JPS5951555B2 - セフアロスポリン化合物の製造法 - Google Patents

セフアロスポリン化合物の製造法

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JPS5951555B2
JPS5951555B2 JP5502075A JP5502075A JPS5951555B2 JP S5951555 B2 JPS5951555 B2 JP S5951555B2 JP 5502075 A JP5502075 A JP 5502075A JP 5502075 A JP5502075 A JP 5502075A JP S5951555 B2 JPS5951555 B2 JP S5951555B2
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進 津島
充 白石
道行 千代
憲親 松本
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【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式 〔式中、R1は水素またはアシル基を、R2は求核性化
合物の残基を示す〕で表わされるセフアロスポリン化合
物の製造法に関するものである。
すなわち、本発明は、(1)一般式〔式中、Xは一端に
カルボニル基またはスルホニル基を有する、置換されて
いてもよい炭素数2または3の2価基を、Zは有機酸残
基を、他は前記と同意義を示す〕で表わされる化合物と
求核性化合物を反応させることを特徴とする一般式〔I
〕で表わされる化合物の製造法、(2) 一般式 〔式中、R3は水素またはアシル基を示す〕で表わされ
る化合物と一般式〔式中の記号は前記と同意義〕で表わ
される化合物を反応させて、一般式〔式中、R4はアシ
ル基を示し、他は前記と同意義で表わされる化合物を得
、ついで求核性化合物を反応させることを特徴とする一
般式〔式中の記号は前記と同意義〕で表わされる化合物
の製造法、(3) 一般式lで表わされる化合物と一般
式債で表わされる化合物を反応させることを特徴とする
一般式Mで表わされる化合物の製造法である。
上記一般式lで表わされる3−ヒドロキシメチル体は、
一般には3−アセトキシメチル基を有するセフアロスポ
リンの3−アセチル基を酵素的に除去するとか、セフア
ロスポリンCの培養における副生物より分離することに
より得られているにすぎなかつたが、最近、7一(0−
5−アミノアジピンアミド)−3−ヒドロキシメチル−
3−セフエム一4−Jャ泣{ン酸デアセチルセフアロスポ
リンC,DCPC)が醗酵培養により高単位に生産する
ことが可能となり(ネエイチユア ニユーバイオロジ一
246154(1973)、特開昭49−491)、
セフアロスポリンCと並び、より抗菌性の高いセフアロ
スポリン化合物へ導く原料として注目されるようになつ
てきた。しかしながら、これまでセフアロスポラデシン
酸のごとき3−ヒドロキシメチル体の3−ハイドロキシ
メチル基をアシル化することは容易なことではないとさ
れてきた。
例えばヘイニンゲン(E.vanHeyningen;
J.Med″ Chem−,一旦,22(1965),
Advan.Drug.Res.4,28(1968)
)はセフアロスポラデシン酸の0−アシル化反応は大過
剰のアロイルクロライドの使用によつてのみ可能である
(収率32%〜57%)が、ケテン、脂肪族酸クロライ
ド、無水酢酸では、0−アシル化はされないかまたはラ
クトン環形成が起ると報告している。また、クロルヤ(
J.Med.Chem.L旦,1114(1970)は
o−アシルオキシメチルセフアロスポリンを合成するた
めわざわざ3−ハイドロキシメチル−2−セフエム体を
O−アシル化し、次いで3−セフエム体へ異性化させる
という方法を報告しているし、米国特許3,532,6
94,ペルキー特許−719,711には、ラクトン化
を防ぐためセフアロスポラデシン酸の4−カルボキシル
基をエステル等により保護した後にO−アシル化する方
法が報告されているし、特開昭47−42792にはセ
フアロスポラデシン酸をアゾラードによりO−アシル化
する方法が開示されている。しかしながら、これらの方
法は収率が低かつたり、操作の手間がかかつたり、又、
高価な試薬を使用する等、工業的に有利な方法とは言え
ない。すなわち、たとえばセフアロスポラデシン酸のエ
ステル化反応は、通常のエステル化手段では二重結合の
転位あるいはラクトン化が優先し達成できない。わずか
にジアゾ化合物たとえば、ジアゾメタン、ジアゾエタン
、ジフエニルジアゾメタン、フエニルジアゾメタンのご
ときもので、メチル、エチル、ジフエニルメチル、ベン
ジル等を導入することは可能であるが、3位アシル化後
、β−ラクタム環の開裂、二重結合の転移等の副反応を
起さずに脱エステル化するのは困難である。一方、セフ
アロスポリン化合物の3−アセトキシメチル基を求核試
薬にて置換する反応は、反応中に原料、中間体、生成物
の分解も並行して起るため、反応時間が長くかかること
は収率低下をもたらす(A,BTay!0rJ.Che
m.S0c.7020(1965))ため、アセトキシ
基よりも置換反応が容易に起りやすい誘導体が望まれて
きた。
本発明者らは、上記のごとき問題点を克服すべく種々の
研究を重ねた結果、アシル化剤として化合物頂を使用す
れば高収率にて化合物凹に導くことができ、この化合物
凹は極めて容易に求核性化合物により置換反応が起る事
実を知り、本発明を完成した。
本発明によれば、これまで困難とされてきたセフアロス
ポラデシン酸のO−アシル化が、潤により収率よく達成
され、かつこうして合成された化合物凹は、3−アセト
キシメチルセフアロスポリン類と比較し、求核性化合物
との置換反応が速やかにしかも収率良く進行する。
本発明方法における最先の原料化合物は、一般に発酵生
産によつて容易に得られるもの、あるいはこれから化学
的あるいは酵素的処理により容易に導びかれるものが特
に有利に用いられる。
従つて、R3として、水素あるいはフエニルアセチル、
フエノキシアセチル、5−アミノ−5−カルボキシバレ
リルおよびそのアミノ基またはカルボキシル基を保護し
たものが含まれるが、その他ペニシリンおよびセフアロ
スポリン誘導体の6位または7位に置換するたとえばホ
ルミル、アセチル、プロピオニル、ヘキサノイル、ブチ
リル、ヘプタノイル、オクタノイル、シクロペンタノイ
ル等の脂肪族カルボン酸アシル基、フエニルアセチル、
2チエニルアセチル、テトラゾリルチオアセチル、テト
ラゾリルアセチル、シアノアセチル、フエノキシアセチ
ル、アセトアセチル、4−メチルチオ−3−オキソブチ
リル、4−カルバモイルメチルチオ−3−オキソブチリ
ル、α−フエノキシプロピオニル、α−フエノキシブチ
ロイル、p−ニトロフエニルアセチル、α−(2−ピリ
ジルオキシ)アセチル、α〜(3−ピリジルオキシ)ア
セチル、α−(4−ピリジルオキシ)アセチル、2−(
2オキソ一4−チアゾリン−4−イル)アセチル、2−
(2−イミノ−4−チアゾリン−4−イル)アセチル、
4−ピリジルチオアセチル、2−(3シドノン)アセチ
ル、l−ピラゾリルアセチル、2−フリルアセチル、6
−(2/−オキソ一3′−メチルピリダジニル)チオア
セチル等のモノ置換脂肪族カルボン酸アシル基、α一カ
ルボキシルフエニルアセチル、α−アミノフエニルアセ
チル、マンデリル、α−スルホフエニルアセチル、α−
スルホ−(p−アミノフエニル)アセチル、フエニルグ
リシジル、1−シクロヘキセニルグリシル、チエニルグ
リシル、フリルグリシル、シクロヘキサジエニルグリシ
ル、α一(β−メチルスルホニルエトキシカルボニル)
−アミノフエニルアセチルなどのジ置換脂肪族カルボン
酸アシル基、ベンゾイル、p−ニトロベンゾイル等の芳
香族アシル基、5−メチル−3−フエニル一4−イソキ
サゾリルカルボニル、3−(2,6−ジクロロフエニル
)−5−メチル−4−イソキサゾリルカルボニル等の異
項環アシル基などであうてもよい。また、これらのアシ
ル基中のアミノ基または(および)カルボキシル基等の
官能基は、適宜に保護されているものも含まれる。たと
