JPH09166867A - ペリクル - Google Patents
ペリクルInfo
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- JPH09166867A JPH09166867A JP34709195A JP34709195A JPH09166867A JP H09166867 A JPH09166867 A JP H09166867A JP 34709195 A JP34709195 A JP 34709195A JP 34709195 A JP34709195 A JP 34709195A JP H09166867 A JPH09166867 A JP H09166867A
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- pellicle
- dust
- pellicle frame
- frame
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Audible-Bandwidth Dynamoelectric Transducers Other Than Pickups (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 発塵のないペリクルを、低コストでかつ万が
一ゴミが付着しても容易に発見できるものを提供する。 【解決手段】 ペリクル枠の一部を平滑に処理して発塵
防止性としてなることを特徴とするペリクルであり、ペ
リクル枠の露出面を平滑に処理して発塵防止性としてな
ることを特徴とするペリクルである。この場合、平滑処
理は非粘着性で透明な有機ポリマーで行われるのが好ま
しく、また有機ポリマーは溶媒可溶な非晶質フッ素系重
合体であるのが望ましい。そして、本発明では、ペリク
ル枠がアルマイト処理されたアルミニウム合金である場
合に特に有益である。
一ゴミが付着しても容易に発見できるものを提供する。 【解決手段】 ペリクル枠の一部を平滑に処理して発塵
防止性としてなることを特徴とするペリクルであり、ペ
リクル枠の露出面を平滑に処理して発塵防止性としてな
ることを特徴とするペリクルである。この場合、平滑処
理は非粘着性で透明な有機ポリマーで行われるのが好ま
しく、また有機ポリマーは溶媒可溶な非晶質フッ素系重
合体であるのが望ましい。そして、本発明では、ペリク
ル枠がアルマイト処理されたアルミニウム合金である場
合に特に有益である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はペリクル、特にはＬ
ＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置あるいは液晶表示板を
製造する際のゴミよけとして使用される、実質的に５０
０ｎｍ以下の光を用いるフォトリソグラフィーにおける
ペリクルに関するものである。
ＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置あるいは液晶表示板を
製造する際のゴミよけとして使用される、実質的に５０
０ｎｍ以下の光を用いるフォトリソグラフィーにおける
ペリクルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置ある
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウエーハ
あるいは液晶用原版に光を照射してパターンを作成する
のであるが、この場合に用いる露光原版にゴミが付着し
ていると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げてしま
うため、転写したパターンが変形したり、エッジががさ
ついたものとなるほか、白地が黒く汚れたりして、寸
法、品質、外観などが損なわれ、半導体装置や液晶表示
板などの性能や製造歩留りの低下を来すという問題があ
った。このため、これらの作業は通常クリーンルームで
行われているが、このクリーンルーム内でも露光原版を
完全には清浄に保つことが難しいので、図１に示したよ
うに露光原版３の表面にゴミよけのため、露光用の光を
よく通過させるペリクルを粘着する方式が行われてい
る。図１において、１はペリクル膜、２はペリクル枠、
３は露光原版、４は結像面である。
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウエーハ
あるいは液晶用原版に光を照射してパターンを作成する
のであるが、この場合に用いる露光原版にゴミが付着し
ていると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げてしま
うため、転写したパターンが変形したり、エッジががさ
ついたものとなるほか、白地が黒く汚れたりして、寸
法、品質、外観などが損なわれ、半導体装置や液晶表示
板などの性能や製造歩留りの低下を来すという問題があ
った。このため、これらの作業は通常クリーンルームで
行われているが、このクリーンルーム内でも露光原版を
完全には清浄に保つことが難しいので、図１に示したよ
