前記一般
式（ＩＩＩ）の化合物と反応させて前記一般式（Ｉ）のセファロスポリン誘導体
を製造することに主な特徴がある製造方法であって、既存の方法とは異なって各
種保護基の除去が不要であり、生産工程が短縮されるだけでなく、前記反応性有
機酸誘導体は安定した結晶型形態の酸塩化物なので、前記一般式（ＩＩＩ）の化
合物とアシル化反応時に定量的に反応を綺麗に完結することができ、副反応物質
の生成が殆どなく、酸塩化物の形態に保管も可能なため使用し易い。したがって
、７−位置に前記一般式（ＩＩ）を持つセファロスポリン誘導体製造にさらに経
済的で新規なアシル化方法を提供する。
（ＩＩ）の新規チアゾール化合物を反応性有機酸誘導体として使用して前記一般
式（ＩＩＩ）の化合物と反応させて前記一般式（Ｉ）のセファロスポリン誘導体
を製造することに主な特徴がある製造方法であって、既存の方法とは異なって各
種保護基の除去が不要であり、生産工程が短縮されるだけでなく、前記反応性有
機酸誘導体は安定した結晶型形態の酸塩化物なので、前記一般式（ＩＩＩ）の化
合物とアシル化反応時に定量的に反応を綺麗に完結することができ、副反応物質
の生成が殆どなく、酸塩化物の形態に保管も可能なため使用し易い。したがって
、７−位置に前記一般式（ＩＩ）を持つセファロスポリン誘導体製造にさらに経
済的で新規なアシル化方法を提供する。
【００２５】
下記の実施例は本発明の方法をさらに詳細に説明するものであって、これらの
実施例が本発明を制限するものではない。
実施例が本発明を制限するものではない。
【００２６】
【実施例】実施例１： ７−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−（２ −カルボキシプロプ−２−オキシイミノ）アセトアミド−３−（１−ピリジニウ ムメチル）−セフ−３−エム−４−カルボキシレート・二塩酸塩（セフタジジム ２塩酸塩）の製造
アセトニトリル１００ｍＬを０〜５℃に冷却し、７−アミノ−３−（１−ピリ
ジニウムメチル）−セフ−３−エム−４−カルボキシレートジヒドロクロリド１
０ｇを加え、ビストリメチルシリルアセトアミド５ｍＬを３０分間にわたって徐
々に滴加する。前記溶液に（Ｚ）−（２−カルボキシプロプ−２−オキシイミノ
）−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−アセチルクロリド・一塩酸塩９
．４ｇを加えて３０分間攪拌した後、３５％濃塩酸２０ｍＬを加える。次いで、
ジエチルエーテル５０ｍＬを前記溶液に加え１０分間攪拌した後、水層を分離し
て取る。水層にアセトン１００ｍＬを加えて常温で５〜６時間攪拌した後、析出
された結晶をろ過する。イソプロピルアルコール５０ｍＬ、アセトン２０ｍＬを
順次に洗浄し乾燥した結果、白色の目的化合物１２．４ｇ（収率：８４％）が得
られた。１ ＮＭＲ：（ｄ、ＤＭＳＯ−ｄ６）；９．６（ｄ、１Ｈ、−ＣＯＮＨ−）、９．
０（ｄ、２Ｈ、pyridinium proton）、８．６（ｔ、２Ｈ、pyridinium proton）
、８．２（ｔ、２Ｈ、pyridinium proton）、６．８（ｓ、１Ｈ、aminothiazol
proton）、５．９（ｄｄ、１Ｈ、Ｃ７−Ｈ）、５．６（ＡＢｑ、２Ｈ、−ＣＨ２ −）、５．２（ｄ、１Ｈ、Ｃ６−Ｈ）、３．５（ＡＢｑ、２Ｈ、Ｃ２−Ｈ）、１
．４（ｓ、６Ｈ、−Ｃ（ＣＨ３）２）
ジニウムメチル）−セフ−３−エム−４−カルボキシレートジヒドロクロリド１
０ｇを加え、ビストリメチルシリルアセトアミド５ｍＬを３０分間にわたって徐
々に滴加する。前記溶液に（Ｚ）−（２−カルボキシプロプ−２−オキシイミノ
）−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−アセチルクロリド・一塩酸塩９
．４ｇを加えて３０分間攪拌した後、３５％濃塩酸２０ｍＬを加える。次いで、
ジエチルエーテル５０ｍＬを前記溶液に加え１０分間攪拌した後、水層を分離し
て取る。水層にアセトン１００ｍＬを加えて常温で５〜６時間攪拌した後、析出
された結晶をろ過する。イソプロピルアルコール５０ｍＬ、アセトン２０ｍＬを
順次に洗浄し乾燥した結果、白色の目的化合物１２．４ｇ（収率：８４％）が得
られた。１ ＮＭＲ：（ｄ、ＤＭＳＯ−ｄ６）；９．６（ｄ、１Ｈ、−ＣＯＮＨ−）、９．
０（ｄ、２Ｈ、pyridinium proton）、８．６（ｔ、２Ｈ、pyridinium proton）
、８．２（ｔ、２Ｈ、pyridinium proton）、６．８（ｓ、１Ｈ、aminothiazol
proton）、５．９（ｄｄ、１Ｈ、Ｃ７−Ｈ）、５．６（ＡＢｑ、２Ｈ、−ＣＨ２ −）、５．２（ｄ、１Ｈ、Ｃ６−Ｈ）、３．５（ＡＢｑ、２Ｈ、Ｃ２−Ｈ）、１
．４（ｓ、６Ｈ、−Ｃ（ＣＨ３）２）