えばアミノ基の保護基としては、たとえばプタロール、
ベンゾイル、pニトロベンゾイル、トルオイル、ナフト
ール、p − Tert−ブチルベンゾイル、p −
Tert−ブチルベンゼンスルホニル、フエニルアセチ
ル、ベンゼンスルホニル、フエノキシアセチル、トルエ
ンスルホニル、クロロベンゾイル等の芳香族アシル基、
アセチル、バレリル、カプリリル、n−デカノイル、ア
クリロイル、ピバロイル、ガンファスルホニル、メタン
スルホニル、クロロアセチル等の脂肪族アシル基、エト
キシカルボニル、イソボルニルオキシカルボニル、フエ
ニルオキシカルボニル、トリクロロエトキシカルボニル
、ベンジルオキシカルボニル等のエステル化されたカル
ボキシ基、メチルカルバモイル、フエニルカルバモイル
、ナフチルカルバモイル等カルバモイル基もしくは同様
なチオカルバモイル基等が用いられる。また、前記R3
で示される有機残基中のカルボキシル基およびセフエム
環の4位カルボキシル基を保護した形で本反応に利用す
ることも出来る。そのような保護基としては、たとえば
メチル、エチル、第三級ブチル、第三級アミル、ベンジ
ル、p−ニトロベンジル、p−メトキシベンジル、ベン
ツヒ ιドリール、1−インダニル、フエナシル、フエ
ニル、p−ニトロフエニル、メトキシメチル、エトキシ
メチル、ベンジルオキシメチル、アセトキシメチル、ピ
バロイルオキシメチル、β−メチルスルホニルエチル、
メチルチオメチル、トリチル、 ιβ,β,β一トリク
ロロエチル、トリメチルシリル、ジメチルシリル等のシ
リル基などが用いられる。また、これらのカルボキシル
基はリチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム等
のアルカリ金属、カルシウム等のアルカリ土類金属、た
と Jえばシンクロヘキシルアミン、トリエチルアミン
、ピリジン、トリブチルアミン等の種々のアミン類との
無機、有機塩となつていても用いることが出来る。また
、化合物(資)の中、Xで示される2価基は、 5−端
にカルボニル基またはスルホニル基を有し、通常−C−
N−と5ないし6員環を形成しうる炭素鎖であつて、こ
の炭素鎖は2重結合等の不飽和・結合あるいは酸素原子
、硫黄原子を末端あるいは途中に有していてもよく、さ
らにその炭素上に適宜の置換基を有していてもよい。
このような炭素鎖上の置換基としては、ハロゲン、カル
ボキシ、ニトロ基、たとえばメチル、エチル、プロピル
等のアルキル基、ベンジル、フエネチル等のアラルキル
基、フエニル、トリル等のアリール基などが用いられる
。これ等の置換基が2以上ある場合は炭素鎖と共に環を
形成していてもよい。Zはたとえばメトキシカルボニル
、エトキシカルボニル等の低級アルコキシカルボニル基
、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等のアシル基、
ベンゼンスルホニル、トシル、メシル等のスルホニル誘
導体等の有機酸残基、カルバモイル基を示す。したがつ
て化合物(資)の具体例としては、たとえばN−カルボ
エトキシフタールイミド、N−カルボメトキシフタール
イミド、N−カルボエトキシサクシンイミド、N−カル
ボメトキシサクシンイミド、N−トシルフタールイミド
、N−メチルスルホニルフタールイミド、N−ベンゼン
スルホニルフタールイミド、N−アセチルフタールイミ
ド、N−プロピオニルフタールイミド、N−アセチルサ
クシンイミド、N−カルボエトキシサツカリン、N−ア
セチルサツカリン、N−ベンゾイルサツカリン、N−カ
ルボエトキシマレイミド、N−カルボエトキシグルター
ルイミド、N−カルボエトキシ−( p −クロルフエ
ニル)サクシンイミド、イサチン、N−カルボエトキシ
イサチン、N−カルボメトキシイサチン、N−アセチル
イサチン、N−(メチルカルバモイル)イサチン、(フ
エニルカルバモイル)イサチン、N−(β−メチルスル
ホニルエトキシカルボニル)イサチン等があげられる。
化合物Πと化合物既の反応は、一般に適当な不活性溶媒
の存在下で行なうのが便宜である。
繁用される溶媒は、たとえばジクロルメタン、クロロホ
ルム、ジクロルエタン、酢酸エチル、アセトニトリル、
アセトン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド
、ジメチルアセタミド、ジオキサン、エーテルまたはこ
れらの混合物等である。この反応は等モル的であり、l
に対して(資)を等モル量用いることで充分であるが、
反応時間の短縮、債の分解等を考慮して貰を過剰に用い
てもよい。反応は一般に室温から氷冷下(たとえば−1
0℃〜40℃)好ましくは0〜30℃で行なうことがで
き、通常、短時間(2時間以内)で進行するが、反応温
度にいくらか依存するのと、反応を完全に完了するため
に通常、0.5〜15時間反応を行う。又、必要とあら
ばトリエチルアミン等のアミンを反応系中に添加しても
よいし、又、原料物質として、アルカリ金属塩を使用し
た場合、トリエチルアミンの塩酸塩等を等モル加え、塩
交換してから反応させることもできる。なお、原料物質
が保護されていないアミノ基を有する場合には、本反応
条件にて3位のハイドロキシ基のアシル化と同時に、同
じアシル基によりアシル化される。したがつて、アシル
基中のアミノ基の保護基としては前に述べたもの以外に
も(代)と反応して生成するものも含まれる。かくして
得られた化合物凹は、それ自体抗菌性を有するだけでな
く、要すればそれ自体もしくは常法により脱アシル化し
たのち必要なアシル基を導入後、求核性化合物と容易に
反応して、化合物〔1〕に導びくことが出来る。
この反応に用いられる求核性化合物としては、セフアロ
スポリンの3アセトキシ基と置換する化合物は全て用い
ることができ、しかも3−アセトキシ体に比しはるかに
速く反応は進行する。従つて、求核性化合物としては、
たとえばオキシド化されていてもよい窒素原子1個以上
を含有するか、窒素以外のたとえば酸素、硫黄などの原
子を含んでいてもよい含窒素複素環チオールであつて、
その核上に置換基を有するものも含まれる。このような
チオールの含窒素複素環基としては、たとえばピリジル
、N−オキシドピリジル、ピリミジル、ピリダジニル、
Nーオキシドピリダジニル、ピラゾリル、ジアゾリル、
チアゾリル、1,2,3−チアジアゾリル、1,2,4
−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリル、1,
2,5−チアジアゾリル、1,2,3−オキサジアゾリ
ル、1,2,4−オキサジアゾリル、1,3,4−オキ
サジアゾリル、1,2,5−オギサジアゾリル、1,2
,3−トリアゾリル、1,2,4−トリアゾリル、1H
−テトラゾリル、2H−テトラゾリル等が繁用される。
また、これら含窒素複素環基上の置換分としては、たと
えば水酸基、メルカプト基、アミノ基、カルボキシル基
、カルバモイル基、低級アルキル基(たとえばメチル、
エチル、トリクロロメチル、ブbピ′にイソプロピにブ
卸2イソブチノv争)、低級アルコキシ基(たとえばメ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブト
キシ等)、ハロゲン原子(たとえば塩素、臭素等)等の
一価基、あるい[は低級アルキレン基、−S−,−N一
基等の多価基を介して種々の置換基を有するものが用い
られる。
多価基が低級アルキレン基である場合には、この置換分
は水酸基、メルカプト基、アミノ基、モルホリノ基、カ
ルボキシル基、スルホ基、カルバモイル基、アルコキシ
カルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、アルコキ
シ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アシロ
キシ基、モルホリノカルボニル基などであつてもよい。
多価基が−S−,−N一基である場合には、置換分は低
級アルキル基および上記置換分を有する低級アルキレン
基などであつてもよい。多価基が−Nである場合には、
さらにカルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシ
ル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモイル基等
の置換分が直結していてもよい。具体的には、たとえば
カルボキシメチル、カルバモイルメチル、N一低級アル
キルカルバモイルメチル(例えばN,N−ジメチルカル
バモイルメチル)、ハイドロキシ低級アルキル(例えば
ハイドロキシメチル、2−ハイドロキシエチル)、アシ
ルオキシ低級アルキル(例えばアセトキシメチル、2−
アセトキシエチル)、アルコキシカルボニルメチル(例
えばメトキシカルボニルメチル、ヘキシルオキシカルボ
ニルメチル、オクチルオキシカルボニルメチル)、メチ
ルチオメチル、メチルスルホニルメチル、N一低級アル
キルアミノ低級アルキル(例えばN,N−ジメチルアミ
ノメチル、N,N−ジメチルアミノエチル、N,N,N
−トリメチルアンモニウムエチル)、モルホリノメチル
などの置換アルキル基、低級アルキルアミノ(例えばメ
チルアミノ)、スルホ低級アルキルアミノ(例えば2−
スルホエチルアミノ)、ハイドロキシ低級アルキルアミ
ノ(例えばハイドロキシエチルアミノ)、低級アルキル
アミノ低級アルキルアミノ(例えば2−ジメチルアミノ
エチルアミノ、2−トリメチルアンモニウムエチルアミ
ノ)、アシルアミノ(例えばアセチルアミノ)、2−ジ
メチルアミノアセチルアミノ、2トリメチルアンモニウ
ムアセチルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ(
例えばメトキシカルボニルアミノ)などの置換アミノ基
、メチルチオ、2−ハイドロキシエチルチオ、2−アシ
ルオキシエチルチオ(例えば2−アセトキシエチルチオ
、2−フエニルアセトキシエチルチオ、2−カプロイル
オキシエチルチオ)、カルボキシメチルチオ、アルコキ
シカルボニルメチルチオ(例えばメトキシカルボニルメ
チルチオ、ヘキシルオキシカルボニルメチルチオ)、カ
ルバモイルメチルチオ、N−低級アルキルカルバモイル
メチルチオ(例えばN,N−ジメチルカルバモイルメチ
ルチオ)アセチルメチルチオ、N−低級アルキルアミノ
低級アルキルチオ(例えば2 − N,N−ジメチルア
ミノエチルチオ、2 − N,N,N−トリメチルアン
モニウムエチルチオ)、モルホリノカルボニルメチルチ
オ、2−スルホエチルチオなどの置換チオ基があげられ
る。具体的には、たとえばテトラゾールチオール、メチ
ルテトラゾールチオール、フエニールテトラゾールチオ
ール、メチルチアジアゾールチオール、ハイドロキシエ
チルチオチアジアゾールチオール、メチルチオチアジア
ゾールチオール、チアジアゾールチオール、カルバモイ
ルアミノチアジアゾール、カルバモイルメチルチオチア
ジゾール、チアゾールチオール、メチルチアゾールチオ
ール、カルボキシメチルチアゾールチオール、トリアゾ
ールチオール、ジメチルトリアゾールチオール、ピラゾ
ールチオール、エトキシカルボニルメチルトリアゾール
チオール、イミダゾールチオール、メチルオキサジアゾ
ールチオール、ピリジンチオール、ピリミジンチオール
、メチルピリダジンチオール、トリアジンチオール等の
複素環チオールがある。その他、メタンチオール、エタ
ンチオール、チオフエノール等の脂肪族、芳香族チオー
ル、チオ尿素、N−メチルチオ尿素、N−メチル−N’
−ピリジルチオ尿素等、チオ尿素誘導体、チオセミカル
バジツド、チオアセトアミド、チオベンズアミド等のチ
オアミド誘導体、チオ硫酸ナトリウム、アジ化ナトリウ
ムなど、さらにはたとえばピリジン、キノリン、ピコリ
ン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、イソニコチン酸ア
ミド、イソニコチン酸ヒドラジド、m−ブロモピリジン
、ピリジンスルホン酸、ピリジン −一 m −カルビ
ノール(3−ヒドロキシメチルピリジン)、ピリジンア
ルデヒド、キノリン、イソキノリン等のピリジン誘導体
、ピラジン、ピラジン酸アミド(2−カルバモイルピラ
ジン)、ピリダジン、ピリミジン、イミダゾール、1=
メチルイミダゾール等の含窒素複素環化合物、トリエチ
ルアミン、トリメチルアミン等の3級アミン、トリフエ
ニルホスフイン、トリエチルホスフイン、リン化合物、
シアン化ナトリウム、N−(シクロヘキシ一1−エニル
)−ピロリジン、シアノ酢酸メチルのテトラ−n−ブチ
ルアンモニウム、アセチルアセトン等の炭素求核試薬な
どが用いられる。これらの求核性化合物と化合物叩との
置換反応は通常溶媒中で行なわれる。溶媒としては水が
繁用されるが反応に関与しない親水性溶媒、たとえばア
セトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルホルムアミド、メタノール、エタノール、ジメチルス
ルホキサイド等と水との混合溶液あるいは非水系でもお
こなうことが出来る。化合物Πは、遊離であつてもよい
が、たとえばナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属
塩、トリエチルアミン、トリメチルアミンなどの有機ア
ミン塩として反応に供するのが適当である。求核性化合
物も遊離またはアルカリ金属塩、有機アミン塩等として
反応に供せられる。反応に使用される求核性化合物の量
は、化合物lに対し、1当量以上が適当である。反応は
求核性化合物及び化合物Πの種類によつて異なるが、水
系溶媒の場合一般的に弱酸性ないし弱アルカリ性で行う
のが望ましい。反応温度は化合物Πの性質に大きく依存
するため特に限定されないが、10℃〜70℃が好まし
い。また、l(51]V1を反応する際に、求核試薬を
反応系に共存させておくことにより〔I〕が直接合成す
ることも可能である。この様に低温でかつ非水系溶媒で
も求核置換反応が可能であることは、化合物印の分解を
防ぐばかりでなく、水系溶媒では合成不可能なものも合
成することができる。
また反応液中に、リチウム、ナトリウム、カリウム、ア
ンモニウム等の塩化物、臭化物、沃化物、チオシアン化
物、硝酸塩等の無機塩を添加して反応を行つてもよい。
かくして得られたセフアロスポリン化合物印は、公知の
手段たとえば、溶媒抽出、液性変換、転溶、蒸留、晶出
、再結晶、クロマトグラフイ一などによつて単離精製す
ることができ、遊離のまま、またはその塩、あるいは種
々のエステルとして、それ自体抗菌性物質として用いら
れるものもあるが、より強力な抗菌性物質を製造するた
めの原料化合物としても有用である。
たとえば、セフアロスポリン化合物〔1〕を、それ自体
公知の方法(たとえば特公昭41−13862、同45
−40899、特開昭47−34387、米国特許3,
632,578号などに記載の方法)などにより7位ア
シル基を切断し、4−ハロゲノ3−オキソブチリルハロ
ゲニドを反応させて4ハロゲノ一3−オキソブチリルア
ミド体とし、ついでチオ尿素を反応させることによつて
、7〔2−(2−イミノ−4−チアゾリン−4−イル)
アセタミド〕体に導びくことができ、この化合物は3位
置換基の種類によつても多少異なるが、いずれもすぐれ
た抗菌性を示し、たとえば3位が1−メチルテトラゾー
ル−5−イルーチオメチル基であるものなどは特に有用
であつて、セフアゾリンの約1/5量でほぼ同等の効果
が期待できる。
実施例 1デアセチルセフアロスポリンCナトリウム1
水塩(純度90%、20g)をN,N−ジメチルホルム
アミド(80m1)に懸濁し、氷冷下に濃塩酸(8m0
を加え15分間かきまぜた。
この反応液にN,N−ジメチルホルムアミド(80m1
),Nカルボエトキシフタールイミド(409)および
トリエチルアミン(40m0を順次加え、3時間室温で
かきまぜた。この反応液を氷冷下かきまぜながら0.4
201)塩酸(2.01)中に注ぎ、ついで食塩(38
0f!)を加えて30分間かきまぜた。生じた沈澱を済
取し、飽和食塩水で洗い、五酸化リン土で減圧乾燥した
。本品を酢酸エチル(1.21)に懸濁し、室温で30
分間かきまぜ、不溶部.を済去し、かきまぜながらトル
エン(50077!0をゆつくり加え、減圧濃縮(50
0m1まで)した。析出物を済取し、トルエンで洗い、
減圧乾燥し、7β−(D−5−フタルイミド−5−カル
ボキシバレルアミド)−3−{2−(カルボエトキシカ
