JP5341997B2 - ペリクルフレームおよびそれを含むペリクル - Google Patents
ペリクルフレームおよびそれを含むペリクル Download PDFInfo
- Publication number
- JP5341997B2 JP5341997B2 JP2011522705A JP2011522705A JP5341997B2 JP 5341997 B2 JP5341997 B2 JP 5341997B2 JP 2011522705 A JP2011522705 A JP 2011522705A JP 2011522705 A JP2011522705 A JP 2011522705A JP 5341997 B2 JP5341997 B2 JP 5341997B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- coating film
- electrodeposition coating
- pellicle frame
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31511—Of epoxy ether
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31511—Of epoxy ether
- Y10T428/31529—Next to metal
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
[2] 前記エポキシ系樹脂の塗装膜は、カチオン性エポキシ系化合物を含むエポキシ樹脂の電着塗装膜の硬化物である、[1]記載のペリクルフレーム。
[3] 前記エポキシ系樹脂は、アミンで変性されたビスフェノール型エポキシ系化合物を含む、[1]または[2]に記載のペリクルフレーム。
[4] 前記ペリクルフレームは、アルマイト処理されていないアルミニウム合金フレームである、[1]〜[3]のいずれかに記載のペリクルフレーム。
[5] エポキシ系樹脂の塗装膜の厚さが25μm以下である、[1]〜[4]のいずれかに記載のペリクルフレーム。
[6] ペリクル膜と、前記ペリクル膜の外周を支持する[1]〜[5]のいずれかに記載のペリクルフレームとを有する、ペリクル。
本発明に用いられる、エポキシ系樹脂のカチオン電着塗料組成物は、(A)カチオン性エポキシ系化合物と、(B)硬化剤と、(C)顔料と、(D)中和剤と、(E)水性媒体とを含み、必要に応じて(F)他の成分をさらに含む。
カチオン性エポキシ系化合物は、多価アルコールとエピクロルヒドリンとをモノマー成分とするオリゴマーを、カチオン変性した化合物である。
1)ベンゼン核に由来するピークBの吸光度(1450〜1550cm−1の範囲に存在するピークの吸光度)と;ベンゼン核に結合するエーテルに由来するピークAの吸光度(1200〜1275cm−1の範囲に存在するピークの吸光度)との比率、および
2)未反応のエポキシ基に由来するピークCの吸光度(905〜930cm−1の範囲に存在するピークの吸光度)と;ベンゼン核に由来するピークBの吸光度との比率が、特定の範囲にあることが好ましい。
硬化剤は、カチオン性エポキシ系化合物を硬化させるものであり、好ましくはブロック化イソシアネート硬化剤である。
ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、2,2,4−トリメチルヘキサンジイソシアネート、およびリジンジイソシアネート等のような炭素数3〜12の脂肪族ジイソシアネート;
1,4−シクロヘキサンジイソシアネート(CDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(水添MDI)、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、イソプロピリデンジシクロヘキシル−4,4’−ジイソシアネート、および1,3−ジイソシアナトメチルシクロヘキサン(水添XDI)、水添TDI、2,5−もしくは2,6−ビス(イソシアナートメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン(ノルボルナンジイソシアネートとも称される)等のような炭素数5〜18の脂環式ジイソシアネート;
キシリレンジイソシアネート(XDI)、およびテトラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)等のような芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート等が含まれる。これらは、単独で、または2種以上併用することができる。
本発明に用いられるカチオン電着塗料組成物には、黒色顔料としてカーボンブラックが含まれる。光をペリクルフレームに照射し、光の反射によって塵埃の有無を検査するペリクルフレームの受け入れ検査において、迷光を抑制し、塵埃を確認し易くするためである。
