JPH05347017A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 デジタル用記録媒体として好適な表面性が良
好で、電気的特性および走行性の優れた磁気録媒体を提
供する。 【構成】 第１の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、
非磁性粉末を含有する非磁性層の下層と、強磁性粉末を
含有する磁性層からなる最上層とを順に積層し非磁性粉
末が針状であり、第２は、前記非磁性粉末における長軸
径が０．５０μｍ以下で短軸径が０．１０μｍ以下であ
り軸比が２〜２０であり、第３は、前記非磁性粉末にお
ける比表面積が１０〜２５０ｍ² ／ｇであり、第４は、
前記非磁性粉末が、Ｓｉ化合物およびＡｌ化合物から群
より選択される一種により表面処理されていて、第５
は、前記強磁性粉末が強磁性金属粉末であり、第６は、
表面粗さＲ_10Z が２０ｎｍ以下であり、第７は、前記強
磁性粉末ａと前記非磁性粉末ｂとの長軸径比が、ｂ／ａ
≦３である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は磁気記録媒体に関し、
さらに詳しくは、デジタル用記録媒体として好適な、表
面性に優れると共に、電気的特性および走行性に優れる
磁気録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術と発明が解決しようとする課題】従来の磁
気記録媒体は、磁性粉末を微粉末化させることにより、
または、上層が磁性層であり、下層が非磁性層であると
ころの、いわゆる重層構造にすることにより、高品質化
を図ってきた（特開昭６３−１８７４１８号公報参
照）。

【０００３】しかしながら、前者の場合は、磁性粉末を
微細化しただけであるので、また、後者の特開昭６３−
１８７４１８号公報の場合は、非磁性粉末の形状を特定
してないので、磁性層あるいは非磁性層形成用塗料にお
ける、磁性粉末あるいは非磁性粉末の分散性を向上させ
ることができず、カレンダー工程におけるカレンダビリ
ティーが低下し、その結果として、磁気記録媒体の表面
性を好ましい状態にすることができず、デジタル記録媒
体として必要な優れた電気的特性や走行性を有する磁気
記録媒体を得るのは困難であるという問題がある。

【０００４】この発明の目的は、前記課題を解決し、磁
気記録媒体の表面性を改善すると共に、電気的特性およ
び走行性に優れ、デジタル記録用媒体として好適な磁気
録媒体を提供することにある。

【０００５】

【前記課題を解決するための手段】前記課題を解決する
ためにこの発明者らが研究したところ、下層に特定の形
状を有する非磁性粉末を用いることにより、磁気記録媒
体の表面性を好ましい状態に改善することができ、デジ
タル記録媒体として必要な優れた電気的特性および走行
性得ることができること見出し、この発明に到達した。

【０００６】すなわち、前記目的を達成するための請求
項１に記載の発明は、非磁性支持体上に、非磁性粉末を
含有する非磁性層を少なくとも一層有する下層と、強磁
性粉末を含有する磁性層からなる最上層とを、この順に
積層してなり、前記非磁性粉末が針状であることを特徴
とする磁気記録媒体であり、前記請求項２に記載の発明
は、前記非磁性粉末における長軸径が０．５０μｍ以下
であり、かつ、短軸径が０．１０μｍ以下であると共
に、軸比が２〜２０である前記請求項１に記載の磁気記
録媒体であり、前記請求項３に記載の発明は、前記非磁
性粉末における比表面積が１０〜２５０ｍ² ／ｇである
前記請求項１に記載の磁気記録媒体であり、前記請求項
４に記載の発明は、前記非磁性粉末が、Ｓｉ化合物およ
びＡｌ化合物からなる群より選択される少なくとも一種
により表面処理されてなる前記請求項１に記載の磁気記
録媒体であり、前記請求項５に記載の発明は、前記強磁
性粉末が強磁性金属粉末である前記請求項１に記載の磁
気記録媒体であり、前記請求項６に記載の発明は、表面
粗さＲ_10Z が２０ｎｍ以下である前記請求項１に記載の
磁気記録媒体であり、前記請求項７に記載の発明は、前
記強磁性粉末（ａ）と前記非磁性粉末（ｂ）との長軸径
の比が、（ｂ／ａ）≦３である前記請求項１に記載の磁
気記録媒体である。

【０００７】以下にこの発明の磁気記録媒体について詳
述する。 −磁気記録媒体の構成− この発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上（Ａ）に、
非磁性粉末を含有する非磁性層を少なくとも一層有する
下層（Ｂ）と、強磁性粉末を含有する磁性層からなる最
上層（Ｃ）とを、この順に積層してなる。さらに詳述す
ると、この発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体（Ａ）
上に、下層（Ｂ）と磁性層である最上層（Ｃ）とをこの
順に積層してなり、下層（Ｂ）は非磁性粉末を含有する
非磁性層を少なくとも一層有していれば良く、例えば、
下層が複数の非磁性層から形成されていても良く、また
磁性層と非磁性層とを有する複数の層から成り立ってい
ても良い。

【０００８】（Ａ）非磁性支持体 前記非磁性支持体を形成する材料としては、たとえばポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナ
フタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポ
リオレフィン類、セルローストリアセテート、セルロー
スダイアセテート等のセルロース誘導体、ポリアミド、
ポリカーボネート等のプラスチックなどを挙げることが
できる。前記非磁性支持体の形態は特に制限はなく、主
にテープ状、フィルム状、シート状、カード状、ディス
ク状、ドラム状などがある。

【０００９】非磁性支持体の厚みには特に制約はない
が、たとえばフィルム状やシート状の場合は通常３〜１
００μｍ、好ましくは４〜５０μｍであり、ディスクや
カード状の場合は３０μｍ〜１０ｍｍ程度、ドラム状の
場合はレコーダー等に応じて適宜に選択される。なお、
この非磁性支持体は単層構造のものであっても多層構造
のものであってもよい。また、この非磁性支持体は、た
とえばコロナ放電処理等の表面処理を施されたものであ
ってもよい。また、非磁性支持体上の上記磁性層が設け
られていない面（裏面）には、磁気記録媒体の走行性の
向上、帯電防止および転写防止などを目的として、バッ
クコート層を設けるのが好ましく、また磁性層と非磁性
支持体との間には、下引き層を設けることもできる。

【００１０】（Ｂ）下層 （Ｂ−１）下層の説明 下層は、非磁性粉末を含有する非磁性層を少なくとも一
層有することの外は特に制限はなく、種々の方法を用い
て形成することができる。下層は、非磁性支持体上に単
層あるいは複数層をもって形成されることができるが、
好ましいのは単層である。

