JPH08234181A - プラスチック液晶パネル用の転写箔 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 連続したベースフィルムを使用して連続処理
方法により生産性が向上でき、コストの低減ができ、し
かもガスバリア層、ハードコート層の何れもが損傷を受
けることがないプラスチック液晶パネル用の転写箔を提
供する。 【構成】 ベースフィルム(11)に直接又は離型層(12)を
介してハードコート層(13)、ガスバリア層(14)の少なく
とも１層及び接着層(15)を順次形成する。 【効果】 生産性よく、安価にかつ安定した所望層を形
成したプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板が
生産できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は割れにくく、薄く、軽量
なプラスチック液晶パネルに耐擦傷性、ガスバリア性を
付与する為に有用な転写箔に関する。更に詳しくはガラ
ス板基板を用いた液晶パネルにかわるプラスチック基板
を用いた液晶パネルに用いる透明導電性膜（ＩＴＯ膜）
を設けたフロント・フィルム、リア・フィルムの耐擦傷
性、ガスバリア性を付与する為に有用な転写箔に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶表示用デバイスとして液晶パ
ネルは益々重要になってきている。特に小型情報機器向
けは、携帯性の向上、落下や外押圧ストレスに対する耐
衝撃性の向上が重要な課題である。又、テレビジョンを
はじめ航空機、船舶等の運航に必要な各種の計器盤、操
作盤等にも大型化した液晶表示用デバイスの実用化が待
たれている。

【０００３】ところが現状の液晶パネルは、通常ガラス
板基板を使っていて、薄型軽量化の為にガラス板基板を
薄くすると割れやすくなるという問題点があった。その
上、枚葉にて加工するので生産性が低く、コスト高にな
るという問題点もあった。

【０００４】本発明では、「プラスチック」という用語
には「ポリマー」をも含む用語として使用する。

【０００５】又、プラスチック基板をガラス板基板のか
わりに用いることも試みられているが、枚葉にて加工す
るので工程中で傷がつき易いこと、ガスバリア性が不十
分であること等の欠点があり、未だ完全には解決してい
ない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】プラスチック基板を使
ったプラスチック液晶パネルはガラス板基板のものに比
べてガスバリア性に劣り、又、表面に傷がつき易いの
で、プラスチック基板に直接コーティング法によってガ
スバリア層やハードコート層を形成することも試みられ
ている。

【０００７】しかしながら、プラスチック基板を枚葉に
て加工する場合には、生産性の低さ、即ちコスト高とい
う問題点があった。又、より薄いシートやフィルムのプ
ラスチック基板を連続的に搬送させて加工するロール・
ツウ・ロール方式では、ローラとの摩擦等による擦傷の
為にガスバリア性が損なわれるという問題点があった。

【０００８】更に、枚葉にて加工する真空蒸着装置、ス
パッタリング装置等では、基板のサイズが大型化するほ
ど生産性が低く、コスト高になる傾向が一層顕著にな
り、又、ガスバリア層やハードコート層の物性、膜厚等
の均一なものが形成しにくくなるという問題点があっ
た。

【０００９】本発明は上記のような種々の問題点を解決
すること、即ち、連続したベースフィルムを使用して連
続処理方法により生産性が向上でき、コストの低減がで
き、しかもガスバリア層、ハードコート層の何れもが損
傷を受けることがないプラスチック液晶パネル用の転写
箔を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決する為の手段】本発明はプラスチック液晶
パネル用のプラスチック基板(21)にガスバリア性、耐擦
傷性を付与するのに適した転写箔を熱転写方式により転
写するという手段を採用することにより、上記目的を達
成することに成功した。

【００１１】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写
箔はフレキシブルなベースフィルム(11)に直接又は離型
層(12)を介して、ハードコート層(13)、ガスバリア層(1
4)の少なくとも１層及び接着層(15)を順次形成する。こ
れらの層はベースフィルムを連続的に搬送する装置を備
えた真空蒸着装置、スパッタリング装置、コーティング
装置等を用いて大量に、容易に、品質良く、安価に形成
できる。