うに露光原版３の表面にゴミよけのため、露光用の光を
よく通過させるペリクルを粘着する方式が行われてい
る。図１において、１はペリクル膜、２はペリクル枠、
３は露光原版、４は結像面である。
【０００３】このようなペリクルを用いれば、ゴミは露
光原版３の表面上には直接付着せず、ペリクル膜１上に
付着するため、リソグラフィー時に焦点を露光原版の結
像面４にあるパターン上に合わせておけば、ペリクル膜
上のゴミは転写には無関係となる。このペリクル膜１は
通常図２に示されているように、光を良く通過させるニ
トロセルロース、酢酸セルロース、変性ポリビニルアル
コール、フッ素系ポリマーなどからなる透明なペリクル
膜を、アルミニウム合金、ステンレス、ポリエチレンな
どからなるペリクル枠２の上部にペリクル膜の良溶媒を
塗布し、風乾して接着する（特開昭５８−２１９０２３
号公報参照）か、アクリル樹脂やエポキシ樹脂などの接
着剤５で接着し（米国特許第４８６１４０２号明細書、
特公昭６３−２７７０７号公報参照）、さらにペリクル
枠２の下部には露光原版が装着されるために、ポリブテ
ン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂などからな
る粘着層６、および粘着層の保護を目的とした離型層７
で構成されている。
光原版３の表面上には直接付着せず、ペリクル膜１上に
付着するため、リソグラフィー時に焦点を露光原版の結
像面４にあるパターン上に合わせておけば、ペリクル膜
上のゴミは転写には無関係となる。このペリクル膜１は
通常図２に示されているように、光を良く通過させるニ
トロセルロース、酢酸セルロース、変性ポリビニルアル
コール、フッ素系ポリマーなどからなる透明なペリクル
膜を、アルミニウム合金、ステンレス、ポリエチレンな
どからなるペリクル枠２の上部にペリクル膜の良溶媒を
塗布し、風乾して接着する（特開昭５８−２１９０２３
号公報参照）か、アクリル樹脂やエポキシ樹脂などの接
着剤５で接着し（米国特許第４８６１４０２号明細書、
特公昭６３−２７７０７号公報参照）、さらにペリクル
枠２の下部には露光原版が装着されるために、ポリブテ
ン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂などからな
る粘着層６、および粘着層の保護を目的とした離型層７
で構成されている。
【０００４】しかして、このペリクルについてはその利
用目的から、当然ペリクル膜の内外表面やペリクル枠、
離型層などに塵埃が存在したり、そこから発塵すること
は回避されることが必要とされるので、このペリクル製
造に当たってその原材料は十分な注意のもとに洗浄され
るのであるが、それでもここに存在する塵埃の除去や発
塵を完全には防止することができず、特にペリクル枠か
らの発塵が大きな原因となってペリクル粘着の効果が著
しく低減することがある。このペリクル枠としては前記
したようにアルミニウム合金、ステンレス、ポリエチレ
ンなどが使用されており、このペリクル枠についてはそ
の特性上、１）迷光防止のために黒色であること、２）
軽量で高強度であること、３）表面硬度が高いことなど
が要求されることから、通常はアルマイト処理をした黒
色アルミニウム合金が使用されている。
用目的から、当然ペリクル膜の内外表面やペリクル枠、
離型層などに塵埃が存在したり、そこから発塵すること
は回避されることが必要とされるので、このペリクル製
造に当たってその原材料は十分な注意のもとに洗浄され
るのであるが、それでもここに存在する塵埃の除去や発
塵を完全には防止することができず、特にペリクル枠か
らの発塵が大きな原因となってペリクル粘着の効果が著
しく低減することがある。このペリクル枠としては前記
したようにアルミニウム合金、ステンレス、ポリエチレ
ンなどが使用されており、このペリクル枠についてはそ
の特性上、１）迷光防止のために黒色であること、２）
軽量で高強度であること、３）表面硬度が高いことなど
が要求されることから、通常はアルマイト処理をした黒
色アルミニウム合金が使用されている。
【０００５】ところが、このようにアルミニウム合金を
黒色アルマイト処理すると、必然的にアルミニウム合金
の表面の黒色アルマイト層に凹凸が生じ、多孔質で固く
脆い状態のものとなるため、ペリクルの製造時に加わる
各種の力や振動あるいは収納ケースとペリクル枠との摩
擦などによって、この黒色アルマイト層の凹凸部や多孔
質部内に存在していた塵埃あるいは黒色顔料などが飛散
したり、脆いアルマイト層表面の剥離により発塵すると
いう欠点がある。そのため、このペリクル枠２について
は、このような不利を防止するためペリクル枠の内側に
粘着剤層８を設けるか、内側に塗料をコーティングする
という方法も提案されている（特公昭６３−７７７号公
報参照、特開昭６４−４８０６２号公報参照）。
黒色アルマイト処理すると、必然的にアルミニウム合金
の表面の黒色アルマイト層に凹凸が生じ、多孔質で固く
脆い状態のものとなるため、ペリクルの製造時に加わる
各種の力や振動あるいは収納ケースとペリクル枠との摩
擦などによって、この黒色アルマイト層の凹凸部や多孔
質部内に存在していた塵埃あるいは黒色顔料などが飛散
したり、脆いアルマイト層表面の剥離により発塵すると
