JP3763482B2 - プラスチック液晶パネル用の転写箔 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は割れにくく、薄く、軽量なプラスチック液晶パネルに耐擦傷性、ガスバリア性を付与する為に有用な転写箔に関する。更に詳しくはガラス板基板を用いた液晶パネルにかわるプラスチック基板を用いた液晶パネルに用いる透明導電性膜（ＩＴＯ膜）を設けたフロント・フィルム、リア・フィルムの耐擦傷性、ガスバリア性を付与する為に有用な転写箔に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶表示用デバイスとして液晶パネルは益々重要になってきている。特に小型情報機器向けは、携帯性の向上、落下や外押圧ストレスに対する耐衝撃性の向上が重要な課題である。又、テレビジョンをはじめ航空機、船舶等の運航に必要な各種の計器盤、操作盤等にも大型化した液晶表示用デバイスの実用化が待たれている。
【０００３】
ところが現状の液晶パネルは、通常ガラス板基板を使っていて、薄型軽量化の為にガラス板基板を薄くすると割れやすくなるという問題点があった。その上、枚葉にて加工するので生産性が低く、コスト高になるという問題点もあった。
【０００４】
本発明では、「プラスチック」という用語には「ポリマー」をも含む用語として使用する。
【０００５】
又、プラスチック基板をガラス板基板のかわりに用いることも試みられているが、枚葉にて加工するので工程中で傷がつき易いこと、ガスバリア性が不十分であること等の欠点があり、未だ完全には解決していない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
プラスチック基板を使ったプラスチック液晶パネルはガラス板基板のものに比べてガスバリア性に劣り、又、表面に傷がつき易いので、プラスチック基板に直接コーティング法によってガスバリア層やハードコート層を形成することも試みられている。
【０００７】
しかしながら、プラスチック基板を枚葉にて加工する場合には、生産性の低さ、即ちコスト高という問題点があった。又、より薄いシートやフィルムのプラスチック基板を連続的に搬送させて加工するロール・ツウ・ロール方式では、ローラとの摩擦等による擦傷の為にガスバリア性が損なわれるという問題点があった。
【０００８】
更に、枚葉にて加工する真空蒸着装置、スパッタリング装置等では、基板のサイズが大型化するほど生産性が低く、コスト高になる傾向が一層顕著になり、又、ガスバリア層やハードコート層の物性、膜厚等の均一なものが形成しにくくなるという問題点があった。
【０００９】
本発明は上記のような種々の問題点を解決すること、即ち、連続したベースフィルムを使用して連続処理方法により生産性が向上でき、コストの低減ができ、しかもガスバリア層、ハードコート層の何れもが損傷を受けることがないプラスチック液晶パネル用の転写箔を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、プラスチック液晶パネル用のプラスチック基板に対してガスバリア性及び耐擦傷性という機能を後天的に熱転写方式により付与することを可能とした構成とすることにより、上記目的を達成することに成功した。
【００１１】
本願発明に係るプラスチック液晶パネル用転写箔は、ベースフィルムに、離型層と、ハードコート層と、ガスバリア層と、接着層と、を順次形成してなる、プラスチック液晶パネル用転写箔であって、前記離型層は、アクリル−メラミン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、尿素−メラミン樹脂、尿素樹脂、アクリル−シリコーン樹脂、又はシリコン樹脂の中の何れか又は複数よりなり、かつその厚みが０．２５μｍ以上５．００μｍ以下であり、前記ハードコート層は、ウレタンアクリレート、ポリオールアクリレート、エポキシアクリレート、又はポリエステルアクリレートの中の何れか又は複数を紫外線又は電子線照射法により硬化させることにより得られるものであり、かつその厚みが１．０μｍ以上５．０μｍ以下であり、前記ガスバリア層は、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素−酸化マグネシウム混合物、酸化ケイ素−酸化アルミニウム混合物、又は酸化マグネシウム−酸化アルミニウム混合物の中の何れか又は複数よりなり、かつその厚みが、真空蒸着法により形成する場合は５０Å以上２０００Å以下、コーティング法で形成する場合は０．５μｍ以上５．０μｍ以下であること、を特徴とし、プラスチック液晶パネル用のプラスチック基板に対してガスバリア性及び耐擦傷性という機能を後天的に熱転写方式により付与する為に用いるものである。そしてこのような特徴を有することにより、これらの層はベースフィルムを連続的に搬送する装置を備えた真空蒸着層ち、スパッタリング装置、コーティング装置等を用いて大量に、容易に、品質良く、安価に形成できる。
【００１２】
本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔を前記のプラスチック基板(21)に熱転写方式で転写することにより、プラスチック液晶パネルに傷をつけることなく、ハードコート層(13)、ガスバリア層(14)を形成することができる。尚、本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔は前記プラスチック基板に限らず、これよりも薄いシートやフィルム、又、逆に厚い板状のプラスチック基板に適用することもできる。
【００１３】
【作用】
本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔は、プラスチック板基板(21)のような従来法ならば枚葉でハードコート層(13)、ガスバリア層(14)を真空蒸着法、スパッタリング法等で形成しなければならなかったプラスチック液晶パネル用の基板にも、長尺のロール巻きベースフィルム(11)にロール搬送系を有し連続処理できる真空蒸着装置、スパッタリング装置、コーティング装置で生産性よく、ロー・コストで物性、膜厚等の均一な所望層を形成した本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔を枚葉式の汎用転写機を用いて、効率よく、しかもすべての層に損傷を与えることなく、所望層を転写形成することができる。
【００１４】
本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔において用いるベースフィルム(11)としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体等のポリエステル系をはじめ、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリオレフィン系等のベースフィルムがあげられる。又、これらのプラスチックは２種又はそれ以上のものがブレンドされていてもよく、例えばポリエチレンテレフタレートにポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体がブレンドされていてもよい。更に又、これらのベースフィルムが２種又はそれ以上のものが積層された複層フィルムであってもよい。
【００１５】
更に、これらのベースフィルム(11)の表面は各種の表面処理が施されていてもよい。特にハードコート層(13)、又はガスバリア層(14)との剥離性を増す為に真空中でフッ素系化合物を用いて表面をプラズマ処理する方法、大気中で高温の熱処理を行ないベースフィルムの表面にオリゴマーを滲出す方法、窒素ガス雰囲気中で電子線を照射しベースフィルム表面を変質させる方法、ベースフィルムの製膜工程において、アクリル樹脂系、ポリビニルアルコール系、ポリオレフィン系等の異種ベースフィルムを積層し、表面を改質する方法等が用いられる。
【００１６】
上記のベースフィルム(11)は二軸延伸されたものが好適である。又、厚さは９〜７５μｍの範囲、好ましくは１２〜３８μｍの範囲から適宜選択実施される。ベースフィルムの厚さが９μｍ以下の場合には、ベースフィルムに皺、カール等の欠点が発生し易く、取り扱いにくいので好ましくない。一方、７５μｍ以上の場合には、熱転写時の熱伝導が遅く、転写の作業性が劣るので好ましくなく、又、ベースフィルムの剛性が強い為、搬送中に擦傷が入り易く好ましくない。
【００１７】
