JP3604436B2 - プラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、割れにくく、薄く、軽量なプラスチック液晶パネルに透明導電性層を形成するのに用いる透明導電性転写箔に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶表示用デバイスとして液晶パネルは益々重要になってきている。特に小型情報機器向けは、携帯性の向上、落下や外押圧ストレスに対する耐衝撃性の向上が重要な課題である。またテレビジョンをはじめ航空機、船舶等の運航に必要な各種の計器盤、操作盤等にも大型化した液晶表示用デバイスの実用化が待たれている。
【０００３】
ところが現状の液晶パネルは、通常ガラス板基板を使っていて、薄型軽量化の為にガラス板基板を薄くすると割れやすくなるという問題点があった。その上、枚葉にて加工するので生産性が低く、コスト高になるという問題点もあった。
【０００４】
本発明では、「プラスチック」という用語には「ポリマー」をも含む用語として使用する。
【０００５】
またプラスチックシート基板をガラス板基板のかわりに用いる事も試みられているが、枚葉にて加工するので生産性が低く、コスト高になるという問題点は解決していない。
【０００６】
また割れない、軽いという特性を生かしたプラスチックフィルム基板を使ったプラスチック液晶パネルも種々提案されているが、光学特性、耐熱性、加工性、ガスバリア性等の要求特性を全て満足するものは未だ実用化されていない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ガラス板基板やプラスチックシート基板を使った液晶パネルは、ガラス板基板やプラスチックシート基板上に枚葉で透明導電性層を真空蒸着法、スパッタリング法等で形成していた。またプラスチックフイルム基板を使ったプラスチック液晶パネルには、従来、主としてプラスチックフィルム基板上に透明導電性層をロール搬送系を有し連続処理できる真空蒸着法、スパッタリング法等で形成していた。
【０００８】
然しながら、前者の方法ではガラス板基板やプラスチックシート基板を枚葉にて加工する事による生産性の低さ、即ちコスト高という問題点があった。またプラスチックフィルム基板を使用した後者の方法では、ガスバリア層、ハードコート層、反射防止層等を形成する後加工工程で、フィルム基板を連続的に搬送させるロールでの摩擦等により透明導電性層に傷がつき、導電性が損なわれるという問題点があった。
【０００９】
一方、ガスバリア層、ハードコート層、反射防止層を形成したあと、透明導電性層を形成する場合には、反射防止層に傷がつき、外観が損なわれるという問題点があった。またプラスチックフィルム基板をガラス板基板と同様に枚葉で加工する方法もあるが、生産性の低さ、即ちコスト高という問題点があった。
【００１０】
更に枚葉にて加工する真空蒸着装置、スパッタリング装置ではガラス板基板、プラスチックフィルム基板等が大型化するほど生産性が低く、コスト高になる傾向が一層顕著になり、また透明導電性層等の物性、膜厚等の均一なものが形成しにくくなるという問題点があった。
【００１１】
本発明は、上記のような種々の問題点を解決する事、即ち連続したプラスチックフィルムを使用して連続処理方法により生産性が向上でき、コストが低減でき、しかもガスバリア層、ハードコート層、反射防止層、透明導電性層の何れもが損傷を受ける事がない、プラスチック液晶パネル用の透明導電性転写箔を提供する事を目的とする。
【００１２】
【課題を解決する為の手段】
本発明は、予めプラスチックシート基板の片面にガスバリア層、ハードコート層、反射防止層等が形成されているプラスチック液晶パネル用基材の他の片面に透明導電性を付与するのに適した透明導電性転写箔を転写方式により転写するという手段を採用する事により、上記目的を達成する事に成功した。
【００１３】
本発明の透明導電性転写箔は、フレキシブルなプラスチックフィルム（１１）に直接または離型層（１２）を介して、透明導電性層（１３）及び接着層（１４）を順次形成し、要すればガスバリア層（１５）を形成する。これらの層はプラスチックフィルムを連続的に搬送する装置を備えた真空蒸着装置、スパッタリング装置、コーティング装置等を用いて大量に、容易に、品質良く、安価に形成する事が可能である。
【００１４】
本発明の透明導電性転写箔を、前記のプラスチックシート基板に熱転写方式で転写する事により、プラスチック液晶パネルに傷をつける事なく、透明導電性層（１３）を形成する事ができる。尚、本発明の透明導電性転写箔は、前記プラスチックシート基板に限らず、これよりも薄いプラスチックフィルム基板の片面にガスバリア層、ハードコート層、反射防止層等が形成されているプラスチック液晶パネル用基材に適用する事もできる。また逆に厚いプラスチック板基板やガラス板基板の片面にガスバリア層、ハードコート層、反射防止層等が形成されている液晶パネル用基材に適用する事もできる。
【００１５】
【作用】
本発明の透明導電性転写箔は、プラスチックシート基板のような従来法ならば枚葉で透明導電層を真空蒸着法、スパッタリング法等で形成しなければならなかったプラスチック液晶パネル用基板にも、長尺のロール巻きプラスチックフィルム（１１）にロール搬送系を有し連続処理できる真空蒸着装置、スパッタリング装置、コーティング装置で生産性よく、ロー・コストで所望層を形成した本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔を枚葉式の汎用転写機を用いて、効率よく、しかもすべての層に損傷を与える事なく、所望層を全面に或は所望の部位に所望のパターンに転写形成する事ができる。
【００１６】
本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔において用いるプラスチックフィルム（１１）としては、特に制限はなく、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体等のポリエステル系をはじめ、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリオレフィン系等のプラスチックフィルムがあげられる。また、これらのプラスチックは２種またはそれ以上のものがブレンドされていてもよく、例えばポリエチレンテレフタレートにポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体がブレンドされていてもよい。更にまた、これらのプラスチックフィルムが２種またはそれ以上のものが積層された複層フイルムであってもよい。
【００１７】
更に、これらのプラスチックフィルム（１１）の表面は各種の表面処理が施されていてもよい。特に透明導電性層（１３）との剥離性を増す為に真空中でフッ素系化合物を用いて表面をプラズマ処理する方法、大気中で高温の熱処理を行いプラスチックフィルムの表面にオリゴマーを滲出す方法、窒素ガス雰囲気中で電子線を照射しプラスチックフィルム表面を変質させる方法、プラスチックフィルムの製膜工程において、アクリル樹脂系、ポリビニルアルコール系、ポリオレフィン系等の異種プラスチックフィルムを積層し、表面を改質する方法等が用いられる。
【００１８】
上記のプラスチックフィルム（１１）は二軸延伸されたものが好適である。また厚さとしては、特に制限はなく、例えば通常９〜７５μｍの範囲、好ましくは１２〜３８μｍの範囲から適宜選択使用される。
