JPH05298652A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 この発明の目的は、Ｃ／Ｎ比特性、オーバー
ライト特性、走行耐久性およびヘッドクロッグ特性に優
れると共に、デジタル用記録媒体として好適な磁気記録
媒体を提供することにある。 【構成】 前記目的を達成するための第１の磁気記録媒
体は、非磁性支持体上に、単数または複数の層からなる
下層と磁性層の最上層とをこの順に積層してなり、前記
下層における少なくとも一層および最上層が、それぞれ
異なる平均粒子径または新モース硬度を有する研磨剤を
含有し、また前記最上層以外の少なくとも一層が非磁性
粉末または高透磁率材料を含有することを、第２は、磁
性層からなる最上層が含有する研磨剤の平均粒子径が、
下層における少なくとも１層が含有する研磨剤の平均粒
子径よりも小さいことを、第３は、磁性層からなる最上
層が含有する研磨剤の新モース硬度が１２以上であり、
下層における少なくとも１層が含有する研磨剤の新モー
ス硬度が１２未満であることを、第４は、磁性層からな
る最上層が平均粒子径の異なる２種以上の研磨剤を含有
することを、それぞれ特徴としている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は磁気記録媒体に関し、
さらに詳しくは、Ｃ／Ｎ特性、オーバーライト特性、走
行耐久性およびヘッドクロッグ特性に優れると共にデジ
タル用記録媒体として好適な磁気録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術と発明が解決しようとする課題】近時、電
子機器分野をはじめとする種々の分野においてデジタル
化が急速に進み、磁気記録媒体の分野においてもかかる
デジタル化に対応すべく、デジタル記録媒体として好適
なＣ／Ｎ特性、オーバーライト特性、走行耐久性および
ヘッドクロッグ特性を同時に有する磁気記録媒体を得る
ための種々の提案、例えば、特開平１−２２０２１９号
公報、同２−１０５３２７号公報、同２−２０８８２２
号公報等においては、重層構造の磁気記録媒体に研磨剤
を用いることが提案されている。

【０００３】しかしながら、前記公報において提案され
た磁気記録媒体には、いずれも下層が磁性層であり、し
かも上層の膜厚がいずれも０．５μｍ以上と比較的厚い
ので、膜厚損失や自己減磁損失が大きくなり、研磨剤を
用いた効果が顕著ではなく、デジタル記録媒体として必
要な優れたＣ／Ｎ特性やオーバーライト特性を得るには
十分でないという問題がある。また、これらの磁気記録
媒体の電気的特性を改良するために、最上層の厚みを薄
くしていくと、電気的特性は向上するものの、種々の環
境下における走行耐久性の低下が顕著になるという問題
が新たに生じる。

【０００４】この発明の目的は、前記課題を解決し、優
れたＣ／Ｎ特性、オーバーライト特性、走行耐久性およ
びヘッドクロック特性を同時に備えると共に、デジタル
記録用媒体として好適な磁気録媒体を提供することにあ
る。

【０００５】

【前記課題を解決するための手段】前記課題を解決する
ためにこの発明者らが研究したところ、重層構造の磁気
記録媒体において、磁性層の最上層と下層における少な
くとも１層とに研磨剤が含まれており、その磁性層中の
研磨剤と下層における少なくとも１層中の研磨剤とは、
それぞれ平均粒子径または新モース硬度が互いに相違し
ており、一方、下層における少なくとも一層は非磁性粉
末または高透磁率材料を含有していると、デジタル記録
媒体として必要な優れたＣ／Ｎ特性、オーバーライト特
性、走行耐久性およびヘッドクロック特性を同時に得ら
れることを見いだし、この発明に到達した。

【０００６】すなわち、前記目的を達成するための請求
項１に記載の発明は、非磁性支持体上に、単数または複
数の層からなる下層と磁性層の最上層とをこの順に積層
してなり、前記下層における少なくとも一層および最上
層が、それぞれ異なる平均粒子径または新モース硬度を
有する研磨剤を含有し、また前記最上層以外の少なくと
も一層が非磁性粉末または高透磁率材料を含有すること
を特徴とする磁気記録媒体であり、前記請求項２に記載
の発明は、磁性層の最上層が含有する研磨剤の平均粒子
径が、下層における少なくとも１層が含有する研磨剤の
平均粒子径よりも小さい前記請求項１に記載の磁気記録
媒体であり、前記請求項３に記載の発明は、磁性層の最
上層が含有する研磨剤の新モース硬度が１２以上であ
り、下層における少なくとも１層が含有する研磨剤の新
モース硬度が１２未満である前記請求項１に記載の磁気
記録媒体であり、前記請求項４に記載の発明は、磁性層
の最上層が平均粒子径の異なる２種以上の研磨剤を含有
する前記請求項１に記載の磁気記録媒体である。

【０００７】以下、この発明の磁気記録媒体について詳
述する。 −磁気記録媒体の構成− この発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上（Ａ）に、
単数または複数の層からなる下層（Ｂ）と磁性層の最上
層（Ｃ）とをこの順に積層してなり、下層における少な
くとも１層および最上層が、それぞれ異なる平均粒子径
または新モース硬度を有する研磨剤を含有すると共に、
下層（Ｂ）における少なくとも一層が非磁性粉末または
高透磁率材料を含有する。

【０００８】（Ａ）非磁性支持体 前記非磁性支持体を形成する材料としては、たとえばポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナ
フタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポ
リオレフィン類、セルローストリアセテート、セルロー
スダイアセテート等のセルロース誘導体、ポリアミド、
ポリカーボネート等のプラスチックなどを挙げることが
できる。前記非磁性支持体の形態は特に制限はなく、主
にテープ状、フィルム状、シート状、カード状、ディス
ク状、ドラム状などがある。

【０００９】非磁性支持体の厚みには特に制約はない
が、たとえばフィルム状やシート状の場合は通常３〜１
００μｍ、好ましくは５〜５０μｍであり、ディスクや
カード状の場合は３０μｍ〜１０ｍｍ程度、ドラム状の
場合はレコーダー等に応じて適宜に選択される。なお、
この非磁性支持体は単層構造のものであっても多層構造
のものであってもよい。また、この非磁性支持体は、た
とえばコロナ放電処理等の表面処理を施されたものであ
ってもよい。また、非磁性支持体上の上記磁性層が設け
られていない面（裏面）には、磁気記録媒体の走行性の
向上、帯電防止および転写防止などを目的として、バッ
クコート層を設けるのが好ましく、また磁性層と非磁性
支持体との間には、下引き層を設けることもできる。

【００１０】（Ｂ）下層 （Ｂ−１）下層の説明 下層は、研磨剤を含有する層を少なくとも１層有するこ
と、および、非磁性粉末または高透磁率材料を含有する
層を少なくとも一層有することの外は特に制限はなく、
単層または複数の層からなる。下層が単層であるときに
は、その下層は研磨剤を含有すると共に、非磁性粉末ま
たは高透磁率材料を含有する。

【００１１】（Ｂ−２）下層の組成 下層は、非磁性粉末または高透磁率材料と研磨剤とを含
有する。さらに、下層は、バインダーおよびその他の成
分を含有してもよい。

【００１２】（Ｂ−２−１）非磁性粉末 前記非磁性粉末としては、例えば、カーボンブラック、
グラファイト、酸化チタン、硫酸バリウム、ＺｎＳ、Ｍ
ｇＣＯ₃ 、ＣａＣＯ₃ 、ＺｎＯ、ＣａＯ、二硫化タング
ステン、二硫化モリブデン、窒化ホウ素、ＭｇＯ、Ｓｎ
Ｏ₂ 、ケイソウ土、ドロマイト等を挙げることができ
る。これらの中で好ましいのは、カーボンブラック、Ｃ
ａＣＯ₃ 、酸化チタン、硫酸バリウム等の無機粉末やポ
リエチレン等のポリマー粉末等である。特に好ましいの
は、酸化チタン等の非磁性酸化物である。

