JPS6139954B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

この発明は、新規なセフエム−カルボン酸エス
テル類およびその脱エステル化法に関する。 この発明によれば、一般式（）： 〔式中Ｗは水酸基および／またはハロゲン原子で
置換されたフエニル基、またはチエニル基もしく
は、テトラゾール基のような複素環基；Ｑは水素
原子、保護アミノ基、４−オキソチアピラン−３
−イルカルボキサミド基または２・３−ジオキソ
−４−低級アルキル−ピペラジニ−１−イル−カ
ルボキサミド基；Ｙはアセトキシ基または低級ア
ルキル基で置換されていてもよいチアジアゾール
チオ基、トリアゾールチオ基もしくはテトラゾー
ルチオ基のような複素環チオ基；R¹はアルキル
基もしくはアリール基；R²はアルキル基もしく
はアルコキシ基をそれぞれ意味する〕 で示される化合物が提供される。 この発明の発明者らは発酵法により得られたセ
フアロスポリンＣそのものまたはそれに求核性試
剤を反応させることにより得られる３位置換体を
原料として、７位に所望のアシル基を導入する工
業的な製法を検討した結果、ある特定のエステル
基をもつた化合物が中間体として特に適切である
ことを見い出しこの発明に至つたものである。 この発明の化合物の主要な特徴の一つは、セフ
エム環の４位のカルボキシ基が特定の化合物でエ
ステル化されていることである。このエステル基
は、所望の反応を非水溶媒系で行なうのを可能に
し、所望の反応が終了した後、セフエム環や側鎖
の基に実質的に影響を与えることなく緩和な条件
下で極めて容易に除去し得る基である。従つて、
このエステル基は有用なセフアロスポリン系抗生
物質を高収率で高純度で得るのに好結果をもたら
すものである。 この発明の化合物（）は例えば次のごとくし
て作ることができる。 セフアロスポリンＣの７位の側鎖のアミノ基を
アシル化剤（例えばホスゲンとエチレングリコー
ル、モノ低級アルキルエーテル、ジエチレングリ
コールモノ低級アルキルエーテル、低級アルコー
ル、ベンジルアルコールなどのアルコール類；低
級アルキルチオ脂肪酸の反応性誘導体；アリール
カルボニルクロリド）を用いてアシル化し、次い
で必要があれば３位のアセトキシ基を複素環チオ
ール（たとえば低級アルキル基で置換されていて
もよい１・３・４−チアジアゾール−２−チオー
ル、１・２・３−トリアゾール−４−チオールも
しくはテトラゾールチオール）と反応させて複素
環チオ基に変える。 次いで酸結合剤の存在下、

【式】（式中Ｘはハロゲン原子、R¹ とR²は式（）における定義と同一意味）を用
いてエステル化反応を行なう。この反応は通常Ｎ
−アシルセフアロスポリンＣまたはその３位置換
体の塩と前記ハロゲン化合物を例えばジメチルホ
ルマミド、ジメチルスルホキシド、アセトンなど
の有機溶媒中で反応させる。そうすることにより
Ｎ−アシルセフアロスポリンＣまたはその３位置
換体のモノもしくはジエステルを得る。 更に場合によつてはこの生成物を酸化剤でＳ−
オキシドとすることによつて単離、精製等に好結
果をもたらし、このＳ−オキシド体を次のアシル
化反応に用いることもできる。この化合物を式示
すれば次の通りである。 式中−COR³はアシル基、R′は水素原子または
基

【式】R¹、R²およびＹは一般式 （）における定義と同一意味である。 上記のモノもしくはジエステルをイミノハライ
ド法に付し、得られるイミノエーテルまたはその
加水分解物に式

【式】（式中ＷとＱ は一般式（）における定義と同一意味）で示さ
れるカルボン酸の反応性誘導体を反応させる。こ
の際モノエステルが使用されるときはカルボキシ
ル基を例えばシリル化剤で保護した後にイミノハ