【００１９】
プラスチックフィルム（１１）の厚さが９μｍ以下の場合には、プラスチックフィルムに皺、カール等の欠点が発生し易く、取り扱いにくいので好ましくない。一方、７５μｍ以上の場合には熱転写時の熱伝導が遅く、転写の作業性が劣るので好ましくなく、またプラスチックフィルムの剛性が強い為、搬送中に擦り傷が入りやすく好ましくない。
【００２０】
本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔における離型層（１２）は、透明導電性層（１３）との界面において容易に剥離する事が一つの要件である。離型層を構成する樹脂としては、特に制限はなく、例えばエポキシ−メラミン樹脂、アクリル−メラミン樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、尿素−メラミン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル−シリコーン樹脂、フッ素樹脂等があげられる。これらの樹脂の１種またはそれ以上の樹脂の有機溶剤溶液、エマルジョン等のコーティング剤をロールコーティング法、グラビアコーティング法等の通常コーティング法によりプラスチックフィルム（１１）上に塗布し、溶媒を乾燥（熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等の場合は硬化）する事によって形成する。
【００２１】
離型層（１２）の厚さとしては、特に制限はなく、例えば通常０．１〜１０μｍの範囲、好ましくは０．２〜５μｍの範囲から適宜選択使用される。
【００２２】
離型層（１２）の厚さが０．１μｍより薄い場合には、剥離が重く目的とする剥離性を得る事ができないので好ましくない。一方、１０μｍより厚い場合には剥離が軽すぎる為に、順次形成する層が加工工程中で脱落する可能性があるので好ましくない。
【００２３】
また、離型層（１２）は、次の方法によっても形成する事ができる。水酸基、エーテル基、カルボキシル基、アミノ基等を１個以上有する水溶性有機物質、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等のビニル系水溶性樹脂、メチルセルロース、カルボキシルメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等の繊維素エーテル系樹脂、アクリル酸ソーダ、アクリル酸アンモニウム等のアクリル酸系水溶性物質、澱粉、デキストリン、ニカワ、ゼラチン等の天然水溶性物質、カゼイン、カゼイン酸ソーダ、カゼイン酸アンモニウム等のタンパク質系水溶性物質、その他ポリエチレンオキサイド、カラギーナン、グルコマンガン等の１種またはそれ以上の物質の水溶液のコーティング剤をロールコーティング法、グラビアコーティング法等の通常コーティング法によりプラスチックフィルム（１１）上に塗布し、乾燥する事によって形成される。
【００２４】
これらの水溶性離型層（１２）を形成した場合は、その上に透明導電性層（１３）、接着層（１４）を順次形成し、プラスチック液晶パネルに転写したのち、水溶性離型層と透明導電性層との界面において剥離ができず、プラスチックフィルムと水溶性離型層の間で剥離して、水溶性離型層が残っても水洗によって水溶性離型層を完全に除去する事により所望の透明導電性層を露出する事ができる。
【００２５】
本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔における透明導電性層（１３）は導電性を有し、かつ薄膜形成時に透明性を有するものである。透明導電性層を構成する材料としては、特に制限はなく、例えば、金、パラジウム等の金属、酸化インジウム、酸化錫、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化錫系、酸化インジウム−酸化亜鉛系、酸化亜鉛−酸化アルミニウム系、酸化インジウム−酸化ガリウム系等の金属酸化物があげられる。特に好ましくは酸化インジウム−酸化錫を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等によって形成した透明導電性層である。
【００２６】
透明導電性層（１３）の厚さとしては、特に制限はなく、例えば通常５０〜１０００Åの範囲、表面電気抵抗値として通常１０Ω／□〜１０４ Ω／□の範囲、好ましくは２０Ω／□〜５００Ω／□の範囲から適宜選択実施される。また透明導電性層の光線透過率は波長５５０ｎｍでの平行光線透過率で通常６０〜９５％の範囲、好ましくは８０〜９５％の範囲から適宜選択実施される。
【００２７】
表面電気抵抗値が、１０Ω／□以下の場合にはプラセルの誤動作を生じたり、精度が悪くなるので好ましくない。一方、１０４ Ω／□以上の場合にはプラセルの作動時間にタイムラグが生じるので好ましくない。また、光線透過率が６０％以下になるとプラセルの表示が著しく見にくくなるので好ましくない。
【００２８】
本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔における接着層（１４）は、透明性、耐熱性、接着性が良好なものであれば、特に制限はない。接着層を構成する樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート系、ポリアミド系、セルロース系等の樹脂及びこれらの変性物の１種または２種以上の混合物からなる樹脂があげられる。
【００２９】
接着層（１４）は、前記樹脂を有機溶剤に溶解したコーティング剤をグラビアコーティング法、リバースロールコーティング法等で前記透明導電性層（１３）上に塗布乾燥して形成する。
【００３０】
また、ポリアミド系、ポリエステル系等のホットメルト接着剤で接着層（１４）を形成する場合には、ホットメルト用コーターや、押出コーティング装置を用いる。また、ホットメルト接着層を形成する樹脂は、紫外線や電子線によってアフターキュアにより硬化し、接着性を増すものも好適である。
【００３１】
接着層（１４）の厚さは被着体の表面状態に応じて、通常０．３〜２０μｍの範囲、好ましくは０．５〜３μｍの範囲から適宜選択実施される。
【００３２】
接着層（１４）の厚さが０．３μｍより薄い場合には充分な接着力が得られず好ましくない。一方、２０μｍより厚い場合には著しく透明性を阻害するので好ましくない。
【００３３】
本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔におけるガスバリア層（１５）は、透明性がよく、ガスバリア性が良好なものであれば特に制限はないが、例えばＳｉ，Ａｌ，Ｍｇ，Ｚｎ，Ｚｒ等の金属の１種または２種以上の混合物、特に好ましくは、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素−酸化アルミニウム、酸化ケイ素−酸化マグネシウム、酸化アルミニウム−酸化マグネシウム等を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等によって形成する。
【００３４】
また、ガスバリア層（１５）はエチレン−ビニルアルコール系重合体、ポリシラザン系樹脂から得られるＳｉＮ系化合物、アクリロニトリル系共重合体等の重合体溶液をコーティングし、溶媒を乾燥、後処理等を施す事によっても形成する事ができる。