本発明のプラスチック液晶パネル用転写箔において採用される離型層（１２）は、ベースフィルム（１１）とその上に形成されるハードコート層（１３）との界面においてベースフィルム（１１）上に形成される。従って離型層（１２）はハードコート層との界面において容易に剥離することが要件である。
離型層を構成する樹脂としては、例えばエポキシ−メラミン樹脂、アクリル−メラミン樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂、尿素樹脂、尿素−メラミン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル−シリコーン樹脂、フッ素樹脂系、各種ワックス類などがあげられる。これらの樹脂の１種又はそれ以上の樹脂の有機溶剤溶液、エマルジョン等のコーティング剤をロールコーティング法、グラビアコーティング法等の通常コーティング法によりベースフィルム上に塗布し、溶媒を乾燥、硬化（電子線硬化、紫外線硬化等）することによって形成する。
なお、離型層を設けないことも考えられ、その場合も同等の効果を得られるが、本発明においては離型層は必ず設けることとする。
【００１８】
離型層(12)の厚さは、通常０．１〜１０μｍの範囲、好ましくは０．２５〜５μｍの範囲から適宜選択実施される。離型層の厚さが０．１μｍより薄い場合には、剥離が重く目的とする剥離性を得ることができないので好ましくない。一方、１０μｍより厚い場合には剥離が軽すぎる為に、離型層上に順次形成するハードコート層(13)、ガスバリア層(14)、接着層(15)等の層が加工工程中で脱落する可能性があるので好ましくない。
【００１９】
又、離型層(12)は、次ぎの方法によっても形成することができる。水酸基、エーテル基、カルボキシル基、アミノ基等を１個以上有する水溶性有機物質、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等のビニル系水溶性樹脂、メチルセルロース、カルボキシルメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等の繊維素エーテル系樹脂、アクリル酸ソーダ、アクリル酸アンモニウム等のアクリル酸系水溶性物質、澱粉、デキストリン、ニカワ、ゼラチン等の天然水溶性物質、カゼイン、カゼイン酸ソーダ、カゼイン酸アンモニウム等のタンパク質系水溶性物質、その他ポリエチレンオキサイド、カラギーナン、グルコマンガン等の１種又はそれ以上の物質の水溶液のコーティング剤をロールコーティング法、グラビアコーティング法等の通常コーティング法によりベースフィルム(11)上に塗布し、乾燥することによって形成する。
【００２０】
これらの水溶性離型層(12)を形成した場合は、その上にハードコート層(13)、ガスバリア層(14)、接着層(15)を順次形成し、プラスチック液晶パネル用のプラスチック基板(21)に転写した後、水溶性離型層とハードコート層との界面において剥離ができずにベースフィルムと水溶性離型層の間で剥離して、水溶性離型層が残っても水洗によって水溶性離型層を完全に除去することにより、所望のハードコート層を露出することができる。
【００２１】
本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔におけるハードコート層(13)は、透明性がよく、耐擦傷性が良好なことが要件であり、例えばポリメタアクリル酸樹脂、ポリメタアクリル酸エステル樹脂、ポリメチル（メタ）アクリル酸エステル樹脂等のアクリル酸系樹脂やアクリルポリオール、ポリエステルポリオール等のエステル結合を有するポリオール系樹脂やポリエステル樹脂、アクリル樹脂等を用いることができる。又モノマー、オリゴマーとしてはアクリレートモノマー、アクリレートオリゴマーがあり、例えばポリオールアクリレートとしてはトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（ヘキサ）アクリレート等があり、エポキシアクリレートとしてはグリセリントリグリシジルアクリレート、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルテトラアクリレート等があり、その他にポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート等がある。これらのモノマー及びオリゴマーは光重合開始剤を添加し、紫外線照射によって容易にポリマーとなり、硬質な膜を形成することができる。
【００２２】
光重合開始剤としては、紫外線照射により容易にフリーラジカルを発生する化合物で、例えばベンゾフェノン、トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンジルジメチルケタール、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、メチルフェニルグリオキシレート等が使用できる。
【００２３】
ハードコート層（１３）の形成方法としては、ウレタンアクリレート、ポリオールアクリレート、エポキシアクリレート、又はポリエステルアクリレートの中の何れか又は複数を、ロールコーティング法、グラビアコーティング法等の通常コーティング法により前記ベースフィルム（１１）上に離型層（１２）を介して塗布し、そしてこれを紫外線又は電子線照射法により硬化させることにより得られる。
【００２４】
ハードコート層(13)の厚さは、０．３〜１０μｍの範囲、好ましくは１〜５μｍの範囲から適宜選択実施される。ハードコート層の厚さが０．３μｍより薄い場合には、耐擦傷性が十分でなく好ましくない。一方、１０μｍより厚い場合には、硬化時の歪みによるカールが生じやすいので好ましくない。
【００２５】
本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔におけるガスバリア層(14)は、透明性がよく、ガスバリア性が良好なものであれば特に制限はないが、例えばＳｉ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｚｒ等の金属化合物の１種又は２種以上の混合物、特に好ましくは、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素−酸化アルミニウム混合物、酸化ケイ素−酸化マグネシウム混合物、酸化アルミニウム−酸化マグネシウム混合物等を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等によって前記ベースフィルム(11)上に直接又は前記離型層(12)を介して、或は前記ハードコート層(13)上に形成する。
【００２６】
又、これらのガスバリア層(14)は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｚｒ等の金属を酸素ガスの存在下で、反応性蒸着法、反応性スパッタリング法により酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等を形成する。
【００２７】
これらのガスバリア層(14)は、単層で十分なガスバリア性が発現できない場合は複層にすることもできる。例えば酸化アルミニウムと酸化マグネシウムの積層、酸化アルミニウムと酸化ケイ素の積層等の組合せがよい。
【００２８】
又、ガスバリア層(14)は、有機ケイ素化合物、窒素ケイ素化合物等を変性することによっても形成することができる。例えばテトラブドキシシランを加水分解して得られるヒドロキシシリケート、ポリシラザン（東燃株式会社製、窒素ケイ素系環式重合体）等の溶液をコーティングし、溶媒を乾燥、後処理等を施すことによっても酸化ケイ素膜を形成することができる。
【００２９】
更に又、ガスバリア層(14)は、エチレン−ビニルアルコール系重合体、ポリ塩化ビニリデン系重合体、ポリアクリロニトリル系重合体等のビニル系重合体溶液をコーティングし、溶媒を乾燥、後処理等を施すことによっても形成することができる。
【００３０】
ガスバリア層(14)の厚さは、真空蒸着法で形成する場合は通常５０〜２０００Åの範囲から適宜選択実施される。又、重合体等の溶液コーティング法で形成する場合は通常０．１〜１０μｍの範囲、好ましくは０．５〜５μｍの範囲から適宜選択実施される。
【００３１】
真空蒸着薄膜からなるガスバリア層(14)の厚さが５０Åより薄い場合にはガスバリア性が不足するので好ましくない。一方、２０００Åより厚い場合にはクラックが発生しやすいので好ましくない。
【００３２】
溶液コーティング法で形成した重合体等の膜からなるガスバリア層(14)の厚さが０．１μｍより薄い場合にはガスバリア性が不足するので好ましくない。一方、１０μｍより厚い場合には透明性を阻害するので好ましくない。