ライド法に付される。そうすることにより高収率
で一般式（）の化合物に導くことができる。 ここで７位の側鎖のＮ−アシル基の具体例とし
てはメトキシエトキシカルボニル、エトキシエト
キシカルボニル、プロポキシエトキシカルボニ
ル、ブトキシエトキシカルボニル、エトキシエト
キシエトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
ブトキシカルボニル、ベンジロキシカルボニル、
メチルチオアセチル、α−メチルチオプロピオニ
ル、エチルチオアセチル、ベンゾイル、置換ベン
ゾイルなどが挙げられる。 この発明のエステル部分を構成するのに用いら
れる式

【式】の好ましい化合物として はα−ブロムアセト酢酸またはα−ブロム−α−
ベンゾイル酢酸のメチル、エチルもしくはイソブ
チルエステルおよびそれらの対応するクロル化合
物のようなα−ハロゲノケト酸エステル；３−ブ
ロム−２・４−ペンタンジオン、１−フエニル−
２−ブロム−１・３−ブタンジオンおよびそれら
の対応するクロル化合物のようなハロゲノジケト
ンが挙げられる。これらの中で好ましい例は３−
クロル−２・４−ペンタンジオン、α−クロルア
セト酢酸メチルおよびα−クロルアセト酢酸エチ
ルである。 次にこの発明の化合物（）を得るために行な
う上記のアシル基交換反応について説明する。 Ｎ−アシルセフアロスポリンＣまたはその３位
置換体のエステル類は、ジエステルの場合には直
接、モノエステルの場合にはシリル化剤または３
価の燐ハロゲン化物の存在下でカルボキシ基を保
護した後、これにジメチルアニリン、ピリジン、
キノリンもしくはこれらの同族体のような塩基を
加え五塩化燐を反応させてイミノハライドとす
る。 この時用いられる有機溶媒としては塩化メチレ
ン、クロロホルム、塩化エチレン、テトラヒドロ
フラン、四塩化炭素などが挙げられる。 これにメタノール、エタノール、イソプロピル
アルコール、イソブタノール、ブタノール、ペン
タノールなどの低級アルコールを反応させてイミ
ノエーテル体とする。 このイミノエーテル体はそのまま、または加水
分解した後に式

【式】（式中の各記 号は前記と同一意味）のカルボン酸の反応性誘導
体と反応させる。 ここでＱの定義において保護アミノ基とはアミ
ノ基に誘導しうるアミノ基の前駆体であればよい
がこの発明の化合物からエステル部分を除去する
工程で影響をうけないものが好ましい。 またこのカルボン酸の具体例としてはチエニル
酢酸、テトラゾリル酢酸、α−アジド−ｐ−ヒド
ロキシフエニル酢酸、α−クロルアセトキシ−フ
エニル酢酸、α−ホルミルオキシ−フエニル酢
酸、α−（２・３−ジオキソ−４−エチル−ピペ
ラジニ−１−イルカルボキサミド）−ｐ−ヒドロ
キシフエニル酢酸、α−（４−オキソチアピラン
−３−イルカルボキサミド）−ｐ−ヒドロキシフ
エニル酢酸、α−（２・３−ジオキソ−４−エチ
ル−ピペラジニ−１−イルカルボキサミド）−ｐ
−ヒドロキシ−ｍ−クロルフエニル酢酸、α−
（４−オキソチアピラン−３−イルカルボキサミ
ド）−ｐ−ヒドロキシ−ｍ−クロルフエニル酢酸
などが挙げられる。 またカルボン酸の反応性誘導体としては酸ハラ
イド、混合酸無水物などが通常用いられる。 このアシル化反応は上記したように有機溶媒中
でたとえば０〜−40℃の低温で行なうのがよい。 また原料としてＳ−オキシド体を用いた場合に
はイミノハライドとするために用いられる五塩化
燐は通常２〜2.5倍モル用いられる。 またＳ−オキシド体を得るための酸化剤として
は過酢酸、ｍ−クロル過安息香酸などの過酸ある
いは過酸化水素と触媒としてモリブデン、タング
ステンまたはバナジウムの酸素化合物を用いるこ
とによつて選択的に１−オキシドを得ることがで
きる。 この発明の好ましい化合物としては次のものが