【００３５】
ガスバリア層（１５）の膜厚は、真空蒸着薄膜の場合は通常５０〜１０００Åの範囲、また重合体膜から形成する場合は通常０．１〜１０μｍの範囲、好ましくは０．５〜３μｍの範囲から適宜選択実施される。
【００３６】
真空蒸着薄膜からなるガスバリア層（１５）の厚さがが５０Åより薄い場合にはガスバリア性が不足するので好ましくない。一方１０００Åより厚い場合にはクラックが発生しやすいので好ましくない。
【００３７】
重合体膜からなるガスバリア層（１５）の厚さが０．１μｍより薄い場合にはガスバリア性が不足するので好ましくない。一方１０μｍより厚い場合には透明性を阻害するので好ましくない。
【００３８】
本発明の転写箔を転写する被転写体は、通常プラスチックシートからなる基板である。プラスチックシートとしては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルサルホン、ポリノルボルネン系樹脂（日本合成ゴム株式会社製、ＡＲＴＯＮ（登録商標））等の耐熱性、透明性の優れたもので、かつ光学的に配向性のないものが用いられる。これらプラスチックシートは片面にハードコート層、反射防止層、ガスバリア層等が設けられている事が多く、非コート面に転写する場合が多い。尚、本発明の透明導電性転写箔は、前記プラスチックシートからなる基板に限らず、これよりも薄いプラスチックフィルム基板の片面にガスバリア層、ハードコート層、反射防止層等が形成されているプラスチック液晶パネル用基材に適用する事もできる。また逆に厚いプラスチック板基板やガラス板基板の片面にガスバリア層、ハードコート層、反射防止層等が形成されている液晶パネル用基材に適用する事もできる。
【００３９】
以下に実施例をあげて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００４０】
【実施例】
実施例１
連続した長尺の厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム片面上にアクリルシリコーン樹脂２０部（重量部、以下同様）、トルエン４５部、メチルイソブチルケトン３５部からなる溶液をロール搬送系を有するコーターでグラビアコ−ティング法にて連続的に塗布、乾燥して、厚さ０．５μｍの離型層を５０ｍ／分の速度で形成した。
【００４１】
次にこの離型層の上に、酸化インジウム／酸化錫＝９０／１０の組成のインジウム・錫酸化物をロール搬送系連続処理できる真空蒸着機を用いスパッタリング法により付着させた。スパッタリングは、１０−３Ｔｏｒｒにて、アルゴンガス導入のもとに行なった。処理はフィルム走行速度１ｍ／分で行い付着膜厚は約５００Åであった。このようにして得られた透明導電性層付きフィルムは、平行光線透過率８５％、表面電気抵抗値１００Ω／□を示し、透明性良好な導電性膜が形成された。
【００４２】
次いで、前記透明導電性層の上に、ポリエステル樹脂１０部、トルエン４０部、メチルエチルケトン５０部からなる溶液をリバースロールコーティング法にて連続的に５０ｍ／分で塗布、乾燥し厚さ１μｍの接着層を形成して、本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔（図１）を得た。
【００４３】
このようにして得た透明導電性転写箔を、片面にハードコート層を設けた厚さ２００μｍのポリカーボネートシートの非ハードコート面に熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを離型層とともに剥離しプラスチック液晶パネル用基板（図５）を得た。
【００４４】
実施例２
厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム片面上にポリビニルアルコール８部、アクリル酸ソーダ２部、沈降性硫酸バリウム６０部、メタノール２０部、イソプロピルアルコール１０部の組成からなるコーテイング剤を実施例１と同様のコーターで塗布したのち、乾燥して、約２μｍの水溶性離型層を形成した。次いで該水溶性離型層上に、酸化インジウム／酸化錫＝９０／１０の組成のインジウム、錫酸化物をスパッタリング法により実施例１と同様に付着させて、透明性良好な導電性膜を形成した。
【００４５】
次いで前記透明性導電層の上に、実施例１と同様の接着層を連続的に形成して、本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔（図１）を得た。
【００４６】
このようにして得た透明導電性転写箔を厚さ２００μｍのポリアリレートシートに熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離しながら水溶性離型層を水洗により溶出させ、水分を乾燥除去し、プラスチック液晶パネル用基板（図５）を得た。
【００４７】
実施例３
実施例１において、コーティング法による離型層を設けるかわりに、フッ素系化合物で表面をプラズマ処理したポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる以外は実施例１と全く同じ方法により、プラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔（図２）を得た。
【００４８】
このようにして得た透明導電性転写箔を厚さ２００μｍのポリカーボネートシートに熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離しプラスチック液晶パネル用基板（図６）を得た。
【００４９】
実施例４
実施例１と同じ方法で、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、離型層、透明導電性層を連続的に形成したのち、次いで、酸化アルミニウムを電子ビーム加熱真空蒸着法により付着させた。真空蒸着は真空度１０−５Ｔｏｒｒにて行なった。フィルム走行速度ｍ／分で付着膜厚は約５００Åであった。このようにして得られたガスバリア層付きフィルムは酸素ガス透過率１．５ｃｃ／ｍ２ ／２４ｈｒｓ、水蒸気透過率０．５ｇ／ｍ２ ／２４ｈｒｓ、平行光線透過率８４％を示し、透明性良好な導電性、ガスバリア性膜が形成された。
【００５０】
次いで前記ガスバリア層の上に、実施例１と同様の接着層を形成して、本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔（図３）を得た。
【００５１】
このようにして得た透明導電性転写箔を片面にハードコート層を設けた厚さ２００μｍのポリアリレートシートに熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを離型層とともに剥離し、プラスチック液晶パネル用基板を（図７）得た。
【００５２】
実施例５
実施例４において、コーティング法のよる離型層を設けるかわりに、フッ素系化合物で表面をプラズマ処理したポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる以外は実施例４と全く同じ方法により、透明導電性層、酸化アルミニウムによるガスバリア層、接着層を設け、プラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔（図４）を得た。