本発明で用いられるカチオン電着塗料組成物には、カチオン性エポキシ系化合物の水性媒体への分散性を向上させるための中和剤が含まれる。
水性媒体は、イオン交換水、純水などである。水性媒体は、必要に応じて、少量のアルコール類などを含んでもよい。
本発明に用いられるカチオン電着塗料組成物には、必要に応じて、他の成分が含まれてもよい。他の成分の例には、水混和性有機溶剤、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、硬化剤のブロック剤の解離を促進するための硬化触媒などが含まれる。硬化触媒の例には、錫触媒が含まれる。
本発明のペリクルフレーム表面の、エポキシ系樹脂の硬化電着塗装膜は、1)ペリクルフレーム表面に、前記カチオン性電着塗料組成物の電着塗装膜を形成する工程;2)得られた電着塗装膜を加熱硬化および乾燥させて硬化電着塗装膜とする工程;を有する方法により得られる。
の範囲に存在するピークAと;1450〜1550cm−1の範囲に存在するピークBと;905〜930cm−1の範囲に存在するピークCとが確認される。各ピークA〜Cとは、それぞれの波長域内で最も吸光度が高い部分(ピークの頂点)である。
本発明のペリクルは、ペリクル膜と、前記ペリクル膜の外周を支持するペリクルフレームと、前記ペリクルフレームと前記ペリクル膜とを接着させる膜接着剤と、前記ペリクルフレームと前記マスクとを接着するためのマスク接着剤とを有する。図2には、本発明のペリクルの一例が示される。ペリクル10は、ペリクル膜12と、ペリクル膜12の外周を支持するペリクルフレーム14とを有する。ペリクル膜12は、ペリクルフレーム14の一方の端面にある膜接着剤層13を介して張設されている。一方、ペリクルフレーム14をマスク(不図示)に接着させるために、ペリクルフレーム14のもう一方の端面には、マスク接着剤層15が設けられている。
ペリクルフレームとして、フレームの外寸149mm×122mm×5.8mm、フレーム厚さ2mmのアルミニウム合金A7075製フレームを用意した。このペリクルフレーム表面を洗浄した後、吐出圧1.5kg/cm2でサンドブラスト処理した。
電着塗料として、エポキシ樹脂系電着塗料パワートップU−CP70−1(日本ペイント株式会社製)を用いた以外は、実施例1と同様にして、ペリクルフレーム表面に膜厚10μmの電着塗装膜を形成した。実施例1の加熱硬化条件に代えて、電着塗装膜を、220℃のオーブンで60分硬化および乾燥した後;発生ガス量を低減させるために、200℃のオーブンでさらに30分間硬化および乾燥させて、硬化電着塗装膜とした。
ペリクルフレームとして、フレームの外寸149mm×122mm×5.8mm、フレーム厚さ2mmのアルミニウム合金A6061製フレームを用意した。このペリクルフレーム表面を洗浄した後、吐出圧1.5kg/cm2でサンドブラスト処理した。
電着塗料として、エポキシ樹脂系電着塗料パワートップU−CP70−6(日本ペイント株式会社製)を用いて、かつ通電時間を90秒とした以外は、実施例3と同様にペリクルフレーム表面に、膜厚10μmの電着塗装膜を形成した。電着塗装膜を、210℃のオーブンで60分加熱して硬化および乾燥させて、硬化電着塗装膜とした。
電着塗料として、エポキシ樹脂系電着塗料パワートップU−CP70−7(日本ペイント株式会社製)を用いて、かつ通電時間を100秒とした以外は、実施例3と同様にペリクルフレーム表面に、膜厚13μmの電着塗装膜を形成した。電着塗装膜を、220℃のオーブンで60分加熱して硬化および乾燥させて、硬化電着塗装膜とした。
電着塗料として、アニオン電着塗装用アクリル系塗料パワースクエアAクリヤーブラック(日本ペイント株式会社製)を用いた以外は、実施例1と同様にペリクルフレーム表面に膜厚12μmの電着塗装膜を形成した。そして、実施例1と同様に、電着塗装膜を硬化および乾燥させて、硬化電着塗装膜とした。
電着塗料として、アクリル系塗料エレコートAM−1メイクアップ(株式会社シミズ製)を用いた以外は、実施例1と同様にペリクルフレーム表面に膜厚13μmの電着塗装膜を形成した。そして、実施例1と同様に、電着塗装膜を硬化および乾燥させて、硬化電着塗装膜とした。
電着塗料として、アクリル系塗料エレコートフロステイW−2メイクアップ(株式会社シミズ製)を用いた以外は、実施例1と同様にペリクルフレーム表面に膜厚13μmの電着塗装膜を形成した。そして、実施例1と同様に、電着塗装膜を硬化および乾燥させて、硬化電着塗装膜とした。
シラン系塗料としてWS5100(三井化学株式会社製)と、カラーブラック(株式会社シミズ製)とを3:0.5の重量比で混合した混合塗料を調製した。実施例1において電着塗料を電着塗装する代わりに、前記混合塗料を、アルミニウム合金A7075製ペリクルフレーム表面に吹き付けた。前記混合塗料を吹き付けたフレームの外側3点を針金で支持した状態で、110℃のオーブンで60分加熱して硬化および乾燥させて、シラン系ハードコート膜を形成した。