【００１３】前記非磁性粉末の中でも、導電性を有する
非磁性粉末が好ましい。導電性を有する非磁性粉末を用
いると、ドロップアウト特性および４０℃、２０％ＲＨ
下での走行耐久性を特に向上させることができる点で好
ましい。

【００１４】他方、この発明においては、前記非磁性粉
末が、Ｓｉおよび／またはＡｌにより表面処理されてい
ることも好ましい。かかる表面処理のなされた非磁性粉
末を用いると磁性層の最上層における表面の状態を良好
にすることができる。前記Ｓｉおよび／またはＡｌの含
有量としては、前記非磁性粉末に対して、Ｓｉが０．１
〜５０重量％、Ａｌが０．１〜５０重量％であるのが好
ましい。

【００１５】前記非磁性粉末のＸ線測定による結晶子サ
イズとしては、通常１〜３００ｎｍであり、好ましく
は、１〜１００ｎｍであり、特に好ましくは、１〜５０
ｎｍである。前記範囲の結晶子サイズを有する非磁性粉
末を使用すると、非磁性層中の非磁性粉末による磁性層
の表面性に悪影響が生じない点で好ましい。

【００１６】前記非磁性粉末の下層中における含有量と
しては、この非磁性粉末を含有する層を構成する全成分
の合計に対して５〜９９重量％、好ましくは、６０〜９
５重量％、特に好ましくは、７５〜９５重量％である。
非磁性粉末の含有量が前記範囲内にあると、磁性層の最
上層の表面の状態を良好にすることができる。

【００１７】（Ｂ−２−２）高透磁率材料 この発明では、高透磁率材料として、その保磁力Ｈｃが
０＜Ｈｃ≦１．０×１０⁴ ［Ａ／ｍ］、好ましくは０＜
Ｈｃ≦５．０×１０³ ［Ａ／ｍ］であるものを使用する
ことができる。保磁力が前記範囲内にあると、高透磁率
材料として最上層の磁化領域の安定化の効果をよく奏す
ることができる。保磁力が前記範囲を超えると、磁性材
料としての特性が発現することにより所望の特性が得ら
れなくなることがある。

【００１８】この発明においては、高透磁率材料とし
て、前記保磁力の範囲内にある材料を適宜に選択するの
が好ましい。そのような高透磁率材料としては、例え
ば、金属軟質磁性材料、酸化物軟質磁性材料等を挙げる
ことができる。前記金属軟質磁性材料としては、Ｆｅ−
Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ａｌ合金（Ａｌｐｅｒｍ，Ａｌｆｅｎ
ｏｌ，Ａｌｆｅｒ）、パーマロイ（Ｎｉ−Ｆｅ系二元合
金、およびこれにＭｏ、Ｃｕ、Ｃｒなどを添加した多元
系合金）、センダスト（Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ［９．６重量
％のＳｉ、５．４％のＡｌ、残りがＦｅである組
成］）、Ｆｅ−Ｃｏ合金等を挙げることができる。これ
らの中でも好ましい金属軟質磁性材料としてはセンダス
トが好ましい。なお、高透磁率材料としての金属軟質磁
性材料としては以上に例示したものに限定されず、その
他の金属軟質磁性材料を使用することができる。高透磁
率材料は、その一種を単独で使用することもできるし、
又その二種以上を併用することもできる。

【００１９】前記酸化物軟質磁性材料としては、スピネ
ル型フェライトであるＭｎＦｅ₂ Ｏ₄ 、Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、Ｃ
ｏＦｅ₂ Ｏ₄ 、ＮｉＦｅ₂ Ｏ₄ 、ＭｇＦｅ₂ Ｏ₄ 、Ｌｉ
_0.5Ｆｅ_2.5 Ｏ₄ や、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト、Ｎｉ−
Ｚｎ系フェライト、Ｎｉ−Ｃｕ系フェライト、Ｃｕ−Ｚ
ｎ系フェライト、Ｍｇ−Ｚｎ系フェライト、Ｌｉ−ＺＮ
系フェライト等を挙げることができる。これらの中で
も、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライトおよびＮｉ−Ｚｎ系フェラ
イトが好ましい。なお、これらの酸化物軟質磁性材料は
その一種を単独で使用することもできるが、その二種以
上を併用することもできる。

【００２０】この高透磁率材料はボールミルやその他の
粉砕装置を用いて微細粉末にし、その粒径を１〜３００
ｎｍにし、好ましくは１〜１００ｎｍにし、特に好まし
くは１〜５０ｎｍにして使用するのが良い。このような
微細な粉末は、金属軟質磁性材料においては、溶融した
合金を真空雰囲気下に噴霧することにより得ることがで
きる。又、酸化物軟質磁性材料においては、ガラス結晶
化法、共沈焼成法、水熱合成法、フラックス法、アルコ
キシド法、プラズマジェット法等により微細粉末にする
ことができる。

【００２１】この発明においては、前記高透磁率材料
が、Ｓｉおよび／またはＡｌにより表面処理されている
ことが好ましい。かかる表面処理のなされた高透磁率材
料を用いると磁性層である最上層における表面の状態を
良好にすることができる。前記Ｓｉおよび／またはＡｌ
の含有量としては、前記高透磁率材料に対して、Ｓｉが
０．１〜５０重量％、Ａｌが０．１〜５０重量％である
のが好ましい。

【００２２】この高透磁率材料の含有量としては、この
高透磁率材料を含有する層を構成する全成分の合計に対
して５〜９９重量％、好ましくは６０〜９５重量％、更
に好ましくは７５〜９５重量％である。高透磁率材料の
含有量が前記範囲内にあると、最上層の磁化の安定化の
効果が十分に得られる。又、高透磁率材料が５重量％未
満であると、高透磁率層としての効果が得られなくなる
ことがあるので好ましくない。

【００２３】なお、この発明においては、非磁性粉末と
高透磁率材料とを同時に含有することもでき、その合計
の含有量としては、非磁性粉末と高透磁率材料とを含有
する層を構成する全成分の合計に対して５〜９９重量部
であり、好ましくは、６０〜９５重量部であり、特に好
ましくは、７５〜９５重量部である。

【００２４】（Ｂ−２−３）研磨剤 下層における少なくとも一層が含有する研磨剤として
は、α−アルミナ、溶融アルミナ、酸化クロム、α−酸
化鉄、酸化ケイ素、窒化ケイ素、炭化タングステン、炭
化モリブデン、炭化ホウ素、コランダム、窒化ホウ素な
どを挙げることができる。これらの中でも好ましくは、
α−アルミナ、酸化クロムおよびα−酸化鉄である。

【００２５】この研磨剤の平均粒子径としては、通常
０．０５μｍ以上であり、好ましくは０．１μｍ以上で
あり、特に好ましくは、０．１〜０．３μｍである。さ
らに、この発明においては、前記平均粒子径の範囲内に
ある、下層が含有する研磨剤の平均粒子径が、最上層が
含有する研磨剤の平均粒子径よりも大きいことが好まし
い。かかる場合、最上層の表面性を良好な状態にし、４
０℃で８０％ＲＨ下、および４０℃で２０％ＲＨ下での
走行耐久性を向上することができる点で好ましい。