挙げられる。 上記に例示したごとき化合物を含めて、この発
明の化合物のうち側鎖のα位に不整炭素原子を有
する場合にはそれに基づいて存在する光学的異性
体は全てこの発明に含まれる。 次にこの発明の化合物（）を脱エステル化す
る工程を説明する。 脱エステル化は亜硝酸又はその塩、亜硝酸エス
テル、ニトロシルハライド、酸化窒素などのニト
ロソ化剤を用いることにより効果的に行なうこと
ができる。 亜硝酸塩としては、亜硝酸のリチウム塩、カリ
ウム塩、ナトリウム塩、カルシウム塩、マグネシ
ウム塩、亜鉛塩などがあげられる。これらの中で
工業的に使用するのが好ましいのは、亜硝酸ナト
リウムである。 また亜硝酸エステルとしては、亜硝酸のメチル
エステル、エチルエステル、プロピルエステル、
ブチルエステルまたはペンチルエステルのような
アルキルエステル；ベンジルエステルのようなア
ラルキルエステル；シクロヘキシルエステル、シ
クロペンチルエステルのようなシクロアルキルエ
ステルなどがあげられる。これらの中で使用する
のが好ましい例として、亜硝酸プロピルエステ
ル、亜硝酸ブチルエステル、亜硝酸ペンチルエス
テルをあげることができる。またニトロシルハラ
イドや酸化窒素を化合物（）の溶液に導入して
反応させてもよい。 亜硝酸エステルを用いて反応を行う際は、少量
の有機または無機の酸および必要があれば有機酸
塩を添加するのが望ましい。 有機酸塩としては、ギ酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸、ジエチル酢酸、２−エチルヘキソン酸
などの有機酸のナトリウム塩やカリウム塩、トリ
アルキルアミン塩をあげることができる。この中
で特に酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸のト
リエチルアミン塩の使用が望ましい。有機酸とし
ては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ジエチ
ル酢酸、クエン酸、コハク酸、蓚酸、または無機
酸としては、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸があがら
れる。有機酸塩を用いることは必須の条件ではな
いが、原料セフエム−カルボン酸エステルを高濃
度で用いた場合、生成したセフエム−カルボン酸
を塩として可溶化させるためである。 この脱エステル化反応は、一般式（）の化合
物を不活性溶媒（例えば含水アセトン、含水テト
ラヒドロフラン、含水メチルエチルケトン等）に
懸濁または溶解させ、例えば過剰の亜硝酸塩を固
体のままもしくは水溶液として加え、または過剰
の亜硫酸エステルを酸と共に加えることによつて
行うことができる。必要があれば有機酸塩を加え
てもよい。 この反応は通常発熱を伴つて行われる。低沸点
の溶媒を用いた際は、外部から冷却する必要もあ
る。反応の進行状況は、薄層クロマトグラフイー
で追跡することができる。使用原料のエステル基
の種類によつては、反応速度が遅くて完結し難い
場合は、酸を加えて加熱してもよい。 亜硝酸塩や亜硝酸エステルなどの使用量は、一
般式（）の化合物に対し、1.2〜５倍モル程度
好ましくは1.5〜３倍モル程度である。 この脱エステル化反応は、ニトロソ化剤例えば
亜硝酸塩または亜硝酸エステルを等モル以上使用
することと、脱エステルの反応収率が極めて良好
なこと等から反応機構は種々推測されるが、現在
のところ詳細は不明である。 本発明によつて生成する７−アシルアミド−３
−置換メチル−セフエム−４−カルボン酸は、そ
の４位のカルボキシル基の酸性が可成り強く、亜
硝酸アルカリ塩と酢酸の系ではアルカリ塩を形成