実施例1のアルミニウム合金製ペリクルフレーム表面にアルマイト処理(陽極酸化処理)を施したペリクルフレームを用意した。ペリクルフレーム表面は、アルマイト処理(陽極酸化処理)により艶消しの黒色を呈していた。なお、ペリクルフレームには、電着塗装膜を形成しなかった。
電着塗料として、エポキシ樹脂系電着塗料パワートップU−CP70−2(日本ペイント株式会社製)を用いた以外は、実施例1と同様にペリクルフレーム表面に膜厚12μmの電着塗装膜を形成した。そして、実施例1と同様に、電着塗装膜を硬化および乾燥させて、硬化電着塗装膜とした。
ペリクルフレームとして、フレームの外寸149mm×122mm×5.8mm、フレーム厚さ2mmのアルミニウム合金A6061製フレームを用意した。このペリクルフレーム表面を洗浄した後、吐出圧1.5kg/cm2でサンドブラスト処理した。
電着塗料として、エポキシ樹脂系電着塗料パワートップU−CP70−4(日本ペイント株式会社製)を用いて、かつ通電時間を100秒とした以外は、比較例7と同様にペリクルフレーム表面に、膜厚13μmの電着塗装膜を形成した。電着塗装膜を、220℃のオーブンで60分加熱して硬化および乾燥させて、硬化電着塗装膜とした。
50℃の恒温槽内に、30cm角のチャンバーを設け、各実施例および各比較例で硬化電着塗装膜が形成されたペリクルフレームを3枚入れた。恒温槽内を窒素パージ後、0.1L/分で窒素を24時間流し、チャンバーから窒素が出てくる部分に、ジーエル サイエンス株式会社製のGC充填剤Tenax TAを接続し、発生ガスを補足した。
次いで、加熱脱着ガスクロマトグラフ質量分析計(GC−MS)を用いて発生ガス量を測定した。測定には株式会社島津製作所製の加熱脱着GC−MS(TDTS−2010)、ガスクロマトグラフ(GC−2010)、質量分析計(GCMS−QP2010)を使用した。
発生ガス量の判断基準は、以下の通りとした。
ペリクルフレーム3枚あたりの発生ガス量が0.5μg以上では好ましくない。0.4μg以下が好ましく、0μgがさらに好ましい。
旭化成株式会社製のジッパー付き耐熱袋(ジップロック(R))に、100mlの蒸留水を入れた。これに、各実施例および各比較例で硬化電着塗装膜が形成されたペリクルフレームを3枚入れた。耐熱袋から空気を抜いた後、ジッパーで密閉した。この耐熱袋を、90℃の高温水槽に3時間浸漬して、ペリクルフレームに含まれる硫酸を抽出した。抽出液に含まれる硫酸イオン量を、イオンクロマトグラフ分析装置(DIONEX Corporation製ICS−1000)により測定した。
硫酸イオン量の判断基準は、以下の通りとした。
ペリクルフレーム3枚あたりの硫酸イオン量は、6μg以上では好ましくない。5μg以下が好ましく、0μgがさらに好ましい。
各実施例および各比較例で硬化電着塗装膜が形成されたペリクルフレームを切断し、5.8mm×10mm×2mmの平板状の試験片とした。新東化学株式会社製往復磨耗試験機ドライボギア30S-TYPEを使用し、磨耗子はSUS製(20×20mm)フラットタイプを用いて、磨耗速度30回/分、磨耗距離50mm、摩耗幅5.8mm、加重1kg、往復磨耗回数100回、三共化学株式会社製紙ヤスリ粒度#600番(DCCタイプ)の条件で、塗装膜の磨耗試験を行った。磨耗試験後の試験片の表面観察および残存している硬化電着塗装膜の幅を測定した。
黒色の塗装膜が剥がれて、残存する塗装膜の幅が3mm以下になると、ペリクルとして使用する時に発塵するため、好ましくない。
硬化電着塗装膜を形成したペリクルフレームを切断し、5mm×90mm×2mmの平板状の試験片とした。この試験片を、25℃のテトラヒドロフランが入ったスクリュー試験管に入れて2日間浸漬させた後、1日風乾させた。その後、上記磨耗試験と同じく磨耗試験を行った。
硬化電着塗装膜を形成したペリクルフレームを切断し、5.8mm×90mm×2mmの平板状の試験片とした。この試験片表面をナイフで削ることにより硬化電着塗装膜の粉状体を得た。得られた粉状体とKBrの微粉末とを混合した後、プレスして錠剤を作製し、KBr錠剤法により以下の条件で赤外線吸収スペクトルを測定した。錠剤における硬化電着塗装膜の粉状体の濃度は1.2mg/gとした。(測定条件)
測定範囲:400〜4000cm−1(1.93cm−1毎)
使用機器:FTS−165(Biorad製 FT−IR)
積算回数:32回
12 ペリクル膜
13 膜接着剤層
14 ペリクルフレーム
15 マスク接着剤層
Claims (10)
- ペリクル膜の外周を支持するペリクルフレームであって、
前記ペリクルフレームの表面に、エポキシ系樹脂の塗装膜が形成されており、
前記エポキシ系樹脂の塗装膜の赤外線吸収スペクトルにおいて、1200〜1275cm−1の範囲に存在するピークの吸光度に対する、1450〜1550cm−1の範囲に存在するピークの吸光度の比が0.5以上3以下であり、かつ