いう欠点がある。そのため、このペリクル枠２について
は、このような不利を防止するためペリクル枠の内側に
粘着剤層８を設けるか、内側に塗料をコーティングする
という方法も提案されている（特公昭６３−７７７号公
報参照、特開昭６４−４８０６２号公報参照）。
【０００６】しかし、このペリクル枠の内側に粘着剤層
８を設けたり、塗料を塗布する方法は、内側の塵埃の固
定や塵埃の発生を防止するという点では一定の効果を与
えるけれども、これだけではペリクル枠の内側以外の部
分での塵埃の固定、発塵を防止することができないし、
事実ペリクルは通常使用前に１個毎に収納ケースに納め
られるために、ペリクル枠の上下面や外側面との摩擦な
どで、ペリクル枠の内側以外からの塵埃の落下や発塵が
しばしば発生する。また、塗料を塗布する場合には、塗
料中の着色物質や伝熱性あるいは導電性物質、例えば着
色顔料、染料、金属粉、カーボン粉などが振動、衝撃や
摩擦などで塗料から欠落し、これが発塵の原因になると
いう不利もある。
８を設けたり、塗料を塗布する方法は、内側の塵埃の固
定や塵埃の発生を防止するという点では一定の効果を与
えるけれども、これだけではペリクル枠の内側以外の部
分での塵埃の固定、発塵を防止することができないし、
事実ペリクルは通常使用前に１個毎に収納ケースに納め
られるために、ペリクル枠の上下面や外側面との摩擦な
どで、ペリクル枠の内側以外からの塵埃の落下や発塵が
しばしば発生する。また、塗料を塗布する場合には、塗
料中の着色物質や伝熱性あるいは導電性物質、例えば着
色顔料、染料、金属粉、カーボン粉などが振動、衝撃や
摩擦などで塗料から欠落し、これが発塵の原因になると
いう不利もある。
【０００７】そこで本発明者らは、このような公知技術
の不利、欠点を解決すべく、ペリクル枠の全面を平滑に
処理して発塵を防止することを着想し先に提案した（特
開平６−３０１１９９号公報参照）。このペリクルはペ
リクル枠の全面が平滑処理されているので、発塵が防止
され、長期輸送しても発塵による異物の付着が増加する
ことはないものである。しかし、本発明者らによるその
後の追試の結果、前記先行発明ではペリクル枠の全面を
平滑処理するものであるから、当然ペリクル枠の内側に
も処理がなされるのであるが、この部分を平滑処理する
と万が一この部分にゴミが付着した場合に、その発見が
困難となるという問題のあることがわかった。また、ペ
リクル枠の全面を平滑処理するものであるから、意外と
コスト高となることも判明した。
の不利、欠点を解決すべく、ペリクル枠の全面を平滑に
処理して発塵を防止することを着想し先に提案した（特
開平６−３０１１９９号公報参照）。このペリクルはペ
リクル枠の全面が平滑処理されているので、発塵が防止
され、長期輸送しても発塵による異物の付着が増加する
ことはないものである。しかし、本発明者らによるその
後の追試の結果、前記先行発明ではペリクル枠の全面を
平滑処理するものであるから、当然ペリクル枠の内側に
も処理がなされるのであるが、この部分を平滑処理する
と万が一この部分にゴミが付着した場合に、その発見が
困難となるという問題のあることがわかった。また、ペ
リクル枠の全面を平滑処理するものであるから、意外と
コスト高となることも判明した。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
前記公知技術および先行発明の問題点に鑑みなされたも
ので、発塵のないペリクルを、低コストでかつ万が一ゴ
ミが付着しても容易に発見できるものを提供することを
目的とする。
前記公知技術および先行発明の問題点に鑑みなされたも
ので、発塵のないペリクルを、低コストでかつ万が一ゴ
ミが付着しても容易に発見できるものを提供することを
目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は前記目的を達成
すべく為されたもので、これはペリクル枠の一部のみ、
特に露出部のみを平滑処理して発塵防止性とすると共
に、ペリクル膜と接着される部分や粘着層で覆われる部
分は平滑処理をしないこととすることによって、コスト
の低減、ゴミ発見の容易性の確保を計ったものである。
すなわち、本発明の要旨とするところは、ペリクル枠の
一部を平滑に処理して発塵防止性としてなることを特徴
とするペリクルであり、ペリクル枠の露出面を平滑に処
理して発塵防止性としてなることを特徴とするペリクル
である。この場合、平滑処理は非粘着性で透明な有機ポ
リマーで行われるのが好ましく、また有機ポリマーは溶
媒可溶な非晶質フッ素系重合体であるのが望ましい。そ
して、本発明では、ペリクル枠がアルマイト処理された
アルミニウム合金である場合に特に有益である。
すべく為されたもので、これはペリクル枠の一部のみ、
特に露出部のみを平滑処理して発塵防止性とすると共
に、ペリクル膜と接着される部分や粘着層で覆われる部
分は平滑処理をしないこととすることによって、コスト
の低減、ゴミ発見の容易性の確保を計ったものである。
すなわち、本発明の要旨とするところは、ペリクル枠の
一部を平滑に処理して発塵防止性としてなることを特徴
とするペリクルであり、ペリクル枠の露出面を平滑に処
理して発塵防止性としてなることを特徴とするペリクル