【００３３】
本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔における接着層(15)は、透明性、耐熱性、接着性が良好なものが好ましい。接着層を構成する樹脂としては、例えばアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート系、ポリアミド系、セルロース系等の樹脂及びこれらの変性物の１種又は２種以上の混合物からなる樹脂があげられる。
【００３４】
接着層(15)は、前記樹脂を有機溶剤に溶解したコーティング剤をグラビアコーティング法、リバースロールコーティング法等で前記ハードコート層(13)又はガスバリア層(14)上に塗布、乾燥して形成する。又、ポリアミド系、ポリエステル系等のホットメルト接着剤で接着層を形成する場合には、ホットメルト用コーターや押出コーティング装置を用いる。又、接着層を形成する樹脂は、紫外線や電子線によってアフターキュアにより硬化し、接着性を増すものも好適である。
【００３５】
接着層(15)の厚さは被転写体であるプラスチック基板(21)の表面状態に応じて、通常０．３〜２０μｍの範囲、好ましくは０．５〜３μｍの範囲から適宜選択実施される。接着層の厚さが０．３μｍより薄い場合には充分な接着力が得られず好ましくない。一方、２０μｍより厚い場合には著しく透明性を阻害するので好ましくない。
【００３６】
本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔を転写するプラスチック基板(21)は、通常プラスチックシートからなる。プラスチック基板としては、アリルジグリコールカーボネート、ポリエステル、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、ポリノルボルネン系樹脂（日本合成ゴム株式会社製、ＡＲＴＯＮ（登録商標））等の耐熱性、透明性の優れたもので、かつ光学的に等方性のものが好ましく用いられる。これらのプラスチック基板の片面に透明導電性層等(22)が設けられている場合には非処理面に転写する。
【００３７】
本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔は、前記プラスチックシートからなるプラスチック基板(21)に限らず、これよりも薄いプラスチックフィルムや厚いプラスチック板等のプラスチック液晶パネル用のプラスチック基材に転写することもできる。
【００３８】
以下に実施例をあげて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００３９】
【実施例】
以下、本発明をより明確にすべく、実施例、参考例、比較例を用いながら説明を加える。
（参考例１）
連続した長尺の厚さ１２μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面上にアクリルシリコーン樹脂２０部（重量部、以下同様）、トルエン４５部、メチルイソブチルケトン３５部からなる溶液をリールフィルム搬送系を有するコーターでグラビアコーティング法にて連続的に塗布、乾燥して、厚さ０．５μmの離型層を５０ｍ／分の速度で形成した。
【００４０】
次ぎにこの離型層の上に、ウレタンアクリレート／１，６ヘキサンジオールジアクリレート混合モノマー１００部、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン５部、メチルセロソルブ３００部を混合して均一化したコーティング剤をロールフィルム搬送系を有するコーターでロールコーティング法にて連続的に塗布し、８０℃で乾燥後、８０Ｗの高圧水銀灯で紫外線を照射し、厚さ３μｍのハードコート層を形成した。
【００４１】
次いでこのハードコート層の上に、ポリエステル樹脂１０部、トルエン４０部、メチルエチルケトン５０部からなる溶液をロールフィルム搬送系を有するコーターでリバースロールコーティング法にて連続的に塗布、乾燥して、厚さ１μｍの接着層を５０ｍ／分の速度で形成して、本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔（図１）を得た。
【００４２】
このようにして得たプラスチック液晶パネル用の転写箔を、片面にインジウム−錫酸化物からなる透明導電性（ＩＴＯ）層を設けた厚さ１００μｍのポリカーボネートシートからなるプラスチック基板の非導電性面に熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを離型層と共に剥離し、プラスチック液晶パネル用のハードコート層を形成したプラスチック基板（図５）を得た。
【００４３】
尚、透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリカーボネートシートはインジウム−錫酸化物をスパッタリング法により形成したもので、その表面抵抗値は４０Ω／□である。
【００４４】
透明導電性層は、前記のように直接プラスチックシートに形成する場合の他、透明導電性層を設けた転写箔を熱転写法により転写したものも用いることができる。
【００４５】
（参考例２）
参考例１において、アクリルシリコーン樹脂系の離型層０．５μmを設けるかわりに、フッ素系化合物で表面をプラズマ処理したポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる以外は参考例１と全く同じ方法によりプラスチック液晶用の転写箔（図２）を得た。
【００４６】
このようにして得た転写箔を、片面にインジウム−錫酸化物からなる透明導電性（ＩＴＯ）層を設けた厚さ１００μｍのポリカーボネートシートからなるプラスチック基板の非導電性面に熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、プラスチック液晶パネル用のハードコート層を形成したプラスチック基板（図５）を得た。
【００４７】
尚、透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリカーボネートシートはインジウム−錫酸化物をスパッタリング法により形成したもので、その表面抵抗値は４０Ω／□である。
【００４８】
（参考例３）
参考例１と同じ方法で、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面上に離型層を形成した後、この離型層の上に酸化アルミニウムからなるガスバリア層を真空度１０−５Ｔｏｒｒ、フィルム走行速度３０ｍ／分の作業条件で電子ビーム加熱真空蒸着法により厚さ５００Åに形成した。このようにして得られたガスバリア層付きフィルムは、酸素透過率、水蒸気透過率共に少なく、優れたガスバリア性及び透明性にも優れたものであった。
【００４９】
次いでこのガスバリア層の上に参考例１と同様に接着層を形成して、プラスチック液晶パネル用の転写箔（図３）を得た。
【００５０】
このようにして得たプラスチック液晶パネル用の転写箔を、片面にインジウム−錫酸化物からなる透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリアリレートシートからなるプラスチック基板の非導電性面に熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを離型層と共に剥離し、プラスチック液晶パネル用のガスバリア層を形成したプラスチック基板（図６）を得た。
【００５１】
（実施例１）
参考例１と同じ方法で、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面上に離型層を形成した後、この離型層の上にウレタンアクリレート／１，６ヘキサンジオールジアクリレート混合モノマー１００部、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン５部、メチルセロソルブ３００部を混合し均一化したコーティング剤をロールフィルム搬送系を有するコーターでロールコーター法により塗布し、８０℃で乾燥後、８０Ｗの高圧水銀灯で紫外線を照射し、厚さ３μｍのハードコート層を形成した。
【００５２】
次いでこのハードコート層の上に、酸化アルミニウム層からなるガスバリア層を真空度１０-5Ｔｏｒｒ、フィルム走行速度３０ｍ／分の作業条件で電子ビーム加熱真空蒸着法により厚さ５００Åに形成した。このようにして得られたハードコート層、ガスバリア層付きフィルムは、酸素透過率、水蒸気透過率共に少なく、優れたガスバリア性及び透明性にも優れたものであった。