【００２７】実施例２： ７−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−（２ −カルボキシプロプ−２−オキシイミノ）アセトアミド−３−（１−ピリジニウ ムメチル）−セフ−３−エム−４−カルボキシレート・五水和物（セフタジジム 五水和物）の製造
ジクロロメタン１００ｍＬに７−アミノ−３−（１−ピリジニウムメチル）−
セフ−３−エム−４−カルボキシレートヒドロヨーダイド１０ｇを加え、トリエ
チルアミン４ｍＬを０〜１０℃の温度範囲で滴加して完全に溶解させた。ここに
、（Ｚ）−（２−カルボキシプロプ−２−オキシイミノ）−２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−アセチルクロリド・一塩酸塩９．４ｇを３０分間３〜４
回に分けて加え、３０分間０〜１０℃の温度で攪拌する。反応液に水５０ｍＬを
加えて層分離し、水層を取って活性炭2gを加え30分間再度攪拌する。珪藻土を用
いてろ過して活性炭を除去し、水層に２Ｎ−塩酸溶液でＰＨ３．８に調節した後
、５℃で１２時間放置する。生成された結晶をろ過し、氷水とアセトンで順次に
洗浄し乾燥した結果、白色の目的化合物１１．８ｇ（収率：８０％）が得られた
。１ ＮＭＲ：（ｄ、ＤＭＳＯ−ｄ６）；９．５（ｄ、１Ｈ、−ＣＯＮＨ−）、９．
４（ｄ、２Ｈ、pyridinium proton）、８．６（ｔ、２Ｈ、pyridinium proton）
、８．２（ｔ、２Ｈ、pyridinium proton）、７．３（ｓ、２Ｈ、−ＮＨ２）、
６．７（ｓ、１Ｈ、aminothiazol proton）、５．７（ｄｄ、１Ｈ、Ｃ７−Ｈ）
、５．５（ＡＢｑ、２Ｈ、−ＣＨ２−）、５．１（ｄ、１Ｈ、Ｃ６−Ｈ）、３．
３（ＡＢｑ、２Ｈ、Ｃ２−Ｈ）、１．４（ｓ、６Ｈ、−Ｃ（ＣＨ３）２）
セフ−３−エム−４−カルボキシレートヒドロヨーダイド１０ｇを加え、トリエ
チルアミン４ｍＬを０〜１０℃の温度範囲で滴加して完全に溶解させた。ここに
、（Ｚ）−（２−カルボキシプロプ−２−オキシイミノ）−２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−アセチルクロリド・一塩酸塩９．４ｇを３０分間３〜４
回に分けて加え、３０分間０〜１０℃の温度で攪拌する。反応液に水５０ｍＬを
加えて層分離し、水層を取って活性炭2gを加え30分間再度攪拌する。珪藻土を用
いてろ過して活性炭を除去し、水層に２Ｎ−塩酸溶液でＰＨ３．８に調節した後
、５℃で１２時間放置する。生成された結晶をろ過し、氷水とアセトンで順次に
洗浄し乾燥した結果、白色の目的化合物１１．８ｇ（収率：８０％）が得られた
。１ ＮＭＲ：（ｄ、ＤＭＳＯ−ｄ６）；９．５（ｄ、１Ｈ、−ＣＯＮＨ−）、９．
４（ｄ、２Ｈ、pyridinium proton）、８．６（ｔ、２Ｈ、pyridinium proton）
、８．２（ｔ、２Ｈ、pyridinium proton）、７．３（ｓ、２Ｈ、−ＮＨ２）、
６．７（ｓ、１Ｈ、aminothiazol proton）、５．７（ｄｄ、１Ｈ、Ｃ７−Ｈ）
、５．５（ＡＢｑ、２Ｈ、−ＣＨ２−）、５．１（ｄ、１Ｈ、Ｃ６−Ｈ）、３．
３（ＡＢｑ、２Ｈ、Ｃ２−Ｈ）、１．４（ｓ、６Ｈ、−Ｃ（ＣＨ３）２）
【００２８】実施例３： ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−（ カルボキシメトキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−３−セフェム−４− カルボキシル酸三水和物（一般名：セフィクシム）の製造
ジクロロメタン１００ｍｌに７−アミノ−３−ビニル−３−セフェム−４−カ
ルボキシル酸１０ｇを懸濁させる。ここに、ビストリメチルシリルアセトアミド
１０ｍｌを滴加して完全に溶解させる。反応温度２０〜３０℃で（Ｚ）−２−（
２−カルボキシメトキシイミノ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）ア
セチルクロリド一塩酸塩１４ｇを少量ずつ加えて１時間攪拌する。飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液５０ｍＬ、イソプロピルエーテル１００ｍＬを順次に加えて１
０分間攪拌した後分離して水層を取る。６Ｎ−塩酸溶液を利用してＰＨ２．０〜
２．５に調節し、０〜５℃に１時間冷却した後、析出された結晶をろ過する。冷
水１５０ｍＬおよびアセトン２００ｍＬで順次に洗浄し乾燥した結果、微黄色の
目的化合物１９．５ｇ（収率：８７％）が得られた。 融点（℃）：２００〜２３０（分解）１ ＮＭＲ：（ｄ、Ｄ２Ｏ−ＮａＨＣＯ３）；３．７（ｓ、２Ｈ）、４．８〜５．