しているようである。 従つて含水有機溶媒を使用した場合はPHを7.5
付近に調整後、減圧で有機溶媒を留去し、水に難
溶な溶媒で洗つて未反応の原料エステルが副生物
を除き、次いで強酸例えばギ酸、クエン酸、酒石
酸、有機スルホン酸、ハロゲノ脂肪酸、ハロゲン
化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸などでPH2.0付近
に調整することにより目的物を得ることができ
る。 次に７位における側鎖のα位が保護アミノ基で
ある場合、アミノ基への変換は、それ自体公知の
方法によつて行なうことができる。例えばホルミ
ルアミノ基はメタノール溶媒中、オキシ塩化燐を
反応させ、２・２・２−トリクロルエトキシカル
ボニルアミノ基は酸の存在下亜鉛末で還元し、ク
ロルアセチルアミノ基は水中でPH6.5付近でチオ
尿素と反応さすことによりアミノ基へ変換でき
る。 かくして、この発明の化合物（）はそれ自体
公知の有用なセフアロスポリン系抗生物質を例え
ばセフアロスポリンＣを原料として工業的に製造
するに当つて有用な化合物と言える。 次にこの発明を実施例によつて説明する。 実施例 １ (a) Ｎ−ブトキシエトキシカルボニルセフアロス
ポリンＣのジ（1′−メトキシカルボニル−2′−
オキソプロパン−1′−イル）エステルのＳ−オ
キシドの製造 Ｎ−ブトキシエトキシカルボニルセフアロス
ポリンＣのジカリウム塩（0.01モル）と炭酸水
素ナトリウム（0.002モル）をジメチルホルム
アミド20mlに加え、撹拌しながらα−クロロ−
アセト酢酸メチルエステル（0.022モル）を滴
下し、40〜60℃で反応させる。薄層クロマトグ
ラフイー（ｎ−ブタノール：酢酸：水＝４：
４：１、沃化アジド液を噴霧後加熱発色）で反
応を追跡する。約20時間撹拌して反応させる。
この反応液に酢酸エチル20mlと氷水20mlを加
え、撹拌下炭酸水素ナトリウム水溶液でPH7.0
に調整し、有機層を分け水洗後乾燥する。溶媒
を減圧で留去すればシロツプを残す。これを塩
化メチレン30mlに溶かし、氷冷下、撹拌しなが
ら40％過酢酸の計算量の80％を徐々に滴下す
る。薄層クロマトグラフイーで反応を追跡し、
必要があれば、過酢酸を追加して反応を完結さ
せる。反応液に氷水30mlを加え、撹拌後有機層
を分ける。これに新しく氷水30mlを加え炭酸水
素ナトリウム水溶液でPH7.0に調整し、有機層
を分け、乾燥する。溶媒を減圧で留去し、残渣
をイソプロピルアルコール及びイソプロピルエ
ーテルで処理すれば固化する。 Ｎ−ブトキシエトキシカルボニルセフアロス
ポリンＣのジ（1′−メトキシカルボニル−2′−
オキソプロパン−1′−イル）エステルのＳ−オ
キシドを収率84％で得た。 (b) ７−（２−チエニルアセタミド）−セフアロス
ポラン酸−1′−メトキシカルボニル−2′−オキ
ソプロパン−1′−イルエステルの製造。 実施例１(a)で得られたジエステルのＳ−オキ
シド（0.002モル）、Ｎ・Ｎ−ジメチルアニリン
（0.01モル）を塩化メチレン30mlに加え、−40℃
に冷やし、五塩化リンの微粉末（0.0042モル）
を投入し、−30〜−10℃で２時間撹拌する。 薄層クロマトグラフイー（ベンゼン：酢酸エ
チル＝１：１）で追跡し、Ｓ−オキシドの存在
しないことを確かめ、−30℃に冷やし、無水の
メタノール（0.05モル）を含む塩化メチレン10
mlの溶液を滴下する。−30〜−10℃で２時間撹
拌しイミノエーテルの溶液とした。 この溶液を−40℃に冷却しこれにチエニルア
セチルクロリド（0.003モル）を含む塩化メチ
レン５mlの溶液を滴下する。−40〜−30℃で１
時間反応させ、次いで徐々に−10℃まで昇温さ
せ、氷水20ml中に投入する。炭酸水素ナトリウ