【００１１】（Ｂ−２）非磁性層の組成 非磁性層は、非磁性粉末を含有する。さらに、この非磁
性層は、バインダーおよびその他の成分を含有してもよ
い。

【００１２】（Ｂ−２−１）非磁性粉末 この発明においては、各種の公知の非磁性粉末を適宜に
選択して使用することができる。使用することのできる
非磁性粉末としては、例えば、カーボンブラック、グラ
ファイト、ＴｉＯ₂ 、硫酸バリウム、ＺｎＳ、ＭｇＣＯ
₃ 、ＣａＣＯ₃ 、ＺｎＯ、ＣａＯ、二硫化タングステ
ン、二硫化モリブデン、窒化ホウ素、ＭｇＯ、ＳｎＯ
₂ 、ＳｉＯ₂ 、Ｃｒ₂ Ｏ₃ 、α−Ａｌ₂ Ｏ₃ 、α−Ｆｅ
₂ Ｏ₃ 、α−ＦｅＯＯＨ、ＳｉＣ、酸化セリウム、コラ
ンダム、人造ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザクロ石、ガ
ーネット、ケイ石、窒化ケイ素、窒化ホウ素、炭化ケイ
素、炭化モリブデン、炭化ホウ素、炭化タングステン、
チタンカーバイド、トリボリ、ケイソウ土、ドロマイト
等を挙げることができる。これらの中で好ましいのは、
カーボンブラック、ＣａＣＯ₃ 、ＴｉＯ₂ 、硫酸バリウ
ム、α−Ａｌ₂ Ｏ₃ 、α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、α−ＦｅＯＯ
Ｈ、Ｃｒ₂ Ｏ₃ 等の無機粉末やポリエチレン等のポリマ
ー粉末等である。

【００１３】この発明においては、粉末の形状が針状で
ある非磁性粉末を使用する。前記針状の非磁性粉末を用
いると、非磁性層の表面の平滑性を向上させることがで
き、その上に積層される磁性層からなる最上層における
表面の平滑性も向上させることができる点で好ましい。

【００１４】前記非磁性粉末の長軸径としては、通常
０．５０μｍ以下であり、好ましくは０．４０μｍ以下
であり、特に好ましくは、０．３０μｍ以下である。

【００１５】前記非磁性粉末の短軸径としては、通常
０．１０μｍ以下であり、好ましくは０．０８μｍ以下
であり、特に好ましくは、０．０６μｍ以下である。

【００１６】前記非磁性粉末の軸比としては、通常２〜
２０であり、好ましくは５〜１５であり、特に好ましく
は、５〜１０である。ここでいう軸比とは、短軸径に対
する長軸径の比（長軸径／短軸径）のことをいう。

【００１７】前記非磁性粉末の比表面積としては、通常
１０〜２５０ｍ² ／ｇであり、好ましくは２０〜１５０
ｍ² ／ｇであり、特に好ましくは、３０〜１００ｍ² ／
ｇである。

【００１８】前記範囲の長軸径、短軸径、軸比、および
比表面積を有する非磁性粉末を使用すると、非磁性層の
表面性を良好にすることができると共に、磁性層からな
る最上層の表面性も良好な状態にすることができる点で
好ましい。

【００１９】また、この発明においては、前記非磁性粉
末が、Ｓｉ化合物および／またはＡｌ化合物により表面
処理されていることが好ましい。かかる表面処理のなさ
れた非磁性粉末を用いると磁性層からなる最上層におけ
る表面の状態を良好にすることができる。前記Ｓｉおよ
び／またはＡｌの含有量としては、前記非磁性粉末に対
して、Ｓｉが０．１〜５０重量％、Ａｌが０．１〜５０
重量％であるのが好ましい。より好ましくは、Ｓｉが
０．１〜１０重量％、Ａｌが０．１〜１０重量％、さら
には、Ｓｉが０．１〜５重量％、Ａｌが０．１〜５重量
％であるのが好ましい。

【００２０】前記非磁性粉末の非磁性層中における含有
量としては、非磁性層を構成する全成分の合計に対して
５０〜９９重量％、好ましくは、６０〜９５重量％、特
に好ましくは、７０〜９５重量％である。非磁性粉末の
含有量が前記範囲内にあると、非磁性層および磁性層か
らなる最上層の表面の状態を良好にすることができる点
で好ましい。

【００２１】（Ｂ−２−２）バインダー 非磁性層に用いるバインダーとしては、例えば、ポリウ
レタン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合体等の塩化
ビニル系樹脂等が代表的なものであり、これらの樹脂は
−ＳＯ₃ Ｍ、−ＯＳＯ₃ Ｍ、−ＣＯＯＭおよび−ＰＯ
（ＯＭ¹ ）₂ から選ばれた少なくとも一種の極性基を有
する繰り返し単位を含むことが好ましい。ただし、上記
極性基において、Ｍは水素原子あるいはＮａ、Ｋ、Ｌｉ
等のアルカリ金属を表わし、またＭ¹ は水素原子、Ｎ
ａ、Ｋ、Ｌｉ等のアルカリ原子あるいはアルキル基を表
わす。

【００２２】上記極性基は磁性粉末の分散性を向上させ
る作用があり、各樹脂中の含有率は０．１〜８．０モル
％、好ましくは０．２〜６．０モル％である。この含有
率が０．１モル％未満であると、磁性粉末の分散性が低
下し、また含有率が８．０モル％を超えると、磁性塗料
がゲル化し易くなる。なお、前記各樹脂の重量平均分子
量は、１５，０００〜５０，０００の範囲が好ましい。

【００２３】下層における非磁性粉末を含有する層のバ
インダーの含有量は、非磁性粉末１００重量部に対して
通常、５〜４０重量部、好ましくは１０〜３０重量部で
ある。バインダーは一種単独に限らず、二種以上を組み
合わせて用いることができるが、この場合、ポリウレタ
ンおよび／またはポリエステルと塩化ビニル系樹脂との
比は、重量比で通常、９０：１０〜１０：９０であり、
好ましくは７０：３０〜３０：７０の範囲である。

【００２４】この発明にバインダーとして用いられる極
性基含有塩化ビニル系共重合体は、たとえば塩化ビニル
−ビニルアルコール共重合体など、水酸基を有する共重
合体と下記の極性基および塩素原子を有する化合物との
付加反応により合成することができる。 ClCH₂CH₂SO₃M、 Cl−CH₂CH₂OSO₃M、 Cl−CH₂COOM 、Cl-
CH₂-P(=O)(OM¹)₂ これらの化合物から Cl-CH₂CH₂SO₃Na を例にとり、上記
反応を説明すると、次のようになる。 −CH₂C(OH)H −＋ ClCH₂CH₂SO₃Na→ - CH₂C(OCH₂CH₂SO₃Na)H- 。

【００２５】また、極性基含有塩化ビニル系共重合体
は、極性基を含む繰り返し単位が導入される不飽和結合
を有する反応性モノマーを所定量オートクレーブ等の反
応容器に仕込み、一般的な重合開始剤、たとえばＢＰＯ
（ベンゾイルパーオキシド）、ＡＩＢＮ（アゾビスイソ
ブチロニトリル）等のラジカル重合開始剤、レドックス
重合開始剤、カチオン重合開始剤などを用いて重合反応
を行なうことにより、得ることができる。