【００５３】
次いでこのガスバリア層の上に参考例１と同様に接着層を形成して、プラスチック液晶パネル用の転写箔（図４）を得た。
【００５４】
このようにして得たプラスチック液晶パネル用の転写箔を、片面にインジウム−錫酸化物からなる透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリエーテルサルホンシートからなるプラスチック基板の非導電性面に熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを離型層と共に剥離し、プラスチック液晶パネル用のハードコート層及びガスバリア層を形成したプラスチック基板（図７）を得た。
【００５５】
（比較例１）
参考例１において用いた、片面にインジウム−錫酸化物からなる透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリカーボネートシートからなるプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板（図８）そのもの。
【００５６】
（比較例２）
参考例１において用いた、片面にインジウム−錫酸化物からなる透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリカーボネートシートからなるプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板（図８）そのもの。
【００５７】
（比較例３）
参考例２において用いた、片面にインジウム−錫酸化物からなる透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリアリレートシートからなるプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板（図８）そのもの。
【００５８】
（比較例４）
実施例１において用いた、片面にインジウム−錫酸化物からなる透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリエーテルサルホンシートからなるプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板（図８）そのもの。
【００５９】
次に、実施例１及び参考例１〜３により作成したプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板の各試料及び比較例１〜４のプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板の各試料について、ガスバリア性、表面状態（傷発生状態）について評価を行った結果を表１に示した。
【００６０】
＜評価方法＞
（１）酸素ガス透過率
ＭＯＤＥＲＮ ＣＯＮＴＲＯＬＬＥＲ Ｃｏ．製、ＭＯＤＥＬ ＯＸ−ＴＲＡＮ １００ ＴＷＩＮ を使用し、２５℃、ＤＲＹ状態で測定する。
（２）水蒸気透過率
ＭＯＤＥＲＮ ＣＯＮＴＲＯＬＬＥＲ Ｃｏ．製、ＭＯＤＥＬ ＷＡＴＥＲＶＡＰＯＲ ＴＲＡＮＳＭＩＳＳＩＮＯＮ ＤＬ１００ を使用し、４０℃、９０％ＲＨ状態で測定する。
（３）表面状態（傷発生状態）
実施例及び参考例は転写箔を転写した面、比較例はプラスチックシート面を大栄科学精器製作所製の学振型摩擦試験機を使用し、カナキン３号綿布で加重５００ｇ／ｃｍ２で１０往復摩擦し、傷の発生状態を観察する。
【００６１】
【表１】
尚、表面状態は学振型摩擦試験機による摩擦試験後の透明導電性層の反対面の状態である。即ち、実施例１及び参考例１〜３は転写箔を転写した面の状態であり、比較例１〜４はプラスチックシート面の状態である。
【００６２】
表１から、実施例１の本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔を使用したプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板は、比較例１〜４のプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板に比べて耐擦傷性に優れ、実施例１の本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔を使用したプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板は、比較例１〜４のプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板に比べてガスバリア性に優れていることがわかる。
【００６３】
【発明の効果】
本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔は、フレキシブルな長尺ベースフィルム(11)に直接又は離型層(12)を介して、ハードコート層(13)、ガスバリア層(14)及び接着層(15)を連続的に搬送する装置を備えた真空蒸着装置、スパッタリング装置、コーティング装置等を用いて生産性よく、低コストで所望層を形成することができる。従って、従来法ならば枚葉でハードコート層、ガスバリア層をコーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法等で形成しなければならなかったプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板等にも、本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔を汎用転写機で、効率よく、しかもすべての層に損傷を与えることなく、所望層を転写形成することができる。つまり、生産性よく、安価にかつ安定した所望層を形成したプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板が生産できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔の参考例１を示す概略断面図である。
【図２】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔の参考例２を示す概略断面図である。
【図３】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔の参考例３を示す概略断面図である。
【図４】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔の実施例１を示す概略断面図である。
【図５】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔（参考例１及び２）を、裏面に透明導電性層を有するプラスチック基板に転写したプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板の例を示す概略断面図である。
【図６】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔（参考例３）を、裏面に透明導電性層を有するプラスチック基板に転写したプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板の例を示す概略断面図である。
【図７】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔（実施例１）を、裏面に透明導電性層を有するプラスチック基板に転写したプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板の例を示す概略断面図である。
【図８】従来の裏面に透明導電性層を有するプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板の例を示す概略断面図である。
【産業上の利用分野】
本発明は割れにくく、薄く、軽量なプラスチック液晶パネルに耐擦傷性、ガスバリア性を付与する為に有用な転写箔に関する。更に詳しくはガラス板基板を用いた液晶パネルにかわるプラスチック基板を用いた液晶パネルに用いる透明導電性膜（ＩＴＯ膜）を設けたフロント・フィルム、リア・フィルムの耐擦傷性、ガスバリア性を付与する為に有用な転写箔に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶表示用デバイスとして液晶パネルは益々重要になってきている。特に小型情報機器向けは、携帯性の向上、落下や外押圧ストレスに対する耐衝撃性の向上が重要な課題である。又、テレビジョンをはじめ航空機、船舶等の運航に必要な各種の計器盤、操作盤等にも大型化した液晶表示用デバイスの実用化が待たれている。