である。この場合、平滑処理は非粘着性で透明な有機ポ
リマーで行われるのが好ましく、また有機ポリマーは溶
媒可溶な非晶質フッ素系重合体であるのが望ましい。そ
して、本発明では、ペリクル枠がアルマイト処理された
アルミニウム合金である場合に特に有益である。
【００１０】以下、本発明につき詳述するが、本発明は
これらに限定されるものではない。本発明はペリクルに
関するものであり、これは前記したようにペリクル枠の
一部を平滑に処理して発塵防止性としてなることを特徴
とするペリクルであり、ペリクル枠の露出面を平滑に処
理して発塵防止性としてなることを特徴とするペリクル
である。このように、ペリクル枠の一部のみ、特に露出
部のみを平滑処理することとすれば、アルマイト処理さ
れたアルミニウム合金でできたペリクル枠の表面に露出
部は存在しないこととなり、これからの発塵が防止され
ると共に、ペリクル膜と接着される部分や粘着層で覆わ
れる部分は平滑処理をしないこととすることによって、
コストの低減がはかられ、さらに万が一ペリクル枠の内
側にゴミが付着した場合でも、その発見の容易性が確保
されるのである。従って、このようにペリクル枠からの
発塵が防止されれば、ペリクルの粘着効果が低下するこ
ともないし、このペリクルを用いて半導体装置、液晶表
示板を製造するときのゴミよけがより確実に行われるよ
うになるという有利性が与えられる。
これらに限定されるものではない。本発明はペリクルに
関するものであり、これは前記したようにペリクル枠の
一部を平滑に処理して発塵防止性としてなることを特徴
とするペリクルであり、ペリクル枠の露出面を平滑に処
理して発塵防止性としてなることを特徴とするペリクル
である。このように、ペリクル枠の一部のみ、特に露出
部のみを平滑処理することとすれば、アルマイト処理さ
れたアルミニウム合金でできたペリクル枠の表面に露出
部は存在しないこととなり、これからの発塵が防止され
ると共に、ペリクル膜と接着される部分や粘着層で覆わ
れる部分は平滑処理をしないこととすることによって、
コストの低減がはかられ、さらに万が一ペリクル枠の内
側にゴミが付着した場合でも、その発見の容易性が確保
されるのである。従って、このようにペリクル枠からの
発塵が防止されれば、ペリクルの粘着効果が低下するこ
ともないし、このペリクルを用いて半導体装置、液晶表
示板を製造するときのゴミよけがより確実に行われるよ
うになるという有利性が与えられる。
【００１１】本発明において、ペリクル枠の一部を平滑
処理する方法としては、平滑処理しない部分（例えば、
上下面）をマスキングしたうえで、ペリクル枠をメッキ
処理、低融点ガラスフリット処理、ＣＶＤ処理、スパッ
ター法などによるＰＶＤ処理するか、または有機ポリマ
ー単独または各種の塗料コーティング処理などを施すよ
うにすれば良いが、加工の容易さ、平滑化効果が大きい
ことなどから、有機ポリマーによる処理が最適とされ
る。この有機ポリマーは非粘着性で透明なポリマーの中
から任意に選べるが、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹
脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂などがあげられる。こ
れらの有機ポリマーによる処理方法は、スプレー法、デ
ィッピング法、静電塗装法、電着塗装法などによって行
われる。
処理する方法としては、平滑処理しない部分（例えば、
上下面）をマスキングしたうえで、ペリクル枠をメッキ
処理、低融点ガラスフリット処理、ＣＶＤ処理、スパッ
ター法などによるＰＶＤ処理するか、または有機ポリマ
ー単独または各種の塗料コーティング処理などを施すよ
うにすれば良いが、加工の容易さ、平滑化効果が大きい
ことなどから、有機ポリマーによる処理が最適とされ
る。この有機ポリマーは非粘着性で透明なポリマーの中
から任意に選べるが、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹
脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂などがあげられる。こ
れらの有機ポリマーによる処理方法は、スプレー法、デ
ィッピング法、静電塗装法、電着塗装法などによって行
われる。
【００１２】これらの中でも非粘着性でベタ付かず、透
明で塗膜強度も大きく、ハンドリングも容易である上、
耐光性にも優れることから非晶質のフッ素系重合体で処
理するのが良い。この非晶質のフッ素系重合体は透明で
あることから、着色処理しなくても迷光に対してペリク
ル枠本体の黒色がそのまま活用される上、この処理によ
って余分な発塵が起こる恐れはないし、低融点ガラスフ
リット処理などの他の処理法に比べて機械的な衝撃に強
い皮膜を与えるので、ペリクル枠表面層の脆さの保護も
万全になるという有利性を与える。
明で塗膜強度も大きく、ハンドリングも容易である上、
耐光性にも優れることから非晶質のフッ素系重合体で処
理するのが良い。この非晶質のフッ素系重合体は透明で
あることから、着色処理しなくても迷光に対してペリク
ル枠本体の黒色がそのまま活用される上、この処理によ
って余分な発塵が起こる恐れはないし、低融点ガラスフ