【００２６】スルホン酸又はその塩を導入するための反
応性モノマーの具体例としては、ビニルスルホン酸、ア
リルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、ｐ−スチレン
スルホン酸等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれらの
塩を挙げることができる。カルボン酸もしくはその塩を
導入するときは、例えば（メタ）アクリル酸やマレイン
酸等を用い、リン酸もしくはその塩を導入するときは、
例えば（メタ）アクリル酸−２−リン酸エステルを用い
ればよい。

【００２７】塩化ビニル系共重合体にはエポキシ基が導
入されていることが好ましい。このようにすると、重合
体の熱安定性が向上するからである。エポキシ基を導入
する場合、エポキシ基を有する繰り返し単位の共重合体
中における含有率は、１〜３０モル％が好ましく、１〜
２０モル％がより好ましい。エポキシ基を導入するため
のモノマーとしては、たとえばグリシジルアクリレート
が好ましい。

【００２８】なお、塩化ビニル系共重合体への極性基の
導入技術に関しては、特開昭５７−４４２２７号、同５
８−１０８０５２号、同５９−８１２７号、同６０−１
０１１６１号、同６０−２３５８１４号、同６０−２３
８３０６号、同６０−２３８３７１号、同６２−１２１
９２３号、同６２−１４６４３２号、同６２−１４６４
３３号等の公報に記載があり、この発明においてもこれ
らを利用することができる。

【００２９】次に、この発明に用いるポリエステルとポ
リウレタンの合成について述べる。一般に、ポリエステ
ルはポリオールと多塩基酸との反応により得られる。こ
の公知の方法を用いて、ポリオールと一部に極性基を有
する多塩基酸から、極性基を有するポリエステル（ポリ
オール）を合成することができる。

【００３０】極性基を有する多塩基酸の例としては、５
−スルホイソフタル酸、２−スルホイソフタル酸、４−
スルホイソフタル酸、３−スルホフタル酸、５−スルホ
イソフタル酸ジアルキル、２−スルホイソフタル酸ジア
ルキル、４−スルホイソフタル酸ジアルキル、３−スル
ホイソフタル酸ジアルキルおよびこれらのナトリウム
塩、カリウム塩を挙げることができる。

【００３１】ポリオ−ルの例としては、トリメチロ−ル
プロパン、ヘキサントリオ−ル、グリセリン、トリメチ
ロ−ルエタン、ネオペンチルグリコ−ル、ペンタエリス
リト−ル、エチレングリコ−ル、プロピレングリコ−
ル、１，３−ブタンジオ−ル、１，４−ブタンジオ−
ル、１，６−ヘキサンジオ−ル、ジエチレングリコ−
ル、シクロヘキサンジメタノ−ル等を挙げることができ
る。なお、他の極性基を導入したポリエステルも公知の
方法で合成することができる。

【００３２】次に、ポリウレタンに付いて述べる。これ
は、ポリオールとポリイソシアネートとの反応から得ら
れる。ポリオールとしては、一般にポリオールと多塩基
酸との反応によって得られるポリエステルポリオールが
使用されている。したがって、極性基を有するポリエス
テルポリオールを原料として用いれば、極性基を有する
ポリウレタンを合成することができる。

【００３３】ポリイソシアネートの例としては、ジフェ
ニルメタン−４−４′−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、
ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、トリレ
ンジイソシアネート（ＴＤＩ）、１，５−ナフタレンジ
イソシアネート（ＮＤＩ）、トリジンジイソシアネート
（ＴＯＤＩ）、リジンイソシアネートメチルエステル
（ＬＤＩ）等が挙げられる。

【００３４】また、極性基を有するポリウレタンの他の
合成方法として、水酸基を有するポリウレタンと極性基
および塩素原子を有する下記の化合物との付加反応も有
効である。 Cl−CH₂CH₂SO₃M、 Cl−CH₂CH₂OSO₂M、 Cl −CH₂COOM、 Cl-
CH₂-P(=O)(OM¹)₂ なお、ポリウレタンへの極性基導入に関する技術として
は、特公昭５８−４１５６５号、特開昭５７−９２４２
２号、同５７−９２４２３号、同５９−８１２７号、同
５９−５４２３号、同５９−５４２４号、同６２−１２
１９２３号等の公報に記載があり、この発明においても
これらを利用することができる。

【００３５】この発明においては、バインダーとして下
記の樹脂を全バインダーの２０重量％以下の使用量で併
用することができる。その樹脂としては、重量平均分子
量が１０，０００〜２００，０００である、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共
重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、ブタ
ジエン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、
ポリビニルブチラール、セルロース誘導体（ニトロセル
ロース等）、スチレン−ブタジエン共重合体、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェ
ノキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル系樹脂、尿素ホ
ルムアミド樹脂、各種の合成ゴム系樹脂等が挙げられ
る。

【００３６】（Ｂ−２−２）その他の成分 この発明においては、下層の品質の向上を図るため、研
磨剤、潤滑剤、耐久性向上剤、分散剤、帶電防止剤およ
び充填剤などの添加剤をその他の成分として含有させる
ことができる。前記研磨剤としては、それ自体公知の物
質を使用することができる。

【００３７】この研磨剤の平均粒子径としては、通常
０．０５〜０．６μｍであり、好ましくは０．０５〜
０．５μｍであり、特に好ましくは、０．０５〜０．３
μｍである。前記研磨剤の下層における含有量として
は、通常３〜２０重量部であり、好ましくは、５〜１５
重量部であり、特に好ましくは、５〜１０重量部であ
る。潤滑剤としては、脂肪酸および／または脂肪酸エス
テルを使用することができる。この場合、脂肪酸の添加
量は、非磁性粉末に対して０．２〜１０重量％が好まし
く、０．５〜５重量％がより好ましい。添加量が０．２
重量％未満であると、走行性が低下し易く、また１０重
量％を超えると、脂肪酸が磁性層の表面にしみ出した
り、出力低下が生じ易くなる。

【００３８】また、脂肪酸エステルの添加量も、非磁性
粉末に対して０．２〜１０重量％が好ましく、０．５〜
５重量％がより好ましい。その添加量が０．２重量％未
満であると、スチル耐久性が劣化し易く、また１０重量
％を超えると、脂肪酸エステルが磁性層の表面にしみ出
したり、出力低下が生じ易くなる。

【００３９】脂肪酸と脂肪酸エステルとを併用して潤滑
効果をより高めたい場合には、脂肪酸と脂肪酸エステル
は重量比で１０：９０〜９０：１０が好ましい。脂肪酸
としては一塩基酸であっても二塩基酸であってもよく、
炭素数は６〜３０が好ましく、１２〜２２の範囲がより
好ましい。