８（ｍ、５Ｈ）、６．９（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝１２Ｈｚ、１８Ｈｚ）
ルボキシル酸１０ｇを懸濁させる。ここに、ビストリメチルシリルアセトアミド
１０ｍｌを滴加して完全に溶解させる。反応温度２０〜３０℃で（Ｚ）−２−（
２−カルボキシメトキシイミノ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）ア
セチルクロリド一塩酸塩１４ｇを少量ずつ加えて１時間攪拌する。飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液５０ｍＬ、イソプロピルエーテル１００ｍＬを順次に加えて１
０分間攪拌した後分離して水層を取る。６Ｎ−塩酸溶液を利用してＰＨ２．０〜
２．５に調節し、０〜５℃に１時間冷却した後、析出された結晶をろ過する。冷
水１５０ｍＬおよびアセトン２００ｍＬで順次に洗浄し乾燥した結果、微黄色の
目的化合物１９．５ｇ（収率：８７％）が得られた。 融点（℃）：２００〜２３０（分解）１ ＮＭＲ：（ｄ、Ｄ２Ｏ−ＮａＨＣＯ３）；３．７（ｓ、２Ｈ）、４．８〜５．
８（ｍ、５Ｈ）、６．９（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝１２Ｈｚ、１８Ｈｚ）
【００２９】
以上の説明および実施例からわかるように、本発明によるセファロスポリン誘
導体の製造方法は、前述の如く、前記一般式（ＩＩ）の新規チアゾール化合物を
反応性有機酸誘導体として使用して前記一般式（ＩＩＩ）の化合物と反応させて
前記一般式（Ｉ）のセファロスポリン誘導体を製造することを主に特徴とする製
造方法であって、既存の方法とは異なり各種保護基の除去が不要で、生産工程が
短縮されるだけでなく、前記反応性有機酸誘導体は安定した結晶型形態の酸塩化
物なので前記一般式（ＩＩＩ）の化合物とアシル化反応時に定量的に反応を完結
させることができ、副反応物質の生成が殆どなく、酸塩化物形態にも保管可能な
ので使用し易い。したがって、７位置に前記一般式（ＩＩ）を持つセファロスポ
リン誘導体の製造により経済的で新規なアシル化方法を提供する効果がある。
導体の製造方法は、前述の如く、前記一般式（ＩＩ）の新規チアゾール化合物を
反応性有機酸誘導体として使用して前記一般式（ＩＩＩ）の化合物と反応させて
前記一般式（Ｉ）のセファロスポリン誘導体を製造することを主に特徴とする製
造方法であって、既存の方法とは異なり各種保護基の除去が不要で、生産工程が
短縮されるだけでなく、前記反応性有機酸誘導体は安定した結晶型形態の酸塩化
物なので前記一般式（ＩＩＩ）の化合物とアシル化反応時に定量的に反応を完結
させることができ、副反応物質の生成が殆どなく、酸塩化物形態にも保管可能な
ので使用し易い。したがって、７位置に前記一般式（ＩＩ）を持つセファロスポ
リン誘導体の製造により経済的で新規なアシル化方法を提供する効果がある。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１４年８月１９日（２００２．８．１９）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【化１】
式中、 Ｒ１、Ｒ２は同一でも異なってもいてもよく、各々独立して、水素、
Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル基を表し、Ｒ４はアセトキシ
メチル、ピリジニウムメチル、ビニルを表し、ＣＯＯＭは、Ｒ ４ がピリジニウム メチルの場合はＣＯＯ − であり、その他の場合はＣＯＯＨを表し、 Ｘは塩素また
はブロムを表す。酸付加塩の酸は、塩酸、ブロム酸、硫酸、過塩素酸からなる群
より選ばれる無機酸またはホルム酸、酢酸、三フッ化酢酸、プロピオン酸、メタ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸からなる群より選ばれる有機酸を表す。
Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル基を表し、Ｒ４はアセトキシ
メチル、ピリジニウムメチル、ビニルを表し、ＣＯＯＭは、Ｒ ４ がピリジニウム メチルの場合はＣＯＯ − であり、その他の場合はＣＯＯＨを表し、 Ｘは塩素また
はブロムを表す。酸付加塩の酸は、塩酸、ブロム酸、硫酸、過塩素酸からなる群
より選ばれる無機酸またはホルム酸、酢酸、三フッ化酢酸、プロピオン酸、メタ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸からなる群より選ばれる有機酸を表す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【化２】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