【００２６】前記研磨剤は、新モース硬度が１２未満で
あるのが好ましい。かかる場合、最上層の表面性を良好
にすることができ、良好なＣ／Ｎ特性が得られる点で好
ましい。なお、ここで新モース硬度とは、基準となる１
５種の鉱物と比較することにより検体の硬度を決定する
ところの、経験的な硬度の尺度であり、最も軟質なもの
を１とし、最も硬質なものを１５とする。

【００２７】そして基準鉱物と硬度の値とを列挙する
と、滑石１、石膏２、方解石３、蛍石４、燐灰石５、正
長石６、石英７、水晶８、黄玉９、ざくろ石１０、ジル
コン１１、アルミナ１２、炭化珪素１３、炭化硼素１
４、ダイヤモンド１５である。これら基準鉱物と検体と
を互いにこすりあわせることにより、硬さを比較して１
〜１５の段階で硬度を決定する。

【００２８】下層における少なくとも１層が含有する前
記研磨剤の量としては、非磁性粉末または高透磁率材料
に対して、５〜６０重量部であり、好ましくは、１０〜
４０重量部であり、特に好ましくは、５〜２５重量部で
ある。この発明においては、研磨剤が上述した所定の平
均粒子径、新モース硬度および配合量の条件を満たす
と、エッジからの粒おちを防ぎ、良好なＣ／Ｎ特性およ
び走行耐久性を得ることができる。

【００２９】（Ｂ−２−４）バインダー 下層に用いるバインダーとしては、例えば、ポリウレタ
ン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合体等の塩化ビニ
ル系樹脂等が代表的なものであり、これらの樹脂は−Ｓ
Ｏ₃ Ｍ、−ＯＳＯ₃ Ｍ、−ＣＯＯＭ、−ＯＰＯ（ＯＭ
¹ ）₂ および−ＰＯ（ＯＭ¹ ）₂ から選ばれた少なくと
も一種の極性基を有する繰り返し単位を含むことが好ま
しい。ただし、上記極性基において、Ｍは水素原子ある
いはＮａ、Ｋ、Ｌｉ等のアルカリ金属を表わし、またＭ
¹ は水素原子、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ等のアルカリ原子あるい
はアルキル基を表わす。

【００３０】上記極性基は磁性粉末の分散性を向上させ
る作用があり、各樹脂中の含有率は０．１〜８．０モル
％、好ましくは０．５〜６．０モル％である。この含有
率が０．１モル％未満であると、磁性粉末の分散性が低
下し、また含有率が８．０モル％を超えると、磁性塗料
がゲル化し易くなる。なお、前記各樹脂の重量平均分子
量は、１５，０００〜５０，０００の範囲が好ましい。

【００３１】下層が含有するバインダーの配合量は、磁
性粉末１００重量部に対して通常、１０〜４０重量部、
好ましくは１５〜３０重量部である。バインダーは一種
単独に限らず、二種以上を組み合わせて用いることがで
きるが、この場合、ポリウレタンおよび／またはポリエ
ステルと塩化ビニル系樹脂との比は、重量比で通常、９
０：１０〜１０：９０であり、好ましくは７０：３０〜
３０：７０の範囲である。

【００３２】この発明にバインダーとして用いられる極
性基含有塩化ビニル系共重合体は、たとえば塩化ビニル
−ビニルアルコール共重合体など、水酸基を有する共重
合体と下記の極性基および塩素原子を有する化合物との
付加反応により合成することができる。 ClCH₂CH₂SO₃M、 Cl−CH₂CH₂OSO₃M、 Cl−CH₂COOM 、Cl-CH₂-P(=O)(OM¹)₂ これらの化合物から Cl-CH₂CH₂SO₃Na を例にとり、上記
反応を説明すると、次のようになる。 −CH₂C(OH)H −＋ ClCH₂CH₂SO₃Na→ - CH₂C(OCH₂CH₂SO₃Na)H- 。

【００３３】また、極性基含有塩化ビニル系共重合体
は、極性基を含む繰り返し単位が導入される不飽和結合
を有する反応性モノマーを所定量オートクレーブ等の反
応容器に仕込み、一般的な重合開始剤、たとえばＢＰＯ
（ベンゾイルパーオキシド）、ＡＩＢＮ（アゾビスイソ
ブチロニトリル）等のラジカル重合開始剤、レドックス
重合開始剤、カチオン重合開始剤などを用いて重合反応
を行なうことにより、得ることができる。

【００３４】スルホン酸又はその塩を導入するための反
応性モノマーの具体例としては、ビニルスルホン酸、ア
リルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、ｐ−スチレン
スルホン酸等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれらの
塩を挙げることができる。カルボン酸もしくはその塩を
導入するときは、例えば（メタ）アクリル酸やマレイン
酸等を用い、リン酸もしくはその塩を導入するときは、
例えば（メタ）アクリル酸−２−リン酸エステルを用い
ればよい。

【００３５】塩化ビニル系共重合体にはエポキシ基が導
入されていることが好ましい。このようにすると、重合
体の熱安定性が向上するからである。エポキシ基を導入
する場合、エポキシ基を有する繰り返し単位の共重合体
中における含有率は、１〜３０モル％が好ましく、１〜
２０モル％がより好ましい。エポキシ基を導入するため
のモノマーとしては、たとえばグリシジルアクリレート
が好ましい。

【００３６】なお、塩化ビニル系共重合体への極性基の
導入技術に関しては、特開昭５７−４４２２７号、同５
８−１０８０５２号、同５９−８１２７号、同６０−１
０１１６１号、同６０−２３５８１４号、同６０−２３
８３０６号、同６０−２３８３７１号、同６２−１２１
９２３号、同６２−１４６４３２号、同６２−１４６４
３３号等の公報に記載があり、この発明においてもこれ
らを利用することができる。

【００３７】次に、この発明に用いるポリエステルとポ
リウレタンの合成について述べる。一般に、ポリエステ
ルはポリオールと多塩基酸との反応により得られる。こ
の公知の方法を用いて、ポリオールと一部に極性基を有
する多塩基酸から、極性基を有するポリエステル（ポリ
オール）を合成することができる。

【００３８】極性基を有する多塩基酸の例としては、５
−スルホイソフタル酸、２−スルホイソフタル酸、４−
スルホイソフタル酸、３−スルホフタル酸、５−スルホ
イソフタル酸ジアルキル、２−スルホイソフタル酸ジア
ルキル、４−スルホイソフタル酸ジアルキル、３−スル
ホイソフタル酸ジアルキルおよびこれらのナトリウム
塩、カリウム塩を挙げることができる。

【００３９】ポリオ−ルの例としては、トリメチロ−ル
プロパン、ヘキサントリオ−ル、グリセリン、トリメチ
ロ−ルエタン、ネオペンチルグリコ−ル、ペンタエリス
リト−ル、エチレングリコ−ル、プロピレングリコ−
ル、１，３−ブタンジオ−ル、１，４−ブタンジオ−
ル、１，６−ヘキサンジオ−ル、ジエチレングリコ−
ル、シクロヘキサンジメタノ−ル等を挙げることができ
る。なお、他の極性基を導入したポリエステルも公知の
方法で合成することができる。

【００４０】次に、ポリウレタンに付いて述べる。これ
は、ポリオールとポリイソシアネートとの反応から得ら
れる。ポリオールとしては、一般にポリオールと多塩基
酸との反応によって得られるポリエステルポリオールが
使用されている。したがって、極性基を有するポリエス
テルポリオールを原料として用いれば、極性基を有する
ポリウレタンを合成することができる。