【００５３】
このようにして得た転写箔を、片面にハードコート層、反射防止層を設けた厚さ２００μｍのポリアリレートシートの非コート面に熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離しプラスチック液晶パネル用基板（図８）を得た。
【００５４】
比較例１
実施例１において、ポリエチレンテレフタレートフィルムに透明導電性層を設けた転写箔を用いるかわりに、厚さ２００μｍのポリカーボネートシートに直接にインジウム・錫酸化物をスパッタリング法により透明導電性層を形成し、プラスチック液晶パネル用基板を得た。
【００５５】
比較例２
実施例２において、ポリエチレンテレフタレートフィルムに透明導電性層を設けた転写箔を用いるかわりに、厚さ２００μｍのポリアリレートシートに直接にインジウム・錫酸化物をスパッタリング法により透明導電性層を形成し、プラスチック液晶パネル用基板を得た。
【００５６】
比較例３
実施例３において、ポリエチレンテレフタレートフィルムに透明導電性層を設けた転写箔を用いるかわりに、厚さ２００μｍのポリカーボネートシートに直接にインジウム・錫酸化物をスパッタリング法により透明導電性層を形成し、プラスチック液晶パネル用基板を得た。
【００５７】
比較例４
実施例４において、ポリエチレンテレフタレートフィルムに透明導電性層とガスバリア層を設けた転写箔を用いるかわりに、厚さ２００μｍのポリアリレートシートに直接に電子ビーム法により酸化アルミニウムのガスバリア層を形成し、次いでスパッタリング法により透明導電性層を形成し、プラスチック液晶パネル用基板を得た。
【００５８】
比較例５
比較例４において、フッ素系化合物で表面をプラズマ処理したポリエチレンテレフタレートに透明導電性層とガスバリア層を設けた転写箔を用いるかわりに、２００μｍのポリアリレートシートに直接に電子ビーム法により酸化アルミニウム蒸着ガスバリア層を形成し、次いでスパッタリング法によりインジウム・錫酸化物の透明導電性層を形成し、プラスチック液晶パネル用基板を得た。
【００５９】
次に実施例１〜５及び比較例１〜５により作成したプラスチック液晶パネル用基板の各試料について、平行光線透過率、表面電気抵抗値、表面状態（傷発生状態）、酸素ガス透過率、水蒸気透過率について評価を行なった結果を表１に示した。
【００６０】
＜評価方法＞
（１） 平行光線透過率
ヘイズメータ（日本精密光学株式会社製、ＳＥＰ−ＩＩ−Ｓ）を用い波長５５０ｎｍ（フィルタ使用）にて測定する。
【００６１】
（２） 表面電気抵抗値
デジタルテスター（岩崎通信機株式会社製、ＶＯＡＣ７０７）を使用し、ゴムロール硬度約６０のゴムシート上に３５ｍｍ幅、対向距離３５ｍｍの電極をのせ、電極端子間の抵抗を測定する。
【００６２】
（３） 表面状態（傷発生状態）
肉視及び光学顕微鏡観察による。
【００６３】
（４） 酸素ガス透過率
ＭＯＤＥＲＮ ＣＯＮＴＲＯＬＬＥＲ Ｃｏ．製、ＭＯＤＥＬ ＯＸ−ＴＲＡＮ １００ ＴＷＩＮを使用し、２５℃、ＤＲＹ状態で測定する。
【００６４】
（５） 水蒸気透過率
ＭＯＤＥＲＮ ＣＯＮＴＲＯＬＬＥＲ Ｃｏ．製、ＭＯＤＥＬ ＷＡＴＥＲ ＶＡＰＯＲ ＴＲＡＮＳＭＩＳＳＩＯＮ ＤＬ１００を使用し、４０℃、９０％ＲＨ状態で測定する。
【００６５】
【表１】
尚、表面状態は透明導電性層の表面状態である。
【００６６】
表１から実施例１〜５のものはプラスチック液晶パネル用基板の表面状態を調べたところ、すり傷は全く発生していない事がわかる。これに対し、比較例１〜５のものはすり傷が加工工程中に発生して、このすり傷の為に酸素透過率及び水蒸気透過率は共に増大し、ガスバリア性が低下した事がわかる。つまり、実施例１〜５のものは比較例１〜５のものに比較して何れも優れている事がわかる。
【００６７】
【発明の効果】
本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔は、フレキシブルな長尺プラスチックフィルムに直接または離型層を介して、透明導電性層及び接着層、要すれば、ガスバリア層を、連続的に搬送する装置を備えた真空蒸着装置、スパッタリング装置、コーティング装置などを用いて生産性よく、ロー・コストで所望層を形成を形成する事ができる。従って、従来法ならば枚葉で透明導電層を真空蒸着法、スパッタリング法等で形成しなければならなかったプラスチック液晶パネル用基板等にも、本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔を枚葉式の汎用転写機で、効率よく、しかもすべての層に損傷を与える事なく、所望層を全面に或は所望の部位に所望のパターンに転写形成する事ができる。つまり、従来の枚葉での加工では得られなかった、平行光線透過率、表面電気抵抗値、表面状態（傷発生状態）、酸素ガス透過率、水蒸気透過率について共に優れたものが、生産性よく、安価にかつ安定的に生産できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔の実施例１及び実施例２を示す慨略断面図である。
【図２】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔の実施例３を示す慨略断面図である。
【図３】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔の実施例４を示す慨略断面図である。
【図４】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔の実施例５を示す慨略断面図である。
【図５】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔（実施例１及び実施例２）をプラスチック液晶用シートに転写したプラスチック液晶パネルの例を示す慨略断面図である。
【図６】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔（実施例３）をプラスチック液晶用シートに転写したプラスチック液晶パネルの例を示す慨略断面図である。
【図７】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔（実施例４）をプラスチック液晶用シートに転写したプラスチック液晶パネルの例を示す慨略断面図である。
【図８】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔（実施例５）をプラスチック液晶用シートに転写したプラスチック液晶パネルの例を示す慨略断面図である。
【符号の説明】
１１ プラスチックフィルム
１２ 離型層
１３ 透明導電性層
１４ 接着層
１５ ガスバリア層
２１ プラスチックシート
２２ ハードコート層
２３ 反射防止層
【産業上の利用分野】
本発明は、割れにくく、薄く、軽量なプラスチック液晶パネルに透明導電性層を形成するのに用いる透明導電性転写箔に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶表示用デバイスとして液晶パネルは益々重要になってきている。特に小型情報機器向けは、携帯性の向上、落下や外押圧ストレスに対する耐衝撃性の向上が重要な課題である。またテレビジョンをはじめ航空機、船舶等の運航に必要な各種の計器盤、操作盤等にも大型化した液晶表示用デバイスの実用化が待たれている。