ムでPH2.0に調整しながら30分撹拌する。有機
層を分取し、食塩水で３回洗い、次いで氷水10
mlを加え、撹拌下炭酸水素ナトリウムでPH7.0
で調整し、水洗して乾燥する。溶媒を減圧で留
去すればシロツプを残す。シリカゲルクロマト
グラフイー（ベンゼン：酢酸エチル：＝３：
１）で精製する。７−（２−チエニルアセタミ
ド）−セフアロスポラン酸−1′−メトキシカル
ボニル−2′−オキソプロパン−1′−イルエステ
ルをシロツプの形で収率83％で得た。 薄層クロマトグラフイー（ベンゼン：酢酸エ
チル＝２：１、沃化アジド液を噴霧後加熱発
色：Rf＝0.25） 本品の一部をとり、塩化メチレン中氷冷下過
酢酸で酸化すれば１−オキシドを得る。 薄層クロマトグラフイー（ベンゼン：酢酸エ
チル＝２：１；Rf＝0.1）、 mp145〜146℃（分解） (c) ７−（２−チエニルアセタミド）−セフアロス
ポラン酸ナトリウム塩の製造。 実施例１(b)で得られた７−（２−チエニルア
セタミド）−セフアロスポラン酸−1′−メトキ
シカルボニル−2′−オキソプロパン−1′−イル
エステル（１ミリモル）を50％アセトンに溶か
し、酢酸0.5滴を加え、撹拌下亜硝酸ナトリウ
ム（２ミリモル）を含む２mlの水溶液を徐々に
滴下する。反応は薄層クロマトグラフイーで追
跡する（ベンゼン：酢酸エチル＝１：１；反応
生成物はRf＝０）40℃以下で60分撹拌しなが
ら反応し、減圧でアセトンを留去する。重炭酸
ナトリウム溶液でPH7.0にして酢酸エチルで洗
い、ついで酢酸エチル10mlを加え20％燐酸でPH
2.0に調整し、有機層を分け、食塩水で３回洗
い、乾燥後、酢酸ナトリウム（0.95ミリモル）
の飽和水溶液にアセトン少量を加えた溶液を混
ぜる。まもなく、セフアロチンのナトリウム塩
の結晶を析出する。 含水アセトンから再結晶し、収率94％を得
た。遊離酸としてのmpは156℃（分解）であ
る。 mp.IR.UVは標品と一致した。 実施例 ２ (a) ７−（５−カルボキシ−５−ブトキシエトキ
シカルボニルアミノ）−バレルアミド−３−（５
−メチル−１・３・４−チアジアゾール−２−
イル）−チオメチル−３−セフエム−４−カル
ボン酸のジ（1′−メトキシカルボニル−2′−オ
キソプロパン−1′−イル）エステルの１−オキ
シドの製造。 実施例１(a)に従つて７−（５−カルボキシ−
５−ブトキシエトキシカルボニルアミノ）−バ
レルアミド−３−（５−メチル−１・３・４−
チアジアゾール−２−イル）−チオメチル−３
−セフエム−４−カルボン酸の１−オキシドの
ジカリウム塩から７−（５−カルボキシ−５−
ブトキシエトキシカルボニルアミノ）−バレル
アミド−３−（５−メチル−１・３・４−チア
ジアゾール−２−イル）チオメチル−３−セフ
エム−４−カルボン酸のジ（1′−メトキシカル
ボニル−2′−オキソプロパン−1′−イル）エス
テルの１−オキシドを収率82％で得た； (b) ７−（１−テトラゾリルアセタミド）−３−
（５−メチル−１・３・４−チアジアゾール−
２−イル）チオメチル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸の1′−メトキシカルボニル−2′−オキ
ソプロパン−1′−イルエステルの製造 実施例２(a)で得たジエステル−１−オキシド
を実施例(b)におけるチエニルアセチルクロリド
のかわりに１−テトラゾリルアセチルクロリド
を用いて実施例１(b)に従い反応させ処理する。 ７−（１−テトラゾリルアセタミド）−３−
（５−メチル−１・３・４−チアジアゾール−
２−イル）チオメチル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸の1′−メトキシカルボニル−2′−オキ