【００４０】脂肪酸の具体例としては、カプロン酸、カ
プリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パ
ルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、リノレ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、ベヘン酸、マロン
酸、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、
ピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、１，１２−ド
デカンジカルボン酸、オクタンジカルボン酸等が挙げら
れる。

【００４１】脂肪酸エステルの具体例としては、オレイ
ルオレート、イソセチルステアレート、ジオレイルマレ
ート、ブチルステアレート、ブチルパルミテート、ブチ
ルミリステート、オクチルミリステート、オクチルパル
ミテート、ペンチルステアレート、ペンチルパルミテー
ト、イソブチルオレエート、ステアリルステアレート、
ラウリルオレエート、オクチルオレエート、イソブチル
オレエート、エチルオレエート、イソトリデシルオレエ
ート、２−エチルヘキシルステアレート、２−エチルヘ
キシルパルミテート、イソプロピルパルミテート、イソ
プロピルミリステート、ブチルラウレート、セチル−２
−エチルヘキサレート、ジオレイルアジペート、ジエチ
ルアジペート、ジイソブチルアジペート、ジイソデシル
アジペート、オレイルステアレート、２−エチルヘキシ
ルミリステート、イソペンチルパルミテート、イソペン
チルステアレート、ジエチレングリコール−モノ−ブチ
ルエーテルパルミテート、ジエチレングリコール−モノ
−ブチルエーテルパルミテート等が挙げられる。

【００４２】また、上記脂肪酸、脂肪酸エステル以外の
潤滑剤としてそれ自体公知の物質を使用することがで
き、例えばシリコーンオイル、フッ化カーボン、脂肪酸
アミド、α−オレフィンオキサイド等を使用することが
できる。

【００４３】耐久性向上剤としては、ポリイソシアネー
トを挙げることができ、ポリイソシアネートとしては、
たとえばトリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）等と活性
水素化合物との付加体などの芳香族ポリイソシアネート
と、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）等と
活性水素化合物との付加体などの脂肪族ポリイソシアネ
ートがある。なお、前記ポリイソシアネートの重量平均
分子量は、１００〜３，０００の範囲にあることが望ま
しい。

【００４４】分散剤としては、カプリル酸、カプリン
酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステア
リン酸、オレイン酸などの炭素数１２〜１８の脂肪酸；
これらのアルカリ金属の塩またはアルカリ土類金属の塩
あるいはこれらのアミド；ポリアルキレンオキサイドア
ルキルリン酸エステル；レシチン；トリアルキルポリオ
レフィンオキシ第四アンモニウム塩；カルボキシル基お
よびスルホン酸基を有するアゾ系化合物などを挙げるこ
とができる。これらの分散剤は、通常、非磁性粉に対し
て０．５〜５重量％の範囲で用いられる。

【００４５】帯電防止剤としては、第四級アミン等のカ
チオン界面活性剤；スルホン酸、硫酸、リン酸、リン酸
エステル、カルボン酸等の酸基を含むアニオン界面活性
剤；アミノスルホン酸等の両性界面活性剤；サポニン等
の天然界面活性剤などを挙げることができる。上述した
帯電防止剤は、通常、バインダーに対して０．０１〜４
０重量％の範囲で添加される。

【００４６】さらにこの発明においては、帯電防止剤と
して導電性微粉末を好ましく用いることができる。前記
帯電防止剤としては、カーボンブラック、グラファイ
ト、酸化錫、銀粉、酸化銀、硝酸銀、銀の有機化合物、
銅粉等の金属粒子等、酸化亜鉛、硫酸バリウム、酸化チ
タン等の金属酸化物等の顔料を酸化錫被膜またはアンチ
モン固溶酸化錫被膜等の導電性物質でコーティング処理
したもの等を挙げることができる。

【００４７】前記導電性微粉末の平均粒子径としては、
５〜７００ｎｍであり、より好ましくは、５〜２００ｎ
ｍである。さらに好ましくは、５〜５０ｎｍである。前
記導電性微粉末の含有量としては、非磁性粉末１００重
量部に対して、１〜２０重量部であり、より好ましく
は、５〜１５重量部である。

【００４８】（Ｃ）磁性層からなる最上層 （Ｃ−１）磁性層からなる最上層の表面 磁性層からなる最上層の表面粗さＲ_10Z としては、通常
５０ｎｍ以下であり、好ましくは３０ｎｍ以下であり、
特に好ましくは、５〜２０ｎｍである。この表面粗さＲ
_10Z が、５〜２０ｎｍの範囲であると、良好なＣ／Ｎ比
特性を得ることができてより好ましい。前記表面粗さＲ
_10Z とは、図１に示すように磁気記録媒体を幅方向の中
点Ｐから±２ｍｍ（図１においてはＲで示す）の範囲で
長手方向に基準長だけ垂直に切断したとき、その切断面
における外表面輪郭曲線を切る水平線に平行な直線のう
ち、高い方から１０番目に低い山頂を通るものと、深い
方から１０番目に浅い谷底を通るものとを選び、この２
本の直線（Ｌ₁ およびＬ₂ ）間の距離ｄを表面輪郭曲線
の縦倍率の方向に測定した値を指すものである。

【００４９】前記表面粗さＲ_10Z を測定するには、タリ
ステップ粗さ計（ランク・テイラ・ホブソン社製）を用
い、測定に際してはは、スタイラスを２．５×０．１μ
ｍ、針圧を２ｍｇ、カット・オフ・フィルターを０．３
３Ｈｚ、測定スピードを２．５μｍ／ｓｅｃ、基準長を
０．５ｍｍとする測定条件を採用することができる。な
お、粗さ曲線においては０．００２μｍ以下の凹凸はカ
ットしている。

【００５０】前記表面粗さＲ_10Z をコントロールするに
は、例えば、製造工程においてカレンダー条件を設定
し、磁性層の表面平滑状態をコントロールすればよい。
すなわち、カレンダー条件としての、温度、線圧力、Ｃ
／Ｓ（コーティングスピード）等の因子を制御すればよ
い。また、必要に応じてその他の因子である磁性層中へ
の添加粒子のサイズや量等を制御すればよい。

【００５１】この発明の目的達成のためには、通常、前
記温度を５０〜１４０℃、前記線圧力を５０〜４００Ｋ
ｇ／ｃｍ、上記Ｃ／Ｓを２０〜１，０００ｍ／ｍｉｎに
保持することが好ましい。これらの数値の範囲を外れる
と、磁性層の表面粗さＲ_10Zを前記のように特定するこ
とが困難になる、あるいは、不可能になることがある。

【００５２】（Ｃ−２）磁性層からなる最上層の組成 磁性層からなる最上層は、磁性粉末を含有する。さら
に、磁性層からなる最上層はバインダーおよびその他の
成分を含有してもよい。