リット処理などの他の処理法に比べて機械的な衝撃に強
い皮膜を与えるので、ペリクル枠表面層の脆さの保護も
万全になるという有利性を与える。
【００１３】また、このフッ素系重合体で作られた塗膜
は滑性が高いという特性を有しているので、収納ケース
に納められて輸送される際のケースとペリクル枠との摩
擦や摩耗が大幅に減少し、ペリクルでの発塵の主要因と
なっている摩擦、摩耗による発塵が著しく減少するとい
う有利性も与えられる。
は滑性が高いという特性を有しているので、収納ケース
に納められて輸送される際のケースとペリクル枠との摩
擦や摩耗が大幅に減少し、ペリクルでの発塵の主要因と
なっている摩擦、摩耗による発塵が著しく減少するとい
う有利性も与えられる。
【００１４】この非晶質のフッ素系重合体としては例え
ばテトラフルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル
基を有する含フッ素モノマーとを主体として共重合して
得られるものとすればよいが、溶媒に可溶で平滑処理が
容易であるという点から、市販されているテフロンＡＦ
（米国デュポン社製商品名）またはサイトップ［旭ガラ
ス（株）製商品名］などを用いればよい。この平滑処理
はこれらのフッ素系重合体を主成分がパーフルオロ（２
−ブチルテトラヒドロフラン）であるフッ素系溶剤など
に溶かして、スプレー法、ディッピング法、などで処理
すればよいが、このフッ素系重合体はペリクル枠によく
接着するようにその一部を変性したり、塵埃を発生する
おそれのない液状の添加剤を添加して用いてもよい。
ばテトラフルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル
基を有する含フッ素モノマーとを主体として共重合して
得られるものとすればよいが、溶媒に可溶で平滑処理が
容易であるという点から、市販されているテフロンＡＦ
（米国デュポン社製商品名）またはサイトップ［旭ガラ
ス（株）製商品名］などを用いればよい。この平滑処理
はこれらのフッ素系重合体を主成分がパーフルオロ（２
−ブチルテトラヒドロフラン）であるフッ素系溶剤など
に溶かして、スプレー法、ディッピング法、などで処理
すればよいが、このフッ素系重合体はペリクル枠によく
接着するようにその一部を変性したり、塵埃を発生する
おそれのない液状の添加剤を添加して用いてもよい。
【００１５】なお、このペリクル枠は前記したように迷
光防止のために黒色化することが必要であり、また軽量
で高強度であることが要求され、かつ経済的でもあると
いうことからアルマイト処理された黒色アルミニウム合
金で作られたものとすればよい。この場合ペリクル枠の
内面にまで前記平滑処理をすると、収納ケース等からの
万が一の塵埃落下による付着があった場合、その発見が
困難となるので、この部分の発塵防止には、従来法によ
る粘着性物質を塗布しておく方法等を用いることができ
る。また、平滑処理は、ペリクル枠の露出面すべてを処
理した方が望ましいが、一部のみ例えばペリクル枠の外
側における露出面のみを処理しても、これをしない場合
に比べ、かなりの発塵防止効果のあることが確かめられ
た。
光防止のために黒色化することが必要であり、また軽量
で高強度であることが要求され、かつ経済的でもあると
いうことからアルマイト処理された黒色アルミニウム合
金で作られたものとすればよい。この場合ペリクル枠の
内面にまで前記平滑処理をすると、収納ケース等からの
万が一の塵埃落下による付着があった場合、その発見が
困難となるので、この部分の発塵防止には、従来法によ
る粘着性物質を塗布しておく方法等を用いることができ
る。また、平滑処理は、ペリクル枠の露出面すべてを処
理した方が望ましいが、一部のみ例えばペリクル枠の外
側における露出面のみを処理しても、これをしない場合
に比べ、かなりの発塵防止効果のあることが確かめられ
た。
【００１６】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を実施
例により説明するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。
例により説明するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。
【００１７】
【実施例】以下、本発明の実施例を示す。 （実施例１、比較例１）洗浄した黒色のアルマイト処理
したアルミニウム合金枠を下記の化学式で示され、ｍ／
ｎ＋ｍ＝０．６６であるテトラフルオロエチレンと環状
パーフルオロエーテル基を有する含フッ素モノマーとの
共重合でつくられた非晶質フッ素重合体としてのテフロ
ンＡＦ（前出）を、主成分がパーフルオロ（２−ブチル
テトラヒドロフラン）であるフッ素系溶剤・フロリナー
トＦＣ−７５（米国３Ｍ社製商品名）に溶解させて濃度
４％の溶液を調整し、スプレー法によってペリクル枠の
外側面にこの溶液をコーティングした後、１５０℃で乾
燥し、ペリクル枠の外側面のみを平滑処理した。
したアルミニウム合金枠を下記の化学式で示され、ｍ／
ｎ＋ｍ＝０．６６であるテトラフルオロエチレンと環状
パーフルオロエーテル基を有する含フッ素モノマーとの
共重合でつくられた非晶質フッ素重合体としてのテフロ