ルバモイル)ベンゾイル}オキシメチル−3−セフエム
一4−カルボン酸(31g)を得た。実施例 27β−
(D−5−フタルイミド−5−カルボキシバレルアミド
)−3−{2−(カルボエトキシカルバモイル)ベンゾ
イル}オキシメチル−3セフエム一4−カルボン酸(1
6.59)を冷水(100m1)に懸濁し、5−メルカ
プト−1−メチル−1H−テトラゾール(4.29)を
加え、氷冷下かきまぜながら重炭酸ナトリウム(6.0
g)を少しづつ加え澄明な溶液を得た。
この溶液にさらに少量の重炭酸ナトリウムを加え、PH
を5.0に調節し、食塩(309)を加え、60℃で1
.5時間加熱した。この反応液に水(100m0を加え
、かきまぜながら希塩酸を加えPHを1.5に調節し、
生ずる沈澱を淵取し、飽和食塩水で洗浄し、五酸化リン
上で減圧乾燥し、7β−(D−5−フタルイミド−5−
カルボキシバレルアミド)−3(1−メチル−1H−テ
トラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフエム一4
−カルボン酸(13.09)を得た。デアセチルセフア
ロスポリンCナトリウム1水塩(純度90%、100g
)をN,N−ジメチルホルムアミド( 0.41)に懸
濁し、氷冷下に濃塩酸・(0.041)を加え30分間
かきまぜた。
この反応液にN,N−ジメチルホルムアミド(0.31
)、カルボエトキシフタールイミド(200y)および
トリエチルアミン( 0.21)を順次加え3時間室温
でかきまぜた。この反応液を氷冷した酢酸エチル( 1
.51)、濃塩酸(120ゴ)および14%食塩水(
2.01)の混合物中に注ぎ、20分間かきまぜた。酢
酸エチル層を取り、水層を酢酸エチル(0.31)で抽
出し、酢酸エチル層を合し、14%食塩水で洗つた。こ
の酢酸エチル溶液にかきまぜながら4.75%重炭酸ナ
トリウム溶液(1.01)をゆつくり加え、15分間か
きまぜた。水層を取り、食塩(3009)を加え、かき
まぜながら5−メルカプト−1−メチル−IH−テトラ
ゾール(32θ)、重炭酸ナトリウム(171)および
水(0.121)の混合物を加え、さらに少量の重炭酸
ナトリウムを加えPHを4.7に合わせた。つぎに60
℃で1.5時間かきまぜ、反応液中の酢酸エチルを減圧
で留去し、水( 2.51)を加えかきまぜながら希塩
酸を加えPHを1.5に調節し、生ずる沈澱を濾取し、
飽和食塩水で洗浄し、五酸化リン上で減圧乾燥し、7β
−( 0 − 5 −フタルイミド−5−カルボキシバ
レルアミド)− 3 −( 1−メチル−IH−テトラ
ゾール−5−イル)チオメチル−3−セフエム一4−カ
ルボン酸(1399)を得た。本品のIRおよびNMR
スペクトルは実施例2で得たものと一致した。実施例
4 7β一( 2 −チエニルアセタミド)− 3 −ヒド
ロキシメチル−3−セフエム一4−カルボン酸ナトリウ
ム塩( 3.81)をN,N−ジメチルホルムアミド(
40mI!)に溶解し、N−カルボエトキシサツカリン
( 4.0g)、トリエチルアミン(2m1)を加えて
室温で4時間かきまぜた。
反応液を水(100ゴ)にあけて酢酸エチル(40m1
)で洗つた。水層を希リン酸でPH2.Oとし、酢酸エ
チル(60m0で抽出し、飽和食塩水で洗い、硫酸マグ
ネシウムで脱水後、濃縮してエーテルを加えると、7β
一( 2 −チエニルアセタミド)−3一{ 2 −一
=(カルボエトキシスルフアモイル)ベンゾィル}オキ
シメチル−3−セフエム一4−カルボン酸がエーテル1
分子を取りこんで結晶化した。収量3.8g。実施例
5 実施例4において7β一( 2 −チエニルアセタミド
)− 3 −ヒドロキシメチル−3−セフエム一4−カ
ルボン酸ナトリウム塩の代りに7β−フエニル酢酸アミ
ド−3−ヒドロキシメチル−3−セフエム一4−カルボ
ン酸ナトリウム塩( 3.79)を用いて同様に反応を
おこない7β−フエニル酢酸アミド− 3 −{ 2
−一(カルボエトキシスルフアモイル)ベンゾイル}オ
キシメチル−3−セフエム一 4 −カルボン酸の1分
子エーテル付加体を結晶として得た。
収量4.09。実施例 6 7β−フエニル酢酸アミド−3−{2−(カルボエトキ
シスルフアモイル)ベンゾイル}オキシメチル−3−セ
フエム一4−カルボン酸(3.09)、5−メルカプト
−1−メチル−1H−テトラゾール(1.09)を水(
50m0に懸濁し、重炭酸ナトリウムを加えてPHを5
.5として溶解し60℃で50分加温した。
希リン酸を加えてPHを2.0とし酢酸エチル(100
m0で抽出し、飽和食塩水で洗い、脱水後濃縮し、エー
テルを加えて析出物を済取し、7β−フエニル酢酸アミ
ド−3−(1メチル−1H−テトラゾール−5−イル)
チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸(1.89
)を得た。実施例 7 7β−(2−チエニルアセタミド)−3−ヒドロキシメ
チル−3−セフエム一4−カルボン酸ナトリウム塩(3
.89)をN,N−ジメチルホルムアミド(40d)に
溶解し、N−トシルフタルイミド(4.09)を加えさ
らにトリエチルアミン(2.0111)を加えて室温で
4時間撹拌した。
反応液を水(100m0にあけ、酢酸エチルで洗い、水
層を希リン酸でPH2.Oとし酢酸エチルで抽出し、脱
水後、2−エチルヘキサン酸ナトリウムのイソプロパノ
ール溶液を加えると、7β一(2−チエニルアセタミド
)−3−{2−(トシルカルバモイル)ベンゾイル}オ
キシメチル−3−セフエム4−カルボン酸ナトリウム塩
(4.09)が得られた。実施例 8 7β−(D−5−フタルイミド−5−カルボキシバレル
アミド)−3−ヒドロキシメチル−3セフエム一4−カ
ルボン酸ナトリウム塩(1.31)をN,N−ジメチル
ホルムアミド(107n1)に溶解しN−カルブエトキ
シサツカリン(0.89)およびトリエチルアミン(0
.4Tn1)を加えて室温で4時間かきまぜた。
水(50m1)にあけて酢酸エチルで洗い、水層を希リ
ン酸でPH2,Oとして酢酸エチルで抽出し脱水後濃縮
し、エーテルを加えると7β−(D−5−フタルイミド
−5−カルボキシバレルアミド)−3−{2−(カルボ
エトキシスルフアモイル)ベンゾイル}オキシメチル−
3セフエム一4−カルボン酸(1.49)が粉末として
得られた。実施例 9 7β−(D−5−フタルイミド−5−カルボキシバレル
アミド)−3−{(2−カルボエトキシスルフアモイル
)ベンゾイル}オキシメチル−3−セフエム一4−カル
ボン酸(0.89)を水(8m1)に加え、炭酸水素ナ
トリウムを加えて溶解し、ついで5−メルカプト−1−
メチル−1H−テトラゾール(0。
159)を加え、炭酸水素ナトリウムをさらに加えてP
Hを5.3に調整した。
ついで60℃の水浴上で50分間加温後、希リン酸でP
Hを2.0として酢酸エチル(20m1)で抽出し、脱
水後濃縮して、残留物にエーテルを加えると7β(D−
5−フタルイミド−5−カルボキシバレルアミド)−3
〜(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イル)チオ
メチル−3−セフエム一4カルボン酸(0.69)を得
た。本品は実施例2で得たものとNMRスペクトルが一
致した。実施例 10 7β一(D−5−ベンズアミド一5−カルボキシバレル
アミド)−3−ハイドロキシメチル−3セフエム一4−
カルボン酸ジナトリウム塩C2,69)をN,N−ジメ
チルホルムアミド(16m1)、水(4m0の混液に溶
解し、N−トシルフタルイミド(2.39)およびトリ
エチルアミン(0.79)を加えて室温で2時間かきま
ぜた。
反応液を水に.あけて酢酸エチルで洗い、次いで希リン
酸でPHを2.0として酢酸エチルで抽出し、脱水後溶
媒を留去し、得られた残渣をエーテルで洗浄して粉末化
し、7β−(D−5−ベンズアミド一5−カルボキシバ
レルアミド)−3−{2−(トシルカルバjモール)ベ
ンゾイル}オキシメチル−3−セフエム一4−カルボン
酸(3.59)を得た。実施例 11 7β一(D−5−ベンズアミド一5−カルボキシバレル
アミド)−3−{2−(トシルカルバモイル)ベンゾイ
ル}オキシメチル−3−セフエム4−カルボン酸(1.