【００５３】（Ｃ−２−１）磁性粉末 この発明に用いられる磁性粉末としては、強磁性酸化鉄
粉末、強磁性金属粉末、六方晶板状粉末等を挙げること
ができる。これらの中でも、後述する強磁性金属粉末を
好適に用いることができる。前記強磁性酸化鉄粉末とし
ては、γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、または、これらの
中間酸化鉄でＦｅＯ_x （１．３３＜ｘ＜１．５）で表わ
されるものや、Ｃｏが付加されたもので（コバルト変
性）Ｃｏ−ＦｅＯ_x （１．３３＜ｘ＜１．５）で表わさ
れるもの等を挙げることができる。

【００５４】前記強磁性金属粉末としては、Ｆｅ、Ｃｏ
をはじめ、Ｆｅ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｎｉ系、Ｆｅ−
Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃａ
系、Ｆｅ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ｎｉ−
Ｃｏ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｍｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ
−Ｓｉ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系、Ｆｅ−Ｎ
ｉ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｍｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ
系、Ｆｅ−Ｍｎ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ系、Ｎ
ｉ−Ｃｏ系、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ等を主成分とするメタル
磁性粉末等の強磁性金属粉末が挙げられる。中でも、Ｆ
ｅ系金属粉が電気的特性に優れる。

【００５５】他方、耐蝕性および分散性の点から見る
と、Ｆｅ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃａ系、Ｆｅ−Ａｌ−
Ｎｉ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆ
ｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ａｌ−Ｃ
ａ系等のＦｅ−Ａｌ系強磁性金属粉末が好ましい。

【００５６】特に、この発明の目的に好ましい強磁性金
属粉末は、鉄を主成分とする金属磁性粉末であり、Ａ
ｌ、または、ＡｌおよびＣａを、Ａｌについては重量比
でＦｅ：Ａｌ＝１００：０．５〜１００：２０、Ｃａに
ついては重量比でＦｅ：Ｃａ＝１００：０．１〜１０
０：１０の範囲で含有するのが望ましい。

【００５７】Ｆｅ：Ａｌの比率をこのような範囲にする
ことで耐蝕性が著しく改良され、またＦｅ：Ｃａの比率
をこのような範囲にすることで電磁変換特性を向上さ
せ、ドロップアウトを減少させることができる。電磁変
換特性の向上やドロップアウトの減少がもたらされる理
由は明らかでないが、分散性が向上することによる保磁
力のアップや凝集物の減少等が理由として考えられる。

【００５８】この発明に用いられる強磁性粉末は、その
長軸径が０．３０μｍ未満、好ましくは０．１０〜０．
２０μｍ、更に好ましくは０．１０〜０．１７μｍであ
ることが好ましい。強磁性粉末の長軸径が前記範囲内に
あると、磁気記録媒体の表面性を向上させることができ
ると共に電気的特性の向上も図ることができる。

【００５９】また、この発明に用いられる強磁性粉末
は、その保磁力（Ｈｃ）が通常６００〜５，０００ Ｏ
ｅの範囲にあることが好ましい。この保磁力が６００
Ｏｅ未満であると、電磁変換特性が劣化することがあ
り、また保磁力が５，０００ Ｏｅを超えると、通常の
ヘッドでは記録不能になることがあるので好ましくな
い。

【００６０】また、前記強磁性粉末は、磁気特性である
飽和磁化量（σ_s ）が通常、７０ｅｍｕ／ｇ以上である
ことが好ましい。この飽和磁化量が７０ｅｍｕ／ｇ未満
であると、電磁変換特性が劣化することがある。また、
特に、この強磁性粉末が強磁性金属粉末であるときに
は、この飽和磁化量が１２０ｅｍｕ／ｇ以上であること
が望ましい。さらにこの発明においては、記録の高密度
化に応じて、ＢＥＴ法による比表面積で３０ｍ² ／ｇ以
上、特に、４５ｍ² ／ｇ以上の強磁性金属粉末が好まし
く用いられる。

【００６１】この比表面積ならびにその測定方法につい
ては、「粉体の測定」（J.M.Dallavelle,Clyeorr Jr.共
著、牟田その他訳；産業図書社刊）に詳述されており、
また「化学便覧」応用編Ｐ１１７０〜１１７１（日本化
学会編；丸善( 株）昭和４１年４月３０日発行）にも記
載されている。

【００６２】比表面積の測定は、例えば、粉末を１０５
℃前後で１３分間加熱処理しながら脱気して粉末に吸着
されているもの除去し、その後、この粉末を測定装置に
導入して窒素の初期圧力を０．５ｋｇ／ｍ² に設定し、
窒素により液体窒素温度（−１０５℃）で１０分間測定
を行なう。測定装置はたとえばカウンターソープ（湯浅
アイオニクス( 株）製）を使用する。

【００６３】さらに、好ましい強磁性粉末の構造として
は、該強磁性粉末に含有されているＦｅ原子とＡｌ原子
との含有量比が原子数比でＦｅ：Ａｌ= １００：１〜１
００：２０であり、かつ該強磁性粉末のＥＳＣＡによる
分析深度で１００Å以下の表面域に存在するＦｅ原子と
Ａｌ原子との含有量比が原子数比でＦｅ：Ａｌ= ３０
０：７０〜７０：３０である構造を有するものである。
あるいは、Ｆｅ原子とＮｉ原子とＡｌ原子とＳｉ原子と
が強磁性粉末に含有され、更にＣｏ原子とＺａ原子との
少なくとも一方が該強磁性粉末に含有され、Ｆｅ原子の
含有量が９０原子％以上、Ｎｉ原子の含有量が１原子％
以上、１０原子％未満、Ａｌ原子の含有量が０．１原子
％以上、５原子％未満、Ｓｉ原子の含有量が０．１原子
％以上、５原子％未満、Ｃｏ原子の含有量および／また
はＣａ原子の含有量（ただし、Ｃｏ原子とＣａ原子との
両方を含有する場合はこの合計量）が０．１原子％以
上、１３原子％未満であり、前記強磁性粉末のＥＳＣＡ
による分析深度で１００Å以下の表面域に存在するＦｅ
原子とＮｉ原子とＡｌ原子とＳｉ原子とＺｎ原子および
／またはＭｎ原子の含有量比が原子数比でＦｅ：Ｎｉ：
Ａｌ：Ｓｉ（Ｃｏおよび／またはＣａ）＝１００：（４
以下）：（１０〜６０）：（１０〜７０）：（２０〜８
０）である構造を有する強磁性粉末等が挙げられる。