ンＡＦ（前出）を、主成分がパーフルオロ（２−ブチル
テトラヒドロフラン）であるフッ素系溶剤・フロリナー
トＦＣ−７５（米国３Ｍ社製商品名）に溶解させて濃度
４％の溶液を調整し、スプレー法によってペリクル枠の
外側面にこの溶液をコーティングした後、１５０℃で乾
燥し、ペリクル枠の外側面のみを平滑処理した。
【００１８】
【化１】
【００１９】ついで、ペリクル枠内側面にはシリコーン
系粘着剤を薄くコーティングした後、ニトロセルロース
製のペリクル膜をエポキシ樹脂で接着し、さらにペリク
ル枠下側面にはシリコーン樹脂の粘着剤によって厚さ
０．５ｍｍの粘着層を形成した後、フッ素樹脂をコーテ
ィングした離型層を貼付した。この様にして作製したペ
リクルを、充分に洗浄したポリエチレン製の収納ケース
に入れて、福岡と東京間のトラック輸送テストを行い、
この輸送テストの評価をＨｅレーザーによる異物検査器
によりペリクル上に付着した０．３μｍ以上の塵埃の数
で判定した。その結果、本発明によるペリクル枠を用い
たものには輸送テスト後も塵埃の数にはなんらの増加も
見られなかった。一方、比較のためにこのペリクル枠に
上記したフッ素系重合体による平滑処理は行わず、その
他の工程は上記実施例１と同様として作製したペリクル
について、前記と同様の輸送テストを行ったところ、こ
の場合には塵埃としての異物が３６個も増加していた。
系粘着剤を薄くコーティングした後、ニトロセルロース
製のペリクル膜をエポキシ樹脂で接着し、さらにペリク
ル枠下側面にはシリコーン樹脂の粘着剤によって厚さ
０．５ｍｍの粘着層を形成した後、フッ素樹脂をコーテ
ィングした離型層を貼付した。この様にして作製したペ
リクルを、充分に洗浄したポリエチレン製の収納ケース
に入れて、福岡と東京間のトラック輸送テストを行い、
この輸送テストの評価をＨｅレーザーによる異物検査器
によりペリクル上に付着した０．３μｍ以上の塵埃の数
で判定した。その結果、本発明によるペリクル枠を用い
たものには輸送テスト後も塵埃の数にはなんらの増加も
見られなかった。一方、比較のためにこのペリクル枠に
上記したフッ素系重合体による平滑処理は行わず、その
他の工程は上記実施例１と同様として作製したペリクル
について、前記と同様の輸送テストを行ったところ、こ
の場合には塵埃としての異物が３６個も増加していた。
【００２０】
【発明の効果】本発明にかかるペリクルは、前記したよ
うにペリクル枠の一部を平滑に処理して発塵防止性とし
てなることを特徴とするペリクルであり、ペリクル枠の
露出面を平滑に処理して発塵防止性としてなることを特
徴とするペリクルである。このように、ペリクル枠の一
部、特に露出部を平滑処理することとすれば、例えペリ
クル枠の表面に凹凸が多く、多孔質で硬く脆いものであ
っても、これからの発塵が防止され、このようなペリク
ルは長期輸送しても発塵で異物の付着が増加することは
ない。また、ペリクル枠のうちペリクル膜と接着される
部分や粘着層で覆われる部分は平滑処理をしないことと
するので、コストの低減がはかられ、さらに万が一ペリ
クル枠の内側にゴミが付着した場合でも、その発見の容
易性が確保される。従って、本発明にかかるペリクルで
は、ペリクル枠からの発塵が防止されるので、このペリ
クルの半導体装置、液晶表示板を製造する工程でのゴミ
よけ機能がより確実に発揮される。
うにペリクル枠の一部を平滑に処理して発塵防止性とし
てなることを特徴とするペリクルであり、ペリクル枠の
露出面を平滑に処理して発塵防止性としてなることを特
徴とするペリクルである。このように、ペリクル枠の一
部、特に露出部を平滑処理することとすれば、例えペリ
クル枠の表面に凹凸が多く、多孔質で硬く脆いものであ
っても、これからの発塵が防止され、このようなペリク
ルは長期輸送しても発塵で異物の付着が増加することは
ない。また、ペリクル枠のうちペリクル膜と接着される
部分や粘着層で覆われる部分は平滑処理をしないことと
するので、コストの低減がはかられ、さらに万が一ペリ
クル枠の内側にゴミが付着した場合でも、その発見の容
易性が確保される。従って、本発明にかかるペリクルで
は、ペリクル枠からの発塵が防止されるので、このペリ
クルの半導体装置、液晶表示板を製造する工程でのゴミ
よけ機能がより確実に発揮される。
【図１】従来例によるペリクルの断面図を示したもので
ある。
ある。
【図２】従来例によるペリクル膜の接着方法の断面図を
示したものである。
示したものである。
１ ペリクル膜 ２ ペリクル枠 ３ 露光原版 ４ 結像面 ５ 膜接着剤 ６ 粘着層 ７ 離型層 ８ 内面粘着剤層
Claims (5)
- 【請求項１】 ペリクル枠の一部を平滑に処理して発塵
防止性としてなることを特徴とするペリクル。 - 【請求項２】 ペリクル枠の露出面を平滑に処理して発
塵防止性としてなることを特徴とするペリクル。 - 【請求項３】 平滑処理が非粘着性で透明な有機ポリマ
ーで行われる請求項１または請求項２に記載したペリク
ル。 - 【請求項４】 有機ポリマーが溶媒可溶な非晶質フッ素
系重合体である請求項３に記載したペリクル。 - 【請求項５】 ペリクル枠がアルマイト処理されたアル
ミニウム合金である請求項１または請求項２に記載した
ペリクル。