【００４１】ポリイソシアネートの例としては、ジフェ
ニルメタン−４−４’−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、
ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、トリレ
ンジイソシアネート（ＴＤＩ）、１，５−ナフタレンジ
イソシアネート（ＮＤＩ）、トリジンジイソシアネート
（ＴＯＤＩ）、リジンイソシアネートメチルエステル
（ＬＤＩ）等が挙げられる。

【００４２】また、極性基を有するポリウレタンの他の
合成方法として、水酸基を有するポリウレタンと極性基
および塩素原子を有する下記の化合物との付加反応も有
効である。 Cl−CH₂CH₂SO₃M、 Cl−CH₂CH₂OSO₂M、 Cl −CH₂COOM、 Cl-CH₂-P(=O)(OM¹)₂ なお、ポリウレタンへの極性基導入に関する技術として
は、特公昭５８−４１５６５号、特開昭５７−９２４２
２号、同５７−９２４２３号、同５９−８１２７号、同
５９−５４２３号、同５９−５４２４号、同６２−１２
１９２３号等の公報に記載があり、この発明においても
これらを利用することができる。

【００４３】この発明においては、バインダーとして下
記の樹脂を全バインダーの２０重量％以下の使用量で併
用することができる。その樹脂としては、重量平均分子
量が１０，０００〜２００，０００である、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共
重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、ブタ
ジエン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、
ポリビニルブチラール、セルロース誘導体（ニトロセル
ロース等）、スチレン−ブタジエン共重合体、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェ
ノキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル系樹脂、尿素ホ
ルムアミド樹脂、各種の合成ゴム系樹脂等が挙げられ
る。

【００４４】（Ｂ−２−５）その他の成分 この発明においては、下層の品質の向上を図るため、潤
滑剤、耐久性向上剤、分散剤、帯電防止剤および充填剤
などの添加剤をその他の成分として含有させることがで
きる。潤滑剤としては、脂肪酸および／または脂肪酸エ
ステルを使用することができる。この場合、脂肪酸の添
加量は、非磁性粉末または高透磁率材料に対して０．２
〜１０重量％が好ましく、０．５〜５重量％がより好ま
しい。添加量が０．２重量％未満であると、走行性が低
下し易く、また１０重量％を超えると、脂肪酸が磁性層
の表面にしみ出したり、出力低下が生じ易くなる。

【００４５】また、脂肪酸エステルの添加量も、非磁性
粉末または高透磁率材料に対して０．２〜１０重量％が
好ましく、０．５〜５重量％がより好ましい。その添加
量が０．２重量％未満であると、スチル耐久性が劣化し
易く、また１０重量％を超えると、脂肪酸エステルが最
上層や下層の表面にしみ出したり、出力低下が生じ易く
なる。

【００４６】脂肪酸と脂肪酸エステルとを併用して潤滑
効果をより高めたい場合には、脂肪酸と脂肪酸エステル
は重量比で１０：９０〜９０：１０が好ましく、さらに
好ましくは、３０：７０〜７０：３０である。脂肪酸と
しては一塩基酸であっても二塩基酸であってもよく、炭
素数は６〜３０が好ましく、１２〜２２の範囲がより好
ましい。

【００４７】脂肪酸の具体例としては、カプロン酸、カ
プリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パ
ルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、リノレ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、ベヘン酸、マロン
酸、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、
ピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、１，１２−ド
デカンジカルボン酸、オクタンジカルボン酸等が挙げら
れる。

【００４８】脂肪酸エステルの具体例としては、オレイ
ルオレート、イソセチルステアレート、ジオレイルマレ
ート、ブチルステアレート、ブチルパルミテート、ブチ
ルミリステート、オクチルミリステート、オクチルパル
ミテート、ペンチルステアレート、ペンチルパルミテー
ト、イソブチルオレエート、ステアリルステアレート、
ラウリルオレエート、オクチルオレエート、イソブチル
オレエート、エチルオレエート、イソトリデシルオレエ
ート、２−エチルヘキシルステアレート、２−エチルヘ
キシルパルミテート、イソプロピルパルミテート、イソ
プロピルミリステート、ブチルラウレート、セチル−２
−エチルヘキサレート、ジオレイルアジペート、ジエチ
ルアジペート、ジイソブチルアジペート、ジイソデシル
アジペート、オレイルステアレート、２−エチルヘキシ
ルミリステート、イソペンチルパルミテート、イソペン
チルステアレート、ジエチレングリコール−モノ−ブチ
ルエーテルパルミテート、ジエチレングリコール−モノ
−ブチルエーテルパルミテート等が挙げられる。

【００４９】また、上記脂肪酸、脂肪酸エステル以外の
潤滑剤として、例えばシリコーンオイル、フッ化カーボ
ン、脂肪酸アミド、α−オレフィンオキサイド等も使用
することができる。

【００５０】耐久性向上剤としては、ポリイソシアネー
トを挙げることができ、ポリイソシアネートとしては、
たとえばトリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）等と活性
水素化合物との付加体などの芳香族ポリイソシアネート
と、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）等と
活性水素化合物との付加体などの脂肪族ポリイソシアネ
ートがある。なお、前記ポリイソシアネートの重量平均
分子量は、１００〜３，０００の範囲にあることが望ま
しい。

【００５１】分散剤としては、カプリル酸、カプリン
酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステア
リン酸、オレイン酸などの炭素数１２〜１８の脂肪酸；
これらのアルカリ金属の塩またはアルカリ土類金属の塩
あるいはこれらのアミド；ポリアルキレンオキサイドア
ルキルリン酸エステル；レシチン；トリアルキルポリオ
レフィンオキシ第四アンモニウム塩；カルボキシル基お
よびスルホン酸基を有するアゾ系化合物などを挙げるこ
とができる。これらの分散剤は、通常、非磁性粉または
高透磁率材料に対して０．５〜５重量％の範囲で用いら
れる。

【００５２】帯電防止剤としては、第四級アミン等のカ
チオン界面活性剤；スルホン酸、硫酸、リン酸、リン酸
エステル、カルボン酸等の酸基を含むアニオン界面活性
剤；アミノスルホン酸等の両性界面活性剤；サポニン等
の天然界面活性剤などを挙げることができる。上述した
帯電防止剤は、通常、バインダーに対して０．０１〜４
０重量％の範囲で添加される。

【００５３】さらにこの発明においては、帯電防止剤と
して導電性微粉末を好ましく用いることができる。前記
帯電防止剤としては、酸化錫、銀粉、酸化銀、硝酸銀、
銀の有機化合物、銅粉等の金属粒子等、酸化亜鉛、硫酸
バリウム、酸化チタン等の金属酸化物等の顔料を酸化錫
被膜またはアンチモン固溶酸化錫被膜等の導電性物質で
コーティング処理したもの等を挙げることができる。

【００５４】前記導電性微粉末の平均粒子径としては、
５〜５０ｎｍであり、より好ましくは、５〜３０ｎｍで
ある。前記導電性微粉末の含有量としては、非磁性粉
末、高透磁率材料、または、これらの組合せ１００重量
部に対して、１〜２０重量部であり、より好ましくは、
５〜１５重量部である。

【００５５】（Ｃ）磁性層の最上層 （Ｃ−１）磁性層の最上層の説明 磁性層の最上層は、特に制限はなく、種々の方法を用い
て形成することができる。

【００５６】前記最上層の厚さとしては、通常０．５μ
ｍ未満であり、好ましくは０．１〜０．４μｍである。
磁性層の最上層の厚さが前記範囲内にあると、デジタル
記録媒体としての必要な各種の特性が改善される。

【００５７】（Ｃ−２）磁性層の最上層の組成 磁性層の最上層は、磁性粉末および研磨剤を含有する。
さらに、磁性層の最上層はバインダーおよびその他の成
分を含有してもよい。