【０００３】
ところが現状の液晶パネルは、通常ガラス板基板を使っていて、薄型軽量化の為にガラス板基板を薄くすると割れやすくなるという問題点があった。その上、枚葉にて加工するので生産性が低く、コスト高になるという問題点もあった。
【０００４】
本発明では、「プラスチック」という用語には「ポリマー」をも含む用語として使用する。
【０００５】
またプラスチックシート基板をガラス板基板のかわりに用いる事も試みられているが、枚葉にて加工するので生産性が低く、コスト高になるという問題点は解決していない。
【０００６】
また割れない、軽いという特性を生かしたプラスチックフィルム基板を使ったプラスチック液晶パネルも種々提案されているが、光学特性、耐熱性、加工性、ガスバリア性等の要求特性を全て満足するものは未だ実用化されていない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ガラス板基板やプラスチックシート基板を使った液晶パネルは、ガラス板基板やプラスチックシート基板上に枚葉で透明導電性層を真空蒸着法、スパッタリング法等で形成していた。またプラスチックフイルム基板を使ったプラスチック液晶パネルには、従来、主としてプラスチックフィルム基板上に透明導電性層をロール搬送系を有し連続処理できる真空蒸着法、スパッタリング法等で形成していた。
【０００８】
然しながら、前者の方法ではガラス板基板やプラスチックシート基板を枚葉にて加工する事による生産性の低さ、即ちコスト高という問題点があった。またプラスチックフィルム基板を使用した後者の方法では、ガスバリア層、ハードコート層、反射防止層等を形成する後加工工程で、フィルム基板を連続的に搬送させるロールでの摩擦等により透明導電性層に傷がつき、導電性が損なわれるという問題点があった。
【０００９】
一方、ガスバリア層、ハードコート層、反射防止層を形成したあと、透明導電性層を形成する場合には、反射防止層に傷がつき、外観が損なわれるという問題点があった。またプラスチックフィルム基板をガラス板基板と同様に枚葉で加工する方法もあるが、生産性の低さ、即ちコスト高という問題点があった。
【００１０】
更に枚葉にて加工する真空蒸着装置、スパッタリング装置ではガラス板基板、プラスチックフィルム基板等が大型化するほど生産性が低く、コスト高になる傾向が一層顕著になり、また透明導電性層等の物性、膜厚等の均一なものが形成しにくくなるという問題点があった。
【００１１】
本発明は、上記のような種々の問題点を解決する事、即ち連続したプラスチックフィルムを使用して連続処理方法により生産性が向上でき、コストが低減でき、しかもガスバリア層、ハードコート層、反射防止層、透明導電性層の何れもが損傷を受ける事がない、プラスチック液晶パネル用の透明導電性転写箔を提供する事を目的とする。
【００１２】
【課題を解決する為の手段】
本発明は、予めプラスチックシート基板の片面にガスバリア層、ハードコート層、反射防止層等が形成されているプラスチック液晶パネル用基材の他の片面に透明導電性を付与するのに適した透明導電性転写箔を転写方式により転写するという手段を採用する事により、上記目的を達成する事に成功した。
【００１３】
本発明の透明導電性転写箔は、フレキシブルなプラスチックフィルム（１１）に直接または離型層（１２）を介して、透明導電性層（１３）及び接着層（１４）を順次形成し、要すればガスバリア層（１５）を形成する。これらの層はプラスチックフィルムを連続的に搬送する装置を備えた真空蒸着装置、スパッタリング装置、コーティング装置等を用いて大量に、容易に、品質良く、安価に形成する事が可能である。
【００１４】
本発明の透明導電性転写箔を、前記のプラスチックシート基板に熱転写方式で転写する事により、プラスチック液晶パネルに傷をつける事なく、透明導電性層（１３）を形成する事ができる。尚、本発明の透明導電性転写箔は、前記プラスチックシート基板に限らず、これよりも薄いプラスチックフィルム基板の片面にガスバリア層、ハードコート層、反射防止層等が形成されているプラスチック液晶パネル用基材に適用する事もできる。また逆に厚いプラスチック板基板やガラス板基板の片面にガスバリア層、ハードコート層、反射防止層等が形成されている液晶パネル用基材に適用する事もできる。
【００１５】
【作用】
本発明の透明導電性転写箔は、プラスチックシート基板のような従来法ならば枚葉で透明導電層を真空蒸着法、スパッタリング法等で形成しなければならなかったプラスチック液晶パネル用基板にも、長尺のロール巻きプラスチックフィルム（１１）にロール搬送系を有し連続処理できる真空蒸着装置、スパッタリング装置、コーティング装置で生産性よく、ロー・コストで所望層を形成した本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔を枚葉式の汎用転写機を用いて、効率よく、しかもすべての層に損傷を与える事なく、所望層を全面に或は所望の部位に所望のパターンに転写形成する事ができる。
【００１６】
本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔において用いるプラスチックフィルム（１１）としては、特に制限はなく、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体等のポリエステル系をはじめ、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリオレフィン系等のプラスチックフィルムがあげられる。また、これらのプラスチックは２種またはそれ以上のものがブレンドされていてもよく、例えばポリエチレンテレフタレートにポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体がブレンドされていてもよい。更にまた、これらのプラスチックフィルムが２種またはそれ以上のものが積層された複層フイルムであってもよい。
【００１７】
更に、これらのプラスチックフィルム（１１）の表面は各種の表面処理が施されていてもよい。特に透明導電性層（１３）との剥離性を増す為に真空中でフッ素系化合物を用いて表面をプラズマ処理する方法、大気中で高温の熱処理を行いプラスチックフィルムの表面にオリゴマーを滲出す方法、窒素ガス雰囲気中で電子線を照射しプラスチックフィルム表面を変質させる方法、プラスチックフィルムの製膜工程において、アクリル樹脂系、ポリビニルアルコール系、ポリオレフィン系等の異種プラスチックフィルムを積層し、表面を改質する方法等が用いられる。
【００１８】
上記のプラスチックフィルム（１１）は二軸延伸されたものが好適である。また厚さとしては、特に制限はなく、例えば通常９〜７５μｍの範囲、好ましくは１２〜３８μｍの範囲から適宜選択使用される。
【００１９】
プラスチックフィルム（１１）の厚さが９μｍ以下の場合には、プラスチックフィルムに皺、カール等の欠点が発生し易く、取り扱いにくいので好ましくない。一方、７５μｍ以上の場合には熱転写時の熱伝導が遅く、転写の作業性が劣るので好ましくなく、またプラスチックフィルムの剛性が強い為、搬送中に擦り傷が入りやすく好ましくない。
【００２０】