69)を水(20m0に炭酸水素ナトリウムを加えて溶
かし、ついで5−メルカプト−1−メチル−1H−テト
ラゾール(0.3f1)を加え、さらに炭酸水素ナトリ
ウムを加えてPHを5.2に調整後60℃で50分加温
し、冷後、飽和食塩水(40m0を加え、希塩酸でPH
を1.5とし析出した固形物を淵取、飽和食塩水で洗浄
後、酢酸エチル−テトラヒドロフラン(2:1)40T
fL11水(10m1)にとかし分液し、有機層を乾燥
後、溶媒を留去し、残渣をエーテルで洗つて粉末化し、
7β−(D−5−ベンズアミド一5−カルボキシバレル
アミド)−3−(1−メチル−1Hテトラゾール−5−
イル)チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸(1
.1g)が得られた。
実施例 127β−(2−チエニルアセタミド)−3−
ハイドロキシメチル−3−セフエム一4−カルボン酸ナ
トリウム塩(3.89)をN,N−ジメチルホルムアミ
ド(30m1)に溶解し、N−カルボエトキシサクシン
イミド(2.59)、トリエチルアミン(1.5w11
)を加えて室温で20時間撹拌した。
反応液を氷水にあけ、酢酸エチル(50m1)で洗つた
。水層を希リン酸でPH2.Oとして酢酸エチルで抽出
し、脱水後、2−エチルヘキサン酸ナトリウムのイソプ
ロパノール溶液を加え、析出した7β(2−チエニルア
セタミド)−3−(3−エトキシカルボニルカルバモイ
ルプロピオニル)オキシメチル−3−セフエム一4−カ
ルボン酸ナトリウム塩(3.29)を得た。実施例 1
3 7β−(D−5−フタルイミド−5−カルボキシバレル
アミド)−3−ヒドロキシメチル−3セフエム一4−カ
ルボン酸ジトリエチルアミン塩(705〜)をアセトニ
トリル(10m0に溶解し、トリエチルアミン(202
Tf19),5−メルカプト−1−メチル−1H−テト
ラゾール(232Tv),N−カルボエトキシイサチン
(438W19)を順次加え、室温にて3時間反応し、
反応後溶媒を減圧留去し、残渣を水、酢酸エチルにとか
し、PH2.Oとし酢酸エチルにて抽出し、酢酸エチル
溶液を水洗後、この溶液に水を加え、重曹水にて…5.
0とし、分離後、水溶液を濃縮し、残留物をXAD−カ
ラムクロマトグラフイ一に付し、水メタノール混合溶媒
にて分離、溶出し、凍結乾燥すると7β−(D−5−フ
タルイミド−5−カルボキシバレルアミド)−3−(1
−メチル−1Hテトラゾール−5−イル)チオメチル−
3−セフエム一4−カルボン酸モノナトリウム塩(51
2即)が得られた。
実施例 14 7β−フエニルアセトアミド一3−ヒドロキシメチル−
3−セフエム一4−カルボン酸トリエチルアミン塩(9
00η)をDMF(10TI10に溶解し、トリエチル
アミン(0.4m0,N−カルボエトキシイサチン(8
76η)を加え、室温にて2時間反応後DMFを減圧留
去し、得られた残渣に水、酢酸エチルを加えpl]2.
0とした後、水層を分取し、重曹水にてPH4.Oに調
整後、この水溶液をDOwexl×2(AcO)のカラ
ムを通し、得られた水溶液を凍結乾燥するとN−(7β
−フエニルアセトアミド一3−セフエム一3−イルメチ
ル)トリエチルアンモニウム−4−カルボキシレート(
620即)が得られた。
実施例 15 デアセチルセフアロスポリンCナトリウム1水塩(純度
90%、826η)をDMF(4.0111)に懸濁し
、氷冷下濃塩酸(0.33m1)を加えると橙明な溶液
になる。
この反応液にDMF(8.0m1)′トリエチルアミン
(2.1m1),5−メルカプト1−メチル−1H−テ
トラゾール(464η)を加えた後、室温にてN−カル
ボエトキシイサチン(1.752f!)を少しずつ加え
、その後室温にて4時間反応し、反応終了後、DMFを
減圧留去し、残渣に水、酢酸エチルを加え、PH2.O
とした後、酢酸エチル層を分取し、この溶液に水を加え
、重曹水にてPH7.Oとし水層を分取後、この水溶液
を濃縮後、XAD−カラムクロマトグラフイ一に付し、
水−メタノール混合溶媒にて分離、溶出し、凍結乾燥を
すると7β−{D−5−(0−エトキシカルボニルアミ
ノ)フエニルグリオキシアミド5−カルボキシバレルア
ミド}−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−5−
イル)チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸ジナ
トリウム塩(1.0519)が得られた。
実施例 16 (1)ジクロルメタン300m11トリエチルアミン2
7m11ジメチルアニリン100m1の混液をあらかじ
め10℃に冷却し、7一〔D−5−(フタルイミド)ア
ジピンアミド〕−3−(1−メチル−1H−テトラゾー
ル−5−イル)チオメチル−3−セフエム一4−カルボ
ン酸509を加えて溶解し、ついでジクロルジメチルシ
ラン36T111を加えた。
この時内温は27℃まで上昇した。この温度で30分撹
拌後、内温を−35℃に冷却し、五塩化リン32.49
を加えた。−25℃で40分撹拌し、さらに−35℃に
冷却してチオアセトアミド209を加えた。−20〜−
25℃で40分撹拌後、−30℃に冷却し、メタノール
200m1をゆつくり滴下した。さらに同温度で一塩化
硫黄17m1をゆつくり滴下した。20分撹拌後、水2
00m1を加え、ついで40%炭酸カリ水溶液でPHを
3.2とし、60分撹拌後、析出した結晶を済取し、水
、アセトンで洗つた。
このようにして得た粗結晶を10(fl)塩酸230m
1に懸濁し、30℃で1時間撹拌した。不溶物を沢過し
、5〜10℃に冷却して炭酸カリでPH3.3として1
時間撹拌し、析出した結晶を淵取し、水、アセトンで洗
い、さらに五酸化リン上で乾燥し、7ーアミノ一3−(
1メチルテトラゾール−5−イル)チオメチル3−セフ
エム一4−カルボン酸17.09を得た。(2)ジケテ
ン3,39の塩化メチレン1607!11溶液に、内温
を−25から−35℃に維持するよう冷却かきまぜなが
ら、塩素ガス2.8f!を100分間にわたつて導入し
ついでこの混液を同温度で30分間かきまぜた。別に7
ーアミノ一3(1−メチルテトラゾール−5−イル)チ
オメチル−3−セフエム一4−カルボン酸10.09と
ジブチルアミン7.99を塩化メチレン60m1に溶解
し、−10℃に冷却しておき、これに上記の反応溶液を
液温が−10から−20℃になるよう冷却かきまぜなが
ら30分間にわたつて滴下しついでこの混液を同温度で
40分間かきまぜた。この反応液を薄層クロマトグラフ
イ一によつて観察すると、7一(4−クロル−3オキソ
ブチリルアミド)−3−(1−メチルテトラゾール−5
−イル)チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸の
存在が確認された。この反応液にチオ尿素4。649を
加えて溶解させ、内温を徐々に17−19℃にまで上昇
させて、この混液をこの温度でかきまぜていると結晶が
析出した。
この結晶を吸引済取し、塩化メチレン30m1で洗浄後
乾燥すると2−(2−イミノ4−チアゾリン−4−イル
)アセタミド化合物12,89が得られた。実施例 1
7 アセトニトリル(14m0中に7β−フエニルアセタミ
ド一3−ヒドロキシメチル−3−セフエム一4−カルボ
ン酸トリエチルアミン塩(900W1f)を溶解し、つ
いでトリエチルアミン(200〜),5−メルカプト−
1−メチル−1H−テトラゾール(464mg)および
N−(メチルカルバモイル)イサチン(916η)を加
え、30℃で一晩撹拌した。
溶媒を留去し、残渣に水と酢酸工チルを加えて溶解させ
た。水層を取り、酢酸エチルで洗い、塩酸で酸性とし、
酢酸エチルを加えて30分間撹拌した。有機層を分離し
て取り、食塩水で洗い、炭酸水素ナトリウム水溶液で抽
出した。この水溶液をセフアデツクスLH−20カラム
クロマトグラフイ一に付し精製した。目的物の分画を集
め、濃縮し、リン酸で酸性とし、酢酸エチルで抽出した
。乾燥後濃縮し、残渣にエーテルを加えた。析出した粉
末を淵取すると7β−フエニルアセタミド一3−(1−
メチル−1H−テトラゾール〜5−イル)チオメチル−
3−セフエム一4−カルボン酸が得られた。本品は、N
MRスペクトルにおいて、実施例6で得たものと一致し
た。実施例 18ジクロルメタン(10077!/)に
7β−フエニルアセタミド一3−ヒドロキシメチル−3
−セフエム一4−カルボン酸トリエチルアミン塩(4.
