JPH0620260A

JPH0620260A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH0620260A
Application number: JP25888791A
Authority: JP
Inventors: Setsuko Kawahara; 説子河原; Seiichi Tobisawa; 飛沢　　誠一; Katsuyuki Takeda; 克之竹田
Original assignee: Toshiba Corp; Konica Minolta Inc
Current assignee: Toshiba Corp; Konica Minolta Inc
Priority date: 1991-10-07
Filing date: 1991-10-07
Publication date: 1994-01-28

Abstract

(57)【要約】【目的】Ｙ−Ｃ／Ｎ、Ｙ−ｏｕｔ、ＢｍおよびＲＦエ
ンベローブの良好な磁気記録媒体を提供すること。【構成】本発明は、主成分としてコバルト含有酸化鉄
系磁性粉を含有する第１の磁性層と、主成分としてバリ
ウムフェライト磁性粉含有酸化鉄系磁性粉を含有する第
２磁性層とが、この順に非磁性支持体上に湿潤状態で塗
設され、第２磁性層の表面における二乗平均粗さ（ＲＭ
Ｓ）が１．０〜１５ｎｍであり、前記二乗平均粗さ（Ｒ
ＭＳ）と中心線平均粗さ（Ｒａ）との比（ＲＭＳ／Ｒ
ａ）が１．０〜１．５であることを特徴とする磁気記録
媒体と、この磁気記録媒体において、前記第２磁性層表
面のうねり（Ａ）と前記非磁性支持体の磁性層形成面の
うねり（Ｂ）とが、それぞれ、（Ａ）≦０．０２２μ
ｍ、（Ｂ）≦０．０２０μｍの条件を満たす磁気記録媒
体である。【効果】本発明によると、Ｙ−Ｃ／Ｎ、Ｙ−ｏｕｔ、
ＢｍおよびＲＦエンベローブが向上し、優れた電気変換
特性を有する磁気記録媒体を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体に関し、さ
らに詳しくは、低周波から高周波に至る広域に渡って磁
気記録特性が良好で、経時安定性および走行耐久性に優
れた磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術と発明が解決しようとする課題】ビデオテ
ープ等の従来の磁気記録媒体は、バリウムフェライト磁
性粉を含有する磁性層を非磁性支持体上に形成してな
る。このバリウムフェライト磁性粉は、メタル粉よりも
酸化されにくく、耐蝕性に優れ、しかも経時安定性が良
く、しかも垂直配向されることによって高密度記録可能
な磁性層とすることができ、さらには比較的低抗磁力で
あるにもかかわらず、高周波特性に優れているので、近
年注目されている磁性材である。

【０００３】しかしながら、このバリウムフェライト粉
は高周波特性に優れている一方、低周波特性はメタル粉
に及ばず、したがって、実用的な磁気記録媒体の材料と
して有用になり得るか否かの懸念がある。そこで、非磁
性性支持体上に複数の磁性層を積層する重層技術を応用
して、上層にバリウムフェライト磁性粉を含有する上層
磁性層を、下層には低周波特性および経時安定性に優れ
たコバルト含有酸化鉄を含有する下層磁性層を非磁性支
持体上に形成することによって、広域に渡る磁気記録特
性の良好な磁気記録媒体を完成させようと、この発明者
らは鋭意研究を行った。

【０００４】その結果、上層にバリウムフェライト磁性
粉を含有する上層磁性層を、下層にはコバルト含有酸化
鉄を含有する下層磁性層を非磁性支持体上に有する磁気
記録媒体は、バリウムフェライト磁性粉を含有する単層
磁性層を非磁性支持体上に有する磁気記録媒体、あるい
はコバルト含有酸化鉄を含有する単層の磁性層を非磁性
支持体上に形成してなる磁気記録媒体よりも、電気特性
が低下し、特にＣ／Ｎ特性の劣化が激しく、重層構造に
したことによる特性を得ることができなかった。

【０００５】重層構造にすることによる特性をより一層
向上させるように、ウエット−オン−ウエット方式で形
成された重層磁性層を薄層にすればする程、前記傾向は
顕著になることが判明した。本発明は前記事情に基づい
てなされたものである。すなわち、本発明の目的は、主
成分としてコバルト含有酸化鉄系磁性粉を含有する第１
磁性層と、主成分としてバリウムフェライト磁性粉を含
有する第２磁性層とを、この順に非磁性支持体上にウエ
ット−オン−ウエット方式で形成してなる重層構造であ
りながら、Ｃ／Ｎの劣化がなく、しかもＢｍの良好な磁
気記録媒体を提供することにある。

【０００６】また、本発明の他の目的は、主成分として
コバルト含有酸化鉄系磁性粉を含有する第１磁性層と、
主成分としてバリウムフェライト磁性粉を含有する第２
磁性層とを、この順に非磁性支持体上にウエット−オン
−ウエット方式で形成してなる重層構造でありながら、
Ｃ／Ｎの劣化がなく、しかもＢｍおよびＲＦエンベロー
ブの良好な磁気記録媒体を提供することにある。

【０００７】

【前記課題を解決するための手段】前記課題を解決する
ための請求項１に記載の発明は、主成分としてコバルト
含有酸化鉄系磁性粉を含有する第１磁性層と、主成分と
してバリウムフェライト磁性粉を含有する第２磁性層と
が、この順に非磁性支持体上に湿潤状態で塗設され、第
２磁性層の光波干渉式三次元表面粗さ計による二乗平均
平方根（ＲＭＳ）が１．０〜１５ｎｍであり、前記二乗
平均平方根（ＲＭＳ）と光波干渉式三次元表面粗さ計に
よる中心線平均粗さ（Ｒａ）との比（ＲＭＳ／Ｒａ）が
１．０〜１．５であることを特徴とする磁気記録媒体で
あり、請求項２に記載の発明は、前記第２磁性層表面の
うねり（Ａ）と前記非磁性支持体における磁性層形成面
の表面うねり（Ｂ）とが、それぞれ、（Ａ）≦０．０２２μｍ、（Ｂ）≦０．０２０μｍの条件を満たす前記請求項１に記載の磁気記録媒体であ
る。