【０００３】
ところが現状の液晶パネルは、通常ガラス板基板を使っていて、薄型軽量化の為にガラス板基板を薄くすると割れやすくなるという問題点があった。その上、枚葉にて加工するので生産性が低く、コスト高になるという問題点もあった。
【０００４】
本発明では、「プラスチック」という用語には「ポリマー」をも含む用語として使用する。
【０００５】
又、プラスチック基板をガラス板基板のかわりに用いることも試みられているが、枚葉にて加工するので工程中で傷がつき易いこと、ガスバリア性が不十分であること等の欠点があり、未だ完全には解決していない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
プラスチック基板を使ったプラスチック液晶パネルはガラス板基板のものに比べてガスバリア性に劣り、又、表面に傷がつき易いので、プラスチック基板に直接コーティング法によってガスバリア層やハードコート層を形成することも試みられている。
【０００７】
しかしながら、プラスチック基板を枚葉にて加工する場合には、生産性の低さ、即ちコスト高という問題点があった。又、より薄いシートやフィルムのプラスチック基板を連続的に搬送させて加工するロール・ツウ・ロール方式では、ローラとの摩擦等による擦傷の為にガスバリア性が損なわれるという問題点があった。
【０００８】
更に、枚葉にて加工する真空蒸着装置、スパッタリング装置等では、基板のサイズが大型化するほど生産性が低く、コスト高になる傾向が一層顕著になり、又、ガスバリア層やハードコート層の物性、膜厚等の均一なものが形成しにくくなるという問題点があった。
【０００９】
本発明は上記のような種々の問題点を解決すること、即ち、連続したベースフィルムを使用して連続処理方法により生産性が向上でき、コストの低減ができ、しかもガスバリア層、ハードコート層の何れもが損傷を受けることがないプラスチック液晶パネル用の転写箔を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、プラスチック液晶パネル用のプラスチック基板に対してガスバリア性及び耐擦傷性という機能を後天的に熱転写方式により付与することを可能とした構成とすることにより、上記目的を達成することに成功した。
【００１１】
本願発明に係るプラスチック液晶パネル用転写箔は、ベースフィルムに、離型層と、ハードコート層と、ガスバリア層と、接着層と、を順次形成してなる、プラスチック液晶パネル用転写箔であって、前記離型層は、アクリル−メラミン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、尿素−メラミン樹脂、尿素樹脂、アクリル−シリコーン樹脂、又はシリコン樹脂の中の何れか又は複数よりなり、かつその厚みが０．２５μｍ以上５．００μｍ以下であり、前記ハードコート層は、ウレタンアクリレート、ポリオールアクリレート、エポキシアクリレート、又はポリエステルアクリレートの中の何れか又は複数を紫外線又は電子線照射法により硬化させることにより得られるものであり、かつその厚みが１．０μｍ以上５．０μｍ以下であり、前記ガスバリア層は、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素−酸化マグネシウム混合物、酸化ケイ素−酸化アルミニウム混合物、又は酸化マグネシウム−酸化アルミニウム混合物の中の何れか又は複数よりなり、かつその厚みが、真空蒸着法により形成する場合は５０Å以上２０００Å以下、コーティング法で形成する場合は０．５μｍ以上５．０μｍ以下であること、を特徴とし、プラスチック液晶パネル用のプラスチック基板に対してガスバリア性及び耐擦傷性という機能を後天的に熱転写方式により付与する為に用いるものである。そしてこのような特徴を有することにより、これらの層はベースフィルムを連続的に搬送する装置を備えた真空蒸着層ち、スパッタリング装置、コーティング装置等を用いて大量に、容易に、品質良く、安価に形成できる。
【００１２】
本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔を前記のプラスチック基板(21)に熱転写方式で転写することにより、プラスチック液晶パネルに傷をつけることなく、ハードコート層(13)、ガスバリア層(14)を形成することができる。尚、本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔は前記プラスチック基板に限らず、これよりも薄いシートやフィルム、又、逆に厚い板状のプラスチック基板に適用することもできる。
【００１３】
【作用】
本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔は、プラスチック板基板(21)のような従来法ならば枚葉でハードコート層(13)、ガスバリア層(14)を真空蒸着法、スパッタリング法等で形成しなければならなかったプラスチック液晶パネル用の基板にも、長尺のロール巻きベースフィルム(11)にロール搬送系を有し連続処理できる真空蒸着装置、スパッタリング装置、コーティング装置で生産性よく、ロー・コストで物性、膜厚等の均一な所望層を形成した本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔を枚葉式の汎用転写機を用いて、効率よく、しかもすべての層に損傷を与えることなく、所望層を転写形成することができる。
【００１４】
本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔において用いるベースフィルム(11)としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体等のポリエステル系をはじめ、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリオレフィン系等のベースフィルムがあげられる。又、これらのプラスチックは２種又はそれ以上のものがブレンドされていてもよく、例えばポリエチレンテレフタレートにポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体がブレンドされていてもよい。更に又、これらのベースフィルムが２種又はそれ以上のものが積層された複層フィルムであってもよい。
【００１５】
更に、これらのベースフィルム(11)の表面は各種の表面処理が施されていてもよい。特にハードコート層(13)、又はガスバリア層(14)との剥離性を増す為に真空中でフッ素系化合物を用いて表面をプラズマ処理する方法、大気中で高温の熱処理を行ないベースフィルムの表面にオリゴマーを滲出す方法、窒素ガス雰囲気中で電子線を照射しベースフィルム表面を変質させる方法、ベースフィルムの製膜工程において、アクリル樹脂系、ポリビニルアルコール系、ポリオレフィン系等の異種ベースフィルムを積層し、表面を改質する方法等が用いられる。
【００１６】
上記のベースフィルム(11)は二軸延伸されたものが好適である。又、厚さは９〜７５μｍの範囲、好ましくは１２〜３８μｍの範囲から適宜選択実施される。ベースフィルムの厚さが９μｍ以下の場合には、ベースフィルムに皺、カール等の欠点が発生し易く、取り扱いにくいので好ましくない。一方、７５μｍ以上の場合には、熱転写時の熱伝導が遅く、転写の作業性が劣るので好ましくなく、又、ベースフィルムの剛性が強い為、搬送中に擦傷が入り易く好ましくない。
【００１７】
本発明のプラスチック液晶パネル用転写箔において採用される離型層（１２）は、ベースフィルム（１１）とその上に形成されるハードコート層（１３）との界面においてベースフィルム（１１）上に形成される。従って離型層（１２）はハードコート層との界面において容易に剥離することが要件である。
離型層を構成する樹脂としては、例えばエポキシ−メラミン樹脂、アクリル−メラミン樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂、尿素樹脂、尿素−メラミン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル−シリコーン樹脂、フッ素樹脂系、各種ワックス類などがあげられる。これらの樹脂の１種又はそれ以上の樹脂の有機溶剤溶液、エマルジョン等のコーティング剤をロールコーティング法、グラビアコーティング法等の通常コーティング法によりベースフィルム上に塗布し、溶媒を乾燥、硬化（電子線硬化、紫外線硬化等）することによって形成する。