59)を溶解し、ついでトリエチルアミン(1.4wL
1)およびN−カルボエトキシサツカリン(3.09)
を加え、室温で一晩撹拌した。
溶媒を減圧下留去し、残渣に水と酢酸エチルを加えた。
分液して水層を取り、リン酸で酸性とし、酢酸エチルで
抽出した。乾燥後溶媒を留去し、残渣にエーテルを加え
ると7β−フエニルアセタミド一3−〔2−(N−カル
ボエトキシスルフアモイル)ベンゾイル〕オキシメチル
−3−セフエム一4−カルボン酸の1分子エーテル付加
体が結晶として得られた。収量、6.09。本品は実施
例5で得たものとIRスペクトルが一致した。実施例
19 7β−〔D−5−(p−t−ブチルベンツアミド)−5
−カルボキシバレルアミド〕−3−ヒドロキシメチル−
3−セフエム一4−カルボン酸ジナトリウム塩(5.2
9)をN,N−ジメチルホルムアミド(40w11)に
溶解し、氷冷下N−カルボエトキシサツカリン(3.2
9)およびトリエチルアミン(1.6w11)を加え室
温で2時間撹拌した。
反応液を氷水にあけ、酢酸エチルで2回洗つた。水層を
PH2.Oにし、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で
2回洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。エ
ーテノ?を加え、氷冷し、析出物を済取すると7β−〔
D−5−(p−t−ブチルベンツアミド)−5−カルボ
キシバレルアミド〕−3〔2−(N−カルボエトキシス
ルフアモイノ(ハ)ベンゾイルオキシ〕メチル−3−セ
フエム一4−カルボン酸(5.39)が得られた。実施
例 20 7β−(D−5−フタルイミド−5−カルボキシバレル
アミド)−3−{2−(カルボエトキシカルバモイノ(
ハ)ベンゾイルオキシ}メチル−3−セフエム一4−カ
ルボン酸(14.59)をジクロルメチン(120mi
)に懸濁し、1″0℃以下にてトリエチルアミン(12
m1)を加えて溶カル、次にN,N−ジメチルアニリン
(207fL1)、ジメチルジクロルシラン(8.97
710を加え20〜25℃にて30分間撹拌した。
次に−30℃に冷して五塩化リン(96859)を加え
、−25℃にて30分反応後、−20℃以下にてメタノ
ール(50m1)を滴下し、−15〜−10℃にて20
分間反応した後、氷水(100m0を加えた後、5分間
激しく撹拌した。次に反応液を分液し、水層を取り、こ
の水溶液をジクロルメタンにて洗浄後、40(fl)炭
酸カリ水溶液にてPFI3.5とし、析出物を淵取し、
水、50%水−メタノール、アセトンにて洗浄後乾燥す
ると、7β−アミノ−3−{2−(カルボニトキシカル
バモイル)ベンゾイルオキシ}メチルニ3−セフエム一
4−カルボン酸が得られた。(1)ジメチルホルムアミ
ド(20m1)に7β(t−ブトキシカルボニル)アミ
ノ−3−ヒドロキシイチル一3−セフエム一4−カルボ
ン酸ナトリウム塩(3.209)を溶解し、N−カルボ
エトキシサツカリン(3.209)およびトリエチルア
ミン(2.0m1)を加え室温で1時間撹拌し、さらに
トリエチルアミン(2.0a)を加えて1時間撹拌した
。反応液をトルエン(11)にあけ、析出物を淵取し、
トルエンで洗い、乾燥した。このようにして得た粉末を
水(30wL1)に溶解し、酢酸エチル(200m1)
を加え、希リン酸でPHを4.0にした。分液後、酢酸
エチル層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮
した。濃縮液(30m1)にエーテル(200m1)を
撹拌しながら加え、析出物を沢去した。Fi液を濃縮し
、濃縮液(30m0に四塩化炭素(100w11)を加
えた。
析出物を済取し、四塩化炭素で洗い、五酸化リンで乾燥
すると、7β(t−ブトキシカルボニル)アミノ−3〔
2−(N−カルボエトキシスルフアモイル)ベンゾイル
オキシ〕メチル−3−セフエム一4カルボン酸(2.5
0f!)が得られた。
(2) 7β−(t−ブトキシカルボニル)アミノ3−
〔2−(N−カルボエトキシスルフアモイル)ベンゾイ
ルオキシ〕メチル−3−セフエム4−カルボン酸(2.
29)を氷冷したトリフルオル酢酸(20m1)に溶解
し、20分間撹拌した。
ついでトリフルオル酢酸を減圧下留去し、飴状残留物を
得た。エーテル(50m0を加え生ずる固型物をほぐし
て淵取し、エーテルで洗い、さらに五酸化リン土で乾燥
すると7β−アミノ−3−〔2−(N−カルボエトキシ
スルフアモイル)ベンゾイルオキシ〕メチル−3−セフ
エムカルボン酸(1.559)が得られた。
実施例 22 水(2m1)に5−メルカプト−1H−1,2,3−ト
リアゾール(120mf)および水酸化ナトリウム(4
0W9)を加え、さらに氷冷下、7β−アミノ−3−〔
2−(N−カルボエトキシカルバモイル)ベンゾイルオ
キシ〕メチル−3−セフエム一4−カルボン酸(450
1v)を加えて溶解し、希塩酸で…を5.5に調整した
この溶液を60℃で1時間撹拌し、メタノール(5TL
1,)を加えて室温にもどした。希塩酸で山を3.9と
し、さらに1時間、氷冷下撹拌した。析出物を淵取し、
水およびメタノールで洗い、五酸化リンで乾燥し、7β
アミノ−3−(1H−1,2,3−トリアゾール−5−
イル)チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸(1
93mg)を得た。IR(KBr):CTfL−118
00,1525実施例 23(1)ジクロルメタン(1
7n1!)にジケテン(0.1m1)を溶解し、−50
〜−40℃に冷却し、この液に1.0Mの臭素のジクロ
ルメタン溶液0.407!/)を5分間で加え、さらに
20分間撹拌した。
別に、7β−アミノ−3−〔2−(N−カルボエトキシ
スルフアモイル)ベンゾイルオキシ〕メチル−3−セフ
エム一4−カルボン酸(475η)をジクロルメタン(
3wL1)に懸濁し、−40℃に冷してジクロルメタン
(3TfL1)に溶解したトリエチルアミン(0.42
m1)を加えた。この溶液を上記の反応液に−40〜−
30℃で加え、10分間撹拌後、さらに氷冷下30分撹
拌した。ついでジクロルメタンを減圧下留去し、残渣に
10%リン酸(5w11)、水(10d)、テトラヒド
ロフラン(2m1)および酢酸エチル(10m0を加え
はげしく撹拌した。有機層を飽和食塩水で洗い乾燥し、
溶媒を留去してエーテル(20m0を加えると、7β−
(4−ブロモ3−オキソブチルアミド)−3−〔2−(
Nカルボエトキシスルフアモイル)ベンゾイルオキシ〕
メチル−3−セフエム一4−カルボン酸(0.59)が
得られた。(2)アセトン(1m1)に7β−(4−ブ
ロモ−3オキソブチルアミド)−3−〔2−(N−カル
ボエトキシスルフアモイル)ベンゾイルオキシ〕メチル
−3−セフエム一4−カルボン酸(319Tf19)を
溶解し、氷冷下水(1m1)とチオ尿素(42mg)を
加えた。
ついで炭酸水素ナトリウム(42W19)および水(1
m1)を加え、この混液を室温で5時間反応した。氷冷
し、析出した結晶を沢取し、水およびエーテルで洗うと
7β−(2−イミノ−4−チアゾリン−4イル)アセタ
ミド−3−〔2−(N−カルボエトキシスルフアモイル
)ベンゾイルオキシ〕メチル−3−セフエム一4−カル
ボン酸が得られた。7β−(2−チエニルアセタミド)
−3−〔2(N−カルボエトキシスルフアモイル)ベン
ゾイルオキシ〕メチル−3−セフエム一4−カルボン酸
のエーテル一分子付加体(619〜)、アジ化ナトリウ
ム(100ワ)および炭酸水素ナトリウム(84即)を
PH6.4のリン酸バツフア一(10m0に溶解し、6
0℃で1時間加熱撹拌した。
冷後、反応液をリン酸で酸性とし、酢酸エチルで抽出し
た。酢酸エチル層を乾燥し、減圧下濃縮し、エーテルを
加えて粉末化し、7β−(2チエニルアセタミド)−3
−アジドメチル−3セフエム一4−カルボン酸を得た。
実施例 25 アセトニトリル(10m0に7β−〔D−5(p−トル
エンスルホンアミド)−5−カルボキシバレルアミド〕
−3−ヒドロキシメチル−3セフエム一4−カルボン酸
ジトリエチルアミン塩(729η)を加え、トリエチル
アミン(202W!9),5−メルカプト−1−メチル
−1H−テトラゾール(232〜)およびN−カルボエ
トキシイサチン(438η)を順次加えた。
この反応液を室温で3時間撹拌した後溶媒を減圧下留去
した。残渣に水および酢酸エチルを加え、PH2.Oと
した。分液して有機層を取り、水洗し、水を加え、炭酸
水素ナトリウムを加えてPH5.Oとした。水層を取り
、濃縮し、濃縮液をアンバーライトXAD−2カラムク