【００１２】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写
箔を前記のプラスチック基板(21)に熱転写方式で転写す
ることにより、プラスチック液晶パネルに傷をつけるこ
となく、ハードコート層(13)、ガスバリア層(14)を形成
することができる。尚、本発明のプラスチック液晶パネ
ル用の転写箔は前記プラスチック基板に限らず、これよ
りも薄いシートやフィルム、又、逆に厚い板状のプラス
チック基板に適用することもできる。

【００１３】

【作用】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔
は、プラスチック板基板(21)のような従来法ならば枚葉
でハードコート層(13)、ガスバリア層(14)を真空蒸着
法、スパッタリング法等で形成しなければならなかった
プラスチック液晶パネル用の基板にも、長尺のロール巻
きベースフィルム(11)にロール搬送系を有し連続処理で
きる真空蒸着装置、スパッタリング装置、コーティング
装置で生産性よく、ロー・コストで物性、膜厚等の均一
な所望層を形成した本発明のプラスチック液晶パネル用
の転写箔を枚葉式の汎用転写機を用いて、効率よく、し
かもすべての層に損傷を与えることなく、所望層を転写
形成することができる。

【００１４】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写
箔において用いるベースフィルム(11)としては、例えば
ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフ
タレート−イソフタレート共重合体等のポリエステル系
をはじめ、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリオ
レフィン系等のベースフィルムがあげられる。又、これ
らのプラスチックは２種又はそれ以上のものがブレンド
されていてもよく、例えばポリエチレンテレフタレート
にポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合
体がブレンドされていてもよい。更に又、これらのベー
スフィルムが２種又はそれ以上のものが積層された複層
フィルムであってもよい。

【００１５】更に、これらのベースフィルム(11)の表面
は各種の表面処理が施されていてもよい。特にハードコ
ート層(13)、又はガスバリア層(14)との剥離性を増す為
に真空中でフッ素系化合物を用いて表面をプラズマ処理
する方法、大気中で高温の熱処理を行ないベースフィル
ムの表面にオリゴマーを滲出す方法、窒素ガス雰囲気中
で電子線を照射しベースフィルム表面を変質させる方
法、ベースフィルムの製膜工程において、アクリル樹脂
系、ポリビニルアルコール系、ポリオレフィン系等の異
種ベースフィルムを積層し、表面を改質する方法等が用
いられる。

【００１６】上記のベースフィルム(11)は二軸延伸され
たものが好適である。又、厚さは９〜７５μｍの範囲、
好ましくは１２〜３８μｍの範囲から適宜選択実施され
る。ベースフィルムの厚さが９μｍ以下の場合には、ベ
ースフィルムに皺、カール等の欠点が発生し易く、取り
扱いにくいので好ましくない。一方、７５μｍ以上の場
合には、熱転写時の熱伝導が遅く、転写の作業性が劣る
ので好ましくなく、又、ベースフィルムの剛性が強い
為、搬送中に擦傷が入り易く好ましくない。

【００１７】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写
箔において、必要に応じ適宜採用される離型層(12)は、
ベースフィルム(11)とその上に形成されるハードコート
層(13)又はガスバリア層(14)との界面において剥離しに
くい場合にベースフィルム上に形成される。従って離型
層はハードコート層又はガスバリア層との界面において
容易に剥離することが要件である。離型層を構成する樹
脂としては、例えばエポキシ−メラミン樹脂、アクリル
−メラミン樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂、尿素樹
脂、尿素−メラミン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル−
シリコーン樹脂、フッ素樹脂系、各種ワックス類等があ
げられる。これらの樹脂の１種又はそれ以上の樹脂の有
機溶剤溶液、エマルジョン等のコーティング剤をロール
コーティング法、グラビアコーティング法等の通常コー
ティング法によりベースフィルム上に塗布し、溶媒を乾
燥、硬化（熱硬化、電子線硬化、紫外線硬化等）するこ
とによって形成する。

【００１８】離型層(12)の厚さは、通常０．１〜１０μ
ｍの範囲、好ましくは０．２５〜５μｍの範囲から適宜
選択実施される。離型層の厚さが０．１μｍより薄い場
合には、剥離が重く目的とする剥離性を得ることができ
ないので好ましくない。一方、１０μｍより厚い場合に
は剥離が軽すぎる為に、離型層上に順次形成するハード
コート層(13)、ガスバリア層(14)、接着層(15)等の層が
加工工程中で脱落する可能性があるので好ましくない。