【０００８】本発明の磁気記録媒体は、基本的に、非磁
性支持体の表面に第１磁性層と第２磁性層とをこの順番
にウエット−オン−ウエット方式により積層してなる。 −非磁性支持体− 前記非磁性支持体を形成する材料としては、たとえばポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナ
フタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポ
リオレフィン類、セルローストリアセテート、セルロー
スダイアセテート等のセルロース誘導体、ポリアミド、
ポリカーボネート等のプラスチックなどを挙げることが
できる。

【０００９】前記非磁性支持体の形態は特に制限はな
く、主にテープ状、フィルム状、シート状、カード状、
ディスク状、ドラム状などがある。非磁性支持体の厚み
には特に制約はないが、たとえばフィルム状やシート状
の場合は通常３〜１００μｍ、好ましくは５〜５０μｍ
であり、ディスクやカード状の場合は３０μｍ〜１０ｍ
ｍ程度、ドラム状の場合はレコーダー等に応じて適宜に
選択される。

【００１０】なお、この非磁性支持体は単層構造のもの
であっても多層構造のものであってもよい。また、この
非磁性支持体は、たとえばコロナ放電処理等の表面処理
を施されたものであってもよい。なお、非磁性支持体上
の上記磁性層が設けられていない面（裏面）には、磁気
記録媒体の走行性の向上、帯電防止および転写防止など
を目的として、バックコート層を設けるのが好ましく、
また磁性層と非磁性支持体との間には、下引き層を設け
ることもできる。

【００１１】−第１磁性層− 前記第１磁性層は、主成分であるコバルト含有酸化鉄系
磁性粉と後述するバインダーと後述するその他の成分と
を含有する。前記コバルト含有酸化鉄系磁性粉として
は、例えば、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃、Ｃｏ被着γ−Ｆ
ｅ₂ Ｏ₃ 、Ｃｏ含有Ｆｅ₃ Ｏ_4、、Ｃｏ被着Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、
Ｃｏ含有磁性ＦｅＯ_X （４／３＜ｘ＜３／２）等が挙げ
られる。これらの中でも、本発明の磁気記録媒体に好ま
しいのは、Co含有磁性ＦｅＯ_X （４／３＜ｘ＜３／２）
粉末である。

【００１２】本発明において第１磁性層に好ましく用い
られる具体例としては、Ｃｏ−γＦｅ₂ Ｏ₃[Ｈｃ：８０
０Ｏｅ、ＢＥＴ値５０ｍ² ／ｇ( ただしＢＥＴは後述
する）］を挙げることができる。本発明においては、記
録の高密度化に応じて、ＢＥＴ法による比表面積で４５
ｍ² ／ｇ以上の強磁性粉が好ましく用いられる。なお、
本発明における強磁性粉（強磁性金属粉末も含める）の
比表面積は、後述するＢＥＴ法と称される比表面積の測
定方法によって測定された表面積を単位グラム当たりの
平方メートルで表わしたものである。

【００１３】−第２磁性層− 第２磁性層は、主成分であるバリウムフェライトと後述
するバインダーと後述するその他の成分とを含有する。
前記第２磁性層としては、種々のバリウムフェライト用
いることができるが、本発明で用いることのできる好ま
しいＢａ−フェライト磁性粉としては、Ｂａ−フェライ
ト粉の、Ｆｅの一部が少なくともＣｏおよびＺｎで置換
された平均粒径（六方晶系フェライトの板面の対角線の
高さ）４００〜９００Å、板状比（六方晶系フェライト
の板面の対角線の長さを板厚で除した値）２．０〜１
０．０、保磁力（Ｈｃ）４５０〜１５００のＢａ−フェ
ライトを挙げることができる。

【００１４】Ｂａ−フェライト粉は、ＦｅをＣｏで一部
置換することにより、保磁力が適正な値に制御されてお
り、さらにＺｎで一部置換することにより、Ｃｏ置換の
みでは得られない高い飽和磁化を実現し、高い再生出力
を有する電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を得ること
ができる。また、さらにＦｅの一部をＮｂで置換するこ
とにより、より高い再生出力を有する電磁変換特性に優
れた磁気記録媒体を得ることができる。また、本発明に
用いられるＢａ−フェライトは、さらにＦｅの一部がＴ
ｉ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｓｎ等の遷移金属で置換
されていても差支えない。

【００１５】なお、本発明に使用するＢａ−フェライト
は次の一般式で表わされる。ＢａＯ・ｎ（（Ｆｅ_1-m Ｍ_m ）₂ Ｏ₃ ）［ただし、ｍ＞０．３６（但し、Ｃｏ＋Ｚｎ＝０．０８
〜０．３、Ｃｏ／Ｚｎ＝０．５〜１０) であり、ｎは
５．４〜１１．０であり、好ましくは５．４〜６．０で
あり、Ｍは置換金属を表わし、平均個数が３となる２種
以上の元素の組合せになる磁性粒子が好ましい。］本発明において、Ｂａ−フェライトの平均粒径、板状
比、保磁力が前記範囲内にあると好ましいとするその理
由は、次のようである。すなわち、平均粒径４００Å未
満の場合は、磁気記録媒体としたときの再生出力が不十
分となり、逆に９００Åを越えると、磁気記録媒体とし
たときの表面平滑性が著しく悪化し、ノイズレベルが高
くなりすぎることがあり、また、板状比が２．０未満で
は、磁気記録媒体としたときに高密度記録に適した垂直
配向率が得られず、逆に板状比が６．０を越えると磁気
記録媒体としたときの表面平滑性が著しく悪化し、ノイ
ズレベルが高くなりすぎ、さらに、保磁力が３５０Ｏ
ｅ未満の場合には、記録信号の保持が困難になり、２０
００Ｏｅを越えると、ヘッド限界が飽和減少を起こし
記録が困難になることがあるからである。