なお、離型層を設けないことも考えられ、その場合も同等の効果を得られるが、本発明においては離型層は必ず設けることとする。
【００１８】
離型層(12)の厚さは、通常０．１〜１０μｍの範囲、好ましくは０．２５〜５μｍの範囲から適宜選択実施される。離型層の厚さが０．１μｍより薄い場合には、剥離が重く目的とする剥離性を得ることができないので好ましくない。一方、１０μｍより厚い場合には剥離が軽すぎる為に、離型層上に順次形成するハードコート層(13)、ガスバリア層(14)、接着層(15)等の層が加工工程中で脱落する可能性があるので好ましくない。
【００１９】
又、離型層(12)は、次ぎの方法によっても形成することができる。水酸基、エーテル基、カルボキシル基、アミノ基等を１個以上有する水溶性有機物質、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等のビニル系水溶性樹脂、メチルセルロース、カルボキシルメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等の繊維素エーテル系樹脂、アクリル酸ソーダ、アクリル酸アンモニウム等のアクリル酸系水溶性物質、澱粉、デキストリン、ニカワ、ゼラチン等の天然水溶性物質、カゼイン、カゼイン酸ソーダ、カゼイン酸アンモニウム等のタンパク質系水溶性物質、その他ポリエチレンオキサイド、カラギーナン、グルコマンガン等の１種又はそれ以上の物質の水溶液のコーティング剤をロールコーティング法、グラビアコーティング法等の通常コーティング法によりベースフィルム(11)上に塗布し、乾燥することによって形成する。
【００２０】
これらの水溶性離型層(12)を形成した場合は、その上にハードコート層(13)、ガスバリア層(14)、接着層(15)を順次形成し、プラスチック液晶パネル用のプラスチック基板(21)に転写した後、水溶性離型層とハードコート層との界面において剥離ができずにベースフィルムと水溶性離型層の間で剥離して、水溶性離型層が残っても水洗によって水溶性離型層を完全に除去することにより、所望のハードコート層を露出することができる。
【００２１】
本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔におけるハードコート層(13)は、透明性がよく、耐擦傷性が良好なことが要件であり、例えばポリメタアクリル酸樹脂、ポリメタアクリル酸エステル樹脂、ポリメチル（メタ）アクリル酸エステル樹脂等のアクリル酸系樹脂やアクリルポリオール、ポリエステルポリオール等のエステル結合を有するポリオール系樹脂やポリエステル樹脂、アクリル樹脂等を用いることができる。又モノマー、オリゴマーとしてはアクリレートモノマー、アクリレートオリゴマーがあり、例えばポリオールアクリレートとしてはトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（ヘキサ）アクリレート等があり、エポキシアクリレートとしてはグリセリントリグリシジルアクリレート、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルテトラアクリレート等があり、その他にポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート等がある。これらのモノマー及びオリゴマーは光重合開始剤を添加し、紫外線照射によって容易にポリマーとなり、硬質な膜を形成することができる。
【００２２】
光重合開始剤としては、紫外線照射により容易にフリーラジカルを発生する化合物で、例えばベンゾフェノン、トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンジルジメチルケタール、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、メチルフェニルグリオキシレート等が使用できる。
【００２３】
ハードコート層（１３）の形成方法としては、ウレタンアクリレート、ポリオールアクリレート、エポキシアクリレート、又はポリエステルアクリレートの中の何れか又は複数を、ロールコーティング法、グラビアコーティング法等の通常コーティング法により前記ベースフィルム（１１）上に離型層（１２）を介して塗布し、そしてこれを紫外線又は電子線照射法により硬化させることにより得られる。
【００２４】
ハードコート層(13)の厚さは、０．３〜１０μｍの範囲、好ましくは１〜５μｍの範囲から適宜選択実施される。ハードコート層の厚さが０．３μｍより薄い場合には、耐擦傷性が十分でなく好ましくない。一方、１０μｍより厚い場合には、硬化時の歪みによるカールが生じやすいので好ましくない。
【００２５】
本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔におけるガスバリア層(14)は、透明性がよく、ガスバリア性が良好なものであれば特に制限はないが、例えばＳｉ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｚｒ等の金属化合物の１種又は２種以上の混合物、特に好ましくは、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素−酸化アルミニウム混合物、酸化ケイ素−酸化マグネシウム混合物、酸化アルミニウム−酸化マグネシウム混合物等を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等によって前記ベースフィルム(11)上に直接又は前記離型層(12)を介して、或は前記ハードコート層(13)上に形成する。
【００２６】
又、これらのガスバリア層(14)は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｚｒ等の金属を酸素ガスの存在下で、反応性蒸着法、反応性スパッタリング法により酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等を形成する。
【００２７】
これらのガスバリア層(14)は、単層で十分なガスバリア性が発現できない場合は複層にすることもできる。例えば酸化アルミニウムと酸化マグネシウムの積層、酸化アルミニウムと酸化ケイ素の積層等の組合せがよい。
【００２８】
又、ガスバリア層(14)は、有機ケイ素化合物、窒素ケイ素化合物等を変性することによっても形成することができる。例えばテトラブドキシシランを加水分解して得られるヒドロキシシリケート、ポリシラザン（東燃株式会社製、窒素ケイ素系環式重合体）等の溶液をコーティングし、溶媒を乾燥、後処理等を施すことによっても酸化ケイ素膜を形成することができる。
【００２９】
更に又、ガスバリア層(14)は、エチレン−ビニルアルコール系重合体、ポリ塩化ビニリデン系重合体、ポリアクリロニトリル系重合体等のビニル系重合体溶液をコーティングし、溶媒を乾燥、後処理等を施すことによっても形成することができる。
【００３０】
ガスバリア層(14)の厚さは、真空蒸着法で形成する場合は通常５０〜２０００Åの範囲から適宜選択実施される。又、重合体等の溶液コーティング法で形成する場合は通常０．１〜１０μｍの範囲、好ましくは０．５〜５μｍの範囲から適宜選択実施される。
【００３１】
真空蒸着薄膜からなるガスバリア層(14)の厚さが５０Åより薄い場合にはガスバリア性が不足するので好ましくない。一方、２０００Åより厚い場合にはクラックが発生しやすいので好ましくない。
【００３２】
溶液コーティング法で形成した重合体等の膜からなるガスバリア層(14)の厚さが０．１μｍより薄い場合にはガスバリア性が不足するので好ましくない。一方、１０μｍより厚い場合には透明性を阻害するので好ましくない。
【００３３】
本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔における接着層(15)は、透明性、耐熱性、接着性が良好なものが好ましい。接着層を構成する樹脂としては、例えばアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート系、ポリアミド系、セルロース系等の樹脂及びこれらの変性物の１種又は２種以上の混合物からなる樹脂があげられる。
【００３４】
接着層(15)は、前記樹脂を有機溶剤に溶解したコーティング剤をグラビアコーティング法、リバースロールコーティング法等で前記ハードコート層(13)又はガスバリア層(14)上に塗布、乾燥して形成する。又、ポリアミド系、ポリエステル系等のホットメルト接着剤で接着層を形成する場合には、ホットメルト用コーターや押出コーティング装置を用いる。又、接着層を形成する樹脂は、紫外線や電子線によってアフターキュアにより硬化し、接着性を増すものも好適である。