【００１９】又、離型層(12)は、次ぎの方法によっても
形成することができる。水酸基、エーテル基、カルボキ
シル基、アミノ基等を１個以上有する水溶性有機物質、
例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等
のビニル系水溶性樹脂、メチルセルロース、カルボキシ
ルメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒ
ドロキシプロピルセルロース等の繊維素エーテル系樹
脂、アクリル酸ソーダ、アクリル酸アンモニウム等のア
クリル酸系水溶性物質、澱粉、デキストリン、ニカワ、
ゼラチン等の天然水溶性物質、カゼイン、カゼイン酸ソ
ーダ、カゼイン酸アンモニウム等のタンパク質系水溶性
物質、その他ポリエチレンオキサイド、カラギーナン、
グルコマンガン等の１種又はそれ以上の物質の水溶液の
コーティング剤をロールコーティング法、グラビアコー
ティング法等の通常コーティング法によりベースフィル
ム(11)上に塗布し、乾燥することによって形成する。

【００２０】これらの水溶性離型層(12)を形成した場合
は、その上にハードコート層(13)、ガスバリア層(14)、
接着層(15)を順次形成し、プラスチック液晶パネル用の
プラスチック基板(21)に転写した後、水溶性離型層とハ
ードコート層との界面において剥離ができずにベースフ
ィルムと水溶性離型層の間で剥離して、水溶性離型層が
残っても水洗によって水溶性離型層を完全に除去するこ
とにより、所望のハードコート層を露出することができ
る。

【００２１】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写
箔におけるハードコート層(13)は、透明性がよく、耐擦
傷性が良好なことが要件であり、例えばポリメタアクリ
ル酸樹脂、ポリメタアクリル酸エステル樹脂、ポリメチ
ル（メタ）アクリル酸エステル樹脂等のアクリル酸系樹
脂やアクリルポリオール、ポリエステルポリオール等の
エステル結合を有するポリオール系樹脂やポリエステル
樹脂、アクリル樹脂等を用いることができる。又モノマ
ー、オリゴマーとしてはアクリレートモノマー、アクリ
レートオリゴマーがあり、例えばポリオールアクリレー
トとしてはトリメチロールプロパントリアクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリス
リトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタ（ヘキサ）アクリレート等があり、エポキシアク
リレートとしてはグリセリントリグリシジルアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルテ
トラアクリレート等があり、その他にポリエステルアク
リレート、ウレタンアクリレート等がある。これらのモ
ノマー及びオリゴマーは光重合開始剤を添加し、紫外線
照射によって容易にポリマーとなり、硬質な膜を形成す
ることができる。

【００２２】光重合開始剤としては、紫外線照射により
容易にフリーラジカルを発生する化合物で、例えばベン
ゾフェノン、トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフ
ィンオキサイド、ベンジルジメチルケタール、ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、メチルフェニルグリ
オキシレート等が使用できる。

【００２３】ハードコート層(13)の形成方法としては、
前記樹脂、モノマー、オリゴマー、光重合開始剤、反応
性希釈剤、溶媒等からなるコーティング剤をロールコー
ティング法、グラビアコーティング法等の通常のコーテ
ィング法により前記ベースフィルム(11)上に直接又は前
記離型層(12)を介して塗布し、溶媒を乾燥後、熱硬化、
紫外線照射硬化、電子線照射硬化等によって硬化する方
法を用いる。

【００２４】ハードコート層(13)の厚さは、０．３〜１
０μｍの範囲、好ましくは１〜５μｍの範囲から適宜選
択実施される。ハードコート層の厚さが０．３μｍより
薄い場合には、耐擦傷性が十分でなく好ましくない。一
方、１０μｍより厚い場合には、硬化時の歪みによるカ
ールが生じやすいので好ましくない。

【００２５】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写
箔におけるガスバリア層(14)は、透明性がよく、ガスバ
リア性が良好なものであれば特に制限はないが、例えば
Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｚｒ等の金属化合物の１種又
は２種以上の混合物、特に好ましくは、酸化ケイ素、酸
化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素−酸化
アルミニウム混合物、酸化ケイ素−酸化マグネシウム混
合物、酸化アルミニウム−酸化マグネシウム混合物等を
真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法、プラズマＣＶＤ法等によって前記ベースフィルム(1
1)上に直接又は前記離型層(12)を介して、或は前記ハー
ドコート層(13)上に形成する。