式中、 Ｒ１、Ｒ２は同一でも異なってもいてもよく、各々独立して、水素、
Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル基を表し、Ｒ４はアセトキシ
メチル、ピリジニウムメチル、ビニルを表し、ＣＯＯＭは、Ｒ ４ がピリジニウム メチルの場合はＣＯＯ − であり、その他の場合はＣＯＯＨを表し、 Ｘは塩素また
はブロムを表す。酸付加塩の酸は、塩酸、ブロム酸、硫酸、過塩素酸からなる群
より選ばれる無機酸またはホルム酸、酢酸、三フッ化酢酸、プロピオン酸、メタ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸からなる群より選ばれる有機酸を表す。
Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル基を表し、Ｒ４はアセトキシ
メチル、ピリジニウムメチル、ビニルを表し、ＣＯＯＭは、Ｒ ４ がピリジニウム メチルの場合はＣＯＯ − であり、その他の場合はＣＯＯＨを表し、 Ｘは塩素また
はブロムを表す。酸付加塩の酸は、塩酸、ブロム酸、硫酸、過塩素酸からなる群
より選ばれる無機酸またはホルム酸、酢酸、三フッ化酢酸、プロピオン酸、メタ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸からなる群より選ばれる有機酸を表す。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【化５】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
式中、 Ｒ１、Ｒ２は同一でも異なってもいてもよく、各々独立して、水素、
Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル基を表し、Ｒ４はアセトキシ
メチル、ピリジニウムメチル、ビニルを表し、ＣＯＯＭは、Ｒ ４ がピリジニウム メチルの場合はＣＯＯ − であり、その他の場合はＣＯＯＨを表し、 Ｘは塩素また
はブロムを表す。酸付加塩の酸は、塩酸、ブロム酸、硫酸、過塩素酸からなる群
より選ばれる無機酸またはホルム酸、酢酸、三フッ化酢酸、プロピオン酸、メタ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸からなる群より選ばれる有機酸を表す。
Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル基を表し、Ｒ４はアセトキシ
メチル、ピリジニウムメチル、ビニルを表し、ＣＯＯＭは、Ｒ ４ がピリジニウム メチルの場合はＣＯＯ − であり、その他の場合はＣＯＯＨを表し、 Ｘは塩素また
はブロムを表す。酸付加塩の酸は、塩酸、ブロム酸、硫酸、過塩素酸からなる群
より選ばれる無機酸またはホルム酸、酢酸、三フッ化酢酸、プロピオン酸、メタ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸からなる群より選ばれる有機酸を表す。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 シン ドン ギュン
大韓民国 477−800 キョンギド ガピュ
ングン ガピュンユプ ユプナエ−３−リ
506−６
(72)発明者 リー ミュン キ
大韓民国 122−013 ソウル市 ユンピュ
ンク ユンガム−３−ドン 578−37
(72)発明者 パーク ミ スーン
大韓民国 425−183 キョンギド アンサ
ン市 ボノ−３−ドン 1137−７ 203
(72)発明者 リー ヨーン ソウク
大韓民国 425−183 キョンギド アンサ
ン市 ボノ−３−ドン 1112−６ 501
(72)発明者 ソン ヨーン ソウク
大韓民国 429−450 キョンギド シエウ
ン市 チュンワンドン 1877−５ ボソ
ン・アパートメント 118−404
(72)発明者 リー ジュ チョウル
大韓民国 435−050 キョンギド グンポ
市 クムジョンドン 872 ジュゴン・ア
パートメント 215−103
(72)発明者 オー サン ミ
大韓民国 425−183 キョンギド アンサ
ン市 ボノ−３−ドン 1139−２ 201
Ｆターム(参考） 4C075 AA03 AA06 BB02 CC30 CC45
CD32 DD02 DD06 DD45 EE01
FF02 FF08 GG01 HH01 LL01
LL08 MM14 MM15
Claims (7)