【００３５】
接着層(15)の厚さは被転写体であるプラスチック基板(21)の表面状態に応じて、通常０．３〜２０μｍの範囲、好ましくは０．５〜３μｍの範囲から適宜選択実施される。接着層の厚さが０．３μｍより薄い場合には充分な接着力が得られず好ましくない。一方、２０μｍより厚い場合には著しく透明性を阻害するので好ましくない。
【００３６】
本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔を転写するプラスチック基板(21)は、通常プラスチックシートからなる。プラスチック基板としては、アリルジグリコールカーボネート、ポリエステル、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、ポリノルボルネン系樹脂（日本合成ゴム株式会社製、ＡＲＴＯＮ（登録商標））等の耐熱性、透明性の優れたもので、かつ光学的に等方性のものが好ましく用いられる。これらのプラスチック基板の片面に透明導電性層等(22)が設けられている場合には非処理面に転写する。
【００３７】
本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔は、前記プラスチックシートからなるプラスチック基板(21)に限らず、これよりも薄いプラスチックフィルムや厚いプラスチック板等のプラスチック液晶パネル用のプラスチック基材に転写することもできる。
【００３８】
以下に実施例をあげて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００３９】
【実施例】
以下、本発明をより明確にすべく、実施例、参考例、比較例を用いながら説明を加える。
（参考例１）
連続した長尺の厚さ１２μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面上にアクリルシリコーン樹脂２０部（重量部、以下同様）、トルエン４５部、メチルイソブチルケトン３５部からなる溶液をリールフィルム搬送系を有するコーターでグラビアコーティング法にて連続的に塗布、乾燥して、厚さ０．５μmの離型層を５０ｍ／分の速度で形成した。
【００４０】
次ぎにこの離型層の上に、ウレタンアクリレート／１，６ヘキサンジオールジアクリレート混合モノマー１００部、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン５部、メチルセロソルブ３００部を混合して均一化したコーティング剤をロールフィルム搬送系を有するコーターでロールコーティング法にて連続的に塗布し、８０℃で乾燥後、８０Ｗの高圧水銀灯で紫外線を照射し、厚さ３μｍのハードコート層を形成した。
【００４１】
次いでこのハードコート層の上に、ポリエステル樹脂１０部、トルエン４０部、メチルエチルケトン５０部からなる溶液をロールフィルム搬送系を有するコーターでリバースロールコーティング法にて連続的に塗布、乾燥して、厚さ１μｍの接着層を５０ｍ／分の速度で形成して、本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔（図１）を得た。
【００４２】
このようにして得たプラスチック液晶パネル用の転写箔を、片面にインジウム−錫酸化物からなる透明導電性（ＩＴＯ）層を設けた厚さ１００μｍのポリカーボネートシートからなるプラスチック基板の非導電性面に熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを離型層と共に剥離し、プラスチック液晶パネル用のハードコート層を形成したプラスチック基板（図５）を得た。
【００４３】
尚、透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリカーボネートシートはインジウム−錫酸化物をスパッタリング法により形成したもので、その表面抵抗値は４０Ω／□である。
【００４４】
透明導電性層は、前記のように直接プラスチックシートに形成する場合の他、透明導電性層を設けた転写箔を熱転写法により転写したものも用いることができる。
【００４５】
（参考例２）
参考例１において、アクリルシリコーン樹脂系の離型層０．５μmを設けるかわりに、フッ素系化合物で表面をプラズマ処理したポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる以外は参考例１と全く同じ方法によりプラスチック液晶用の転写箔（図２）を得た。
【００４６】
このようにして得た転写箔を、片面にインジウム−錫酸化物からなる透明導電性（ＩＴＯ）層を設けた厚さ１００μｍのポリカーボネートシートからなるプラスチック基板の非導電性面に熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、プラスチック液晶パネル用のハードコート層を形成したプラスチック基板（図５）を得た。
【００４７】
尚、透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリカーボネートシートはインジウム−錫酸化物をスパッタリング法により形成したもので、その表面抵抗値は４０Ω／□である。
【００４８】
（参考例３）
参考例１と同じ方法で、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面上に離型層を形成した後、この離型層の上に酸化アルミニウムからなるガスバリア層を真空度１０−５Ｔｏｒｒ、フィルム走行速度３０ｍ／分の作業条件で電子ビーム加熱真空蒸着法により厚さ５００Åに形成した。このようにして得られたガスバリア層付きフィルムは、酸素透過率、水蒸気透過率共に少なく、優れたガスバリア性及び透明性にも優れたものであった。
【００４９】
次いでこのガスバリア層の上に参考例１と同様に接着層を形成して、プラスチック液晶パネル用の転写箔（図３）を得た。
【００５０】
このようにして得たプラスチック液晶パネル用の転写箔を、片面にインジウム−錫酸化物からなる透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリアリレートシートからなるプラスチック基板の非導電性面に熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを離型層と共に剥離し、プラスチック液晶パネル用のガスバリア層を形成したプラスチック基板（図６）を得た。
【００５１】
（実施例１）
参考例１と同じ方法で、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面上に離型層を形成した後、この離型層の上にウレタンアクリレート／１，６ヘキサンジオールジアクリレート混合モノマー１００部、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン５部、メチルセロソルブ３００部を混合し均一化したコーティング剤をロールフィルム搬送系を有するコーターでロールコーター法により塗布し、８０℃で乾燥後、８０Ｗの高圧水銀灯で紫外線を照射し、厚さ３μｍのハードコート層を形成した。
【００５２】
次いでこのハードコート層の上に、酸化アルミニウム層からなるガスバリア層を真空度１０-5Ｔｏｒｒ、フィルム走行速度３０ｍ／分の作業条件で電子ビーム加熱真空蒸着法により厚さ５００Åに形成した。このようにして得られたハードコート層、ガスバリア層付きフィルムは、酸素透過率、水蒸気透過率共に少なく、優れたガスバリア性及び透明性にも優れたものであった。
【００５３】
次いでこのガスバリア層の上に参考例１と同様に接着層を形成して、プラスチック液晶パネル用の転写箔（図４）を得た。
【００５４】
このようにして得たプラスチック液晶パネル用の転写箔を、片面にインジウム−錫酸化物からなる透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリエーテルサルホンシートからなるプラスチック基板の非導電性面に熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを離型層と共に剥離し、プラスチック液晶パネル用のハードコート層及びガスバリア層を形成したプラスチック基板（図７）を得た。
【００５５】
（比較例１）