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|---|---|---|---|
| JP34709195A JP3493090B2 (ja) | 1995-12-15 | 1995-12-15 | ペリクル |
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| US08/754,777 US5834143A (en) | 1995-12-15 | 1996-11-21 | Frame-supported dustproof pellicle for photolithographic photomask |
| KR1019960058799A KR970049086A (ko) | 1995-12-15 | 1996-11-28 | 사진평판 패턴형성에 사용되는 포토마스크의 방진보호용 페리클 |
| EP96308813A EP0779551A3 (en) | 1995-12-15 | 1996-12-05 | Frame-supported dustproof pellicle for photolithographic photomask |
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|---|---|---|---|
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| JP3493090B2 JP3493090B2 (ja) | 2004-02-03 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2009169380A (ja) * | 2007-12-21 | 2009-07-30 | Mitsui Chemicals Inc | ペリクル |
| WO2011007523A1 (ja) * | 2009-07-16 | 2011-01-20 | 三井化学株式会社 | ペリクルフレームおよびそれを含むペリクル |
| JP2011118091A (ja) * | 2009-12-02 | 2011-06-16 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | リソグラフィ用ペリクル |
| JP2018049044A (ja) * | 2016-09-20 | 2018-03-29 | 日本軽金属株式会社 | ペリクル用支持枠及びペリクル並びにその製造方法 |
| JP2022009094A (ja) * | 2018-04-03 | 2022-01-14 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
| US12130550B2 (en) | 2018-04-03 | 2024-10-29 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle frame, pellicle, and method of producing pellicle frame |
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| DE19944474C2 (de) * | 1999-09-16 | 2001-10-31 | Infineon Technologies Ag | Abschirmung äußerer Anregungen bei der Vermessung schwingungsfähiger Halbleitermembranen |
| US6300019B1 (en) * | 1999-10-13 | 2001-10-09 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Pellicle |
| CN1237395C (zh) * | 2000-12-27 | 2006-01-18 | 三井化学株式会社 | 薄膜和薄膜的制造方法以及薄膜用粘合剂 |
| US6524754B2 (en) | 2001-01-22 | 2003-02-25 | Photronics, Inc. | Fused silica pellicle |
| US7351503B2 (en) * | 2001-01-22 | 2008-04-01 | Photronics, Inc. | Fused silica pellicle in intimate contact with the surface of a photomask |
| JP2003043670A (ja) * | 2001-07-30 | 2003-02-13 | Asahi Glass Co Ltd | ペリクル |
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| DE10246788B4 (de) * | 2002-10-08 | 2007-08-30 | Infineon Technologies Ag | Schutzvorrichtung für Reflexionsmasken und Verfahren zur Verwendung einer geschützten Reflexionsmaske |