【００５８】（Ｃ−２−１）磁性粉末 この発明に用いられる磁性粉末としては、強磁性酸化鉄
粉末、強磁性金属粉末、六方晶板状粉末等を挙げること
ができる。これらの中でも、後述する強磁性金属粉末や
六方晶板状粉末等を好適に用いることができる。前記強
磁性酸化鉄粉末としては、γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｆｅ₃ Ｏ
₄ 、または、これらの中間酸化鉄でＦｅＯ_x （１．３３
＜ｘ＜１．５）で表わされるものや、Ｃｏが付加された
もので（コバルト変性）Ｃｏ−ＦｅＯ_x （１．３３＜ｘ
＜１．５）で表わされるもの等を挙げることができる。

【００５９】前記強磁性金属粉末としては、Ｆｅ、Ｃｏ
をはじめ、Ｆｅ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｎｉ系、Ｆｅ−
Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃａ
系、Ｆｅ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ｎｉ−
Ｃｏ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｍｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ
−Ｓｉ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系、Ｆｅ−Ｎ
ｉ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｍｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ
系、Ｆｅ−Ｍｎ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ系、Ｎ
ｉ−Ｃｏ系、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ等を主成分とするメタル
磁性粉末等の強磁性金属粉末が挙げられる。中でも、Ｆ
ｅ系金属粉が電気的特性に優れる。

【００６０】他方、耐蝕性および分散性の点から見る
と、Ｆｅ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃａ系、Ｆｅ−Ａｌ−
Ｎｉ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆ
ｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａ
ｌ−Ｍｎ系等のＦｅ−Ａｌ系強磁性金属粉末が好まし
い。

【００６１】特に、この発明の目的に好ましい強磁性金
属粉末は、鉄を主成分とする金属磁性粉末であり、Ａ
ｌ、または、ＡｌおよびＣａを、Ａｌについては重量比
でＦｅ：Ａｌ＝１００：０．５〜１００：２０、Ｃａに
ついては重量比でＦｅ：Ｃａ＝１００：０．１〜１０
０：１０の範囲で含有するのが望ましい。

【００６２】Ｆｅ：Ａｌの比率をこのような範囲にする
ことで耐蝕性が著しく改良され、またＦｅ：Ｃａの比率
をこのような範囲にすることで電磁変換特性を向上さ
せ、ドロップアウトを減少させることができる。電磁変
換特性の向上やドロップアウトの減少がもたらされる理
由は明らかでないが、分散性が向上することによる保磁
力のアップや凝集物の減少等が理由として考えられる。

【００６３】この発明に用いられる強磁性粉末は、透過
型電子顕微鏡により観測されるその平均長軸長が０．２
５μｍ未満、好ましくは０．１０〜０．２２μｍ、更に
好ましくは０．１０〜０．１７μｍであり、Ｘ線回折法
による結晶子サイズが２００Å未満、好ましくは１００
〜１８０Åであり、また、軸比（平均長軸長／平均短軸
長）が通常１２以下であり、好ましくは１０以下、さら
に好ましくは５〜９である。強磁性粉末の平均長軸長、
軸比および結晶子サイズが前記範囲内にあると、さらに
電磁変換特性の向上を図ることができる。

【００６４】また、この発明に用いられる強磁性粉末
は、その保磁力（Ｈｃ）が通常６００〜５，０００ Ｏ
ｅの範囲にあることが好ましい。この保磁力が６００
Ｏｅ未満であると、電磁変換特性が劣化することがあ
り、また保磁力が５，０００ Ｏｅを超えると、通常の
ヘッドでは記録不能になることがあるので好ましくな
い。

【００６５】また、前記強磁性粉末は、磁気特性である
飽和磁化量（σ_s ）が通常、７０ｅｍｕ／ｇ以上である
ことが好ましい。この飽和磁化量が７０ｅｍｕ／ｇ未満
であると、電磁変換特性が劣化することがある。さらに
この発明においては、記録の高密度化に応じて、ＢＥＴ
法による比表面積で３０ｍ² ／ｇ以上、特に、４５ｍ²
／ｇ以上の強磁性金属粉末が好ましく用いられる。

【００６６】この比表面積ならびにその測定方法につい
ては、「粉体の測定」（J.M.Dallavelle,Clyeorr Jr.共
著、牟田その他訳；産業図書社刊）に詳述されており、
また「化学便覧」応用編Ｐ１１７０〜１１７１（日本化
学会編；丸善( 株）昭和４１年４月３０日発行）にも記
載されている。

【００６７】比表面積の測定は、例えば、粉末を１０５
℃前後で１３分間加熱処理しながら脱気して粉末に吸着
されているもの除去し、その後、この粉末を測定装置に
導入して窒素の初期圧力を０．５ｋｇ／ｍ² に設定し、
窒素により液体窒素温度（−１０５℃）で１０分間測定
を行なう。測定装置はたとえばカウンターソープ（湯浅
アイオニクス( 株）製）を使用する。

【００６８】さらに、好ましい強磁性粉末の構造として
は、該強磁性粉末に含有されているＦｅ原子とＡｌ原子
との含有量比が原子数比でＦｅ：Ａｌ= １００：１〜１
００：２０であり、かつ該強磁性粉末のＥＳＣＡによる
分析深度で１００Å以下の表面域に存在するＦｅ原子と
Ａｌ原子との含有量比が原子数比でＦｅ：Ａｌ= ３０
０：７０〜７０：３０である構造を有するものである。
あるいは、Ｆｅ原子とＮｉ原子とＡｌ原子とＳｉ原子と
が強磁性粉末に含有され、更にＺｎ原子とＭｎ原子との
少なくとも一方が該強磁性粉末に含有され、Ｆｅ原子の
含有量が９０原子％以上、Ｎｉ原子の含有量が１原子％
以上、１０原子％未満、Ａｌ原子の含有量が０．１原子
％以上、５原子％未満、Ｓｉ原子の含有量が０．１原子
％以上、５原子％未満、Ｚｎ原子の含有量および／また
はＭｎ原子の含有量（ただし、Ｚｎ原子とＭｎ原子との
両方を含有する場合はこの合計量）が０．１原子％以
上、５原子％未満であり、前記強磁性粉末のＥＳＣＡに
よる分析深度で１００Å以下の表面域に存在するＦｅ原
子とＮｉ原子とＡｌ原子とＳｉ原子とＺｎ原子および／
またはＭｎ原子の含有量比が原子数比でＦｅ：Ｎｉ：Ａ
ｌ：Ｓｉ（Ｚｎおよび／またはＭｎ）＝１００：（４以
下）：（１０〜６０）：（１０〜７０）：（２０〜８
０）である構造を有する強磁性粉末等が挙げられる。

【００６９】前記六方晶板状粉末としては、例えば、六
方晶系フェライトを挙げることができる。このような六
方晶系フェライトは、バイウムフェライト、ストロンチ
ウムフェライト等からなり、鉄元素の一部が他の元素
（例えば、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｈｂ
等）で置換されてもよい。このフェライト磁性体につい
ては、ＩＥＥＥ ｔｒａｎｓ ｏｎ ＭＡＧ−１８ １
６（１９８２）に詳しく述べられている。

【００７０】これらの中で、この発明においては、バリ
ウムフェライトを好ましく用いることができる。この発
明において好ましく用いられる前記バリウムフェライト
（以下、Ｂａ−フェライトと記す）磁性粉末の例として
は、Ｆｅの一部が少なくともＣｏおよびＺｎで置換され
た平均粒径（六方晶系フェライトの板面の対角線の高
さ）が４００〜９００Åであり、板状比（六方晶系フェ
ライトの板面の対角線の長さを板厚で除した値）が２．
０〜１０．０であり、好ましくは２．０〜６．０であ
り、保磁力（Ｈｃ）が４５０〜１５００であるＢａ−フ
ェライトを挙げることができる。