【００６４】前記六方晶板状粉末としては、例えば、六
方晶系フェライトを挙げることができる。このような六
方晶系フェライトは、バイウムフェライト、ストロンチ
ウムフェライト等からなり、鉄元素の一部が他の元素
（例えば、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｈｂ
等）で置換されてもよい。このフェライト磁性体につい
ては、ＩＥＥＥ ｔｒａｎｓ ｏｎ ＭＡＧ−１８ １
６（１９８２）に詳しく述べられている。

【００６５】これらの中で、この発明においては、バリ
ウムフェライトを好ましく用いることができる。この発
明において好ましく用いられる前記バリウムフェライト
（以下、Ｂａ−フェライトと記す）磁性粉末の例として
は、Ｆｅの一部が少なくともＣｏおよびＺｎで置換され
た平均粒径（六方晶系フェライトの板面の対角線の高
さ）が４００〜９００Åであり、板状比（六方晶系フェ
ライトの板面の対角線の長さを板厚で除した値）が２．
０〜１０．０であり、好ましくは２．０〜６．０であ
り、保磁力（Ｈｃ）が４５０〜１５００であるＢａ−フ
ェライトを挙げることができる。

【００６６】Ｂａ−フェライト粉末は、ＦｅをＣｏで一
部置換することにより、保磁力が適正な値に制御されて
おり、さらにＺｎで一部置換することにより、Ｃｏ置換
のみでは得られない高い飽和磁化を実現し、高い再生出
力を有する電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を得るこ
とができる。また、さらにＦｅの一部をＮｂで置換する
ことにより、より高い再生出力を有する電磁変換特性に
優れた磁気記録媒体を得ることができる。また、本発明
に用いられるＢａ−フェライトは、さらにＦｅの一部が
Ｔｉ、Ｉｎ、 Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｓｎ等の遷移金属で置
換されていても差支えない。

【００６７】なお、この発明に使用するＢａ−フェライ
トは次の一般式で表わされる。 ＢａＯ・ｎ（（Ｆｅ_1-m Ｍ_m ）₂ Ｏ₃ ） ｛ただし、ｍ＞０．３６（但し、Ｃｏ＋Ｚｎ＝０．０８
〜０．３、Ｃｏ／Ｚｎ＝０．５〜１０) であり、ｎは
５．４〜１１．０であり、好ましくは５．４〜６．０で
あり、Ｍは置換金属を表わし、平均個数が３となる２種
以上の元素の組合せになる磁性粒子が好ましい。｝磁気
記録媒体としたときの再生出力を十分とするには、前記
Ｂａ−フェライトの平均粒径が３００Å以上であるのが
好ましく、表面平滑性を向上させ、ノイズレベルを低く
するには９００Å以下であるのが好ましい。また、板状
比を２．０以上とすることで、磁気記録媒体としたとき
に高密度記録に適した垂直配向率が得られ、表面平滑性
を向上させ、ノイズレベルを低くするには板状比が１
０．０以下であるのが好ましい。さらに記録信号保持の
ためには保磁力が４５０ Ｏｅ以上であることが好まし
く、ヘッドが飽和してしまうのを防ぐには１，５００Ｏ
ｅ以下が好ましい。

【００６８】この発明に用いられるバリウムフェライト
磁性粉末は、磁気特性である飽和磁化量（σ_S ）が通
常、５０ｅｍｕ／ｇ以上であることが望ましい。この飽
和磁化量が５０ｅｍｕ／ｇ未満であると、電磁変換特性
が劣化することがあるからである。さらにこの発明にお
いては、記録の高密度化に応じて、ＢＥＴ法による比表
面積が３０ｍ² ／ｇ以上のＢａ−フェライト磁性粉末を
用いることが望ましい。

【００６９】この発明に用いられる六方晶系の磁性粉末
を製造する方法としては、たとえば目的とするＢａ−フ
ェライトを形成するのに必要な各原素の酸化物、炭酸化
物を、たとえばホウ酸のようなガラス形成物質とともに
溶融し、得られた融液を急冷してガラスを形成し、つい
でこのガラスを所定温度で熱処理して目的とするＢａ−
フェライトの結晶粉末を析出させ、最後にガラス成分を
熱処理によって除去するという方法のガラス結晶化法の
他、共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、アルコ
キシド法、プラズマジェット法等が適用可能である。

【００７０】この発明においては、磁性層中に含有され
る前記強磁性粉末の長軸径（ａ）と下層である非磁性層
中に含有される非磁性粉末の長軸径（ｂ）との比（軸
比；ｂ／ａ）は、３以下であることが望ましく、特に
２．５以下であるのが望ましく、さらには２以下である
のが望ましい。この軸比が前記範囲内にあると、磁気記
録媒体の表面性を良好な状態にすることができるなど優
れた特性を発揮することができるからである。

【００７１】この発明においては、上述した磁性粉末の
含有量としては、５０〜９９重量％であり、好ましくは
６０〜９９重量％であり、特に好ましくは、７５〜９０
重量％である。

【００７２】（Ｃ−２−２）バインダー 磁性層からなる最上層が含有するバインダーは、（Ｂ−
２−２）の中で前述した通りである。磁性層からなる最
上層におけるバインダーの含有量としては、前記磁性粉
末１００重量部に対して、通常１０〜４０重量部、好ま
しくは１５〜３０重量部である。

【００７３】（Ｃ−２−３）その他の成分 磁性層からなる最上層が含有するその他の成分は、（Ｂ
−２−３）の中で前述した通りである。潤滑剤の含有量
としては、前記磁性粉末に対して、０．２〜１０重量％
が好ましく、０．５〜５重量％がより好ましい。分散剤
の含有量としては、前記磁性粉末に対して、０．５〜５
重量％である。導電性微粉末の含有量としては、磁性粉
末１００重量部に対して、通常１〜２０重量部であり、
より好ましくは、３〜１５重量部である。

【００７４】−磁気記録媒体の製造− この発明の磁気記録媒体は、磁性層の塗設を、下層が湿
潤状態にあるときにする所謂ウエット−オン−ウエット
方式で塗設するのが好ましい。このウエット−オン−ウ
エット方式は、公知の重層構造型の磁気記録媒体の製造
に使用される方法を適宜に採用することができる。たと
えば、一般的には磁性粉末、バインダー、分散剤、潤滑
剤、研磨剤、帯電防止剤等と溶媒とを混練して高濃度磁
性塗料を調製し、次いでこの高濃度磁性塗料を希釈して
磁性塗料を調製した後、この磁性塗料を非磁性支持体の
表面に塗布する。

【００７５】上記溶媒としては、たとえばアセトン、メ
チルエチルケトン（ＭＥＫ)、メチルイソブチルケトン
（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン等のケトン系；メタノ
ール、エタノール、プロパノール等のアルコール類；酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；テ
トラヒドロフラン等の環状エーテル類；メチレンクロラ
イド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホル
ム、ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素などを用
いることができる。