905〜930cm−1の範囲に存在するピークの吸光度に対する、1450〜1550cm−1の範囲に存在するピークの吸光度の比が1以上7未満である、ペリクルフレーム。 - 前記エポキシ系樹脂の塗装膜は、カチオン性エポキシ系化合物を含むエポキシ系樹脂の電着塗装膜の硬化物である、請求項1に記載のペリクルフレーム。
- 前記エポキシ系樹脂は、アミンで変性されたビスフェノール型エポキシ系化合物を含む、請求項1に記載のペリクルフレーム。
- 前記エポキシ系樹脂は、アミンで変性されたビスフェノール型エポキシ系化合物を含む、請求項2に記載のペリクルフレーム。
- 前記ペリクルフレームは、アルマイト処理されていないアルミニウム合金フレームである、請求項1に記載のペリクルフレーム。
- 前記ペリクルフレームは、アルマイト処理されていないアルミニウム合金フレームである、請求項2に記載のペリクルフレーム。
- エポキシ系樹脂の塗装膜の厚さが25μm以下である、請求項1に記載のペリクルフレーム。
- エポキシ系樹脂の塗装膜の厚さが25μm以下である、請求項2に記載のペリクルフレーム。
- ペリクル膜と、
前記ペリクル膜の外周を支持する請求項1に記載のペリクルフレームとを有する、ペリクル。 - ペリクル膜と、
前記ペリクル膜の外周を支持する請求項2に記載のペリクルフレームとを有する、ペリクル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011522705A JP5341997B2 (ja) | 2009-07-16 | 2010-07-06 | ペリクルフレームおよびそれを含むペリクル |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009168133 | 2009-07-16 | ||
JP2009168133 | 2009-07-16 | ||
PCT/JP2010/004416 WO2011007523A1 (ja) | 2009-07-16 | 2010-07-06 | ペリクルフレームおよびそれを含むペリクル |
JP2011522705A JP5341997B2 (ja) | 2009-07-16 | 2010-07-06 | ペリクルフレームおよびそれを含むペリクル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2011007523A1 JPWO2011007523A1 (ja) | 2012-12-20 |
JP5341997B2 true JP5341997B2 (ja) | 2013-11-13 |
Family
ID=43449135
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011522705A Active JP5341997B2 (ja) | 2009-07-16 | 2010-07-06 | ペリクルフレームおよびそれを含むペリクル |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8507158B2 (ja) |
JP (1) | JP5341997B2 (ja) |
KR (1) | KR101280676B1 (ja) |
CN (1) | CN102472960B (ja) |
TW (1) | TWI481951B (ja) |
WO (1) | WO2011007523A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6027319B2 (ja) * | 2012-03-02 | 2016-11-16 | 旭化成株式会社 | 塗装材及びペリクル |
JP5981191B2 (ja) * | 2012-03-28 | 2016-08-31 | 旭化成株式会社 | ペリクル枠体 |
JP5795747B2 (ja) * | 2012-04-04 | 2015-10-14 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム及びペリクル |
JP5741561B2 (ja) | 2012-12-04 | 2015-07-01 | 日本軽金属株式会社 | ペリクル枠及びその製造方法 |
JP6313161B2 (ja) * | 2014-08-27 | 2018-04-18 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム及びペリクル |
US10036951B2 (en) * | 2015-05-29 | 2018-07-31 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Pellicle assembly and fabrication methods thereof |
JP6551837B2 (ja) * | 2015-08-17 | 2019-07-31 | 三井化学株式会社 | ペリクルフレーム、及びこれを含むペリクル |