【００２６】又、これらのガスバリア層(14)は、Ｓｉ、
Ａｌ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｚｒ等の金属を酸素ガスの存在下
で、反応性蒸着法、反応性スパッタリング法により酸化
ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜
鉛、酸化ジルコニウム等を形成する。

【００２７】これらのガスバリア層(14)は、単層で十分
なガスバリア性が発現できない場合は複層にすることも
できる。例えば酸化アルミニウムと酸化マグネシウムの
積層、酸化アルミニウムと酸化ケイ素の積層等の組合せ
がよい。

【００２８】又、ガスバリア層(14)は、有機ケイ素化合
物、窒素ケイ素化合物等を変性することによっても形成
することができる。例えばテトラブドキシシランを加水
分解して得られるヒドロキシシリケート、ポリシラザン
（東燃株式会社製、窒素ケイ素系環式重合体）等の溶液
をコーティングし、溶媒を乾燥、後処理等を施すことに
よっても酸化ケイ素膜を形成することができる。

【００２９】更に又、ガスバリア層(14)は、エチレン−
ビニルアルコール系重合体、ポリ塩化ビニリデン系重合
体、ポリアクリロニトリル系重合体等のビニル系重合体
溶液をコーティングし、溶媒を乾燥、後処理等を施すこ
とによっても形成することができる。

【００３０】ガスバリア層(14)の厚さは、真空蒸着法で
形成する場合は通常５０〜２０００Åの範囲から適宜選
択実施される。又、重合体等の溶液コーティング法で形
成する場合は通常０．１〜１０μｍの範囲、好ましくは
０．５〜５μｍの範囲から適宜選択実施される。

【００３１】真空蒸着薄膜からなるガスバリア層(14)の
厚さが５０Åより薄い場合にはガスバリア性が不足する
ので好ましくない。一方、２０００Åより厚い場合には
クラックが発生しやすいので好ましくない。

【００３２】溶液コーティング法で形成した重合体等の
膜からなるガスバリア層(14)の厚さが０．１μｍより薄
い場合にはガスバリア性が不足するので好ましくない。
一方、１０μｍより厚い場合には透明性を阻害するので
好ましくない。

【００３３】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写
箔における接着層(15)は、透明性、耐熱性、接着性が良
好なものが好ましい。接着層を構成する樹脂としては、
例えばアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹
脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート系、ポリアミド
系、セルロース系等の樹脂及びこれらの変性物の１種又
は２種以上の混合物からなる樹脂があげられる。

【００３４】接着層(15)は、前記樹脂を有機溶剤に溶解
したコーティング剤をグラビアコーティング法、リバー
スロールコーティング法等で前記ハードコート層(13)又
はガスバリア層(14)上に塗布、乾燥して形成する。又、
ポリアミド系、ポリエステル系等のホットメルト接着剤
で接着層を形成する場合には、ホットメルト用コーター
や押出コーティング装置を用いる。又、接着層を形成す
る樹脂は、紫外線や電子線によってアフターキュアによ
り硬化し、接着性を増すものも好適である。

【００３５】接着層(15)の厚さは被転写体であるプラス
チック基板(21)の表面状態に応じて、通常０．３〜２０
μｍの範囲、好ましくは０．５〜３μｍの範囲から適宜
選択実施される。接着層の厚さが０．３μｍより薄い場
合には充分な接着力が得られず好ましくない。一方、２
０μｍより厚い場合には著しく透明性を阻害するので好
ましくない。

【００３６】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写
箔を転写するプラスチック基板(21)は、通常プラスチッ
クシートからなる。プラスチック基板としては、アリル
ジグリコールカーボネート、ポリエステル、ポリアリレ
ート、ポリスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエーテ
ルサルホン、ポリカーボネート、ポリノルボルネン系樹
脂（日本合成ゴム株式会社製、ＡＲＴＯＮ（登録商
標））等の耐熱性、透明性の優れたもので、かつ光学的
に等方性のものが好ましく用いられる。これらのプラス
チック基板の片面に透明導電性層等(22)が設けられてい
る場合には非処理面に転写する。