【００１６】本発明に用いられるバリウムフェライト磁
性粉は、磁気特性である飽和磁化量（σ_S ）が通常、６
０ｅｍｕ／ｇ以上であることが望ましい。この飽和磁化
量が６０ｅｍｕ／ｇ未満であると、電磁変換特性が劣化
することがあるからである。さらに本発明においては、
記録の高密度化に応じて、ＢＥＴ法による比表面積が４
５ｍ² ／ｇ以上のＢａ−フェライト磁性粉を用いること
が望ましい。本発明に用いられるＢａ−フェライトの好
ましい一具体例としては、Ｃｏ−置換Ｂａフェライト
［Ｈｃ： 1１００Ｏｅ、ＢＥＴ：４５ｍ² ／ｇ、 σ
_s : ６４、板状比：４］を挙げることができる。

【００１７】本発明に用いられる六方晶系の磁性粉を製
造する方法としては、たとえば目的とするＢａ−フェラ
イトを形成するのに必要な各原素の酸化物、炭酸化物
を、たとえばホウ酸のようなガラス形成物質とともに溶
融し、得られた融液を急冷してガラスを形成し、ついで
このガラスを所定温度で熱処理して目的とするＢａ−フ
ェライトの結晶粉を析出させ、最後にガラス成分を熱処
理によって除去するという方法のガラス結晶化法の他、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、アルコキシ
ド法、プラズマジェット法等が適用可能である。

【００１８】−ＢＥＴ法− この比表面積ならびにその測定方法については、「粉体
の測定」（J.M.Dallavelle,ClyeorrJr. 共著、牟田その
他訳；産業図書社刊）に詳述されており、また「化学便
覧」応用編Ｐ１１７０〜１１７１（日本化学会編；丸善
( 株）昭和４１年４月３０日発行）にも記載されてい
る。比表面積の測定は、たとえば粉末を１０５℃前後で
１３分間加熱処理しながら脱気して粉末に吸着されてい
るもの除去し、その後、この粉末を測定装置に導入して
窒素の初期圧力を０．５ｋｇ／ｍ² に設定し、窒素によ
り液体窒素温度（−１０５℃）で１０分間測定を行な
う。測定装置はたとえばカウンターソープ（湯浅アイオ
ニクス( 株）製）を使用する。

【００１９】−バインダー− 本発明に用いるバインダーとしては、例えば、ポリウレ
タン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合体などの塩化
ビニル系樹脂などが代表的なものであり、これらの樹脂
は−ＳＯ₃ Ｍ、−ＯＳＯ₃ Ｍ、−ＣＯＯＭおよび−ＰＯ
（ＯＭ¹ ）₂ から選ばれた少なくとも一種の極性基を有
する繰り返し単位を含むことが好ましい。

【００２０】ただし、上記極性基において、Ｍは水素原
子あるいはＮａ、Ｋ、Ｌｉ等のアルカリ金属を表わし、
またＭ¹ は水素原子、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ等のアルカリ原子
あるいはアルキル基を表わす。上記極性基は強磁性粉末
の分散性を向上させる作用があり、各樹脂中の含有率は
０．１〜８．０モル％、好ましくは０．５〜６．０モル
％である。この含有率が０．１モル％未満であると、強
磁性粉末の分散性が低下し、また含有率が８．０モル％
を超えると、磁性塗料がゲル化し易くなる。なお、前記
各樹脂の重量平均分子量は、１５，０００〜５０，００
０の範囲が好ましい。

【００２１】結合剤の磁性層における含有率は、強磁性
粉末１００重量部に対して通常、１０〜４０重量部、好
ましくは１５〜３０重量部である。結合剤は一種単独に
限らず、二種以上を組み合わせて用いることができる
が、この場合、ポリウレタンおよび／またはポリエステ
ルと塩化ビニル系樹脂との比は、重量比で通常、９０:1
０〜１０：９０であり、好ましくは７０：３０〜３０：
７０の範囲である。

【００２２】本発明に結合剤として用いられる極性基含
有塩化ビニル系共重合体は、たとえば塩化ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体など、水酸基を有する共重合体と
下記の極性基および塩素原子を有する化合物との付加反
応により合成することができる。 Cｌ−CH₂ CH₂SO₃M 、 Cｌ−CH₂CH₂OSO₃M 、 Cｌ−CH₂CO
OM 、Cl-CH_2-P(=O)(OM¹)₂ これらの化合物からＣｌＣＨ₂ ＣＨ₂ ＳＯ₃ Ｎａを例に
とり、上記反応を説明すると、次のようになる。

【００２３】−（CH₂C(OH)H −＋ CｌCH₂CH₂SO₃Na → -
CH₂C(OCH₂CH₂SO₃Na)H)- また、極性基含有塩化ビニル系共重合体は、極性基を含
む繰り返し単位が導入される不飽和結合を有する反応性
モノマーを所定量オートクレーブ等の反応容器に仕込
み、一般的な重合開始剤、たとえばＢＰＯ（ベンゾイル
パーオキシド）、ＡＩＢＮ（アゾビスイソブチロニトリ
ル）等のラジカル重合開始剤、レドックス重合開始剤、
カチオン重合開始剤などを用いて重合反応を行なうこと
により、得ることができる。

【００２４】スルホン酸またはその塩を導入するための
反応性モノマーの具体例としては、ビニルスルホン酸、
アリルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、ｐ−スチレ
ンスルホン酸等の不飽和炭化水素スルホン酸およびこれ
らの塩を挙げることができる。カルボン酸もしくはその
塩を導入するときは、たとえば（メタ）アクリル酸やマ
レイン酸等を用い、リン酸もしくはその塩を導入すると
きは、たとえば（メタ）アクリル酸−２−リン酸エステ
ルを用いればよい。

【００２５】塩化ビニル系共重合体にはエポキシ基が導
入されていることが好ましい。このようにすると、重合
体の熱安定性が向上するからである。エポキシ基を導入
する場合、エポキシ基を有する繰り返し単位の共重合体
中における含有率は、１〜３０モル％が好ましく、１〜
２０モル％がより好ましい。