本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔における離型層（１２）は、透明導電性層（１３）との界面において容易に剥離する事が一つの要件である。離型層を構成する樹脂としては、特に制限はなく、例えばエポキシ−メラミン樹脂、アクリル−メラミン樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、尿素−メラミン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル−シリコーン樹脂、フッ素樹脂等があげられる。これらの樹脂の１種またはそれ以上の樹脂の有機溶剤溶液、エマルジョン等のコーティング剤をロールコーティング法、グラビアコーティング法等の通常コーティング法によりプラスチックフィルム（１１）上に塗布し、溶媒を乾燥（熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等の場合は硬化）する事によって形成する。
【００２１】
離型層（１２）の厚さとしては、特に制限はなく、例えば通常０．１〜１０μｍの範囲、好ましくは０．２〜５μｍの範囲から適宜選択使用される。
【００２２】
離型層（１２）の厚さが０．１μｍより薄い場合には、剥離が重く目的とする剥離性を得る事ができないので好ましくない。一方、１０μｍより厚い場合には剥離が軽すぎる為に、順次形成する層が加工工程中で脱落する可能性があるので好ましくない。
【００２３】
また、離型層（１２）は、次の方法によっても形成する事ができる。水酸基、エーテル基、カルボキシル基、アミノ基等を１個以上有する水溶性有機物質、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等のビニル系水溶性樹脂、メチルセルロース、カルボキシルメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等の繊維素エーテル系樹脂、アクリル酸ソーダ、アクリル酸アンモニウム等のアクリル酸系水溶性物質、澱粉、デキストリン、ニカワ、ゼラチン等の天然水溶性物質、カゼイン、カゼイン酸ソーダ、カゼイン酸アンモニウム等のタンパク質系水溶性物質、その他ポリエチレンオキサイド、カラギーナン、グルコマンガン等の１種またはそれ以上の物質の水溶液のコーティング剤をロールコーティング法、グラビアコーティング法等の通常コーティング法によりプラスチックフィルム（１１）上に塗布し、乾燥する事によって形成される。
【００２４】
これらの水溶性離型層（１２）を形成した場合は、その上に透明導電性層（１３）、接着層（１４）を順次形成し、プラスチック液晶パネルに転写したのち、水溶性離型層と透明導電性層との界面において剥離ができず、プラスチックフィルムと水溶性離型層の間で剥離して、水溶性離型層が残っても水洗によって水溶性離型層を完全に除去する事により所望の透明導電性層を露出する事ができる。
【００２５】
本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔における透明導電性層（１３）は導電性を有し、かつ薄膜形成時に透明性を有するものである。透明導電性層を構成する材料としては、特に制限はなく、例えば、金、パラジウム等の金属、酸化インジウム、酸化錫、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化錫系、酸化インジウム−酸化亜鉛系、酸化亜鉛−酸化アルミニウム系、酸化インジウム−酸化ガリウム系等の金属酸化物があげられる。特に好ましくは酸化インジウム−酸化錫を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等によって形成した透明導電性層である。
【００２６】
透明導電性層（１３）の厚さとしては、特に制限はなく、例えば通常５０〜１０００Åの範囲、表面電気抵抗値として通常１０Ω／□〜１０４ Ω／□の範囲、好ましくは２０Ω／□〜５００Ω／□の範囲から適宜選択実施される。また透明導電性層の光線透過率は波長５５０ｎｍでの平行光線透過率で通常６０〜９５％の範囲、好ましくは８０〜９５％の範囲から適宜選択実施される。
【００２７】
表面電気抵抗値が、１０Ω／□以下の場合にはプラセルの誤動作を生じたり、精度が悪くなるので好ましくない。一方、１０４ Ω／□以上の場合にはプラセルの作動時間にタイムラグが生じるので好ましくない。また、光線透過率が６０％以下になるとプラセルの表示が著しく見にくくなるので好ましくない。
【００２８】
本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔における接着層（１４）は、透明性、耐熱性、接着性が良好なものであれば、特に制限はない。接着層を構成する樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート系、ポリアミド系、セルロース系等の樹脂及びこれらの変性物の１種または２種以上の混合物からなる樹脂があげられる。
【００２９】
接着層（１４）は、前記樹脂を有機溶剤に溶解したコーティング剤をグラビアコーティング法、リバースロールコーティング法等で前記透明導電性層（１３）上に塗布乾燥して形成する。
【００３０】
また、ポリアミド系、ポリエステル系等のホットメルト接着剤で接着層（１４）を形成する場合には、ホットメルト用コーターや、押出コーティング装置を用いる。また、ホットメルト接着層を形成する樹脂は、紫外線や電子線によってアフターキュアにより硬化し、接着性を増すものも好適である。
【００３１】
接着層（１４）の厚さは被着体の表面状態に応じて、通常０．３〜２０μｍの範囲、好ましくは０．５〜３μｍの範囲から適宜選択実施される。
【００３２】
接着層（１４）の厚さが０．３μｍより薄い場合には充分な接着力が得られず好ましくない。一方、２０μｍより厚い場合には著しく透明性を阻害するので好ましくない。
【００３３】
本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔におけるガスバリア層（１５）は、透明性がよく、ガスバリア性が良好なものであれば特に制限はないが、例えばＳｉ，Ａｌ，Ｍｇ，Ｚｎ，Ｚｒ等の金属の１種または２種以上の混合物、特に好ましくは、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素−酸化アルミニウム、酸化ケイ素−酸化マグネシウム、酸化アルミニウム−酸化マグネシウム等を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等によって形成する。
【００３４】
また、ガスバリア層（１５）はエチレン−ビニルアルコール系重合体、ポリシラザン系樹脂から得られるＳｉＮ系化合物、アクリロニトリル系共重合体等の重合体溶液をコーティングし、溶媒を乾燥、後処理等を施す事によっても形成する事ができる。
【００３５】
ガスバリア層（１５）の膜厚は、真空蒸着薄膜の場合は通常５０〜１０００Åの範囲、また重合体膜から形成する場合は通常０．１〜１０μｍの範囲、好ましくは０．５〜３μｍの範囲から適宜選択実施される。
【００３６】
真空蒸着薄膜からなるガスバリア層（１５）の厚さがが５０Åより薄い場合にはガスバリア性が不足するので好ましくない。一方１０００Åより厚い場合にはクラックが発生しやすいので好ましくない。
【００３７】
重合体膜からなるガスバリア層（１５）の厚さが０．１μｍより薄い場合にはガスバリア性が不足するので好ましくない。一方１０μｍより厚い場合には透明性を阻害するので好ましくない。