【００３７】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写
箔は、前記プラスチックシートからなるプラスチック基
板(21)に限らず、これよりも薄いプラスチックフィルム
や厚いプラスチック板等のプラスチック液晶パネル用の
プラスチック基材に転写することもできる。

【００３８】以下に実施例をあげて本発明を更に具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定され
るものではない。

【００３９】

【実施例】

実施例１ 連続した長尺の厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムの片面上にアクリルシリコーン樹脂２０部
（重量部、以下同様）、トルエン４５部、メチルイソブ
チルケトン３５部からなる溶液をロールフィルム搬送系
を有するコーターでグラビアコ−ティング法にて連続的
に塗布、乾燥して、厚さ０．５μｍの離型層を５０ｍ／
分の速度で形成した。

【００４０】次ぎにこの離型層の上に、ウレタンアクリ
レート／１，６ヘキサンジオールジアクリレート混合モ
ノマー１００部、光重合開始剤として１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン５部、メチルセロソルブ３
００部を混合して均一化したコーティング剤をロールフ
ィルム搬送系を有するコーターでロールコーティング法
にて連続的に塗布し、８０℃で乾燥後、８０Ｗの高圧水
銀灯で紫外線を照射し、厚さ３μｍのハードコート層を
形成した。

【００４１】次いでこのハードコート層の上に、ポリエ
ステル樹脂１０部、トルエン４０部、メチルエチルケト
ン５０部からなる溶液をロールフィルム搬送系を有する
コーターでリバースロールコーティング法にて連続的に
塗布、乾燥して、厚さ１μｍの接着層を５０ｍ／分の速
度で形成して、本発明のプラスチック液晶パネル用の転
写箔（図１）を得た。

【００４２】このようにして得たプラスチック液晶パネ
ル用の転写箔を、片面にインジウム−錫酸化物からなる
透明導電性（ＩＴＯ）層を設けた厚さ１００μｍのポリ
カーボネートシートからなるプラスチック基板の非導電
性面に熱転写法により転写した。転写後にポリエチレン
テレフタレートフィルムを離型層と共に剥離し、プラス
チック液晶パネル用のハードコート層を形成したプラス
チック基板（図５）を得た。

【００４３】尚、透明導電性層を設けた厚さ１００μｍ
のポリカーボネートシートはインジウム−錫酸化物をス
パッタリング法により形成したもので、その表面抵抗値
は４０Ω／□である。

【００４４】透明導電性層は、前記のように直接プラス
チックシートに形成する場合の他、透明導電性層を設け
た転写箔を熱転写法により転写したものも用いることが
できる。

【００４５】実施例２ 実施例１において、アクリルシリコーン樹脂系の離型層
０．５μｍを設けるかわりに、フッ素系化合物で表面を
プラズマ処理したポリエチレンテレフタレートフィルム
を用いる以外は実施例１と全く同じ方法によりプラスチ
ック液晶用の転写箔（図２）を得た。

【００４６】このようにして得た転写箔を、片面にイン
ジウム−錫酸化物からなる透明導電性（ＩＴＯ）層を設
けた厚さ１００μｍのポリカーボネートシートからなる
プラスチック基板の非導電性面に熱転写法により転写し
た。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを剥
離し、プラスチック液晶パネル用のハードコート層を形
成したプラスチック基板（図５）を得た。

【００４７】尚、透明導電性層を設けた厚さ１００μｍ
のポリカーボネートシートはインジウム−錫酸化物をス
パッタリング法により形成したもので、その表面抵抗値
は４０Ω／□である。

【００４８】実施例３ 実施例１と同じ方法で、ポリエチレンテレフタレートフ
ィルムの片面上に離型層を形成した後、この離型層の上
に酸化アルミニウム層からなるガスバリア層を真空度１
０^-5Ｔｏｒｒ、フィルム走行速度３０ｍ／分の作業条件
で電子ビーム加熱真空蒸着法により厚さ５００Åに形成
した。このようにして得られたガスバリア層付きフィル
ムは、酸素透過率、水蒸気透過率共に少なく、優れたガ
スバリア性及び透明性にも優れたものであった。