【００２６】エポキシ基を導入するためのモノマーとし
ては、たとえばグリシジルアクリレートが好ましい。な
お、塩化ビニル系共重合体への極性基の導入技術に関し
ては、特開昭５７−４４２２７号、同５８−１０８０５
２号、同５９−８１２７号、同６０−１０１１６１号、
同６０−２３５８１４号、同６０−２３８３０６号、同
６０−２３８３７１号、同６２−１２１９２３号、同６
２−１４６４３２号、同６２−１４６４３３号等の公報
に記載があり、本発明においてもこれらを利用すること
ができる。

【００２７】次に、本発明に用いるポリエステルとポリ
ウレタンの合成について述べる。一般に、ポリエステル
はポリオールと多塩基酸との反応により得られる。この
公知の方法を利用して、ポリオールと一部に極性基を有
する多塩基酸から、極性基を有するポリエステル（ポリ
オール）を合成することができる。極性基を有する多塩
基酸の例としては、５−スルホイソフタル酸、２−スル
ホイソフタル酸、４−スルホイソフタル酸、３−スルホ
フタル酸、５−スルホイソフタル酸ジアルキル、２−ス
ルホイソフタル酸ジアルキル、４−スルホイソフタル酸
ジアルキル、３−スルホイソフタル酸ジアルキルおよび
これらのナトリウム塩、カリウム塩を挙げることができ
る。

【００２８】ポリオ−ルの例としては、トリメチロ−ル
プロパン、ヘキサントリオ−ル、グリセリン、トリメチ
ロ−ルエタン、ネオペンチルグリコ−ル、ペンタエリス
リト−ル、エチレングリコ−ル、プロピレングリコ−
ル、１，３−ブタンジオ−ル、１，４−ブタンジオ−
ル、１，６−ヘキサンジオ−ル、ジエチレングリコ−
ル、シクロヘキサンジメタノ−ル等を挙げることができ
る。なお、他の極性基を導入したポリエステルも公知の
方法で合成することができる。

【００２９】次に、ポリウレタンに付いて述べる。これ
は、ポリオールとポリイソシアネートとの反応から得ら
れる。ポリオールとしては、一般にポリオールと多塩基
酸との反応によって得られるポリエステルポリオールが
使用されている。したがって、極性基を有するポリエス
テルポリオールを原料として利用すれば、極性基を有す
るポリウレタンを合成することができる。

【００３０】ポリイソシアネートの例としては、ジフェ
ニルメタン−４−４′−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、
ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、トリレ
ンジイソシアネート（ＴＤＩ）、１，５−ナフタレンジ
イソシアネート（ＮＤＩ）、トリジンジイソシアネート
（ＴＯＤＩ）、リジンイソシアネートメチルエステル
（ＬＤＩ）等が挙げられる。

【００３１】また、極性基を有するポリウレタンの他の
合成方法として、水酸基を有するポリウレタンと極性基
および塩素原子を有する下記の化合物との付加反応も有
効である。 Cｌ−CH₂ CH₂SO₃M、 Cｌ−CH₂CH₂OSO₂M、 Cｌ−CH₂COOM
、Cl-CH_2-P(=O)(OM¹)₂。

【００３２】なお、ポリウレタンへの極性基の導入技術
に関しては、特公昭５８−４１５６５号、特開昭５７−
９２４２２号、同５７−９２４２３号、同５９−８１２
７号、同５９−５４２３号、同５９−５４２４号、同６
２−１２１９２３号等の公報に記載があり、本発明にお
いてもこれらを利用することができる。本発明において
は、結合剤として下記の樹脂を全結合剤の２０重量％以
下の使用量で併用することができる。

【００３３】その樹脂としては、重量平均分子量が１
０，０００〜２００，０００である、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、ブタジエ
ン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリ
ビニルブチラール、セルロース誘導体（ニトロセルロー
ス等）、スチレン−ブタジエン共重合体、各種の合成ゴ
ム系樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、
メラミン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、アク
リル系樹脂、尿素ホルムアミド樹脂などが挙げられる。

【００３４】−その他の成分− 本発明では磁性層の品質の向上を図るため、耐久性向上
剤、分散剤、潤滑剤、研磨剤、帶電防止剤および充填剤
などの添加剤をその他の成分として含有させることがで
きる。耐久性向上剤としては、ポリイソシアネートを挙
げることができ、ポリイソシアネートとしては、たとえ
ばトリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）等と活性水素化
合物との付加体などの芳香族ポリイソシアネートと、ヘ
キサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）等と活性水
素化合物との付加体などの脂肪族ポリイソシアネートが
ある。なお、前記ポリイソシアネートの重量平均分子量
は、１００〜３，０００の範囲にあることが望ましい。

【００３５】分散剤としては、カプリル酸、カプリン
酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステア
リン酸、オレイン酸などの炭素数１２〜１８の脂肪酸；
これらのアルカリ金属の塩またはアルカリ土類金属の塩
あるいはこれらのアミド；ポリアルキレンオキサイドア
ルキルリン酸エステル；レシチン；トリアルキルポリオ
レフィンオキシ第四アンモニウム塩；カルボキシル基お
よびスルホン酸基を有するアゾ系化合物などを挙げるこ
とができる。

【００３６】これらの分散剤は、通常、強磁性粉に対し
て０．５〜５重量％の範囲で用いられる。潤滑剤として
は、脂肪酸および／または脂肪酸エステルを使用するこ
とができる。この場合、脂肪酸の添加量は強磁性粉に対
し０．２〜１０重量％が好ましく、０．５〜５重量％が
より好ましい。

【００３７】添加量が０．２重量％未満であると、走行
性が低下し易く、また１０重量％を超えると、脂肪酸が
磁性層の表面にしみ出したり、出力低下が生じ易くな
る。また、脂肪酸エステルの添加量も強磁性粉に対して
０．２〜１０重量％が好ましく、０．５〜５重量％がよ
り好ましい。その添加量が０．２重量％未満であると、
スチル耐久性が劣化し易く、また１０重量％を超える
と、脂肪酸エステルが磁性層の表面にしみ出したり、出
力低下が生じ易くなる。