【００７１】Ｂａ−フェライト粉末は、ＦｅをＣｏで一
部置換することにより、保磁力が適正な値に制御されて
おり、さらにＺｎで一部置換することにより、Ｃｏ置換
のみでは得られない高い飽和磁化を実現し、高い再生出
力を有する電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を得るこ
とができる。また、さらにＦｅの一部をＮｂで置換する
ことにより、より高い再生出力を有する電磁変換特性に
優れた磁気記録媒体を得ることができる。また、本発明
に用いられるＢａ−フェライトは、さらにＦｅの一部が
Ｔｉ、Ｉｎ、 Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｓｎ等の遷移金属で置
換されていても差支えない。

【００７２】なお、この発明に使用するＢａ−フェライ
トは次の一般式で表わされる。 ＢａＯ・ｎ（（Ｆｅ_1-m Ｍ_m ）₂ Ｏ₃ ） ｛ただし、ｍ＞０．３６（但し、Ｃｏ＋Ｚｎ＝０．０８
〜０．３、Ｃｏ／Ｚｎ＝０．５〜１０) であり、ｎは
５．４〜１１．０であり、好ましくは５．４〜６．０で
あり、Ｍは置換金属を表わし、平均個数が３となる２種
以上の元素の組合せになる磁性粒子が好ましい。｝磁気
記録媒体としたときの再生出力を十分とするには、前記
Ｂａ−フェライトの平均粒径が３００Å以上であるのが
好ましく、表面平滑性を向上させ、ノイズレベルを低く
するには９００Å以下であるのが好ましい。また、板状
比を２．０以上とすることで、磁気記録媒体としたとき
に高密度記録に適した垂直配向率が得られ、表面平滑性
を向上させ、ノイズレベルを低くするには板状比が１
０．０以下であるのが好ましい。さらに記録信号保持の
ためには保磁力が４５０ Ｏｅ以上であることが好まし
く、ヘッドが飽和してしまうのを防ぐには１５００ Ｏ
ｅ以下が好ましい。

【００７３】この発明に用いられるバリウムフェライト
磁性粉末は、磁気特性である飽和磁化量（σ_S ）が通
常、５０ｅｍｕ／ｇ以上であることが望ましい。この飽
和磁化量が５０ｅｍｕ／ｇ未満であると、電磁変換特性
が劣化することがあるからである。さらにこの発明にお
いては、記録の高密度化に応じて、ＢＥＴ法による比表
面積が３０ｍ² ／ｇ以上のＢａ−フェライト磁性粉末を
用いることが望ましい。

【００７４】この発明に用いられる六方晶系の磁性粉末
を製造する方法としては、たとえば目的とするＢａ−フ
ェライトを形成するのに必要な各原素の酸化物、炭酸化
物を、たとえばホウ酸のようなガラス形成物質とともに
溶融し、得られた融液を急冷してガラスを形成し、つい
でこのガラスを所定温度で熱処理して目的とするＢａ−
フェライトの結晶粉末を析出させ、最後にガラス成分を
熱処理によって除去するという方法のガラス結晶化法の
他、共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、アルコ
キシド法、プラズマジェット法等が適用可能である。

【００７５】この発明においては、上述した磁性粉末の
含有量としては、５０〜９９重量％であり、好ましくは
６０〜９９重量％であり、特に好ましくは、７５〜９０
重量％である。

【００７６】（Ｃ−２−２）研磨剤 最上層が含有する研磨剤としては、（Ｂ−２−３）にお
いて記載した化合物を挙げることができる。これらの中
でも好ましいのは、α−アルミナである。

【００７７】この研磨剤の平均粒子径としては、通常
０．６μｍ以下であり、好ましくは０．４μｍ以下であ
り、特に好ましくは、０．１〜０．３μｍである。さら
に、この発明においては、前記範囲内にある、最上層が
含有する研磨剤の平均粒子径が、下層における少なくと
も１層が含有する研磨剤の平均粒子径よりも小さいこと
が好ましい。かかる場合、最上層の表面性、４０℃で８
０％ＲＨ下、および４０℃で２０％ＲＨ下における走行
耐久性を良好にすることができる点で好ましい。

【００７８】なお、この発明においては最上層である磁
性層は、平均粒子径の異なる２種以上の研磨剤を含有す
ることができ、かかる場合、小粒径の研磨剤の平均粒子
径が好ましくは０．３μｍ以下であり、より好ましくは
０．０１〜０．２μｍであり、また、大粒径の研磨剤の
平均粒子径が好ましくは０．１μｍ以上、より好ましく
は０．１〜０．４μｍである。

【００７９】前記研磨剤は、新モース硬度が１２以上で
あるのが好ましい。新モース硬度が１２以上であると最
上層の表面性、０℃におけるヘッドクロッグ特性、４０
℃で８０％ＲＨ下、および４０℃で２０ＲＨ％下におけ
る走行耐久性を良好にすることができる点で好ましい。

【００８０】前記研磨剤の最上層中の配合量としては、
磁性粉末１００重量部に対して、３〜２０重量部であ
り、好ましくは、５〜１５重量部であり、特に好ましく
は、５〜１０重量部である。また、最上層が２種以上の
研磨剤を含有する場合、大粒径および小粒径の研磨剤の
含有量としては、大粒径の研磨剤の含有量：小粒径の研
磨剤の含有量が、１：１０〜５：５の割合であることが
好ましく、より好ましくは２：８〜４：６の割合であ
る。この場合、最上層の表面性を良好にすることがで
き、０℃でのヘッドクロッグ特性、４０℃で８０％ＲＨ
下、および４０℃で２０ＲＨ％下における走行耐久性を
向上させることができるの点で好ましい。

【００８１】この発明においては、研磨剤が上述した所
定の平均粒子径、新モース硬度および配合量の条件を満
たすと、エッジからの粒おちを防ぎ、良好なＣ／Ｎ特性
および走行耐久性を得ることができる。

【００８２】（Ｃ−２−３）バインダー 磁性層からなる最上層が含有するバインダーは、（Ｂ−
２−４）の中で前述した通りである。磁性層からなる最
上層におけるバインダーの含有量としては、前記磁性粉
末１００重量部に対して、通常１０〜４０重量部、好ま
しくは１５〜３０重量部である。

【００８３】（Ｃ−２−４）その他の成分 磁性層からなる最上層が含有するその他の成分は、（Ｂ
−２−５）の中で前述した通りである。潤滑剤の含有量
としては、前記磁性粉末に対して、０．２〜１０重量％
が好ましく、０．５〜５重量％がより好ましい。分散剤
の含有量としては、前記磁性粉末に対して、０．５〜５
重量％である。導電性微粉末の含有量としては、磁性粉
末１００重量部に対して、通常１〜２０重量部であり、
より好ましくは、５〜１５重量部である。

【００８４】−磁気記録媒体の製造− この発明の磁気記録媒体は、磁性層の塗設を、下層が湿
潤状態にあるときにする所謂ウエット−オン−ウエット
方式で塗設するのが好ましい。このウエット−オン−ウ
エット方式は、公知の重層構造型の磁気記録媒体の製造
に使用される方法を適宜に採用することができる。たと
えば、一般的には磁性粉末、バインダー、分散剤、潤滑
剤、研磨剤、帯電防止剤等と溶媒とを混練して高濃度磁
性塗料を調製し、次いでこの高濃度磁性塗料を希釈して
磁性塗料を調製した後、この磁性塗料を非磁性支持体の
表面に塗布する。