【００４９】次いでこのガスバリア層の上に実施例１と
同様に接着層を形成して、本発明のプラスチック液晶パ
ネル用の転写箔（図３）を得た。

【００５０】このようにして得たプラスチック液晶パネ
ル用の転写箔を、片面にインジウム−錫酸化物からなる
透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリアリレート
シートからなるプラスチック基板の非導電性面に熱転写
法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレー
トフィルムを離型層と共に剥離し、プラスチック液晶パ
ネル用のガスバリア層を形成したプラスチック基板（図
６）を得た。

【００５１】実施例４ 実施例１と同じ方法で、ポリエチレンテレフタレートフ
ィルムの片面上に離型層を形成した後、この離型層の上
にウレタンアクリレート／１，６ヘキサンジオールジア
クリレート混合モノマー１００部、光重合開始剤として
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン５部、メ
チルセロソルブ３００部を混合し均一化したコーティン
グ剤をロールフィルム搬送系を有するコーターでロール
コーター法により塗布し、８０℃で乾燥後、８０Ｗの高
圧水銀灯で紫外線を照射し、厚さ３μｍのハードコート
層を形成した。

【００５２】次いでこのハードコート層の上に、酸化ア
ルミニウム層からなるガスバリア層を真空度１０^-5Ｔｏ
ｒｒ、フィルム走行速度３０ｍ／分の作業条件で電子ビ
ーム加熱真空蒸着法により厚さ５００Åに形成した。こ
のようにして得られたハードコート層、ガスバリア層付
きフィルムは、酸素透過率、水蒸気透過率共に少なく、
優れたガスバリア性及び透明性にも優れたものであっ
た。

【００５３】次いでこのガスバリア層の上に実施例１と
同様に接着層を形成して、本発明のプラスチック液晶パ
ネル用の転写箔（図４）を得た。

【００５４】このようにして得たプラスチック液晶パネ
ル用の転写箔を、片面にインジウム−錫酸化物からなる
透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリエーテルサ
ルホンシートからなるプラスチック基板の非導電性面に
熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフ
タレートフィルムを離型層と共に剥離し、プラスチック
液晶パネル用のハードコート層及びガスバリア層を形成
したプラスチック基板（図７）を得た。

【００５５】比較例１ 実施例１において用いた、片面にインジウム−錫酸化物
からなる透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリカ
ーボネートシートからなるプラスチック液晶パネル用の
プラスチック基板（図８）そのもの。

【００５６】比較例２ 実施例１において用いた、片面にインジウム−錫酸化物
からなる透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリカ
ーボネートシートからなるプラスチック液晶パネル用の
プラスチック基板（図８）そのもの。

【００５７】比較例３ 実施例２において用いた、片面にインジウム−錫酸化物
からなる透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリア
リレートシートからなるプラスチック液晶パネル用のプ
ラスチック基板（図８）そのもの。

【００５８】比較例４ 実施例４において用いた、片面にインジウム−錫酸化物
からなる透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリエ
ーテルサルホンシートからなるプラスチック液晶パネル
用のプラスチック基板（図８）そのもの。

【００５９】次に実施例１〜４により作成したプラスチ
ック液晶パネル用のプラスチック基板の各試料及び比較
例１〜４のプラスチック液晶パネル用のプラスチック基
板の各試料について、ガスバリア性、表面状態（傷発生
状態）について評価を行なった結果を表１に示した。

【００６０】＜評価方法＞ (1) 酸素ガス透過率 ＭＯＤＥＲＮ ＣＯＮＴＲＯＬＬＥＲ Ｃｏ．製、ＭＯ
ＤＥＬ ＯＸ−ＴＲＡＮ １００ ＴＷＩＮを使用し、
２５℃、ＤＲＹ状態で測定する。 (2) 水蒸気透過率 ＭＯＤＥＲＮ ＣＯＮＴＲＯＬＬＥＲ Ｃｏ．製、ＭＯ
ＤＥＬ ＷＡＴＥＲＶＡＰＯＲ ＴＲＡＮＳＭＩＳＳＩ
ＯＮ ＤＬ１００を使用し、４０℃、９０％ＲＨ状態で
測定する。 (3) 表面状態（傷発生状態） 実施例は転写箔を転写した面、比較例はプラスチックシ
ート面を大栄科学精器製作所製の学振型摩擦試験機を使
用し、カナキン３号綿布で荷重５００ｇ／ｃｍ² で１０
往復摩擦し、傷の発生状態を観察する。