【００３８】脂肪酸と脂肪酸エステルとを併用して潤滑
効果をより高めたい場合には、脂肪酸と脂肪酸エステル
は重量比で１０：９０〜９０：１０が好ましい。脂肪酸
としては一塩基酸であっても二塩基酸であってもよく、
炭素数は６〜３０が好ましく、１２〜２２の範囲がより
好ましい。脂肪酸の具体例としては、カプロン酸、カプ
リル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、リノレン
酸、オレイン酸、エライジン酸、ベヘン酸、マロン酸、
コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメ
リン酸、アゼライン酸、セバシン酸、１，１２−ドデカ
ンジカルボン酸、オクタンジカルボン酸などが挙げられ
る。

【００３９】脂肪酸エステルの具体例としては、オレイ
ルオレート、イソセチルステアレート、ジオレイルマレ
ート、ブチルステアレート、ブチルパルミテート、ブチ
ルミリステート、オクチルミリステート、オクチルパル
ミテート、ペンチルステアレート、ペンチルパルミテー
ト、イソブチルオレエート、ステアリルステアレート、
ラウリルオレエート、オクチルオレエート、イソブチル
オレエート、エチルオレエート、イソトリデシルオレエ
ート、２−エチルヘキシルステアレート、２−エチルヘ
キシルパルミテート、イソプロピルパルミテート、イソ
プロピルミリステート、ブチルラウレート、セチル−２
−エチルヘキサレート、ジオレイルアジペート、ジエチ
ルアジペート、ジイソブチルアジペート、ジイソデシル
アジペート、オレイルステアレート、２−エチルヘキシ
ルミリステート、イソペンチルパルミテート、イソペン
チルステアレート、ジエチレングリコール−モノ−ブチ
ルエーテルパルミテート、ジエチレングリコール−モノ
−ブチルエーテルパルミテートなどが挙げられる。

【００４０】また、上記脂肪酸、脂肪酸エステル以外の
潤滑剤として、たとえばシリコーンオイル、グラファイ
ト、フッ化カーボン、二硫化モリブデン、二硫化タング
ステン、脂肪酸アミド、α−オレフィンオキサイドなど
も使用することができる。次に、研磨剤の具体例として
は、α−アルミ、溶融アルミナ、酸化クロム、酸化チタ
ン、α−酸化鉄、酸化ケイ素、窒化ケイ素、炭化タング
ステン、炭化モリブデン、炭化ホウ素、コランダム、酸
化亜鉛、酸化セリウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素
などが挙げられる。

【００４１】研磨剤としては、平均粒子径が０．０５〜
０．６μｍのものが好ましく、０．１〜０．３μｍのも
のがより好ましい。帯電防止剤としては、カーボンブラ
ック、グラファイト等の導電性粉末；第四級アミン等の
カチオン界面活性剤；スルホン酸、硫酸、リン酸、リン
酸エステル、カルボン酸等の酸基を含むアニオン界面活
性剤；アミノスルホン酸等の両性界面活性剤；サポニン
等の天然界面活性剤などを挙げることができる。

【００４２】上述した帯電防止剤は、通常、結合剤に対
して０．０１〜４０重量％の範囲で添加される。

【００４３】−磁気記録媒体の製造− 本発明の磁気記録媒体は、磁性層の塗設をウエット−オ
ン−ウエット方式で塗設する以外は、その製造方法に特
に制限はなく、公知の単層または複数層構造型の磁気記
録媒体の製造に使用される方法に準じて製造することが
できる。たとえば、一般的には強磁性粉、結合剤、分散
剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤等を溶媒中で混練およ
び分散して磁性塗料を調製した後、この磁性塗料を非磁
性支持体の表面に塗布する。

【００４４】上記溶媒としては、たとえばアセトン、メ
チルエチルケトン（ＭＥＫ)、メチルイソブチルケトン
（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン等のケトン系；メタノ
ール、エタノール、プロパノール等のアルコール類；酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；テ
トラヒドロフラン等の環状エーテル類；メチレンクロラ
イド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホル
ム、ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素などを用
いることができる。磁性層形成成分の混練分散にあたっ
ては、各種の混練分散機を使用することができる。この
混練分散機としては、たとえば二本ロールミル、三本ロ
ールミル、ボールミル、ペブルミル、コボルミル、トロ
ンミル、サンドミル、サンドグラインダー、Sqegvariア
トライター、高速インペラー分散機、高速ストーンミ
ル、高速度衝撃ミル、ディスパー、高速ミキサー、ホモ
ジナイザー、超音波分散機、オープンニーダー、連続ニ
ーダー、加圧ニーダー等が挙げられる。

【００４５】上記混練分散機のうち、０．０５〜０．５
ＫＷ（磁性粉１Ｋｇ当たり）の消費電力負荷を提供する
ことのできる混練分散機は、加圧ニーダー、オープンニ
ーダー、連続ニーダー、二本ロールミル、三本ロールミ
ルである。非磁性支持体上に磁性層を塗布するには、本
発明の磁気記録媒体の製造に当たっては、特に効果の点
からウェット・オン・ウェット重層塗布方式による同時
重層塗布を行なうのがよい。

【００４６】具体的には、図１に示すように、まず供給
ロール３２から繰出されたフィルム状支持体１は、エク
ストルージョン方式の押し出しコーター１０、１１によ
り、磁性層２、４の各塗料をウェット・オン・ウェット
方式で重層塗布した後、配向用磁石または垂直配向用磁
石３３を通過し、乾燥器３４に導入され、ここで上下に
配したノズルから熱風を吹き付けて乾燥する。次に、乾
燥された各塗布層付きの支持体１はカレンダーロール３
８の組合せからなるスーパーカレンダー装置３７に導か
れ、ここでカレンダー処理された後に、巻き取りロール
３９に巻き取られる。このようにして得られた磁性フィ
ルムを所望幅のテープ状に裁断してたとえば８ｍｍビデ
オテープを製造することができる。