ソプロパン−1′−イルエステルを収率84％で得
た。； mp.115〜120℃（分解）。 このエステルのＳ−オキシドは、 mp135〜138℃（分解）であつた。 (c) ７−（１−テトラゾリルアセタミド）−３−
（５−メチル−１・３・４−チアジアゾール−
２イル）チオメチル−３−セフエム−４−カル
ボン酸ナトリウム塩の製造。 実施例２(b)で得たエステルを実施例１(c)に従
つて反応させ処理する。 ７−（１−テトラゾリルアセタミド）−３−
（５−メチル−１・３・４−チアジアゾール−
２−イル）チオメチル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ナトリウム塩を得た。 含水アセトンから再結晶し収率92％で得た； mp.178℃（分解） IR： 1775cm^-1 UV：λmax274n.m. 標品と一致した。 実施例 ３ (a) Ｎ−ベンゾイル−セフアロスポリンＣのモノ
（1′−メトキシカルボニル−2′−オキソプロパ
ン−1′−イル）エステルのＳ−オキシドの製
造。 Ｎ−ベンゾイル−セフアロスポリンＣのモノ
ナトリウム塩5.42ｇと炭酸水素ナトリウム0.17
ｇをジメチルホルムアミド７mlに加え、撹拌し
ながらα−クロロ−アセト酢酸メチルエステル
1.81ｇを滴下し40〜60℃で反応させる。薄層ク
ロマトグラフイーで反応を追跡する。 反応終了後、反応液に酢酸エチル20mlと氷水
20mlを加え、撹拌しながら塩酸でPH2.5に調整
し、有機層を分ける。有機層は食塩水で洗つた
後乾燥し溶媒を減圧で留去する。残渣は△^３＋
△^２のエステルである。 このエステルを塩化メチレン20mlに溶かし、
氷冷下撹拌しながらタングステン酸ナトリウム
の存在下、薄層クロマトグラフイーで反応の進
行状況を追跡しつつ、過酸化水素水を加えて酸
化する。反応終了後、氷水20mlを加え、固体を
集める。 塩化メチレン層は分取後水洗し、減圧で溶媒
を留去する。残渣は、イソプロピルエーテルで
処理すれば固化する。固形物は合せてイソプロ
ピルアルコール及びイソプロピルエーテルで処
理する。 Ｎ−ベンゾイル−セフアロスポリンＣのモノ
（1′−メトキシカルボニル−2′−オキソプロパ
ン−1′−イル）エステルのＳ−オキシドを収率
82％で得た。mp143〜147℃（分解）。IR、
NMR、UV、TLCからモノエステルのＳ−オキ
シドであることを確認した。 (b) ７−（２−チエニルアセタミド）−セフアロス
ポラン酸の（1′−メトキシカルボニル−2′−オ
キソプロパン−1′−イル）エステルの製造。 実施列３、(a)で得られたモノエステルのＳ−
オキシド6.50ｇ（10ミリモル）、Ｎ・Ｎ−ジエ
チルアニリン5.96ｇ（40ミリモル）、トリエチ
ルアミン1.5ｇ（15ミリモル）を塩化メチレン
30mlに加え、氷冷下撹拌しながらトリメチルシ
リルクロリド2.72ｇ（25ミリモル）を含む塩化
メチレン溶液を滴加する。約30分後反応液を−
40℃に冷し、五塩化リン5.21ｇ（25ミリモル）
を加え、−40〜−15℃で撹拌しながら約2.5時間
反応させる。ついで−40℃に冷し、激しく撹拌
しながらメタノール6.4ｇ（200ミリモル）を
徐々に滴加する。滴加終了後、−40〜−10℃で
反応させる。反応は薄層クロマトグラフイーで
追跡する。反応液は再び−40℃に冷し、撹拌し
ながら２−チエニルアセチル−クロリド1.93ｇ
（12ミリモル）を含む塩化メチレン５mlの溶液
を滴下する。約2.5時間かけて０℃まで徐々に
昇温させる。 反応液に氷水20mlを加え、アンモニア水でPH
2.5に調整しながら約30分撹拌後有機層を分取
し、有機層を食塩水で洗う。有機層に氷水20ml
を加え、撹拌しながら炭酸水素ナトリウムでPH
