JPS6148599A - 鉄系又は鉄系合金電気めつきのイオン補給方法 - Google Patents

鉄系又は鉄系合金電気めつきのイオン補給方法

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JPS6148599A
JPS6148599A JP16790984A JP16790984A JPS6148599A JP S6148599 A JPS6148599 A JP S6148599A JP 16790984 A JP16790984 A JP 16790984A JP 16790984 A JP16790984 A JP 16790984A JP S6148599 A JPS6148599 A JP S6148599A
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裕 小川
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野〕 近年、自動車等の防錆対策として、防錆鋼板の使用がと
み(こ高まっている。厚目付量のめつき鋼板は防錆能力
は高いが、自動車組立時のスポット溶接性等を著しく劣
下させることから、低目付量にてもほぼ同等の防錆能力
を有した各種の合金めっき鋼板が望まれ、すでtこ、か
なシ使用され始めている。とシわけ、最近では、従来の
自動車内面側の孔あき腐食対策のみならず、外面側の外
観錆対策をも満足しえる両面防錆鋼板として塗装適合性
に優れた鉄系又は鉄系合金めつき、とシわけ、鉄−亜鉛
合金めっき鋼板のニーズが特lこ高まっている。このよ
うな背景から、優れた材質及び鮮映性かえられやすい電
気めっきによる鉄系又は鉄系合金めっき鋼板の製造が一
般化しつつある。
本発明はこの電気めっきによる鉄系又(は鉄系合金めつ
き鋼板の製造9こ関するものであυ、詳しくは、不溶性
陽極を使用した鉄系又は鉄系合金めつきのイオン補給方
法に関するものである。
電気めっきを行う場合、めっきによって消費されたイオ
ンの供給方法によって大別して、二種類がある。即ち、
めっきされる金属よシ形成された溶解性の陽極を使用す
る方法と、陽極tこは不溶性陽極を使用し、別途、めっ
きされたイオンを各種薬剤1こて供給する方法である。
しかしながら、前者の溶解性陽極を使用する方法は、通
電(こよシ、刻々と陽極が減耗するため、しばしばめっ
きセル内の陽極を変える必要があることから、多大な取
換え労力が必要であること、及び、短い極間距離での操
業が困難であることから、高い電力消費(こなシやすい
こと、壕だ、溶解性陽極は一般(こ高電流密度【こおい
て、不動態化してしまう傾向があるため、低電流密度操
業を余儀無くされ、高生産性1こ支障をきたす等の欠点
がある。そのため、後者の不溶性陽極を使用した電気め
っきが採用されつつある。
この不溶性陽極を使用した電気めっきにおいて、亜鉛め
っき、ニッケルめっき、ニッケルー亜鉛合金めっきなど
のよう(こ、同一金属(こ対して単一イオン価(N+2
” I  Zn2+)のみしか有しない場合には問題は
ないが、鉄、マンガンやスズ系のめっきのよう(こ、同
一金属に対して二種以上のイオン価(Fe”、Fe”、
Mn”、Mn”、Mn7+、Sn”+、Sn”)を有す
る場合tこは、通電時、陽極(こて高イオン価(こ酸化
され、しばしば、この高イオン価のイオンがめつき性(
こ悪影響を及ばず。このため、高イオン価イオンを低濃
度に維持せしめることは重要な技術課題である。
本発明ζこ関する鉄又は鉄系合金めつきの場合も、やは
り、鉄の高イオン価であるFe”4−イオンが、めっき
析出効率の低下など、数多くの弊害がちシ、極力低濃度
(こ維持させることが、有利てあp 、Pe”−イオン
の有効な還元技術は、重要な技術課題となっている。
なお、鉄系又は鉄系合金めっきとは、FCめっき又は、
Fe1J、外のZn、 Ni、 Co、 Cr、へ4n
 、 M、o 、 S n 、 P 。
Ti、 W等の成分と二元以」二の合金めっきをなすも