【００４７】上記の方法において、各塗料は、図示しな
いインラインミキサーを通して押し出しコーター１０、
１１へと供給してもよい。なお、図中、矢印Ｄは非磁性
ベースフィルムの搬送方向を示す。押し出しコーター１
０、１１には夫々、液溜まり部１３、１４が設けられ、
各コーターからの塗料をウェット・オン・ウェット方式
で重ねる。即ち、下層磁性層用塗料の塗布直後（未乾燥
状態のとき）に上層磁性層塗料を重層塗布する。

【００４８】上記塗料に配合される溶媒あるいはこの塗
料の塗布時の希釈溶媒としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類；メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール等のアルコール類；酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチレングリコールセ
ノアセテート等のエステル類；グリコールジメチルエー
テル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン等のエーテル類；ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素；メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素等のものが使
用できる。

【００４９】これらの各種の溶媒は単独で使用すること
もできるし、またそれらの二種以上を併用することもで
きる。前記配向磁石あるいは垂直配向用磁石における磁
場は、２０〜５，０００ガウス程度であり、乾燥器によ
る乾燥温度は約３０〜１２０℃であり、乾燥時間は約
０．１〜１０分間程度である。

【００５０】−ウエット−オン−ウエット重層塗布方式
− ウェット・オン・ウェット重層塗布方法は、リバースロ
ールと押し出しコーターとの組み合わせ、グラビアロー
ルと押し出しコーターとの組み合わせなども使用するこ
とができる。さらにはエアドクターコーター、ブレード
コーター、エアナイフコーター、スクィズコーター、含
浸コーター、トランスファロールコーター、キスコータ
ー、キャストコーター、スプレイコーター等を組み合わ
せることもできる。

【００５１】このウェット・オン・ウェット方式におる
重層塗布においては、下層の磁性層が湿潤状態になった
ままで上層の磁性層を塗布するので、下層の表面（即
ち、上層と境界面）が滑らかになるとともに上層の表面
性が良好になり、かつ、上下層間の接着性も向上する。
この結果、特に高密度記録のために高出力、低ノイズの
要求されるたとえば磁気テープとしての要求性能を満た
したものとなりかつ、高耐久性の性能が要求されること
に対しても膜剥離をなくし、膜強度が向上し、耐久性が
十分となる。また、ウェット・オン・ウェット重層塗布
方式により、ドロップアウトも低減することができ、信
頼性も向上する。

【００５２】−表面の平滑化− 次にカレンダリングにより表面平滑化処理が行なわれ
る。その後は、必要に応じてバーニッシュ処理またはブ
レード処理を行なってスリッティングされる。この際、
上記表面平滑化処理は、本発明の目的を達成するのに効
果的である。すなわち、前記したように本発明の必須要
件の一つに磁性層表面の粗さの条件があるが、この条件
を満たすためには、この表面平滑化処理が好ましい。

【００５３】表面平滑化処理においては、カレンダー条
件として温度、線圧力、Ｃ／ｓ（コーティングスピー
ド）等を挙げることができる。本発明の目的達成のため
には、通常、上記温度を５０〜１２０℃、上記線圧力を
５０〜４００ｋｇ／ｃｍ、上記Ｃ／ｓを２０〜６００ｍ
／分に保持することが好ましい。

【００５４】これらの数値の範囲を外れると、磁性層の
表面状態を本発明の如く特定することが実施困難になる
か、あるいはそれが不可能になることがある。以上によ
り得られた磁性層の表面は、前記請求項１の発明におい
ては、積層された磁性層の光波干渉式三次元表面粗さ計
による二乗平均平方根（ＲＭＳ）と光波干渉式三次元表
面粗さ計による中心線平均粗さ（Ｒａ）との比（ＲＭＳ
／Ｒａ）が１．０〜１．５ｎｍ、好ましくは１．０〜
１。３ｎｍであり、二乗平均平方根（ＲＭＳ）が１．０
〜１５ｎｍ、好ましくは１．０〜８ｎｍであり、これら
の条件を満足することによって、本発明の磁気記録媒体
は、残留磁束密度Ｂｍ（Ｇａｕｓｓ）および（Ｙ−Ｃ／
Ｎ）の値が優れるので、優れた電磁変換特性を有するこ
とができ、更に、磁性層表面が適度な粗さなのでテープ
ヘッドとの摩擦による過度の消耗を防止し、優れた走行
耐久性を有することができる。

【００５５】また、前記請求項２の発明においては、第
２磁性層表面のうねり（Ａ）が０．０２２μｍ以下、好
ましくは０．００８〜０．０２２μｍ、さらに好ましく
は０．０１０〜０．０１５μｍ、非磁性支持体における
磁性層形成面の表面うねり（Ｂ）が０．０２０μｍ以
下、好ましくは０．００８〜０．０２０μｍ、好ましく
は０．０１０〜０．０１５μｍであり、これらの条件を
満足することによって、本発明の磁気記録媒体は、前記
請求項１で得られた効果、すなわち、残留磁束密度Ｂｍ
（Ｇａｕｓｓ）値および（Ｙ−Ｃ／Ｎ）値の向上による
電磁変換特性の高性能化と適度な粗さを有することによ
る走行耐久性の向上に加えて、更に、ＲＦエンベローブ
値の向上を達成できるので、高品質かつ高性能の磁気記
録媒体を得ることができるという技術的効果を奏するこ
とができる。

【００５６】それに対し、上記条件のいずれかを欠いて
も本発明の効果を奏することはできない。なお、磁性層
の表面を上記の如く特定の粗さにするには、前述するよ
うに特にカレンダーの条件を調整すればよい。このよう
にして得られる本発明の磁気記録媒体は、支持体の上に
下層である第１磁性層と上層である第２磁性層とが積層
され、支持体の裏面にはバックコート層が形成され、高
い電磁変換特性と高い走行耐久性を有することから８ミ
リ、ビデオテープとして好適に用いることができる。