【００８５】上記溶媒としては、たとえばアセトン、メ
チルエチルケトン（ＭＥＫ)、メチルイソブチルケトン
（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン等のケトン系；メタノ
ール、エタノール、プロパノール等のアルコール類；酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；テ
トラヒドロフラン等の環状エーテル類；メチレンクロラ
イド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホル
ム、ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素などを用
いることができる。

【００８６】磁性層形成成分の混練分散にあたっては、
各種の混練分散機を使用することができる。この混練分
散機としては、たとえば二本ロールミル、三本ロールミ
ル、ボールミル、ペブルミル、コボルミル、トロンミ
ル、サンドミル、サンドグラインダー、Sqegvariアトラ
イター、高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高
速度衝撃ミル、ディスパー、高速ミキサー、ホモジナイ
ザー、超音波分散機、オープンニーダー、連続ニーダ
ー、加圧ニーダー等が挙げられる。上記混練分散機のう
ち、０．０５〜０．５ＫＷ（磁性粉末１Ｋｇ当たり）の
消費電力負荷を提供することのできる混練分散機は、加
圧ニーダー、オープンニーダー、連続ニーダー、二本ロ
ールミル、三本ロールミルである。

【００８７】非磁性支持体上に、最上層の磁性層と、下
層とを塗布するには、具体的には、図１に示すように、
まず供給ロール３２から繰出した非磁性支持体１に、エ
クストルージョン方式の押し出しコーター１０、１１に
より、最上層用塗料と下層用塗料とをウェット−オン−
ウェット方式で重層塗布した後、配向用磁石または垂直
配向用磁石３３を通過し、乾燥器３４に導入し、ここで
上下に配したノズルから熱風を吹き付けて乾燥する。次
に、乾燥した各塗布層付きの非磁性支持体１をカレンダ
ーロール３８の組合せからなるスーパーカレンダー装置
３７に導き、ここでカレンダー処理した後に、巻き取り
ロール３９に巻き取る。このようにして得られた磁性フ
ィルムを所望幅のテープ状に裁断して例えば８ｍｍビデ
オカメラ用磁気記録テープを製造することができる。

【００８８】上記の方法において、各塗料は、図示しな
いインラインミキサーを通して押し出しコーター１０、
１１へと供給してもよい。なお、図中、矢印は非磁性支
持体の搬送方向を示す。押し出しコーター１０、１１に
はそれぞれ、液溜まり部１３、１４が設けられ、各コー
ターからの塗料をウェット−オン−ウェット方式で重ね
る。即ち、下層用塗料の塗布直後（未乾燥状態のとき）
に最上層の磁性層用塗料を重層塗布する。前記押し出し
コーターとしては、図２に示す２基の押し出しコーター
５ａ、５ｂのほか、図３および図４のような型式の押し
出しコーター５ｃ、５ｄを使用することもできる。これ
らの中で、図４に示した押し出しコーター５ｄが本発明
においては好ましい。押し出しコーター５ｄにより、下
層用途料２と最上層用塗料４とを共押し出しして重層塗
布する。

【００８９】上記塗料に配合される溶媒あるいはこの塗
料の塗布時の希釈溶媒としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類；メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール等のアルコール類；酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチレングリコールセ
ノアセテート等のエステル類；グリコールジメチルエー
テル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン等のエーテル類；ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素；メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素等のものが使
用できる。これらの各種の溶媒は単独で使用することも
できるし、またそれらの二種以上を併用することもでき
る。前記配向磁石あるいは垂直配向用磁石における磁場
は、２０〜５，０００ガウス程度であり、乾燥器による
乾燥温度は約３０〜１２０℃であり、乾燥時間は約０．
１〜１０分間程度である。

【００９０】なお、ウェット−オン−ウェット方式で
は、リバースロールと押し出しコーターとの組み合わ
せ、グラビアロールと押し出しコーターとの組み合わせ
なども使用することができる。さらにはエアドクターコ
ーター、ブレードコーター、エアナイフコーター、スク
ィズコーター、含浸コーター、トランスファロールコー
ター、キスコーター、キャストコーター、スプレイコー
ター等を組み合わせることもできる。

【００９１】このウェット−オン−ウェット方式におる
重層塗布においては、最上層の下側に位置する層が湿潤
状態になったままで上層の磁性層を塗布するので、下層
の表面（即ち、最上層との境界面）が滑らかになるとと
もに最上層の表面性が良好になり、かつ、上下層間の接
着性も向上する。この結果、特に高密度記録のために高
出力、低ノイズの要求されるたとえば磁気テープとして
の要求性能を満たしたものとなりかつ、高耐久性の性能
が要求されることに対しても膜剥離をなくし、膜強度が
向上し、耐久性が十分となる。また、ウェット−オン−
ウェット重層塗布方式により、ドロップアウトも低減す
ることができ、信頼性も向上する。

【００９２】−表面の平滑化− この発明においては、次にカレンダリングにより表面平
滑化処理を行うのも良い。その後は、必要に応じてバー
ニッシュ処理またはブレード処理を行なってスリッティ
ングされる。表面平滑化処理においては、カレンダー条
件として温度、線圧力、Ｃ／ｓ（コーティングスピー
ド）等を挙げることができる。上記のように処理した結
果の最上層の層の厚さは、０．５μｍ未満、好ましく
は、０．１〜０．４μｍにする。前記層の厚さが０．５
μｍ未満であると良好な電気的特性得ることができる。

【００９３】

【実施例】以下、この発明の実施例を説明する。以下に
示す成分、割合、操作順序はこの発明の範囲から逸脱し
ない範囲において種々変更しうる。なお、下記の実施例
において「部」はすべて重量部である。

【００９４】（実施例１）下記の最上層用磁性組成物の
各成分をニーダー・サンドミルを用いて混練分散して最
上層用磁性層塗料および下層用塗料を調製した。

【００９５】 ｛最上層用磁性塗料Ａ｝ Ｆｅ−Ａｌ系強磁性金属粉末・・・・・・・・・・・・・１００部 （Ｆｅ：Ａｌ重量比＝１００：８、平均長軸長：０．１６μｍ、 Ｈｃ：１，５８０ Ｏｅ、σ_s ：１２０ｅｍｕ／ｇ、 結晶子サイズ：１７０Å、軸比：８） スルホン酸金属塩含有塩化ビニル系樹脂・・・・・・・・・１０部 （日本ゼオン（株）製 ＭＲ−１１０） スルホン酸金属塩含有ポリウレタン樹脂・・・・・・・・・・５部 （東洋紡績（株）製、ＵＲ−８７００） 研磨剤・・・・・・・・・・・・種類および量は表１に記載の通り カ−ボンブラック（平均粒子径：４０ｎｍ）・・・・・・０．５部 ステアリン酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１部 ミリスチン酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１部 ブチルステアレート・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１部 シクロヘキサノン・・・・・・・・・・・・・・・・・・１００部 メチルエチルケトン・・・・・・・・・・・・・・・・・１００部 トルエン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１００部。

【００９６】｛最上層用磁性塗料Ｂ｝前記最上層用磁性
塗料Ａにおいて、Ｆｅ−Ａｌ系強磁性金属粉末に代え
て、Ｃｏ置換バリウムフェライト（Ｈｃ：１１００ Ｏ
ｅ、ＢＥＴ：４５ｍ² ／ｇ、σ_s ：６４ｅｍｕ／ｇ、板
状比：４）を用いた外は前記最上層用磁性塗料Ａの調製
と同様にして調製した。