ののことを言う。又、Fe−8iO□のようf、; S
 102のような絶縁体を含んだ複合(又は分散ともい
うつめつきも含む意味である。
(従来の技術9 不溶性陽極を使用した場合、めつき(こよ多消費された
Fe24−イオン、Zn”4オン、N +’ 2 + 
イオンを、別途、イオン補給する必要がある。イオン補
給源としては、金属体(Zn、 Fe、 Ni )、酸
化物(ZnO1FcO1N10)、水酸化物(Zn (
OT−1−)2、Fe(01()、、 。
Ni (OH)2 つ 、  炭酸塩 (Z口■3、 
 PeCO3、N ICO3)  等があるが、不溶性
陽極を使用した電気めっきにおいて(ハ、通電時、陽極
にてFe2+イオンがFC3″−イオンに酸化されるた
め、FC3″−イオンの還元が期待できる金属体(Zn
、 Fe、 Ni )が使用される(特願57−315
04 (、堝開昭58−151489号9)。これid
、、Fe3″゛イオンがめつき析出効率の低下、めっき
外観の劣下、めっき@着性の劣下等、数多くの弊害があ
るため、極力低濃度に維持(バランスフさせることが有
利であるためである。
しかしながら、従来のイオン補給俗解方式では、かなら
ずしもFe3+イオンの還元が有効に行われていない。
即ち Fc”+イオンの還元を高めるために流速を高め
る方式(空塔速度約0.5−20 Cm/−)を狙って
いるが(4′f開昭58−1.51.489号り、流速
を高めると装填されている金属体がめつき液流fこよシ
移動(浮遊、拡散なと〕させられるため、真実の相対流
速はめつき液流の増加はどζこは高1らず、Fe3+イ
オンの還元効率は金属Zn溶解初期時でせいぜい56%
程度であり、金属FeBM初期時てせいぜい83%程度
である。捷た、それも、新金属Zn・新金属Fe浴解初
期のみの値であり、平衡溶解時(こは金属Znで40%
、Feで70%以下に捷て低下してし丑う。金属Ni、
Cuなとも同一傾向を有する。−1:た、電気化学的【
こよシ貴な金属、たとえばptなと、との接触溶解も、
新金属Zn・新金属Fe1l解初期時(こけ効果(還元
効率約70−90%〕が認められるが、やはシ、平衡溶
解時にはほとんど効果がない(還元効率金属Zn溶解時
・・・40%以下、金属Fe溶解時・・・70%以下〕
状態であシ、実用的には効果がほとんど認められない。
又、操業上は電解還元法などのFe3+イオンの低減方
法もあるが、エネルギーの消費が太きいため次善の策で
ある。
(発明の目的〕 本発明は以上のような溶解時(こ還元効率が高く、一定
時間溶解後の平衡溶解時に還元効率が低下すること、及
び、空塔速度を増しても、真の相対流速が高まらず、絶
対的に還元効率が低いといった欠点を有利【こ解決する
ためになされたものである。
(発明の構成・作用〕 即ち、不溶性陽極を使用した鉄系又は鉄系合金電気めっ
き操業において、イオン補給溶解を行なう際、めっき液
に可溶な金属体とめつき液の相対流速を20智べ。以上
にして、前記金属体を溶解することを特徴とする鉄系又
は鉄系合金電気めっきの2    イオン補給方法であ
る。
かくすることシこよシ、初期溶解時及び、平衡溶解時も
金属体にて、Fe  イオンを従来以上に高効率(こて
還元せしめ、Fe3+イオンを低濃度に維持させること
が容易となるものである。
尚、金属体とは、めつきlこよって消費される金属イオ
ン【こ相当する金属であシ、形状としては、粉状、粒状
、板状、線状、塊状などのいずれでもよく、大きさにつ
いては、特(ここだわらないが、めっき液と金属体との
相対流速が容易〔こ得られやすい点から、和尚直径が0
.1mmφ以上が望ましく、一方、溶解速度の観点から
、比表面積の大きなものが必要であるため、相自直径と
しては、10mφ以下が望ましい。
ところで、初期溶解時とは、新しい金属体を溶解し始め
る時のことであシ、平衡溶解時とは、一定時間溶解を継
続させた後、溶解速度・還元効率がほぼ、一定の定数(
こなった時のことを言う。
以下、本発明の具体的な原理をFe”+イオンを含有し
たFe系又はFe系合金めっき浴に金属Zn、 Fc。
Nlの各・マを溶解する場合を例トことって説明する。
金属体をめっき液にて溶解させる際に、めっき浴中のF
e3+イオンが還元されること及び同時(こH2発生が
生ずることは、特願57−31504号(特開昭58−
151489 ) 、特願57−52565に記載され
ているとおシである。即ち、 である。なお、Meとは金属体でZn、 Fe、 Nl
等のことである。上記の反応を熱力学的lこ解析し、上
記2種の反応の駈化還元電位を求め、反応の起こシやす
さを調べた(表1参照〕。なお、その際のめつき浴条件
は、 Fe”+= Q、01〜0.63m04’z Ni2+
=0.01−2.0m01y’1Fe”= 0.09〜
2.2m01/1Zn2” = 0.015〜2.0 
m”/1PH−0〜3  (H+イオ79=10−”−
1mOA/z)である。
Me = Znの場合を例にとって反応の酸化還元電位
を求める方法を記すと、Zn +2 Fe” →Zn2
″+2Fe2+・・・(、a)式なる反応の酸化還元電
位Eaは、のようlこして求まる。一方、 Zn −1−2H” −+ Zn2+−H2↑・・・・
・・(b)式なる反応ノ酸化還元電位Ebは、 として求まる。Me=Fe、 Me=Ni)こつぃても
、同様な方法(こて求めた。
表        1 なお、計算(こ使用したEFcl 、 Ezno 、 
EHo 等は以下のような数値である。
表        2 又、還元効率は以下のよう(こ定義する(ただしMeが
溶解する場合M、e→M、e” )こなる場合つ。
Xl、OO(、%つ 又は 以上の結果よシ、反応推進力である酸化還元電位は、明
らか(こH2発生溶解反応よpもFC3+還元溶解反応
の方がはるか(こ生じやすいことがわかる。
【こもかかわらず、現実的[こは、例えば金属Znの溶
解時、表3の比較例3のよう(こ、初期溶解時て56係
程度の還元効率しか得られず、又、一定時間俗解後の平
衡溶解時にいたっては38%1で1こ低Fしてし捷う。
この原因を詳細(こ調べた結果、反応速度を支配するも
の(こけ、化学反応速度論等て詳しく述べられているよ
うrこ、反応律速支配型と拡散律速支配型があるが、本
問題である金属体とFe3+イオンとの反応は、Fe3
+イオンの金属体表面への拡散が律速(こなっているこ
とが、亜鉛製バイブ内【こめつき液を流し、相対流速の
影響をテストする等、さ丑ざまな調査により認められた
。自然、逆(こ、■]2発生反応は相対的に反応律速支
配型といえよう。
従来の溶解方法(特開昭58−1514.89 )では
、単(こめつき液の空塔速度のみを高める工夫をしてい
るために、空塔速度を高めるに従って金属体が移動(浮
遊、拡散等りさせられ、金属体とめつき液との相対流速
がほとんど高まらないこと。
また、反応により生成したH2カスは低い相対流速にお
いては金属体表面に付着した寸まとなシ、金属体をH2
カスで覆い比重を軽くさせて移動(浮遊、拡散等)をさ
せやずぐシ、益々金属体表面の実質相対流速が上がらな
い欠点があること。
および、I2ガスが金属体表面(こ付着している場合に
は、付着している部分がH2カス(こよりめっき液から
遮断されているため金属体は溶解されず、一方、 l−
I2ガスが付着していない部分では金属体の溶解が進む
結果、金属体は溶解が進むとともに多孔質化し、それが
益々■12ガスを取れなくさせるとともに、Fe”イオ
ンの金属体表面への拡散を益々遮断させてしまう結果と
なっていた。従って、従来の方法では、絶対値としての
還元効率が低く、又、初期溶解時は多孔質でないため、
還元効率はそれほど低くないが、多孔質化した平衡溶解
時には、太幅(こ還元効率が低下するものである。その
ため、本発明【こ述べているよう(こ、イオン補給を行
う際、溶解槽中に金属体を装填し、金属体とめつき液と
の真の相対流速が充分に確保されることによシ、 1)金属体表面の反応境膜を薄くし Fe3+イオンを
金属体表面に常に充分に供給する結果、 Pc3+イオ
ンの還元反応が拡散律速でなくなり、Fe3+イオンの
還元溶解反応を有効に生ぜしめ、一方、金属体表面がF
e3+イオンの還元溶解反応(こ使用されているため、
反応律速であるH22カス生反応は、反応が抑制される
。従って、還元効率を着実に向上させることができる。
2)又、高い相対流速(こよシ金属体表面(こ付着して
いるI2ガスを取シ去る結果、金属体のI2ガスによる
めっき液からの遮断を防ぐことができ、Fe”+イオン
を金属体表面(こ充分1こ供給することができること、
および、 I(2ガスが付着している部分は溶解されず
、H2ガスが付着していない部分のみ金属体の溶解が進
むことζこよる多孔質化が防止できるため、やはり、F
e3+イオンを金属体表面ζこ充分に供給することがで
きることtこよりPe3+イオンの還元反応が拡散律速
になるのを防ぎ、Fe3+イオンの還元溶解反応を有効
(こ生ぜしめ、還元効率を着実1こ向上させるものであ
る。
尚、上記のような効果を得るための必要最低相対流速は
亜鉛製パイプ(パイプ径15胴φ、バイゾ長1 m )
内(こめつき液を流すテストおよび、第1図の装置【こ
おけるテスト等の結果によシ20C1n/Secである
ことが判明した。また相対流速の上限に対しては限界を
特に定める必要はないが、やたらと高い相対流速にて溶
解させることは一般(こ、圧力損失が流速の2乗に比例
して高まる結果、得策でない;     ため、300
Cm/−以下が妥当なところと考えられる。
ところで、高−相対流速下にて溶解することは、Fe3
+イオンの還元溶解反応速度自身の絶対値が高まる結果
、全体としての金属体溶解速度も高まる。
したがって、よシ小さな設備にて、従来法と同等の溶解
能力カS得られることは特筆すべきことである。さらt
こ、Fe3+イオンの還元溶解反応を優先して生ぜしめ
、H2発生反応が抑制される結果、従来1こ比べ、H2
発生量が減少する。そのため、従来の膨大なH2爆発対
策が縮小化できうる重要な効果もある。
また、電気化学的に責な金属との接触溶解による還元効
率向上も、従来では、金属体の多孔質化等により平衡溶
解時(こけ、殆ど効果が認められなくなっていたが、本
発明ととも(こおこなえば、永続的に効果が持続される
なお、本発明の適用範囲であるが、鉄系又は鉄系合金め
つき浴としては硫酸塩浴、塩化浴、ピロリン酸塩浴、フ
ッ化物浴、ホウフッ化浴、スルファミン酸浴などがある
が、不溶解性陽極の使用が前提であるため、主(こ、硫
酸塩浴での本発明の使用が望せしい。しかしながら、原
理的(こみて、本発明方法は、他の塩類のめつき浴にも
轟然適用可能てあシ、効果が認められる。
硫酸塩浴の場合、目的のめつきに応じてめっきされる金
属の硫酸塩を基本成分とし、合金めっきの場合蚤こは、
所定のめつき組成を得るために各々の基本成分の比を適
度に調整すればよい。例えばFe −Zn合金めっきな
らば、Zn2yFe” 比を調整する。又、PHはO〜
3.浴温は40〜80℃が代表的である。
以上の主要成分の他(こ、Na2SO4,に2SO4,
(N)1.)2SO4等の電導度補助剤や Fe 3+
の沈殿防止剤としてのクエン酸類、あるいは、陽極での
Fe2+イオンのFe3+イオンへの通電酸化抑制のた
めのL125041MgSO4゜At2(804)3等
の添加剤が添加されても、還元効率向上に支障はない。
なお、Fe ”” Zn合金めつき硫酸塩浴(こ限った
場合、ポリオキシエチレン系誘導体化合物、ポリオキシ
プロピレン系誘導体化合物が、添加されること【こよシ
、この添加剤単独効果にて、H2発生溶解反応の反応障
壁を高めるため、H2発生反応を抑制する結果、無添加
浴に比べ、還元効率の向上がはかれる。しかしながら、
この効果はやはり、金属体が多孔質化していない場合(
こ限られ、多孔質化した平衡溶解時1こは、その効果が
著しく低減する。
それゆえ、上記有機添加剤が添加された浴についても、
金属体とめつき浴の相対流速を20へ以上(こすること
【こよシ、多孔質化の防止及び、金属体界面へのPe3
+イオンの充分な供給によって、還元効率が向上する。
なお、この場合、無添加浴では達成しえなかった95%
以上の高い還元効率の確保が可能となる。
なお、ポリオキシエチレン誘導体化合物、ポリオキシプ
ロピレン誘導体化合物とは、以下【こ記すもの及びその
硫酸化物である。
・ポリオキシエチレン(ポリエチレングリコール〕l−
l−0−(CH2−(N(2−0) 、 −Hn = 
1〜2000 ・アルキルポリオキシエチレンエーテルR−0−(CH
2−CH2−0)。−Hn : 1−2000 R:アルキル基 CmH錘+f n]二〇 〜20 .アルキルフェニルポリオキンエチレンエーテル1イ。
n:6〜2000 It: アルキル基 Cm H2m +1m二〇〜20 Φアルキルナフチルポリオキシエチレンエーテル11も l〕:4〜2000 R:アルキル基 Cm H2m ++ m: 0〜20 9ポリオキシプロピレン(ポリブレングリコール〕n:
3〜2000 ・アルキルポリオキシプロピレンエーテルn:l 〜2
000 R:アルキル基 CI’n i(2In +1m二〇〜
20 ・アルキルンエニルポリオキシプロピレンエーテルn:
6〜2000 R:アルキル基CmH2m++ m :0〜20 eアルギルナフチルポリオキシブ閘ピレンエーテルn:
4−2000 R=アルキル基 Cm112m+1 m : 0〜20 一万、不溶解性陽極としては、PI)、又はPI)とS
1]。
81)、 Bi、 Ag等の二元以上の合金系あるいは
、Pt。
I r 、 Rh 、 Ru等の単一金属、酸化物又は
二元以上の合金又は酸化物の電極が使用できる。Fe 
 イオン濃度とシテは0.01 m0LA C,0,5
6g/l ) LJ 上11らばいくらでもよいが、め
っき性、その他の弊害から考えるならば、せいぜい0.
63m0勿(35g//l)までが望丑しい。
なお、本発明において、不溶解性陽極(離溶解性陽極も
含む)を用いためつき浴(こ限定した理由は、通電時、
陽極にてFe  −+Fe  lこ酸化されるが、溶解
性陽極(又は可溶性陽極ともいう。うては、空気酸化以
外ζこ酸化されないこと、及び可溶性陽極では通電時に
めつきされた金属イオンが、陽極からの溶解(こより、
同時(こイオン供給されるため、別途イオン補給するこ
とがないためである。
ただし、以上の説明から容易に推測されるように、一部
、不溶解性陽極を使用し、他が可溶性陽極を使用する場
合でも、不溶解性陽極使用下でのイオン補給方法に該当
し、本発明の方法(こよるイオン補給方法が適用可能で
ある。
次に、本発明方法の一例を図面(こよシ説明する。
第1図〜第4図は溶解槽1に金属体2(主として粒状の
もの、平均粒径2咽φ)を装填した後、めっき液により
金属体が移動しないように、少なくとも一方tこて固定
ないしは押えながら、めっき液を流入させて相対流速を
20 CrVSec以上にし溶解する装置の例である。
図(こおいて、3は沈静槽、4は循環タンク、5はポン
プ、6は流量計、7は圧力計、8及び9i−]1.金属
体2を両側又は片側から押えるフィルター及び多孔板、
10はおもシ、12はめつき浴である。第1図と第4図
ではおもシ10は押え用ロット月を介して金属体を押え
ている。又第2図及び第3図では沈静槽3をH2除去槽
として併用している。
なお、第8図は第1図〜第4図と異なり、溶解槽内(こ
金属体(平均粒径2論φ〕を装填しただけで、めっき液
を通液をして溶解する装置の比較例て、相対流速を上げ
ると金属体の一部が逸散して溶解が著しく劣ってぐる。
即ち、横軸tこ空塔速度、たて軸Eこ相対流速をとった
第7図のクラ7に示すよう(こ、第1図〜第4図の方式
では空塔速度に比例して相対流速が高壕るが、第8図の
方式では空塔速度を増しても、相対流速は高まらず、又
、20ら偽以上の空塔速度(こて操業した場合は、めっ
き液の粘性力【こて、金属体が溶解槽外に散逸させられ
てしまう。
又第5図のごとく、めっき浴中へ帯状、線状等の金属体
2を相対流速20crn/秒以上番こなるごとく、移動
し、溶解してイオン補給する。更「こ第6図のごとく、