【００７６】磁性層形成成分の混練分散にあたっては、
各種の混練分散機を使用することができる。この混練分
散機としては、たとえば二本ロールミル、三本ロールミ
ル、ボールミル、ペブルミル、コボルミル、トロンミ
ル、サンドミル、サンドグラインダー、Sqegvariアトラ
イター、高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高
速度衝撃ミル、ディスパー、高速ミキサー、ホモジナイ
ザー、超音波分散機、オープンニーダー、連続ニーダ
ー、加圧ニーダー等が挙げられる。上記混練分散機のう
ち、０．０５〜０．５ＫＷ（磁性粉末１Ｋｇ当たり）の
消費電力負荷を提供することのできる混練分散機は、加
圧ニーダー、オープンニーダー、連続ニーダー、二本ロ
ールミル、三本ロールミルである。

【００７７】非磁性支持体上に、最上層の磁性層と、下
層とを塗布するには、具体的には、図２に示すように、
まず供給ロール３２から繰出した非磁性支持体１に、エ
クストルージョン方式の押し出しコーター１０、１１に
より、最上層用塗料と下層用塗料とをウェット−オン−
ウェット方式で重層塗布した後、配向用磁石または垂直
配向用磁石３３を通過し、乾燥器３４に導入し、ここで
上下に配したノズルから熱風を吹き付けて乾燥する。次
に、乾燥した各塗布層付きの非磁性支持体１をカレンダ
ーロール３８の組合せからなるスーパーカレンダー装置
３７に導き、ここでカレンダー処理した後に、巻き取り
ロール３９に巻き取る。このようにして得られた磁性フ
ィルムを所望幅のテープ状に裁断して例えば８ｍｍビデ
オカメラ用磁気記録テープを製造することができる。

【００７８】上記の方法において、各塗料は、図示しな
いインラインミキサーを通して押し出しコーター１０、
１１へと供給してもよい。なお、図中、矢印は非磁性支
持体の搬送方向を示す。押し出しコーター１０、１１に
はそれぞれ、液溜まり部１３、１４が設けられ、各コー
ターからの塗料をウェット−オン−ウェット方式で重ね
る。即ち、下層用塗料の塗布直後（未乾燥状態のとき）
に最上層の磁性層用塗料を重層塗布する。前記押し出し
コーターとしては、図３に示す２基の押し出しコーター
５ａ、５ｂのほか、図４および図５のような型式の押し
出しコーター５ｃ、５ｄを使用することもできる。これ
らの中で、図５に示した押し出しコーター５ｄが本発明
においては好ましい。押し出しコーター５ｄにより、下
層用途料２と最上層用塗料４とを共押し出しして重層塗
布する。

【００７９】上記塗料に配合される溶媒あるいはこの塗
料の塗布時の希釈溶媒としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類；メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール等のアルコール類；酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチレングリコールセ
ノアセテート等のエステル類；グリコールジメチルエー
テル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン等のエーテル類；ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素；メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素等のものが使
用できる。これらの各種の溶媒は単独で使用することも
できるし、またそれらの二種以上を併用することもでき
る。前記配向磁石あるいは垂直配向用磁石における磁場
は、２０〜１０，０００ガウス程度であり、乾燥器によ
る乾燥温度は約３０〜１２０℃であり、乾燥時間は約
０．１〜１０分間程度である。

【００８０】なお、ウェット−オン−ウェット方式で
は、リバースロールと押し出しコーターとの組み合わ
せ、グラビアロールと押し出しコーターとの組み合わせ
なども使用することができる。さらにはエアドクターコ
ーター、ブレードコーター、エアナイフコーター、スク
ィズコーター、含浸コーター、トランスファロールコー
ター、キスコーター、キャストコーター、スプレイコー
ター等を組み合わせることもできる。

【００８１】このウェット−オン−ウェット方式におる
重層塗布においては、最上層の下側に位置する層が湿潤
状態になったままで上層の磁性層を塗布するので、下層
の表面（即ち、最上層との境界面）が滑らかになるとと
もに最上層の表面性が良好になり、かつ、上下層間の接
着性も向上する。この結果、特に高密度記録のために高
出力、低ノイズの要求されるたとえば磁気テープとして
の要求性能を満たしたものとなりかつ、高耐久性の性能
が要求されることに対しても膜剥離をなくし、膜強度が
向上し、耐久性が十分となる。また、ウェット−オン−
ウェット重層塗布方式により、ドロップアウトも低減す
ることができ、信頼性も向上する。

【００８２】−表面の平滑化− この発明においては、次にカレンダリングにより表面平
滑化処理を行うのも良い。その後は、必要に応じてバー
ニッシュ処理またはブレード処理を行なってスリッティ
ングされる。表面平滑化処理においては、カレンダー条
件として温度、線圧力、Ｃ／ｓ（コーティングスピー
ド）等を挙げることができる。この発明においては、通
常、上記温度を５０〜１４０℃、上記線圧力を５０〜４
００ｋｇ／ｃｍ、上記Ｃ／Ｓを２０〜１，０００ｍ／分
に保持することが好ましい。これらの数値を満足しない
と、磁気記録媒体の表面性を良好な状態に保つことが困
難になる、あるいは、不可能になることがある。

【００８３】上記のように処理した結果の最上層の層の
厚さは、０．５μｍ以下、好ましくは、０．１〜０．４
μｍにする。前記層の厚さが０．５μｍを越えると、電
気的特性が劣化するため、この発明の目的たるデジタル
記録媒体として好適な磁気記録媒体を得ることができな
い。

【００８４】

【実施例】以下、この発明の実施例を説明する。以下に
示す成分、割合、操作順序はこの発明の範囲から逸脱し
ない範囲において種々変更しうる。なお、下記の実施例
において「部」はすべて重量部である。

