JPH08507106A - 金属層の電解析出のための方法と装置 - Google Patents
金属層の電解析出のための方法と装置Info
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- JPH08507106A JPH08507106A JP7517724A JP51772495A JPH08507106A JP H08507106 A JPH08507106 A JP H08507106A JP 7517724 A JP7517724 A JP 7517724A JP 51772495 A JP51772495 A JP 51772495A JP H08507106 A JPH08507106 A JP H08507106A
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.析出金属のイオン、電気化学的に可逆な酸化還元系の化合物、及び金属層 の物理化学特性を制御するための添加化合物を含有するメッキ溶液からの、高い 電流効率で、所定の物理機械特性の均一な金属層、特に銅層の電解析出の方法で あって、 −陰極; −不溶性で寸法的に安定な陽極; −陽極酸化によって形成された酸化還元系の酸化化合物を含有するメッキ溶液の 通路上の好適な金属パーツの溶解によって金属イオンが形成される金属イオン発 生器;及び −陰極の直近での酸化化合物の濃度が最小化され、好適には約0.015モル/ リットルより少ない値になる手段 を用いる方法。 2.酸化還元系の化合物の濃度が、金属イオン濃度を維持するために必要な値 より僅かに低く保持されることを特徴とする請求項1に従う方法。 3.酸化化合物の濃度が金属イオン発生器を通る通路上で約ゼロの値に下がる ような大きさに金属パーツの表面が選択されることを特徴とする請求項1又は2 に従う方法。 4.メッキ溶液が高速流で陽極に進み、そこから高速で金属イオン発生器に移 ることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項 に従う方法。 5.少なくとも1種の二次酸化化合物、好適には酸素が更に金属イオン発生器 に導かれることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に従う方法。 6.陰極空間に存在する溶液の一部が、陽極に供給されることなく、金属イオ ン発生器に直接導かれることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に従う方 法。 7.金属イオン発生器を通って導かれるメッキ溶液が陰極に直接流れ、その後 、流れの偏向によって陽極へ流れることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一 項に従う方法。 8.陰極(6,24,69)及び不溶性で、好適には穴の開いた寸法的に安定 な陽極(5,23,74)と接触するメッキ溶液から、高い電流密度で、所定の 物理機械的特性の金属、特に銅の均一な層の電解析出のための装置であって、陰 極と陽極の間に配置された電解質空間(1)と、メッキ溶液を陰極及び陽極へ供 給するための手段と、金属イオン発生器(2,21,44,66)と、陽極に供 給されたメッキ溶液を金属イオン発生器へ移送するための第1手段と、金属イオ ン発生器から出るメッキ溶液を電解質空間に移送するための第2手段とを備えて なり、前記手段が陽極と金属イオン発生器の間の小さな空間の間隔を架橋してい る装置。 9.陽極の近傍に存在するメッキ溶液が高速で引かれるか、出 口(4,61,77)を介して除去され金属イオン発生器(2,21,44,6 6)に移送されることとなる手段(31,62,76)が備えられていることを 特徴とする請求項8に従う装置。 10.電解質空間(1)がイオン透過性仕切壁(17,38,80)によって 幾つかの区画に分けられることを特徴とする請求項8又は9に従う装置。 11.陰極の近傍に存在するメッキ溶液が電解質溶液(1)から除去され金属 イオン発生器(2,21,44,66)にもたらされることとなる出口(18, 75)が備えられていることを特徴とする請求項8〜10のいずれか一項に従う 装置。 12.頂部から充填され、下方域に底部(48)を、及びメッキ溶液の入口と して側方開口(50)を有した少なくとも1本のパイプ連結部(49)を、及び 上方域に電解質容器(45,67)に排出するオーバーフロー部(54,78) を備える管状装置が、金属イオン発生器(2,21,44,66)として備えら れていることを特徴とする請求項8〜11のいずれか一項に従う装置。 13.金属イオン発生器(2,21,44,66)の範囲内の傾斜した、好適 には穴の開いた板(55)を特徴とする請求項8〜12のいずれか一項に従う装 置。 14.金属イオン発生器(2,21,44,66)の下方域に配置された空気 の吹き込みのための手段(56)を特徴とする請求項8〜13のいずれか一項に 従う装置。 15.陰極を水平に把持し電気的に接触し水平方向に動かすための手段(26 ,70,82)を特徴とする請求項8〜14のいずれか一項に従う装置。 16.回路基板の金属化のために請求項1〜7のいずれか一項に従う方法の使 用法。 17.新しい特徴の幾つか又は全て、あるいは開示された特徴の組み合わせを 特徴とする金属の電解析出のための方法。 18.新しい特徴の幾つか又は全て、あるいは開示された特徴の組み合わせを 特徴とする金属の電解析出のための装置。
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