【００６１】

【表１】 尚、表面状態は学振型摩擦試験機による摩擦試験後の透
明導電性層の反対面の状態である。即ち、実施例１〜４
は転写箔を転写した面の状態であり、比較例１〜４はプ
ラスチックシート面の状態である。

【００６２】表１から実施例１及び４の本発明のプラス
チック液晶パネル用の転写箔を使用したプラスチック液
晶パネル用のプラスチック基板は、比較例１〜４のプラ
スチック液晶パネル用のプラスチック基板に比べて耐擦
傷性に優れ、実施例３及び４の本発明のプラスチック液
晶パネル用の転写箔を使用したプラスチック液晶パネル
用のプラスチック基板は、比較例１〜４のプラスチック
液晶パネル用のプラスチック基板に比べてガスバリア性
に優れ、特に実施例４の本発明のプラスチック液晶パネ
ル用の転写箔を使用したプラスチック液晶パネル用のプ
ラスチック基板は、比較例１〜４のプラスチック液晶パ
ネル用のプラスチック基板に比べて耐擦傷性、ガスバリ
ア性の何れにおいても優れていることがわかる。

【００６３】

【発明の効果】本発明のプラスチック液晶パネル用の転
写箔は、フレキシブルな長尺ベースフィルム(11)に直接
又は離型層(12)を介して、ハードコート層(13)、ガスバ
リア層(14)及び接着層(15)を連続的に搬送する装置を備
えた真空蒸着装置、スパッタリング装置、コーティング
装置等を用いて生産性よく、低コストで所望層を形成す
ることができる。従って、従来法ならば枚葉でハードコ
ート層、ガスバリア層をコーティング法、真空蒸着法、
スパッタリング法等で形成しなければならなかったプラ
スチック液晶パネル用のプラスチック基板等にも、本発
明のプラスチック液晶パネル用の転写箔を汎用転写機
で、効率よく、しかもすべての層に損傷を与えることな
く、所望層を転写形成することができる。つまり、生産
性よく、安価にかつ安定した所望層を形成したプラスチ
ック液晶パネル用のプラスチック基板が生産できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔の
実施例１を示す慨略断面図である。

【図２】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔の
実施例２を示す慨略断面図である。

【図３】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔の
実施例３を示す慨略断面図である。

【図４】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔の
実施例４を示す慨略断面図である。

【図５】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔
（実施例１および２）を、裏面に透明導電性層を有する
プラスチック基板に転写したプラスチック液晶パネル用
のプラスチック基板の例を示す慨略断面図である。

【図６】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔
（実施例３）を、裏面に透明導電性層を有するプラスチ
ック基板に転写したプラスチック液晶パネル用のプラス
チック基板の例を示す慨略断面図である。

【図７】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔
（実施例４）を、裏面に透明導電性層を有するプラスチ
ック基板に転写したプラスチック液晶パネル用のプラス
チック基板の例を示す慨略断面図である。

【図８】従来の裏面に透明導電性層を有するプラスチッ
ク液晶パネル用のプラスチック基板の例を示す慨略断面
図である。

【符号の説明】

11 ベースフィルム 12 離型層 13 ハードコート層 14 ガスバリア層 15 接着層 21 プラスチック基板 22 透明導電性層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｂ４１Ｍ 3/12 Ｂ４１Ｍ 3/12

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ベースフィルム(11)に直接又は離型層(1
   2)を介してハードコート層(13)、ガスバリア層(14)の少
   なくとも１層及び接着層(15)を順次形成したことを特徴
   とするプラスチック液晶パネル用の転写箔。
2. 【請求項２】 ハードコート層が紫外線又は電子線照射
   法により硬化したアクリル系樹脂を主成分とする物質、
   又は熱硬化法により硬化したポリシロキサン系樹脂を主
   成分とする物質からなる請求項１記載のプラスチック液
   晶パネル用の転写箔。