【００５７】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。以下に示
す成分、割合、操作順序は本発明の範囲から逸脱しない
範囲において種々変更しうる。なお、下記の実施例にお
いて「部」はすべて重量部である。

【００５８】（実施例１）［第１磁性層用磁性塗料］コバルト含有酸化鉄（詳細は表１に示した）１００部塩化ビニル樹脂（表１）スルホン酸変性ポリウレタン樹脂（表１）（東洋紡績（株）製、ＵＲ８７００、メチルエチルケトン／トルエンの固形分３０％溶液）カ−ボンブラック１部メチルエチルケトン適量トルエン適量上記組成物を加圧ニ−ダ−で１時間混練し、下記組成物
で希釈した。

【００５９】（希釈溶液）シクロヘキサノン適量＊メチルエチルケトン適量＊トルエン適量＊ミリスチン酸１部ステアリン酸１部脂肪酸エステル１部これを撹拌、分散後、ポリイソシアネート５．０部を加
え、第１磁性層用塗料とした。

【００６０】適量＊とは、各磁性塗料の調整に際し、磁
性粉１００部に対してメチルエチルケトン、トルエン、
シクロヘキサノンを最終的に各１００部づつ、混練、分
散の様子を見ながら添加した。

【００６１】［第２磁性層用磁性塗料］バリウムフェライト磁性粉（詳細は表２に示した）１００部塩化ビニル樹脂（日本ゼオン：ＭＲ１１０）（表１）スルホン酸変性ポリウレタン樹脂（表１）（東洋紡績（株）製、ＵＲ８７００、メチルエチルケトン／トルエンの固形分３０％溶液）カ−ボンブラック１部研磨剤（詳細は表２に示した）５部リン酸エステル（東邦化学工業社製：ＲＥ６１０）２部メチルエチルケトン適量トルエン適量上記組成物を加圧ニーダーで１時間混練し、前記希釈液
で希釈し、これを撹拌、分散後、ポリイソシアネートを
５部加え、第２磁性層用磁性塗料とした。

【００６２】次に、これらの磁性塗料を用いて、ウェッ
ト・オン・ウェット方式により、厚さ７．５μｍのポリ
エチレンテレフタレートフィルム上に塗布したのち、塗
膜が未乾燥であるうちに磁場配向処理を行ない、続いて
乾燥を施してから、カレンダーで表面平滑化処理を行な
い、乾燥膜厚等が表１および表２のようになるよう塗設
し、さらに、この磁性層とは反対側の上記ポリエチレン
フタレートフィルムの面（裏面）に下記の組成を有する
塗料を塗布し、この塗膜を乾燥し、後述するカレンダー
条件にしたがってカレンダー加工をすることによって、
乾燥膜厚０．５μｍのバックコート層を形成し、これを
８ｍｍ幅に断裁しビデオテープを製造した。

【００６３】［バックコート層］カーボンブラック（平均粒径２６μｍ）４０部（ラベン１０３５）硫酸バリウム（平均粒径３００μｍ）１０部ニトロセルロース２５部ポリウレタン系樹脂２５部（日本ポリウレタン（株）製、Ｎ−２３０１）ポリイソシアネ−ト化合物１０部（日本ポリウレタン（株）製、コロネ−トＬ）シクロヘキサノン４００部メチルエチルケトン２５０部トルエン２５０部こうして得られた原反をスリットして８ｍｍビデオ用磁
気記録用テープを作成した。

【００６４】この磁気記録テープの電磁変換特性（Ｙ−
ｏｕｔ、Ｙ−Ｃ／Ｎ）、表面の二乗平均粗さ（ＲＭ
Ｓ）、表面の二乗平均平方根（ＲＭＳ）と中心線平均粗
さ（ＲＭＳ／Ｒａ）との比（ＲＭＳ／Ｒａ）及び残留磁
束密度（Ｂｍ）を下記の要領で測定した。その結果を表
２に示す。

【００６５】＜Ｙ−ｏｕｔ、Ｙ−Ｃ／Ｎ＞；Generator
(Hewlett Packard社製、HP3325A ）の入力値を入出力特
性で求めた値（Iy-ORC) にセットする。なお、Generato
r (Hewlett Packard社製、HP3325A）の周波数を７ＭＨ
ｚに設定し、再生出力が最大となる入力値をIy-ORCとし
た。次いで、ソニー製デッキ（EV-V900)にテープをセッ
トし、録画部分を再生する。TAKEDA RIKEN製のスペクト
ルアナライザーを以下の条件に設定し、ピーク値をＹ−
ＯＵＴ、ピーク値とピーク値から１ＭＨｚを引いたノイ
ズレベルとの差をＹ−Ｃ／Ｎとして読み取った。スペクトルアナライザーの設定条件 Center ７ＭＨｚ Span ２．５ＭＨｚ Swp Time ６００ｍｓ RBW １０ｋＨｚ VBW １ｋＨｚ Ref Level １０ｄＢｍ Log １０ｄＢ／div. ＜二乗平均粗さ（ＲＭＳ）＞光波干渉式三次元表面粗さ
計で測定される平面と原信号座標の偏差の二乗平均平方
根である。

【００６６】＜中心線平均（Ｒａ）＞光波干渉式三次元
表面粗さ計で測定された全点の相加平均を算出し、その
平均レベルを中心面とし、全点と中心面の平均偏差を、
中心線平均粗さと定義する。なお、光波干渉式三次元表
面粗さ計（WYKO社製、Topo3D）で測定する条件は以下の
通りである。測定条件レンズ ×４０測定範囲０．２５６×０．２５６作動距離４視野深度２．２５最大表面高さ２．２５空間サンプリング間隔１＜残留磁束密度（Ｂｍ）＞東英工業（株）［ＶＳＭ］を
使用し、測定磁場１０ｋＯёにおける飽和磁束密度（Ｂ
ｍ）を測定した。