ロマトグラフイ一に付して精製し、水メタノールの混液
で留出し、目的の分画を集めて濃縮した。濃縮液を酸性
にし、酢酸エチルで抽出し、乾燥後濃縮すると、7β−
〔D−5−(pトルエンスルホンアミド)−5−カルボ
キシバレルアミド〕−3−(1−メチル−1H−テトラ
ゾール−5−イル)チオメチル−3−セフエム一4カル
ボン酸が得られた。実施例 26 水(50m1)およびテトラヒドロフラン(30m1)
の混液に7β−(D−5−フタルイミド−5カルボキシ
バレルアミド)−3−〔2−(N−カルボエトキシカル
バモイル)ベンゾイルオキシ〕メチル−3−セフエム一
4−カルボン酸(7.23g),2−カルバモイルメチ
ルチオ−5−メルカプト−1,3,4−チアジアゾール
(2.289)および炭酸水素ナトリウム(2.209
)を溶解させ、PHを5.8に調整後、60℃で1時間
反応させた。
冷後、溶液のPHを5.0とし、酢酸エチルで2回洗つ
た。つぎに希塩酸でPH2.Oとし、酢酸エチルテトラ
ヒドロフラン(2:1)の混液で抽出し、飽和食塩水で
洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥した0溶媒を留去し
、残渣を酢酸エチルで処理すると粉末が得られた。この
粉末を淵取し、乾燥すると、7β−(D−5−フタルイ
ミド−5−カルボキシバレルアミド)−3−(2−カル
バモイルメチルチオ−1,3,4−チアジアゾール一5
イル)チオメチル−3−セフエム一4−カルボン酸(5
.709)が得られた。実施例 27 水(100m1)に7β一(D−5−フタルイミド−5
−カルボキシバレルアミド)−3−〔2(N−カルボエ
トキシカルバモイル)ベンゾイルオキシ〕メチル−3−
セフエム一4−カルボン酸( 3.629),2−(2
−ヒドロキシエチルチオ)−5−メルカプト−1,3,
4−チアジアゾール(1.459)および炭酸水素ナト
リウム(1.19)を溶解した。
反応液のPHを5.5にし、60℃で50分間加温した
。酢酸エチルで2回洗い、希塩酸でPH2.Oとし、酢
酸エチル−テトラヒドロフラン(4:1)の混液で3回
抽出した。有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を留去すると、7β−(D−5−フタ
ルイミド−5−カルボキシバレルアミド)−3一〔2−
(2−ハイドロキシエチルチオ)−1,3,4−チアジ
アゾール一5−イル〕チオメチル−3セフエム一4−カ
ルボン酸(3.159)が得られた。実施例 28 7β一(2−チエニルアセタミド)−3−〔2(N−カ
ルボエトキシスルフアモイル)ベンゾイルオキシ〕メチ
ル−3−セフエム一4−カルボン酸(619即)、炭酸
水素ナトリウム(170〜)、ヨウ化カリ(400W1
f)およびピリジン(210η)を水(5m1)に溶解
し、…を6.5に調整後、60℃で1時間半撹拌した。
冷後、反応液をアンバーライトXAD−2カラムクロマ
トグラフイ一に付し、水ついで水−メタノールで展開し
、目的物のフラクシヨンを集めて凍乾し、7β(2−チ
エニルアセタミド)−3−(ピリジニウムメチル)−3
−セフエム一4−カルボキシレート(220η)を得た
。実施例 29 7β−アミノ−3−〔2−(N−カルボエトキシカルバ
モイノ(ハ)ベンゾイルオキシ〕メチル−3セフエム一
4−カルボン酸(450η)をN,N−ジメチルホルム
アミド(5m1)に懸濁し、ついでO−カルボキシマン
デル酸無水物(2671f9) ノを加えた。
反応液を2時間撹拌し、水(20w11)と酢酸エチル
(20d)の混液にあけた。分液後、酢酸エチル層を水
洗し、ついで炭酸水素ナトリウム水溶液で抽出し、この
水溶液をセフアデツクスLH−20カラムクロマトグラ
フイ一で精製した。1主生成物のフラクシヨンを集め、
凍結乾燥し、7βマンデルアミド一3−〔2−(N−カ
ルボエトキシカルバモイル)ベンゾイルオキシ〕メチル
3−セフエム一4−カルボン酸ナトリウム(18011
9)を得た。
ン実施例 30
7β−アミノ−3−〔2−(N−カルボエトキシスルフ
アモイル)ベンゾイルオキシ〕メチル3−セフエム一4
−カルボン酸(970mg)をジ5クロルメタン(20
7fL1)に懸濁し、氷冷下、トリエチルアミン(0.
84T1L1)とD(ハ)−α−スルホフエニルアセチ
ルクロライド(560〜)を加えた。
30分撹拌後、トリエチルアミン(0.2wL1)を加
え、さらに30分撹拌した。
溶媒を留去し、残渣5にエーテルを加えた。得られた粉
末を済取し、エーテルで洗い、五酸化リン上で乾燥した
。この粉末を水(8m1)に溶解し、氷冷下1N一塩酸
を加えてPHl.Oとし、飽和食塩水(12m1)を加
えた。析出物をほぐして済取し、飽和食塩水で洗い、乾
一燥した。このようにして得た粉末をテトラヒドロフラ
ン(40d)に溶解し、不溶物を除いた。淵液を濃縮し
、エーテル(40d)を加えてほぐし、析出物を済取し
た。五酸化リン上で乾燥し、7β一(D−α−スルホフ
エニルアセタミド)−3〔2−(N−カルボエトキシス
ルフアモイル)ベンゾイルオキシ〕メチル−3−セフエ
ム一4−カルボン酸(822mg)を得た。実施例 3
1 水一アセトン(1:1)の混液(8w11)に7βチエ
ニルアセタミド一3−〔2−(N−カルボエトキシスル
フアモイル)ベンゾイルオキシ〕メチル−3−セフエム
一4−カルボン酸−エーテル付加体(6197!9)、
アヤチルアセトン(0.59)および炭酸水素ナトリウ
ム(0.179)を溶解し、この混液を60℃で1時間
撹拌した。
冷後、アセトンを留去し、残留液に酢酸エチル(20m
0および希リン酸を加えた。酢酸エチル層を飽和食塩水
で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣に
エーテルを加え、析出した粉末を沢取した。この粉末を
水に懸濁し、炭酸水素ナトリウムを加えて溶解させた。
この溶液をセフアデツクスLH2Oカラムクロマトグラ
フイ一に付し、水で展開した。目的のフラクシヨンを集
め、凍結乾燥した。このようにして得た生成物を水に溶
解し、希リン酸で酸性とし、酢酸エチル(20m1)で
抽出した。水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃
縮した。残渣にエーテルを加えてほぐし、済取し、エー
テルで洗つて乾燥すると、7β−チエニルアセタミド一
3−(2−アセチル−3−オキソ)ブチル−3−セフエ
ム一4−カルボン酸が得られた。IR(KBr):Cl
n−11765,1718NMR(D6−DMSO):
δ2.13&2.18(6H,s,(COCH3)2)
,2.6〜3.1(2H,m,\ 1i1ラu童υ−υ
11IJツ しυ1111−ノ実施例 32(1)
7β−(t−ブトキシカルボニル)アミノ一3−ヒドロ
キシメチル−3−セフエム一4−カルボン酸ナトリウム
(1.609)をN,N−ジメチルホルムアミド(8d
)に溶解し、トリエチルアミン(2m1)とN−カルボ
エトキシフタルイミド(1.659)を氷冷下加えた。
室温で1時間撹拌後、この溶液をトルエン(300d)
にあけ、n−ヘキサン(200m1)を加えた。析出物
を済取し、トルエンで洗い、乾燥した。このようにして
得た粉末を水(50m1)に氷冷下溶解し、酢酸エチル
(50m0を加えた。希リン酸でPH4.Oとし、分液
後、酢酸エチル層を水洗した。水(10m0を加え、炭
酸水素ナトリウムを加えてPH6.8とし、分液して水
層を取り酢酸エチルで洗つた。酢酸エチル(50d)を
加え、PH4.Oで上記と同じように処理した。分液後
、酢酸エチル層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
、濃縮した。残渣にエーテル(70m0を撹拌しながら
加え、析出物を淵過して除いた。淵液を減圧下濃縮し(
3m1まで)、四塩化炭素(50w11)を加えた。析
出物を済取し、四塩化炭素で洗い、五酸化リン上で乾燥
した。このようにして7β−(t−ブトキシカルボニル
)アミノ−3−〔2−(N−カルボエトキシカルバモイ
ル)ベンゾイルオキシ〕メチル.一3−セフエム一4−
カルボン酸(1.04f!)を得た。(2) 7β−(
t−ブトキシカルボニノ(ハ)アミノ3−〔2−(N−
カルボエトキシカルバモイノ0ベンゾイルオキシ〕メチ
ル−3−セフエム一4−カルボン酸(275η)を氷冷
下、トリフロル酢酸(2m1)に溶解し、20分間撹拌
した。
溶液を濃縮し、残渣にエーテル(20d)を加えた。析
出物をほぐし、済取し、エーテルで洗つて五酸化リン上