【００３８】
本発明の転写箔を転写する被転写体は、通常プラスチックシートからなる基板である。プラスチックシートとしては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルサルホン、ポリノルボルネン系樹脂（日本合成ゴム株式会社製、ＡＲＴＯＮ（登録商標））等の耐熱性、透明性の優れたもので、かつ光学的に配向性のないものが用いられる。これらプラスチックシートは片面にハードコート層、反射防止層、ガスバリア層等が設けられている事が多く、非コート面に転写する場合が多い。尚、本発明の透明導電性転写箔は、前記プラスチックシートからなる基板に限らず、これよりも薄いプラスチックフィルム基板の片面にガスバリア層、ハードコート層、反射防止層等が形成されているプラスチック液晶パネル用基材に適用する事もできる。また逆に厚いプラスチック板基板やガラス板基板の片面にガスバリア層、ハードコート層、反射防止層等が形成されている液晶パネル用基材に適用する事もできる。
【００３９】
以下に実施例をあげて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００４０】
【実施例】
実施例１
連続した長尺の厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム片面上にアクリルシリコーン樹脂２０部（重量部、以下同様）、トルエン４５部、メチルイソブチルケトン３５部からなる溶液をロール搬送系を有するコーターでグラビアコ−ティング法にて連続的に塗布、乾燥して、厚さ０．５μｍの離型層を５０ｍ／分の速度で形成した。
【００４１】
次にこの離型層の上に、酸化インジウム／酸化錫＝９０／１０の組成のインジウム・錫酸化物をロール搬送系連続処理できる真空蒸着機を用いスパッタリング法により付着させた。スパッタリングは、１０−３Ｔｏｒｒにて、アルゴンガス導入のもとに行なった。処理はフィルム走行速度１ｍ／分で行い付着膜厚は約５００Åであった。このようにして得られた透明導電性層付きフィルムは、平行光線透過率８５％、表面電気抵抗値１００Ω／□を示し、透明性良好な導電性膜が形成された。
【００４２】
次いで、前記透明導電性層の上に、ポリエステル樹脂１０部、トルエン４０部、メチルエチルケトン５０部からなる溶液をリバースロールコーティング法にて連続的に５０ｍ／分で塗布、乾燥し厚さ１μｍの接着層を形成して、本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔（図１）を得た。
【００４３】
このようにして得た透明導電性転写箔を、片面にハードコート層を設けた厚さ２００μｍのポリカーボネートシートの非ハードコート面に熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを離型層とともに剥離しプラスチック液晶パネル用基板（図５）を得た。
【００４４】
実施例２
厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム片面上にポリビニルアルコール８部、アクリル酸ソーダ２部、沈降性硫酸バリウム６０部、メタノール２０部、イソプロピルアルコール１０部の組成からなるコーテイング剤を実施例１と同様のコーターで塗布したのち、乾燥して、約２μｍの水溶性離型層を形成した。次いで該水溶性離型層上に、酸化インジウム／酸化錫＝９０／１０の組成のインジウム、錫酸化物をスパッタリング法により実施例１と同様に付着させて、透明性良好な導電性膜を形成した。
【００４５】
次いで前記透明性導電層の上に、実施例１と同様の接着層を連続的に形成して、本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔（図１）を得た。
【００４６】
このようにして得た透明導電性転写箔を厚さ２００μｍのポリアリレートシートに熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離しながら水溶性離型層を水洗により溶出させ、水分を乾燥除去し、プラスチック液晶パネル用基板（図５）を得た。
【００４７】
実施例３
実施例１において、コーティング法による離型層を設けるかわりに、フッ素系化合物で表面をプラズマ処理したポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる以外は実施例１と全く同じ方法により、プラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔（図２）を得た。
【００４８】
このようにして得た透明導電性転写箔を厚さ２００μｍのポリカーボネートシートに熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離しプラスチック液晶パネル用基板（図６）を得た。
【００４９】
実施例４
実施例１と同じ方法で、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、離型層、透明導電性層を連続的に形成したのち、次いで、酸化アルミニウムを電子ビーム加熱真空蒸着法により付着させた。真空蒸着は真空度１０−５Ｔｏｒｒにて行なった。フィルム走行速度ｍ／分で付着膜厚は約５００Åであった。このようにして得られたガスバリア層付きフィルムは酸素ガス透過率１．５ｃｃ／ｍ２ ／２４ｈｒｓ、水蒸気透過率０．５ｇ／ｍ２ ／２４ｈｒｓ、平行光線透過率８４％を示し、透明性良好な導電性、ガスバリア性膜が形成された。
【００５０】
次いで前記ガスバリア層の上に、実施例１と同様の接着層を形成して、本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔（図３）を得た。
【００５１】
このようにして得た透明導電性転写箔を片面にハードコート層を設けた厚さ２００μｍのポリアリレートシートに熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを離型層とともに剥離し、プラスチック液晶パネル用基板を（図７）得た。
【００５２】
実施例５
実施例４において、コーティング法のよる離型層を設けるかわりに、フッ素系化合物で表面をプラズマ処理したポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる以外は実施例４と全く同じ方法により、透明導電性層、酸化アルミニウムによるガスバリア層、接着層を設け、プラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔（図４）を得た。
【００５３】
このようにして得た転写箔を、片面にハードコート層、反射防止層を設けた厚さ２００μｍのポリアリレートシートの非コート面に熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離しプラスチック液晶パネル用基板（図８）を得た。
【００５４】
比較例１
実施例１において、ポリエチレンテレフタレートフィルムに透明導電性層を設けた転写箔を用いるかわりに、厚さ２００μｍのポリカーボネートシートに直接にインジウム・錫酸化物をスパッタリング法により透明導電性層を形成し、プラスチック液晶パネル用基板を得た。
【００５５】
比較例２