KR102363381B1 (ko) | 2015-09-30 | 2022-02-15 | 삼성전자주식회사 | 수용성 접착제를 가진 펠리클 및 상기 펠리클이 부착된 포토마스크 어셈블리 |
JP6607574B2 (ja) * | 2016-08-24 | 2019-11-20 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム及びペリクル |
JP6729233B2 (ja) * | 2016-09-20 | 2020-07-22 | 日本軽金属株式会社 | ペリクル用支持枠及びペリクル並びにその製造方法 |
JP7139133B2 (ja) | 2018-04-03 | 2022-09-20 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム、ペリクル、及びペリクルフレームの製造方法 |
JP7330245B2 (ja) | 2018-04-03 | 2023-08-21 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH095983A (ja) * | 1995-06-16 | 1997-01-10 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | マスク保護装置のペリクル枠とその製造方法 |
JPH09166867A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-06-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
JP2001212490A (ja) * | 2000-02-04 | 2001-08-07 | Asahi Kasei Corp | ペリクル枠への保護膜材塗布ノズル部材及びペリクル枠への保護膜材塗布方法 |
JP2007333910A (ja) * | 2006-06-14 | 2007-12-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0743892Y2 (ja) * | 1988-09-02 | 1995-10-09 | ブラザー工業株式会社 | キーボード |
JP2915744B2 (ja) | 1993-04-13 | 1999-07-05 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
JP3027073B2 (ja) * | 1993-07-28 | 2000-03-27 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
KR200149834Y1 (ko) * | 1995-12-12 | 1999-06-15 | 구본준 | 펠리클을 구비한 마스크 |
CN1198316C (zh) * | 2000-12-27 | 2005-04-20 | 三井化学株式会社 | 薄膜 |
EP1820637B1 (en) * | 2004-12-09 | 2011-03-30 | Asahi Glass Company, Limited | Laminate for printed wiring board |
JP4388467B2 (ja) * | 2004-12-28 | 2009-12-24 | 信越化学工業株式会社 | フォトリソグラフィ用ペリクル及びペリクルフレーム |
KR20060116152A (ko) * | 2005-05-09 | 2006-11-14 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 오염이 적은 펠리클 |
US20090135345A1 (en) * | 2005-12-12 | 2009-05-28 | Takatoshi Yajima | Polarizing Plate Protective Film, Film Producing Method, Polarizing Plate, and Liquid Crystal Display |
-
2010
- 2010-07-06 TW TW099122172A patent/TWI481951B/zh active
- 2010-07-06 KR KR1020127000643A patent/KR101280676B1/ko active IP Right Grant
- 2010-07-06 JP JP2011522705A patent/JP5341997B2/ja active Active
- 2010-07-06 CN CN201080031601.9A patent/CN102472960B/zh active Active
- 2010-07-06 WO PCT/JP2010/004416 patent/WO2011007523A1/ja active Application Filing