で乾燥すると7β−アミノ3−〔2−(N−カルボエト
キシカルバモイル)ベンゾイルオキシ〕メチル−3−セ
フエム一4カルボン酸(195mg)が得られた。本品
はNMRスペクトルにおいて、実施例20で得たものと
よく一致した。実施例 33 (1) N,N−ジメチルホルムアミド(8m1)に、
7β−(t−ブトキシカルボニノ(ハ)アミノ−3ヒド
ロキシメチル−3−セフエム一4−カルボン酸ナトリウ
ム(1.69)を溶解し、ついでトリエチルアミン(3
m1)およびN−トシルフタルイミド(1.809)を
氷冷下加えた。
混合液を1時間撹拌後、トルエン(300m1)にあけ
た。n−ヘキサン(200m0を加え、析出物を淵取し
、トルエンで洗つて乾燥した。このようにして得た粉末
を水(50m1)に溶解し、酢酸で…を37とし、飽和
食塩水(50m1)を加えた。析出物を沢取し、水洗し
、得られたケーキを酢酸エチル(30m1)と水(10
d)の混液に加えた。分液して酢酸エチル層をとり、水
洗した。水(10m1)を加え、炭酸水素ナトリウムを
加えてPH6.8にし、分液して水層を取り、酢酸エチ
ルで洗つた。酢酸エチル(.20TI11)を加え希リ
ン酸を加えてPH4.Oとした。分液して酢酸エチル層
を取り、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮し
た。残渣にエーテルを加え、不溶物を済過して除き、減
圧下濃縮し、四塩化炭素を加えた。析出物を淵取し、五
酸化リン上で乾燥すると、7β−(t−ブトキシカルボ
ニル)アミノ−3−〔2−(N−トシルカルバモイル)
ベンゾイルオキシ〕メチル−3ーセフエム一4−カルボ
ン酸(1.21f!)が得られた。(2) 7β一(t
−ブトキシカルボニル)アミノ3−〔2−(N−トシル
カルバモイル)ベンゾイルオキシ〕メチル−3−セフエ
ム一4−カルボン酸(631即)を氷冷下トリフロル酢
酸(2wL1)に溶解した。
20分間撹拌後、減圧下に濃縮し、残渣にエーテル(2
0m1)を加え、生じた固型物をほぐした。
粉末を沢取し、工ーテルで洗つて五酸化リン上で乾燥す
ると、7βアミノ−3−〔2−(N−トシルカルバモイ
ル)ベンゾイルオキシ〕メチル−3−セフエム4−カル
ボン酸(480〜)が得られた。実施例 34 7β−アミノ−3−〔2−(N−カルボエトキシスルフ
アモイル)ベンゾイルオキシ〕メチル−3−セフエム一
4−カルボン酸(457mg)をジクロルメタン(5m
1)とN,N−ジメチルホルムアミド(1m1)の混液
に懸濁し、テトラヒドロフラン(2m0に溶解した(1
H−テトラゾール1−イル)アセチルクロライド(16
1〜)を20分間で加えた。
さらに2時間撹拌後、減圧で溶媒を留去し、残渣に酢酸
エチル(50m1)と水(20d)を加えて撹拌した。
分液して酢酸エチル層をとり、水洗し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、濃縮した。濃縮液(5m1)にエーテル
(507!11)を加え、析出物をP取し、五酸化リン
上で乾燥すると7β−(1H−テトラゾール−1−イル
)アセタミド−3−〔2−(N−カルボエトキシスルフ
アモイル)ベンゾイルオキシ〕メチル−3セフエム一4
−カルボン酸(216W19)が得られた。実施例 3
5 水(5m1)に7β−(2−イミノ−4−チアゾリン−
4−イル)アセタミド−3−〔2−(Nカルボエトキシ
スルフアモイル)ベンゾイルオキシ〕メチル−3−セフ
エム一4−カルボン酸(313T119),5−メルカ
プト−1−〔2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル〕
−1H−テトラゾール(113Tf19)および炭酸水
素ナトリウム(42〜)を加えて溶解し、55℃で60
分間加温した。
PHを5.8にし、アンバーライトXAD−2カラムク
ロマトグラフイ一に付して精製し、目的物の分画を集め
、凍結乾燥すると、7β一(2−イミノ4−チアゾリン
−4−イル)アセタミド−3{1−〔2−(N,N−ジ
メチルアミノ)工チッ01H−テトラゾール−5−イル
}チオメチル一3−セフエム一4−カルボン酸が得られ
た。実施例 367β−(D−α−スルホフエニルアセ
タミド)−3−〔2−(N−カルボエトキシスルフアモ
イル)ベンゾイルオキシ〕メチル−3−セフエム4−カ
ルボン酸(341η)および炭酸水素ナトリウム(84
mg)を水(0.3m1)に溶解し、イソニコチンアミ
ド(90η)およびKSCN(1.29)を加えた。
この混合液を60℃で1時間加温し、ついでアンバーラ
イトXAD−2カラムクロマトグラフイ一に付し、水で
展開した。目的物の分画を集め、凍乾し、エターノール
一水から再結晶し、7β−(D−α−スルホフエニルア
セタミド)−3−(4−カルバモイルピリジニウム)メ
チル−3−セフエム一4−カルボキシレートナトリウム
を得た。IR(KBr):C!!L−11765,16
92,1645,1615,1029 NMR(D2O):δ2.99&3.56(2H?AB
q,J−18Hz,2−CH2),5.40&5.51
(2H,3−CH2),5.13(1H,d,J=4.
8,6−H),5.73(1H,d,J4.8Hz,7
−H),5.10(1H,s,8.31&9.07(4
H) 実施例 37 pH6.4のリン酸バツフア一(3m1)に5−メルカ
プト−2−メチル−1,3,4−チアジアゾール(79
7119)、炭酸水素ナトリウム(92mg)および7
β−(1H−テトラゾール−1−イノ(ハ)アセタミド
−3−〔2−(N−カルボエトキシスルフアモイル)ベ
ンゾイルオキシ〕メチル−3−セフエム一4−カルボン
酸(298W9)を加えて容解し、この溶液を60℃で
1時間加温した。
ついで濃縮し、セフアデツクスLH−20カラムクロマ
トグラフイ一に付し、水で展開した。目的物のフラクシ
ヨンを集めて凍乾し、7β−(1H−テトラゾール−1
−イノ(ハ)アセタミド−3−(2メチル−1,3,4
−チアジアゾール一5−イル)チオメチル−3−セフエ
ム一4−カルボン酸ナトリウムを得た。本品はNMRス
ペクトルにおいて、標品とよく一致した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は水素またはアシル基、Xは一端にカル
    ボニル基またはスルホニル基を有する、置換されていて
    もよい炭素数2または3の2価基を、Zは有機酸残基を
    示す〕で表わされる化合物と求核性化合物を反応させる
    ことを特徴とする一般式。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔式中、R^2は求
    核性化合物の残基を示し、他は前記と同意義〕で表わさ
    れる化合物の製造法。 2 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^3は水素またはアシル基を示す〕で表わさ
    れる化合物と一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは一端にカルボニル基またはスルホニル基を
    有する、置換されていてもよい炭素数2または3の2価
    基を、Zは有機酸残基を示す〕で表わされる化合物を反
    応させて、一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^4はアシル基を示し、他は前記と同意義〕
    で表わされる化合物を得、ついで求核性化合物を反応さ
    せることを特徴とする一般式▲数式、化学式、表等があ
    ります▼ 〔式中、R^2は求核性化合物の残基を示し、他は前記
    と同意義〕で表わされる化合物の製造法。
JP5502075A 1975-05-06 1975-05-06 セフアロスポリン化合物の製造法 Expired JPS5951555B2 (ja)

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JP5502075A JPS5951555B2 (ja) 1975-05-06 1975-05-06 セフアロスポリン化合物の製造法
DE2619243A DE2619243C2 (de) 1975-05-06 1976-04-30 Verfahren zur Herstellung von 3-Acyloxymethyl-cephem-Verbindungen
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