| US7264853B2 (en) * | 2003-08-26 | 2007-09-04 | Intel Corporation | Attaching a pellicle frame to a reticle |
| JP2006146085A (ja) * | 2004-11-24 | 2006-06-08 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 大型ペリクル |
| JP2007333910A (ja) * | 2006-06-14 | 2007-12-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
| JP2009276521A (ja) * | 2008-05-14 | 2009-11-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
| JP5436296B2 (ja) * | 2010-03-26 | 2014-03-05 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィー用ペリクル |
| JP5795747B2 (ja) * | 2012-04-04 | 2015-10-14 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム及びペリクル |
| JP7139133B2 (ja) * | 2018-04-03 | 2022-09-20 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム、ペリクル、及びペリクルフレームの製造方法 |
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| JPH06301199A (ja) * | 1993-04-13 | 1994-10-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
| JPH0743892A (ja) * | 1993-07-28 | 1995-02-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
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| JPS58219023A (ja) * | 1982-06-15 | 1983-12-20 | Daicel Chem Ind Ltd | 樹脂薄膜の製造方法 |
| JPS6057841A (ja) | 1983-09-09 | 1985-04-03 | Hitachi Ltd | 異物固定方法及び装置 |
| JPS6083032A (ja) | 1983-10-13 | 1985-05-11 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光透過性に優れたフオトマスク用防塵カバ− |
| JPS63777A (ja) * | 1986-06-20 | 1988-01-05 | Nippon Tsushin Kensetsu Kk | 手書き文字認識装置 |
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1995
- 1995-12-15 JP JP34709195A patent/JP3493090B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-08-16 TW TW085110040A patent/TW324793B/zh not_active IP Right Cessation
- 1996-11-21 US US08/754,777 patent/US5834143A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-11-28 KR KR1019960058799A patent/KR970049086A/ko active Search and Examination
- 1996-12-05 EP EP96308813A patent/EP0779551A3/en not_active Withdrawn
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Also Published As
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| TW324793B (en) | 1998-01-11 |
| EP0779551A2 (en) | 1997-06-18 |
| EP0779551A3 (en) | 1998-04-29 |
| US5834143A (en) | 1998-11-10 |
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