【００９７】 ｛下層用塗料Ｃ｝ ＴｉＯ_1.85（アンチモン固溶酸化錫で表面処理、・・・・・９０部 結晶子サイズ：３０ｎｍ） カーボンブラック（平均粒子径：２７ｎｍ）・・・・・・・１０部 スルホン酸金属塩含有塩化ビニル系樹脂・・・・・・・・・・６部 （日本ゼオン（株）製 ＭＲ−１１０） スルホン酸金属塩含有ポリエステルポリウレタン樹脂・・・・３部 （東洋紡績（株）製、ＵＲ−８７００） 研磨剤・・・・・・・・・・・・種類および量は表１に記載の通り ミリスチン酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１部 ブチルステアレート・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１部 シクロヘキサノン・・・・・・・・・・・・・・・・・・１００部 メチルエチルケトン・・・・・・・・・・・・・・・・・１００部 トルエン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１００部。

【００９８】｛下層用塗料Ｄ｝前記下層用塗料Ｃにおい
て、ＴｉＯ_1.85に代えて、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌセンダスト
合金粉末（保持力Ｈｃ：４０Å／ｍ、ＭＩ：２００Ｈ／
ｍ、平均粒子径：５０ｎｍ）を用いた外は前記下層用塗
料Ｃの調製と同様にして調製した。

【００９９】｛下層用塗料Ｅ｝前記下層用塗料Ｃにおい
て、ＴｉＯ_1.85９０部に代えて、ＣａＣＯ₃ ９０部を用
いた外は前記下層用塗料Ｃの調製と同様にして調製し
た。

【０１００】｛下層用塗料Ｆ｝前記下層用塗料Ｃにおい
て、ＴｉＯ_1.85に代えて、Ｃｏ−γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ （平均
粒子径：０．１６μｍ、結晶子サイズ：３３０Å、Ｈ
ｃ：８００ Ｏｅ）９０部を用いた外は前記下層用塗料
Ｃの調製と同様にして調製した。

【０１０１】得られた上層用磁性塗料および下層用塗料
のそれぞれに、ポリイソシアネート化合物（コロネート
Ｌ、日本ポリウレタン工業（株）製）５部を添加した。

【０１０２】（実施例１〜１３および比較例１〜４）表
１に示された組成の塗膜構成により、ウエット−オン−
ウエット方式で厚さ１０μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上に塗布した後、塗膜が未乾燥であるうち
に磁場配向処理を行ない、続いて乾燥を施してから、カ
レンダーで表面平滑化処理を行ない、表１に示された厚
みを有する下層および最上層である磁性層を形成した。

【０１０３】さらに、この磁性層とは反対側の前記ポリ
エチレンテレフタレートフィルムの面（裏面）に下記の
組成を有する塗料を塗布し、この塗膜を乾燥し、カレン
ダー加工をすることによって、厚さ０．８μｍのバック
コート層を形成し、広幅の原反磁気テープを得た。

【０１０４】 カーボンブラック・・・・・・・・・・・・・・・・・・・４０部 （ラベン１０３５） 硫酸バリウム・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０部 （平均粒子径３００ｎｍ） ニトロセルロース・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２５部 ポリウレタン系樹脂・・・・・・・・・・・・・・・・・・２５部 （日本ポリウレタン（株）製、Ｎ−２３０１） ポリイソシアネート化合物・・・・・・・・・・・・・・・１０部 （日本ポリウレタン（株）製、コロネートＬ） シクロヘキサノン・・・・・・・・・・・・・・・・・・４００部 メチルエチルケトン・・・・・・・・・・・・・・・・・２５０部 トルエン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２５０部。

【０１０５】こうして得られた原反磁気テープをスリッ
トして８ｍｍ幅のビデオ用磁気記録媒体を作成した。こ
の磁気記録媒体につき、以下の評価試験を行った。その
結果を表１に示す。

【０１０６】＜Ｃ／Ｎ特性＞９ＭＨｚの単一波を記録
し、その信号を再生した際の出力レベルを基準サンプル
（比較例１）との比較で表した。

【０１０７】＜オーバーライト特性＞２ＭＨｚの信号を
飽和レベルで記録し、その後に９ＭＨｚの信号を（上書
き）記録した際の２ＭＨｚの信号の残留出力レベルを測
定した。残留出力レベルの低い程オーバーライト特性は
良好であるとする。

【０１０８】＜走行耐久性＞ −４０℃、８０％ＲＨでの走行耐久性− ４０℃、８０％ＲＨの環境下で、Ｓ−５５０（ソニー
（株）製）を用いて、テープの全長走行を５０パス行な
い、５０パス後のジッター値を測定した。測定にはメグ
ロエレクトロニクス（株）製のＶＴＲジッターメーター
「ＭＫ−６１２４」を使用して測定した（測定単位：μ
ｓ）。

【０１０９】−４０℃、２０％ＲＨでの走行耐久性− ４０℃、２０％ＲＨの環境下で、Ｓ−５５０（ソニー
（株）製）を用いて、テープの全長走行を５０パス行な
い、５０パス後のＲＦ出力低下値（ｄＢ）を測定した。

【０１１０】＜低温（０℃）でのヘッドクロッグ＞低温
下（０℃）で、Ｓ−５５０（ソニー（株）製）を用いて
テープを全長走行させ、ＲＦ出力の低下が２ｄＢ以上、
１秒以上継続して起こった場合をヘッド目づまりとし、
発生回数を数えた。

【０１１１】

【表１】

【０１１２】

【発明の効果】この発明により、Ｃ／Ｎ特性、オーバー
ライト特性、走行耐久性およびヘッドクロッグ特性に優
れると共に、デジタル用記録媒体として好適な磁気録媒
体を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、ウエット−オン−ウエット塗布方式に
よる磁性層の重層塗布を説明するための図である。

【図２】図２は、磁性塗料を塗布するための押し出しコ
ーターの一例を示す図である。

【図３】図３は、磁性塗料を塗布するための押し出しコ
ーターの一例を示す図である。

【図４】図４は、磁性塗料を塗布するための押し出しコ
ーターの一例を示す図である。

【符合の説明】

１ 非磁性支持体 ２ 下層用塗料 ４ 最上層用塗料 ５ａ 押し出しコーター ５ｂ 押し出しコーター ５ｃ 押し出しコーター ５ｄ 押し出しコーター １０ 押し出しコーター １１ 押し出しコーター １３ 液溜り部 １４ 液溜り部 ３２ 供給ロール ３３ 配向用磁石または垂直配向用磁石 ３４ 乾燥器 ３７ スーパーカレンダー装置 ３８ カレンダーロール ３９ 巻き取りロール

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上に、単数または複数の層
   からなる下層と磁性層の最上層とをこの順に積層してな
   り、前記下層における少なくとも一層および最上層が、
   それぞれ異なる平均粒子径または新モース硬度を有する
   研磨剤を含有し、また前記最上層以外の少なくとも一層
   が非磁性粉末または高透磁率材料を含有することを特徴
   とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 磁性層の最上層が含有する研磨剤の平均
   粒子径が、下層における少なくとも１層が含有する研磨
   剤の平均粒子径よりも小さい前記請求項１に記載の磁気
   記録媒体。
3. 【請求項３】 磁性層の最上層が含有する研磨剤の新モ
   ース硬度が１２以上であり、下層における少なくとも１
   層が含有する研磨剤の新モース硬度が１２未満である前
   記請求項１に記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 磁性層の最上層が、平均粒子径の異なる
   ２種以上の研磨剤を含有する前記請求項１に記載の磁気
   記録媒体。