- 【請求項１】 下記一般式（ＩＩ）で示される結晶性アミノチアゾール化合
物の酸付加塩を、下記一般式（ＩＩＩ）で示される７−アミノセファロスポリン
酸誘導体と溶媒中でアシル化反応させることを特徴とする、下記一般式（Ｉ）で
示されるセファ系抗生物質の製造方法。 【化１】 式中、 Ｒ１、Ｒ２は同一でも異なってもいてもよく、各々独立して、水素、
Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ３〜Ｃ５シクロアルキル基を表し、Ｒ４はアセトキシ
メチル、ピリジニウムメチル、ビニルを表し、Ｘは塩素またはブロムを表す。酸
付加塩の酸は、塩酸、ブロム酸、硫酸、過塩素酸からなる群より選ばれる無機酸
またはホルム酸、酢酸、三フッ化酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸、ベン
ゼンスルホン酸からなる群より選ばれる有機酸を表す。 - 【請求項２】 Ｒ４が（１−ピリジニウム）メチルである、請求項１に記載
の方法。 - 【請求項３】 Ｒ４がビニルである、請求項１に記載の方法。
- 【請求項４】 溶媒は、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラ
ン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセテートアミド、ジクロロメタン、アセトニトリル、Ｎ
，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトン、水、メタノール、エタノールを単独ま
たはこれらを組み合わせて使用する、請求項１に記載の方法。 - 【請求項５】 ビストリメチルシリルアセトアミド、トリメチルクロロシラ
ン、トリメチルヨードシランなどのようなシリル化剤を溶解補助剤としてさらに
使用することができる、請求項４に記載の方法。 - 【請求項６】 必要に応じて、トリエチルアミン、トリ−（ｎ−ブチル）ア
ミン、ジシクロヘキシルアミン、ピリジン、ジイソプロピルエチルアミンからな
る群より選ばれる有機塩基をさらに使用する、請求項１に記載の方法。 - 【請求項７】 アシル化反応を塩基性水溶液と有機溶媒の混合溶液中で行い
、塩基性水溶液には炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、
水酸化ナトリウムからなる群より選ばれる無機塩基の水溶液を使用する、請求項
４に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2000-0014076A KR100392409B1 (ko) | 2000-03-20 | 2000-03-20 | 신규한 티아졸 화합물을 이용한 세팔로스포린계항생물질의 제조 방법 |
| KR2000-14076 | 2000-03-20 | ||
| PCT/KR2001/000347 WO2001070749A1 (en) | 2000-03-20 | 2001-03-07 | A process for preparing cephalosporin derivatives using new thiazole compound |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003528105A true JP2003528105A (ja) | 2003-09-24 |
| JP3927808B2 JP3927808B2 (ja) | 2007-06-13 |
Family
ID=19656811
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001568950A Expired - Lifetime JP3927808B2 (ja) | 2000-03-20 | 2001-03-07 | 新規チアゾール化合物を用いたセファロスポリン系抗生物質の製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6384212B1 (ja) |
| EP (1) | EP1268488B1 (ja) |
| JP (1) | JP3927808B2 (ja) |
| KR (1) | KR100392409B1 (ja) |
| DE (1) | DE60142329D1 (ja) |
| WO (1) | WO2001070749A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100392409B1 (ko) * | 2000-03-20 | 2003-07-22 | 한미정밀화학주식회사 | 신규한 티아졸 화합물을 이용한 세팔로스포린계항생물질의 제조 방법 |