- 2010-07-06 US US13/383,891 patent/US8507158B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH095983A (ja) * | 1995-06-16 | 1997-01-10 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | マスク保護装置のペリクル枠とその製造方法 |
JPH09166867A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-06-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
JP2001212490A (ja) * | 2000-02-04 | 2001-08-07 | Asahi Kasei Corp | ペリクル枠への保護膜材塗布ノズル部材及びペリクル枠への保護膜材塗布方法 |
JP2007333910A (ja) * | 2006-06-14 | 2007-12-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102472960B (zh) | 2014-06-25 |
KR101280676B1 (ko) | 2013-07-01 |
JPWO2011007523A1 (ja) | 2012-12-20 |
WO2011007523A1 (ja) | 2011-01-20 |
TWI481951B (zh) | 2015-04-21 |
KR20120028370A (ko) | 2012-03-22 |
US8507158B2 (en) | 2013-08-13 |
US20120122025A1 (en) | 2012-05-17 |
TW201109840A (en) | 2011-03-16 |
CN102472960A (zh) | 2012-05-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5341997B2 (ja) | ペリクルフレームおよびそれを含むペリクル | |
EP3339955B1 (en) | Pellicle frame, pellicle containing same, method for producing pellicle frame, and method for producing pellicle | |
JP2007333910A (ja) | ペリクル | |
JP4388467B2 (ja) | フォトリソグラフィ用ペリクル及びペリクルフレーム | |
JP7139133B2 (ja) | ペリクルフレーム、ペリクル、及びペリクルフレームの製造方法 | |
US10338465B2 (en) | Pellicle frame and pellicle | |
US8394557B2 (en) | Lithographic pellicle | |
JP6313161B2 (ja) | ペリクルフレーム及びペリクル | |
JP2011113033A (ja) | ペリクル膜の製造方法および装置 | |
KR101524104B1 (ko) | 펠리클의 박리 방법 및 이 방법에 사용하는 박리 장치 | |
JP2022064462A (ja) | ペリクル用粘着剤、粘着剤層付ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版、露光方法、半導体の製造方法及び液晶表示板の製造方法 | |
JP2013182205A (ja) | 塗装材及びペリクル | |
KR20180087184A (ko) | 점착제의 성형 방법 및 이 성형 방법에 의한 펠리클의 제조 방법 | |
JP7330245B2 (ja) | ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、及び半導体デバイスの製造方法 | |
TW202307560A (zh) | 防護薄膜框架、防護薄膜、帶防護薄膜的光罩、曝光方法、半導體元件的製造方法及液晶顯示器的製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130521 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130730 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130808 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5341997 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |