JPS59170299A - 鉄系電気めつき浴中のＦｅ↑３↑＋イオン還元方法 - Google Patents
鉄系電気めつき浴中のＦｅ↑３↑＋イオン還元方法Info
- Publication number
- JPS59170299A JPS59170299A JP4196383A JP4196383A JPS59170299A JP S59170299 A JPS59170299 A JP S59170299A JP 4196383 A JP4196383 A JP 4196383A JP 4196383 A JP4196383 A JP 4196383A JP S59170299 A JPS59170299 A JP S59170299A
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- JP
- Japan
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- bath
- plating
- acid
- accelerator
- ions
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- Pending
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
元方法に関するものである。
このようなＦｅ３＋イオンが増加するとめつき効率の減
少、品質の低下などめっきに支障をきたす。又、不溶解
性電極を用いてめっきを施すと、通電時にＦｅ２＋イオ
ンがＦｅ３＋イオンに酸化されるため、浴中のＦｅ”イ
オンが増加する。従って、浴中のＦｅ３十イオンをＦｅ
２＋イオンに還元することが必要となる♂しかして、こ
の対策として、めっきによシ消費された金属イオン（Ｍ
ｅ”）の補給溶解時ＫＦｅ３十イオンを還元させること
ができる。
少、品質の低下などめっきに支障をきたす。又、不溶解
性電極を用いてめっきを施すと、通電時にＦｅ２＋イオ
ンがＦｅ３＋イオンに酸化されるため、浴中のＦｅ”イ
オンが増加する。従って、浴中のＦｅ３十イオンをＦｅ
２＋イオンに還元することが必要となる♂しかして、こ
の対策として、めっきによシ消費された金属イオン（Ｍ
ｅ”）の補給溶解時ＫＦｅ３十イオンを還元させること
ができる。
この反応は、
Ｍｅ ＋ ２． Ｆｅ ” −＋ Ｍｅ ２＋＋２ Ｆ
ｅ ２＋−−−− （１）であるが、このよりなＦｅ３
＋イオンの還元による溶解反応だけでなく、Ｈ２発生反
応によっても溶解する。
ｅ ２＋−−−− （１）であるが、このよりなＦｅ３
＋イオンの還元による溶解反応だけでなく、Ｈ２発生反
応によっても溶解する。
即ち、
Ｍｅ ＋，２ ＫＦ−＋ Ｍｅ ”十十Ｈ２↑ ・−−
−−−− （２１なる反応により、金属は溶解する。
−−−− （２１なる反応により、金属は溶解する。
そこで、Ｆｅ３＋イオンの減少を効率よく行なうために
は、（１）式のＦｅ３＋イオン還元溶解反応を優先的に
する必要がある。
は、（１）式のＦｅ３＋イオン還元溶解反応を優先的に
する必要がある。
本発明は、このような反応を優先的に行なわしめ、Ｆｅ
３＋イオンの還元反応を向上し、鉄系電気めっきにおけ
る 優れためっき浴管理方法を提供しようとするもので
ある。
３＋イオンの還元反応を向上し、鉄系電気めっきにおけ
る 優れためっき浴管理方法を提供しようとするもので
ある。
その特徴とするところは、不溶解性電極を用いる鉄系電
気めっきにおいて、そのめっき浴へ金属を溶解補給する
に際し、金属表面でのＦｅ３＋イオンの還元反応を促進
する薬剤をめっき浴中へ添加するにある。
気めっきにおいて、そのめっき浴へ金属を溶解補給する
に際し、金属表面でのＦｅ３＋イオンの還元反応を促進
する薬剤をめっき浴中へ添加するにある。
即ち、本発明においては、上記のごとく、Ｆｅ３十イオ
ンの還元反応促進剤を浴中へ添加するものであるが、そ
の促進剤としては、 オキシカルボン酸類：クエン酸、酒石酸、乳酸、サリチ
ル酸、スルホサリ チル酸、リンゴ酸等 アミノ酸類ニゲリシン、グルタミン酸、イミノジ酢酸、
ピコクン酸（ピリジン力 ルボン酸） その他、アンモニア、アスコルビン酸、オルト−フェナ
ントロリン、チオシアン酸、！酸、 フッ酸、ＮＴ’
Ａにトリロ三酢酸）、ＥＤＴＡ （エチレンジアミン四
酢酸）の７種又は２種以上等を用いる。添加量としては
、浴温、浴のｐＨ値、金属の添加量等によっても若干具
なるが、上記オキシカルボン酸類、アミノ酸類、アンモ
ニア、塩酸、フッ酸では／θ〜／θｙ／ｌ、 アスコ
ルビン酸、オルト−フェナントロリン、チオシアン酸で
はθ／〜／θ７々で十分効果が得られる。
ンの還元反応促進剤を浴中へ添加するものであるが、そ
の促進剤としては、 オキシカルボン酸類：クエン酸、酒石酸、乳酸、サリチ
ル酸、スルホサリ チル酸、リンゴ酸等 アミノ酸類ニゲリシン、グルタミン酸、イミノジ酢酸、
ピコクン酸（ピリジン力 ルボン酸） その他、アンモニア、アスコルビン酸、オルト−フェナ
ントロリン、チオシアン酸、！酸、 フッ酸、ＮＴ’
Ａにトリロ三酢酸）、ＥＤＴＡ （エチレンジアミン四
酢酸）の７種又は２種以上等を用いる。添加量としては
、浴温、浴のｐＨ値、金属の添加量等によっても若干具
なるが、上記オキシカルボン酸類、アミノ酸類、アンモ
ニア、塩酸、フッ酸では／θ〜／θｙ／ｌ、 アスコ
ルビン酸、オルト−フェナントロリン、チオシアン酸で
はθ／〜／θ７々で十分効果が得られる。
次に、本発明において、不溶解性電極を用いたのつき浴
に限定した理由は、前記のごとく、不溶解性電極を用い
てめっきを施すと、通電時に浴中のＦｅ イオノがＦ
ｅ３＋イオンに酸化されることから、Ｆｅ３＋イオンが
短期間で増加するためであり、溶解性電極を用いた場合
には、このようなことがなく、Ｆｅ３＋イオンの増加は
僅少であり、はとんど問題はない。
に限定した理由は、前記のごとく、不溶解性電極を用い
てめっきを施すと、通電時に浴中のＦｅ イオノがＦ
ｅ３＋イオンに酸化されることから、Ｆｅ３＋イオンが
短期間で増加するためであり、溶解性電極を用いた場合
には、このようなことがなく、Ｆｅ３＋イオンの増加は
僅少であり、はとんど問題はない。
このような本発明の還元反応促進剤を添加することによ
り、 Ｆｅ”″−イオンの還元反応が促進される理由
は、溶解時に添加金属の表面に生成する水酸化物系の皮
膜の形成が、抑制されるか又は除去されるために、金属
表面が常時活性化した状態に保持され、溶解金属とめつ
き浴との接触が確実となシ（１）式によるＦｅ３＋イオ
ンの還元反応が、促進することによるものと考えられる
。従って、前記のごとき浴中のＦｅ３＋イオンのＦｅ２
＋イオンへの還元効率を著しく、かつ確実に向上せしめ
ることができるとともに、溶解補給も迅速かつ正確（で
なし得ることができる効果がある。
り、 Ｆｅ”″−イオンの還元反応が促進される理由
は、溶解時に添加金属の表面に生成する水酸化物系の皮
膜の形成が、抑制されるか又は除去されるために、金属
表面が常時活性化した状態に保持され、溶解金属とめつ
き浴との接触が確実となシ（１）式によるＦｅ３＋イオ
ンの還元反応が、促進することによるものと考えられる
。従って、前記のごとき浴中のＦｅ３＋イオンのＦｅ２
＋イオンへの還元効率を著しく、かつ確実に向上せしめ
ることができるとともに、溶解補給も迅速かつ正確（で
なし得ることができる効果がある。
つま９、−例データで示すと、めっき浴：Ｆｅ２＋３０
ｙ／ｌ 、 ｚ；；＋ｌｌθ’ｊ／ｌ、 Ｆｅ
３−４− ／ Ｏｆ／ｌ、 ｐＨｌθ、 浴温乙θ
℃（静止浴）において、金属亜鉛を添加したところ、第
１図に示すごとく還元反応促進剤を添加していない無添
加量に比べ、添加量における溶解速度は著しく早いこと
が判る。
ｙ／ｌ 、 ｚ；；＋ｌｌθ’ｊ／ｌ、 Ｆｅ
３−４− ／ Ｏｆ／ｌ、 ｐＨｌθ、 浴温乙θ
℃（静止浴）において、金属亜鉛を添加したところ、第
１図に示すごとく還元反応促進剤を添加していない無添
加量に比べ、添加量における溶解速度は著しく早いこと
が判る。
又、第２図に示すごとく、Ｆｅ３＋イオンの還元効率も
同様に促進剤添加量においては、高いものとなっている
。（ここでいう還元効率とは溶解反応（１）、（２）の
中で（１１Ｋよる反応の割合を示す）上述した本発明は
、従来鉄系電気めっき浴中ヘクエン酸等の有機酸を添加
（７、浴中のＦｅ３＋イオンを錯イオン状態にして、浴
中での沈殿を防止し、不めっきになる原因を防止する技
術（特に、溶解性電極を用いてめっきすると、Ｆｅ３＋
イオンの生成は不溶解性電極に比べ少ない。従って、僅
少の有機酸添加を行々っている。）とは、目的構成及び
効果がともに相異するものである。
同様に促進剤添加量においては、高いものとなっている
。（ここでいう還元効率とは溶解反応（１）、（２）の
中で（１１Ｋよる反応の割合を示す）上述した本発明は
、従来鉄系電気めっき浴中ヘクエン酸等の有機酸を添加
（７、浴中のＦｅ３＋イオンを錯イオン状態にして、浴
中での沈殿を防止し、不めっきになる原因を防止する技
術（特に、溶解性電極を用いてめっきすると、Ｆｅ３＋
イオンの生成は不溶解性電極に比べ少ない。従って、僅
少の有機酸添加を行々っている。）とは、目的構成及び
効果がともに相異するものである。
本発明における鉄系電気めっき浴としては、例えば、Ｆ
ｅ２＋イオン、Ｆｅ３＋イオンを含むものであって、そ
の他の金属イオン（２，２＋、 Ｎ Ｉ ２＋、 Ｃｕ
Ｚ十等その他目的とする金属イオン）を含むめっき浴に
おいても有効に用いることができる。
ｅ２＋イオン、Ｆｅ３＋イオンを含むものであって、そ
の他の金属イオン（２，２＋、 Ｎ Ｉ ２＋、 Ｃｕ
Ｚ十等その他目的とする金属イオン）を含むめっき浴に
おいても有効に用いることができる。
かくして金属溶解時のＨ２発生反応が抑制され、めっき
浴中のＦｅ３＋イオンの還元反応が著しく向上せしめら
れて、Ｆｅ３＋イオン濃度を低位に保持できるため、め
っきの生産性が向上する。
浴中のＦｅ３＋イオンの還元反応が著しく向上せしめら
れて、Ｆｅ３＋イオン濃度を低位に保持できるため、め
っきの生産性が向上する。
又、金属の溶解補給が迅速にでき、めっき浴組成の管理
が確実に、しかも、すみゃか如できるため、この点から
も、めっきのラインスピードを低下させることなく、生
産することができるなどの優れた効果が得られる。
が確実に、しかも、すみゃか如できるため、この点から
も、めっきのラインスピードを低下させることなく、生
産することができるなどの優れた効果が得られる。
次表に本発明方法の実施例を比較例とともに挙げる。
第１図は還元反応促進剤の添加と、添加金属の溶解速度
との関係を示す説明図表、第２図は還元反応促進剤の添
加と浴中Ｆｅ イオンの還元効率との関係を示す説明
図表である。 第置図 （ 第２図
との関係を示す説明図表、第２図は還元反応促進剤の添
加と浴中Ｆｅ イオンの還元効率との関係を示す説明
図表である。 第置図 （ 第２図
Claims (1)
- 不溶解性電極を用いる鉄系電気めつきにおいて、そのめ
っき浴へ金属を溶解補給するに際し、還元反応促進剤を
めっき浴中へ添加することを特徴とする鉄系電気めっき
浴中のＦｅ３＋イオン還元方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4196383A JPS59170299A (ja) | 1983-03-14 | 1983-03-14 | 鉄系電気めつき浴中のＦｅ↑３↑＋イオン還元方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4196383A JPS59170299A (ja) | 1983-03-14 | 1983-03-14 | 鉄系電気めつき浴中のＦｅ↑３↑＋イオン還元方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59170299A true JPS59170299A (ja) | 1984-09-26 |
Family
ID=12622838
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4196383A Pending JPS59170299A (ja) | 1983-03-14 | 1983-03-14 | 鉄系電気めつき浴中のＦｅ↑３↑＋イオン還元方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59170299A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995018251A1 (de) * | 1993-12-24 | 1995-07-06 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur elektrolytischen abscheidung von metallschichten |
-
1983
- 1983-03-14 JP JP4196383A patent/JPS59170299A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995018251A1 (de) * | 1993-12-24 | 1995-07-06 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur elektrolytischen abscheidung von metallschichten |
| US5976341A (en) * | 1993-12-24 | 1999-11-02 | Schumacher; Rolf | Process and apparatus for electrolytic deposition of metal layers |
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