実施例２において、ポリエチレンテレフタレートフィルムに透明導電性層を設けた転写箔を用いるかわりに、厚さ２００μｍのポリアリレートシートに直接にインジウム・錫酸化物をスパッタリング法により透明導電性層を形成し、プラスチック液晶パネル用基板を得た。
【００５６】
比較例３
実施例３において、ポリエチレンテレフタレートフィルムに透明導電性層を設けた転写箔を用いるかわりに、厚さ２００μｍのポリカーボネートシートに直接にインジウム・錫酸化物をスパッタリング法により透明導電性層を形成し、プラスチック液晶パネル用基板を得た。
【００５７】
比較例４
実施例４において、ポリエチレンテレフタレートフィルムに透明導電性層とガスバリア層を設けた転写箔を用いるかわりに、厚さ２００μｍのポリアリレートシートに直接に電子ビーム法により酸化アルミニウムのガスバリア層を形成し、次いでスパッタリング法により透明導電性層を形成し、プラスチック液晶パネル用基板を得た。
【００５８】
比較例５
比較例４において、フッ素系化合物で表面をプラズマ処理したポリエチレンテレフタレートに透明導電性層とガスバリア層を設けた転写箔を用いるかわりに、２００μｍのポリアリレートシートに直接に電子ビーム法により酸化アルミニウム蒸着ガスバリア層を形成し、次いでスパッタリング法によりインジウム・錫酸化物の透明導電性層を形成し、プラスチック液晶パネル用基板を得た。
【００５９】
次に実施例１〜５及び比較例１〜５により作成したプラスチック液晶パネル用基板の各試料について、平行光線透過率、表面電気抵抗値、表面状態（傷発生状態）、酸素ガス透過率、水蒸気透過率について評価を行なった結果を表１に示した。
【００６０】
＜評価方法＞
（１） 平行光線透過率
ヘイズメータ（日本精密光学株式会社製、ＳＥＰ−ＩＩ−Ｓ）を用い波長５５０ｎｍ（フィルタ使用）にて測定する。
【００６１】
（２） 表面電気抵抗値
デジタルテスター（岩崎通信機株式会社製、ＶＯＡＣ７０７）を使用し、ゴムロール硬度約６０のゴムシート上に３５ｍｍ幅、対向距離３５ｍｍの電極をのせ、電極端子間の抵抗を測定する。
【００６２】
（３） 表面状態（傷発生状態）
肉視及び光学顕微鏡観察による。
【００６３】
（４） 酸素ガス透過率
ＭＯＤＥＲＮ ＣＯＮＴＲＯＬＬＥＲ Ｃｏ．製、ＭＯＤＥＬ ＯＸ−ＴＲＡＮ １００ ＴＷＩＮを使用し、２５℃、ＤＲＹ状態で測定する。
【００６４】
（５） 水蒸気透過率
ＭＯＤＥＲＮ ＣＯＮＴＲＯＬＬＥＲ Ｃｏ．製、ＭＯＤＥＬ ＷＡＴＥＲ ＶＡＰＯＲ ＴＲＡＮＳＭＩＳＳＩＯＮ ＤＬ１００を使用し、４０℃、９０％ＲＨ状態で測定する。
【００６５】
【表１】
【００６６】
表１から実施例１〜５のものはプラスチック液晶パネル用基板の表面状態を調べたところ、すり傷は全く発生していない事がわかる。これに対し、比較例１〜５のものはすり傷が加工工程中に発生して、このすり傷の為に酸素透過率及び水蒸気透過率は共に増大し、ガスバリア性が低下した事がわかる。つまり、実施例１〜５のものは比較例１〜５のものに比較して何れも優れている事がわかる。
【００６７】
【発明の効果】
本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔は、フレキシブルな長尺プラスチックフィルムに直接または離型層を介して、透明導電性層及び接着層、要すれば、ガスバリア層を、連続的に搬送する装置を備えた真空蒸着装置、スパッタリング装置、コーティング装置などを用いて生産性よく、ロー・コストで所望層を形成を形成する事ができる。従って、従来法ならば枚葉で透明導電層を真空蒸着法、スパッタリング法等で形成しなければならなかったプラスチック液晶パネル用基板等にも、本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔を枚葉式の汎用転写機で、効率よく、しかもすべての層に損傷を与える事なく、所望層を全面に或は所望の部位に所望のパターンに転写形成する事ができる。つまり、従来の枚葉での加工では得られなかった、平行光線透過率、表面電気抵抗値、表面状態（傷発生状態）、酸素ガス透過率、水蒸気透過率について共に優れたものが、生産性よく、安価にかつ安定的に生産できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔の実施例１及び実施例２を示す慨略断面図である。
【図２】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔の実施例３を示す慨略断面図である。
【図３】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔の実施例４を示す慨略断面図である。
【図４】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔の実施例５を示す慨略断面図である。
【図５】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔（実施例１及び実施例２）をプラスチック液晶用シートに転写したプラスチック液晶パネルの例を示す慨略断面図である。
【図６】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔（実施例３）をプラスチック液晶用シートに転写したプラスチック液晶パネルの例を示す慨略断面図である。
【図７】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔（実施例４）をプラスチック液晶用シートに転写したプラスチック液晶パネルの例を示す慨略断面図である。
【図８】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔（実施例５）をプラスチック液晶用シートに転写したプラスチック液晶パネルの例を示す慨略断面図である。
【符号の説明】
１１ プラスチックフィルム
１２ 離型層
１３ 透明導電性層
１４ 接着層
１５ ガスバリア層
２１ プラスチックシート
２２ ハードコート層
２３ 反射防止層
Claims (2)
- プラスチックフィルム（１１）に、
直接または離型層（１２）を介して、透明導電性層（１３）、ガスバリア層（１５）、及び接着層（１４）を順次積層してなり、
前記ガスバリア層（１５）が、
ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、ジルコニウムのうちの１つまたは２つ以上の混合物、若しくは酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素−酸化アルミニウム、酸化ケイ素−酸化マグネシウム、酸化アルミニウム−酸化マグネシウム、のいずれか、によって形成されるものであること、
を特徴とする、プラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔。 - 請求項１に記載のプラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔において、
前記透明導電性層（１３）が、酸化インジウムを主成分とする物質からなること、
を特徴とする、プラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔。
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