参考例１において用いた、片面にインジウム−錫酸化物からなる透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリカーボネートシートからなるプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板（図８）そのもの。
【００５６】
（比較例２）
参考例１において用いた、片面にインジウム−錫酸化物からなる透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリカーボネートシートからなるプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板（図８）そのもの。
【００５７】
（比較例３）
参考例２において用いた、片面にインジウム−錫酸化物からなる透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリアリレートシートからなるプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板（図８）そのもの。
【００５８】
（比較例４）
実施例１において用いた、片面にインジウム−錫酸化物からなる透明導電性層を設けた厚さ１００μｍのポリエーテルサルホンシートからなるプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板（図８）そのもの。
【００５９】
次に、実施例１及び参考例１〜３により作成したプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板の各試料及び比較例１〜４のプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板の各試料について、ガスバリア性、表面状態（傷発生状態）について評価を行った結果を表１に示した。
【００６０】
＜評価方法＞
（１）酸素ガス透過率
ＭＯＤＥＲＮ ＣＯＮＴＲＯＬＬＥＲ Ｃｏ．製、ＭＯＤＥＬ ＯＸ−ＴＲＡＮ １００ ＴＷＩＮ を使用し、２５℃、ＤＲＹ状態で測定する。
（２）水蒸気透過率
ＭＯＤＥＲＮ ＣＯＮＴＲＯＬＬＥＲ Ｃｏ．製、ＭＯＤＥＬ ＷＡＴＥＲＶＡＰＯＲ ＴＲＡＮＳＭＩＳＳＩＮＯＮ ＤＬ１００ を使用し、４０℃、９０％ＲＨ状態で測定する。
（３）表面状態（傷発生状態）
実施例及び参考例は転写箔を転写した面、比較例はプラスチックシート面を大栄科学精器製作所製の学振型摩擦試験機を使用し、カナキン３号綿布で加重５００ｇ／ｃｍ２で１０往復摩擦し、傷の発生状態を観察する。
【００６１】
【表１】
尚、表面状態は学振型摩擦試験機による摩擦試験後の透明導電性層の反対面の状態である。即ち、実施例１及び参考例１〜３は転写箔を転写した面の状態であり、比較例１〜４はプラスチックシート面の状態である。
【００６２】
表１から、実施例１の本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔を使用したプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板は、比較例１〜４のプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板に比べて耐擦傷性に優れ、実施例１の本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔を使用したプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板は、比較例１〜４のプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板に比べてガスバリア性に優れていることがわかる。
【００６３】
【発明の効果】
本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔は、フレキシブルな長尺ベースフィルム(11)に直接又は離型層(12)を介して、ハードコート層(13)、ガスバリア層(14)及び接着層(15)を連続的に搬送する装置を備えた真空蒸着装置、スパッタリング装置、コーティング装置等を用いて生産性よく、低コストで所望層を形成することができる。従って、従来法ならば枚葉でハードコート層、ガスバリア層をコーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法等で形成しなければならなかったプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板等にも、本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔を汎用転写機で、効率よく、しかもすべての層に損傷を与えることなく、所望層を転写形成することができる。つまり、生産性よく、安価にかつ安定した所望層を形成したプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板が生産できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔の参考例１を示す概略断面図である。
【図２】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔の参考例２を示す概略断面図である。
【図３】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔の参考例３を示す概略断面図である。
【図４】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔の実施例１を示す概略断面図である。
【図５】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔（参考例１及び２）を、裏面に透明導電性層を有するプラスチック基板に転写したプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板の例を示す概略断面図である。
【図６】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔（参考例３）を、裏面に透明導電性層を有するプラスチック基板に転写したプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板の例を示す概略断面図である。
【図７】本発明のプラスチック液晶パネル用の転写箔（実施例１）を、裏面に透明導電性層を有するプラスチック基板に転写したプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板の例を示す概略断面図である。
【図８】従来の裏面に透明導電性層を有するプラスチック液晶パネル用のプラスチック基板の例を示す概略断面図である。
Claims (1)
- ベースフィルムに、
離型層と、ハードコート層と、ガスバリア層と、接着層と、を順次形成してなる、プラスチック液晶パネル用転写箔であって、
前記離型層は、
アクリル−メラミン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、尿素−メラミン樹脂、尿素樹脂、アクリル−シリコーン樹脂、又はシリコン樹脂の中の何れか又は複数よりなり、かつその厚みが０．２５μｍ以上５．００μｍ以下であり、
前記ハードコート層は、
ウレタンアクリレート、ポリオールアクリレート、エポキシアクリレート、又はポリエステルアクリレートの中の何れか又は複数を紫外線又は電子線照射法により硬化させることにより得られるものであり、かつその厚みが１．０μｍ以上５．０μｍ以下であり、
前記ガスバリア層は、
酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素−酸化マグネシウム混合物、酸化ケイ素−酸化アルミニウム混合物、又は酸化マグネシウム−酸化アルミニウム混合物の中の何れか又は複数よりなり、かつその厚みが、真空蒸着法により形成する場合は５０Å以上２０００Å以下、コーティング法で形成する場合は０．５μｍ以上５．０μｍ以下であること、
を特徴とする、
プラスチック液晶パネル用のプラスチック基板に対してガスバリア性及び耐擦傷性という機能を後天的に熱転写方式により付与する為に用いる、
プラスチック液晶パネル用転写箔。
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-
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