| ITMI20012364A1 (it) * | 2001-11-09 | 2003-05-09 | Antibioticos Spa | Processo di sintesi della cefixima via alchil-o arilsolfonati |
| DE602005012866D1 (de) * | 2004-12-21 | 2009-04-02 | Lupin Ltd | Verfahren zur hestellung von cefixim |
| CN1312158C (zh) * | 2005-05-20 | 2007-04-25 | 天津市医药集团技术发展有限公司 | 一种头孢克肟的制备方法 |
| CN102516262A (zh) * | 2011-12-20 | 2012-06-27 | 浙江国邦药业有限公司 | 一种头孢克肟三水合物的结晶方法 |
| WO2016142902A1 (en) * | 2015-03-11 | 2016-09-15 | Lupin Limited | Cefixime with reduced surface area and high stability |
| CN104892638B (zh) * | 2015-05-28 | 2017-08-01 | 齐鲁安替制药有限公司 | 一锅法制备头孢他啶的方法 |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AR228726A1 (es) | 1978-05-26 | 1983-04-15 | Glaxo Group Ltd | Procedimiento para la preparacion del antibiotico(6r,7r)-7-((z)-2-(2-aminotiazol-4-il)-2-(2-carboxiprop-2-oxiimino)acetamido)-3-(1-piridiniometil)cef-3-em-4-carboxilato |
| IT1145686B (it) | 1979-05-25 | 1986-11-05 | Glaxo Group Ltd | Intermedi per la preparazione di antibiotici cefalosporinici e procedimento per prepararli |
| US4409214A (en) | 1979-11-19 | 1983-10-11 | Fujisawa Pharmaceutical, Co., Ltd. | 7-Acylamino-3-vinylcephalosporanic acid derivatives and processes for the preparation thereof |
| KR840001827B1 (ko) | 1980-07-14 | 1984-10-22 | 후지사와 야꾸힝 고오교오 가부시기 가이샤 | 7-아실아미노-3-비닐세팔로스포란산 유도체의 제조방법 |
| JPS5877886A (ja) * | 1981-11-02 | 1983-05-11 | Toyama Chem Co Ltd | 新規セフアロスポリン類 |
| DE3375013D1 (en) * | 1982-04-29 | 1988-02-04 | Glaxo Group Ltd | Thiazole derivative, process for its preparation and use in the preparation of beta-lactam antibiotics |
| JPS60208986A (ja) * | 1984-03-31 | 1985-10-21 | Toyama Chem Co Ltd | 新規セファロスポリン類およびその製造法 |
| JPH0662635B2 (ja) * | 1984-04-26 | 1994-08-17 | 富山化学工業株式会社 | セフアロスポリン類の新規製造法 |
| KR870001807B1 (ko) | 1985-09-07 | 1987-10-13 | 주식회사 종근당 | 3-비닐 세팔로 스포린 유도체의 제조방법 |
| GB8611823D0 (en) * | 1986-05-15 | 1986-06-25 | Ici Plc | Process |
| GB8800295D0 (en) * | 1988-01-07 | 1988-02-10 | Fujisawa Pharmaceutical Co | Process for preparation of 7-(2-amino-thiazol-4-y)-2-hydroxyimino-acetanidol-3-cephem compounds |