【００８５】（実施例１）下記の最上層用磁性組成物の
各成分をニーダー・サンドミルを用いて混練分散して最
上層用磁性塗料および下層用非磁性塗料を調製した。

【００８６】｛最上層用磁性塗料｝ Ｆｅ−Ａｌ系強磁性金属粉末・・・・・・・・・・・・
・１００部（Ｆｅ：Ａｌ原子数比＝１００：４（全
体）、Ｆｅ：Ａｌ原子数比＝５０：５０（表層）、平均
長軸径：０．１４μｍ、Ｈｃ：１７６０ Ｏｅ、ＢＥ
Ｔ：５３ｍ² ／ｇ） スルホン酸カリウム基含有塩化ビニル系樹脂・・・・・
・・１０部（日本ゼオン（株）製 ＭＲ−１１０） スルホン酸ナトリウム基含有ポリウレタン樹脂・・・・
・・１０部（東洋紡績（株）製、ＵＲ−８７００） α−アルミナ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・８部 ステアリン酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・１部 ブチルステアレート・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・１部 シクロヘキサノン・・・・・・・・・・・・・・・・・
・１００部 メチルエチルケトン・・・・・・・・・・・・・・・・
・１００部 トルエン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・１００部 ｛下層用非磁性塗料｝ α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ ・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・１００部（長軸径：０．２７μｍ、短軸径：０．０３
μｍ、軸比：９、ＢＥＴ：３５ｍ² ／ｇ） スルホン酸カリウム基含有塩化ビニル系樹脂・・・・・
・・１２部（日本ゼオン（株）製 ＭＲ−１１０） スルホン酸ナトリウム基含有ポリウレタン樹脂・・・・
・・・８部（東洋紡績（株）製、ＵＲ−８７００） α−アルミナ（０．２μｍ）・・・・・・・・・・・・
・・・５部 カーボンブラック（１５ｎｍ）・・・・・・・・・・・
・・１０部 ステアリン酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・１部 ブチルステアレート・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・１部 シクロヘキサノン・・・・・・・・・・・・・・・・・
・１００部 メチルエチルケトン・・・・・・・・・・・・・・・・
・１００部 トルエン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・１００部 得られた最上層用磁性塗料および下層用非磁性塗料のそ
れぞれに、ポリイソシアネート化合物（コロネートＬ、
日本ポリウレタン工業（株）製）５部を添加した。

【００８７】（実施例１〜７および比較例１〜６）表１
に示した、磁性粉末を含有する上述の磁性層用塗料、お
よび、非磁性粉末を含有する上述の非磁性層用塗料を用
いて、ウエット−オン−ウエット方式で厚さ１０μｍの
ポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布した後、
塗膜が未乾燥であるうちに磁場配向処理を行ない、続い
て乾燥を施してから、カレンダーで表面平滑化処理を行
ない、表１に示された厚さを有する下層および最上層か
らなる磁性層を形成した。

【００８８】さらに、この磁性層とは反対側の前記ポリ
エチレンテレフタレートフィルムの面（裏面）に下記の
組成を有する塗料を塗布し、この塗膜を乾燥し、上述し
たカレンダー条件にしたがってカレンダー加工をするこ
とによって、厚さ０．８μｍのバックコート層を形成
し、広幅の原反磁気テープを得た。

【００８９】 カーボンブラック・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・４０部（ラベン１０３５） 硫酸バリウム・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・１０部（平均粒子径３００ｎｍ） ニトロセルロース・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・２５部 ポリウレタン系樹脂・・・・・・・・・・・・・・・・
・・２５部（日本ポリウレタン（株）製、Ｎ−２３０
１） ポリイソシアネート化合物・・・・・・・・・・・・・
・・１０部（日本ポリウレタン（株）製、コロネート
Ｌ） シクロヘキサノン・・・・・・・・・・・・・・・・・
・４００部 メチルエチルケトン・・・・・・・・・・・・・・・・
・２５０部 トルエン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・２５０部 こうして得られた原反磁気テープをスリットして、表面
粗さＲ_10Z が１８ｎｍである８ｍｍ幅のビデオ用磁気記
録媒体を作成した。この磁気記録媒体につき、以下の評
価試験を行った。その結果を表１および表２に示す。

【００９０】＜表面粗さＲ_10Z ＞タリステップ粗さ計
（ランク・テイラ・ホブソン社製）を用いて測定した。

【００９１】測定条件としては、スタイラスを２．５×
０．１μｍ、針圧を２ｍｇ、カット・オフ・フィルター
を０．３３Ｈｚ、測定スピードを２．５μｍ／ｓｅｃ、
基準長を０．５ｍｍとした。

【００９２】なお、粗さ曲線においては０．００２μｍ
以下の凹凸はカットしている。

【００９３】＜電気特性（ｄＢ） ＲＦ出力＞；ソニー
（株）製８ミリビデオカメラＣＣＤＶ−９００により、
７ＭＨｚでのＲＦ出力を測定した。

【００９４】＜走行耐久性＞；温度４０℃、湿度８０％
における繰返し走行耐久性について以下のように評価し
た。

【００９５】 Ａ：支障なし Ｂ：裏面にキズのあるもの Ｃ：走行はするが、Ｄ／Ｏ＝５０以上の多発したもの Ｄ：走行はするが、電気特性２ｄＢ以上の低下したもの Ｅ：走行ストップ

【００９６】

【表１】

【００９７】

【表２】

【００９８】

【発明の効果】この発明により、デジタル用記録媒体と
して好適な、表面性の良好な、電気的特性および走行性
に優れた磁気録媒体を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、磁性層の表面粗さＲ_10Z を測定すると
きの状況を説明する図である。

【図２】図２は、ウエット−オン−ウエット塗布方式に
よる磁性層の重層塗布を説明するための図である。

【図３】図３は、磁性塗料を塗布するための押し出しコ
ーターの一例を示す図である。

【図４】図４は、磁性塗料を塗布するための押し出しコ
ーターの一例を示す図である。

【図５】図５は、磁性塗料を塗布するための押し出しコ
ーターの一例を示す図である。

【符合の説明】 １ 非磁性支持体 ２ 下層用塗料 ４ 最上層用塗料 ５ａ 押し出しコーター ５ｂ 押し出しコーター ５ｃ 押し出しコーター ５ｄ 押し出しコーター ６ 最上層の磁性層 ７ 下層 ８ バックコート層 １０ 押し出しコーター １１ 押し出しコーター １３ 液溜り部 １４ 液溜り部 ３２ 供給ロール ３３ 配向用磁石または垂直配向用磁石 ３４ 乾燥器 ３７ スーパーカレンダー装置 ３８ カレンダーロール ３９ 巻き取りロール

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上に、非磁性粉末を含有す
   る非磁性層を少なくとも一層有する下層と、強磁性粉末
   を含有する磁性層からなる最上層とを、この順に積層し
   てなり、前記非磁性粉末が針状であることを特徴とする
   磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 前記非磁性粉末における長軸径が０．５
   ０μｍ以下であり、かつ、短軸径が０．１０μｍ以下で
   あると共に、軸比が２〜２０である前記請求項１に記載
   の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 前記非磁性粉末における比表面積が１０
   〜２５０ｍ² ／ｇである前記請求項１に記載の磁気記録
   媒体。
4. 【請求項４】 前記非磁性粉末が、Ｓｉ化合物およびＡ
   ｌ化合物からなる群より選択される少なくとも一種によ
   り表面処理されてなる前記請求項１に記載の磁気記録媒
   体。
5. 【請求項５】 前記強磁性粉末が強磁性金属粉末である
   前記請求項１に記載の磁気記録媒体。
6. 【請求項６】 表面粗さＲ_10Z が２０ｎｍ以下である前
   記請求項１に記載の磁気記録媒体。
7. 【請求項７】 前記強磁性粉末（ａ）と前記非磁性粉末
   （ｂ）との長軸径の比が、（ｂ／ａ）≦３である前記請
   求項１に記載の磁気記録媒体。