7.5に調整する。有機層を取り水洗後乾燥し、
溶媒を減圧で留去する。残渣をイソプロパノー
ル−ｎ−ヘキサンで処理し油分を得た。 薄層クロマトグラフイー（ベンゼン：酢酸エ
チル＝１：１、沃化アジド噴霧後加熱、又は紫
外線）：Rf＝0.66。 このものは、７−（２−チエニルアセタミ
ド）−３−アセトキシメチル−３−セフエム−
４−カルボン酸の（1′−メトキシカルボニル−
2′−オキソプロパン−1′−イル）エステルで、
収率83％であつた。 このエステルは、常法により酸化して、対応
するＳ−オキシド〔mp144〜145℃（分解）〕を
収率93％で得た。 実施例 ４ (a) 実施例３、(a)のＮ−ベンゾイル−セフアロス
ポリンＣのモノナトリウム塩の代りに７−
（5′−カルボキシ−5′−ベンゾイルアミノ−バ
レルアミド）−３−（５−メチル−１・３・４−
チアジアゾリール−２−イル）チオメチル−３
−セフエム−４−カルボン酸のモノナトリウム
塩を用い、他は実施例３、(a)に従つて反応させ
処理する ７−（5′−カルボキシ−5′−ベンゾイルアミ
ノ−バレルアミド）−３−（５−メチル−１・
３・４−チアジアゾール−２−イル）チオメチ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸のモノ
（1′−メトキシカルボニル−2′−オキソプロパ
ン−1′−イル）エステルのＳ−オキシドを86％
の収率で得た。 (b) 実施例３、(b)のチエニルアセチルクロリドの
代りにテトラゾリールアセチルクロリドを、更
に、Ｎ−ベンゾイル−セフアロスポラン酸のモ
ノエステルのＳ−オキシドの代りに実施例４、
(a)で得たモノエステルのＳ−オキシドを用い、
他は実施例３、(b)に従つて反応させ処理する。 ７−（１−テトラゾリルアセタミド）−３−
（５−メチル−１・３・４−チアジアゾール−
２−イル）チオメチル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸の（1′−メトキシカルボニル−2′−オ
キソプロパン−1′−イル）エステルを収率85％
で得た。 実施例 ５ (a) 実施例１、(a)におけるＮ−ブトキシエトキシ
−カルボニル−セフアロスポリンＣのジカリウ
ム塩の代りにモノナトリウム塩を、またα−ク
ロロ−アセト酢酸メチルエステルをモノナトリ
ウム塩に対し1.2倍量用い、他は実施例３、(a)
に従つて処理して、７−（5′−カルボキシ−
5′−ブトキシエトキシ−カルボニル−アミノ−
バレルアミド）−３−アセトキシメチル−３−
セフエム−４−カルボン酸のモノ（1′−メトキ
シカルボニル−2′−オキソプロパン−1′−イ
ル）エステルのＳ−オキシドを収率82％で得
た。 (b) 上記、(a)で得られたモノエステルのＳ−オキ
シドを実施例３、(b)に従つて反応させ処理し
て、７−（２−チエニルアセタミド）−３−アセ
トキシメチル−３−セフエム−４−カルボン酸
の（1′−メトキシカルボニル−2′−オキソプロ
パン−1′−イル）エステルを収率84％で得た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式（）： 〔式中Ｗは水酸基および／またはハロゲン原子で
   置換されたフエニル基、またはチエニル基もしく
   はテトラゾール基；Ｑは水素原子、保護アミノ
   基；Ｙはアセトキシ基または低級アルキル基で置
   換されていてもよいチアジアゾールチオ基、トリ
   アゾールチオ基もしくはテトラゾールチオ基；
   R¹はアルキル基；R²はアルコキシ基をそれぞれ
   意味する〕 で表わされる化合物。 ２ 一般式（）において、【式】が１ −メトキシカルボニル−２オキソプロパン−１−
   イルである特許請求の範囲１項記載の化合物。