溶解槽1中(こ図示のごとく、アーム13先端に金属か
と14を設け、かご中(こ金属体を装填し、めっき液を
溶解槽に満し、かご中の金属体とめつき液の相対流速が
20壓秒以上になるごとく、アー1    ムを回転し
て金属体をめっき液tこ溶解してイオン補給することも
できる。
なお、第1図〜第3図のよう【こ、金属体2が移動しな
いよう(こ、少なくとも一方(こて固定ないしは押えな
がら、めっき液を流入させひ解する方式では、粒子がほ
とんと動かないためfこ、溶解槽内での金属粒子移動に
よる溶解槽壁の摩耗が太幅1こ減少すること、及び充て
ん量の計測が固定板ないしは、押えこみ用のおも!71
.0の位置、あるいは圧力測定等により、よシ容易船こ
できるよう【こなった等の利点も有して−る。
第1図〜第3図のような溶解方法【こおける相対流速は
化学工学等にて言われているよう(こ次式(こて求まる
又、第1図〜第3図1こおじでめっき液を流入させるた
めの最低必要圧力Pは次式で近似的に求められる。
P−α・P。
ただし、 α:H2発生の影響係数(−〕 PO:次式で定義される値(g/cd)〕 ただし、L:金属体装填高さくcln)d、:金属体相
当直径(m) ψ:金属体の形状係数(一つ ρ:めっき液の比重(g肩) UO:空塔速度(へっ ε:空隙率(−〕 g:重力加速度(啜d〕 fは なる式〔こて求まり、几eは、 6(1−ε〕・μ にて定義されるものである。
実操業(こおいては、上記圧力Pに加えて、フィルター
、多孔板における圧力損失を加味したヘッド圧を有する
ポンプが必要である。又、第2図は上部よシ液を流すた
め、おもシな−しはそれ(こ相当するもの(・こて、金
属体が移動するのを防ぐ必要はないが、第1図、第3図
のようtこして、溶解を行なう場合には、おもシないし
はそれに相当するもの(油圧、空気圧等)にて、めっき
液流による金属体の移動を防止する必要がある。この場
合のおもりないしはそれに相当するものの必要押え圧力
はP (g7J以上が確保されていれば充分である。
なお、第1図〜第3図の沈静槽はフィルターを通過した
微小の未溶解金属体を完全に溶解させるためのものであ
り、沈静槽を省き循環タンクを沈静槽のかわシとして併
用してもさしつかえない。
又第2図、第3図のH2除去槽は溶解槽内で発生したH
2を除去するための槽であシ、H2除去槽を省き沈静槽
又は循環タンクなH2除去槽として併用してもかまわな
い。
表3のテークは金属体の形状としては相当直径が1〜4
1++++Iφのもの(平均中心径2祁φ〕を使用し、
第1図、第2図及び第3図の装置を使用し、充てん量と
して、300Kg(充てん高さ40α〕を装填したもの
である。なお、第1.2.3図のテストては同一の結果
を得たため、その値を記した。
ところで、第4図のよう(こ、金属体が溶解されて減少
又はなくなったときに、新た(こ金属体を投入する必要
があるとき、あるい(はメッキが終了し溶解を継続する
必要がなく、途中で金属体を取シ出ずことが必要になっ
た時などのために、投入・取り出し等を簡易に行なうた
め、金属体製てん部分15をカセット式にすることは操
業上きわめて便利である。
第1図〜第4図は金属体がほとんど動かないように固定
し、固定溶解槽にめっき液を流す方式を考えているが、
逆に金属体そのものを一定のスピ−1”iこて動かし、
相対流速を得る第5図、第6図のような方法があるが、
所定の相対流速が得られるのであれば、還元効率の向上
に対して何ら支障はない。
第5図は搬送用ロール(こて金属体(主(こ線状。
薄板状のもの9を一定スピードにて溶解槽内rこ搬入さ
せ、溶解させる方式てあり、高い相対流速が容易(こ得
られる。第6図はカセット式のかと【こ金属体を装填し
、溶解槽内て一定周速jこて回転させることにより相対
流速を確保しながら溶解する方式である。又、金属体自
身の自重1こて固定された状態て、めっき液を流し、相
対流速を高める方式も当然同じ効果がある。
なお、相当直径が0.5 m+nφ程度以下、望ましく
は01咽φ以下の粉末状の金属体の場合)こば、比表面