| KR930007810B1 (ko) | 1991-05-04 | 1993-08-20 | 주식회사 중외제약 | 7-아실아미노-3-비닐 세파로스포라닉에시드의 제조방법 |
| US5587372A (en) * | 1991-12-12 | 1996-12-24 | Roussel Uclaf | Cephalosporins |
| KR100257129B1 (ko) * | 1993-09-11 | 2000-05-15 | 성재갑 | 신규 세팔로스포린계 항생제 및 이의 제조방법 |
| KR0127113B1 (ko) | 1994-01-28 | 1998-04-01 | 임성기 | 3-비닐세펨 유도체의 제조방법 |
| TW538045B (en) | 1997-01-16 | 2003-06-21 | Biochemie Gmbh | Process for purifying cefixime |
| KR100342600B1 (ko) * | 2000-03-06 | 2002-07-04 | 한미정밀화학주식회사 | 신규한 티아졸 화합물 및 그의 제조 방법 |
| KR100392409B1 (ko) * | 2000-03-20 | 2003-07-22 | 한미정밀화학주식회사 | 신규한 티아졸 화합물을 이용한 세팔로스포린계항생물질의 제조 방법 |
| JP2004149412A (ja) * | 2000-06-21 | 2004-05-27 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−低級アルコキシカルボニルメトキシイミノアセトアミド］−３−セフェム化合物の製造法 |
-
2000
- 2000-03-20 KR KR10-2000-0014076A patent/KR100392409B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-05-04 US US09/564,980 patent/US6384212B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-03-07 DE DE60142329T patent/DE60142329D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-07 JP JP2001568950A patent/JP3927808B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-07 WO PCT/KR2001/000347 patent/WO2001070749A1/en active Application Filing
- 2001-03-07 EP EP01912531A patent/EP1268488B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6384212B1 (en) | 2002-05-07 |
| JP3927808B2 (ja) | 2007-06-13 |
| DE60142329D1 (de) | 2010-07-22 |
| EP1268488A1 (en) | 2003-01-02 |
| WO2001070749A1 (en) | 2001-09-27 |
| EP1268488B1 (en) | 2010-06-09 |
| KR100392409B1 (ko) | 2003-07-22 |
| EP1268488A4 (en) | 2004-02-04 |
| KR20010092130A (ko) | 2001-10-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060926 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061226 |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070213 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070305 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110309 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120309 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130309 Year of fee payment: 6 |