積が大きいため、金属体が多孔質化される前(こ溶解さ
れてし丑うため、多孔質化の抑制に対して気を使う必要
はないが、比表面積が大きいことから溶解速度が高いた
め、Fe3+イオンの金属体表面への供給が遅れがち(
こなシやすい。そのため、やはり高す相対流速下【こて
溶解させるほど還元効率が高いことは確実である。
(発明の効果〕 以上述べてきたごとぐ、本発明方法のようtこ、2r)
4ozや以上の相対流速を確保しながら、鉄系又は鉄系
合金電気めっきのイオン補給を行なうこと(こより、初
期溶解時のみでなく平衡溶解時(こおいても、高い還元
効率が得られるため、めっき浴中のFe3+イオン濃度
を低位に維持することが容易となシ、FC″+イオンの
弊害をカ・なシ減少させうる。加えて以下の(1)〜(
8)のような効果もある。
(1)  Pc’+イオン低減のためC・こイオン補給
還元以外の還元、例えば、電力を使用する電解還元法等
の負荷を大幅トこ軽減ないしはなくすことができる。
(2)  溶解速度能力の向上により、イオン補給溶解
設備が縮小化できる。
(3)  H2発生量の低減fこより、膨大なI−(□
爆発対策を軽減し得る。
(4)  従来法に比べ溶解槽内の金属光てん量かより
容易に計測てきる。
(5) 溶解槽内ての金属体の移動Oこよる箔屑槽壁の
摩耗が減少できる。
(6)電気化学的によシ貴な金属との接触溶解効果が、
初期溶解時のみでなく、平衡溶解時にも効果が発揮され
る。
(7)  金属体への超音波の印加、気体のパフリンク
は、水酸化物系皮膜の抑制につながるため、本発明方法
と併用すれば、より一層効果が高する。
(8)鉄−亜鉛合金め′)きl・こ限った場合、Fc 
−Zn合金めっき硫酸塩浴中へ、ポリオキシエチレン系
誘導体化合物又はポリオキシプロピレン系誘導体化合物
の1種又は2種以上を0.01〜10g/′を添加され
た浴(こて、本発明方法を併用することにより、より一
層還元効率が高まシ、イオン補給還元のみで、低濃度に
Fe”+イオンを維持することが可能となる。もちろん
、超音波の印加。
気体のパフリング、電気化学的(こ貴な金属との接触溶
解の1つ又は2つ以上の併用はよシ一層効果が高する。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図、第3図、第4図、第5図及び第6図は
それぞれ本発明方法の一例を示す説明図、第7図は空塔
速度と相対流速と金属体逸散の関係を示す説明図表、第
8図は従来の金属体俗解法を示す説明図である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)不溶性陽極を使用した鉄系又は鉄系合金電気めつ
    き操業において、イオン補給溶解を行なう際、めつき液
    に可溶な金属体とめつき液の相対流速を20cm/se
    c以上にして、前記金属体を溶解することを特徴とする
    鉄系又は鉄系合金電気めつきのイオン補給方法。
  2. (2)金属体のめつき液流による移動を抑制しつつ、溶
    解槽の少なくとも一方からめつき液を圧入することによ
    り、相対流速を20cm/sec以上確保し、溶解する
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の鉄系又は
    鉄系合金電気めつきのイオン補給方法。
  3. (3)ポリオキシエチレン系誘導体化合物、ポリオキシ
    プロピレン系誘導体化合物の1種又は2種以上を合計量
    として0.01−10g/lがめつき浴に添加された不
    溶性陽極を使用した鉄−亜鉛系合金電気めつき操業をす
    るにあたり、イオン補給溶解を行なう際、金属Fe、Z
    nとめつき液の相対流速を20cm/sec以上にして
    、前記金属体を溶解することを特徴とする鉄−亜鉛系合
    金電気めつきのイオン補給方法。
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