【００６７】本実施例では、残留磁束密度Ｂｍが２００
０（Ｇａｕｓｓ）で、表面の二乗平均平方根粗さ（ＲＭ
Ｓ）と中心線平均粗さ（ＲＭＳ／Ｒａ）との比（ＲＭＳ
／Ｒａ）が１．０であるという特性をもつ、周波数特性
と走行性に優れた磁気記録テープが得られた。

【００６８】（実施例２〜３）実施例２および３は、第
２磁性層用塗料の組成において、塩化ビニル樹脂とポリ
ウレタン樹脂を表２に示すように変更した以外は実施例
１と同じようにして磁気記録テ−プを製造し、諸特性を
測定した。その結果を表３および表４に示す。実施例２
では、第２磁性層用塗料の組成において、塩化ビニル樹
脂およびポリウレタン樹脂を５部ずつ加えたことによ
り、表面粗さの度合いがやや低くり、実施例１に比べ
て、Ｙ−Ｃ／Ｎおよび残留磁束密度Ｂｍが向上した。実
施例３では、第２磁性層用塗料の組成において、塩化ビ
ニル樹脂およポリウレタン樹脂を、それぞれ、３、７部
ずつ加えたことにより、表面粗さの度合いがや低くな
り、実施例１に比べて、Ｙ−ｏｕｔ、Ｙ−Ｃ／Ｎおよび
残留磁束密度Ｂｍが向した。

【００６９】（実施例４）第１磁性層用塗料の組成にお
いて、(FeOx)x 、Hc(Oe)、BET(m²／ｇ) ，塩化ビニル樹
脂およびポリウレタン樹脂を、第２磁性層用塗料の組成
において、Hc(Oe)、BET(m²/g)、塩化ビニル樹脂およびポ
リウレタン樹脂を、表１および表２に示したように変更
した以外は実施例１と同じようにして磁気記録テープを
製造し、諸特性を測定した。その結果を表３および表４
に示す。実施例４では、上記のような組成を有すること
により、表面粗さの度合いが低くなり、実施例１に比べ
て、Ｙ−ｏｕｔ、特にＹ−Ｃ／Ｎおよび残留磁束密度Ｂ
ｍが大幅に向上した。

【００７０】（実施例５〜６）実施例５および６は、第
１磁性層用塗料の組成において、塩化ビニル樹脂および
ポリウレタン樹脂を、表１に示したように変更した以外
は実施例１と同じようにして磁気記録テープを製造し、
諸特性を測定した。その結果を表３および表４に示す。
実施例５では、第１磁性層用塗料の組成において、塩化
ビニル樹脂およびポリウレタン樹脂を、それぞれ、８部
ずつ加えたことにより、表面粗さの度合いがやや低く、
実施例１に比べて、Ｙ−ｏｕｔ、Ｙ−Ｃ／Ｎおよび残留
磁束密度Ｂｍが向上した。実施例６では、第１磁性層用
塗料の組成において、塩化ビニル樹脂およポリウレタン
樹脂を、それぞれ、１０、６部加えたことにより、表面
粗さの度合いがや低くなり、実施例１に比べて、Ｙ−Ｃ
／Ｎがやや向上した。

【００７１】（実施例７）第２磁性層用塗料の組成にお
いて、研磨剤だけををCr₂O₃ に変更し、実施例１と同じ
ようにして磁気記録テープを製造し、諸特性を測定し
た。その結果を表３および表４に示す。実施例７では、
上記のような組成を有することにより、表面粗さの度合
いが低くなり、実施例１に比べて、Ｙ−Ｃ／Ｎおよび残
留磁束密度Ｂｍが向上した。

【００７２】（実施例８）実施例７において、表１に示
したように、第２磁性層用塗料の構成において、分散時
間を３時間に変更した以外は実施例７と同じようにして
磁気記録テープを製造し、この磁気記録テ−プの磁性層
の表面うねり（Ａ）および非磁性支持体の磁性層形成面
の表面うねり（Ｂ）及びＲＦエンベロープ（％）を下記
の要領で測定した。

【００７３】＜磁性層の表面うねり（Ａ）および非磁性
支持体の磁性層形成面の表面うねり（Ｂ）＞タリーステ
ップ表面粗さ計（テイラーホブソン社製）を使用し、以
下の測定条件でろ波中心線平均うねりを求めた。測定長
を１ｍｍ、触針速度を０．１ｍｍ／秒、カットオフを２
Ｈｚとした。＜ＲＦエンベローブ＞各ビデオテープを８ミリビデオデ
ッキ（ソニー（株）製、Ｓ−５５０）に装填して走行さ
せ、オシロスコープ［（株）日立製作所製］にＲＦエン
ベローブを映し出す。そのオシロスコープ画面を写真に
撮り、エンベロープの最大値および最小値を読み、その
比率を調べた。

【００７４】ここで得られた磁気記録テープは前記磁性
層の表面うねり（Ａ）が０．０１２（≦０．０２２）、
前記非磁性支持体の磁性層形成面の表面うねり（Ｂ）が
０．０１０（≦０．０２０）であり、このとき、ＲＦエ
ンベローブが良好な値を示した。

【００７５】（実施例９〜１０）実施例９、１０は、第
１磁性層用塗料および第２磁性層用塗料の構成におい
て、乾燥膜厚を表１および表２に示したように変更した
以外は実施例８と同じようにして磁気記録テープを製造
し、諸特性を測定した。その結果を表３および表４に示
す。ここで得られた磁気記録テープは、実施例９におい
ては、前記磁性層の表面うねり（Ａ）が０．０１８（≦
０．０２２）、前記非磁性支持体の磁性層形成面の表面
うねり（Ｂ）が０．０２０（≦０．０２０）であり、こ
のとき、ＲＦエンベローブが良好な値を示し、また、実
施例１０においては、前記磁性層の表面うねり（Ａ）が
０．００８（≦０．０２２）、前記非磁性支持体の磁性
層形成面の表面うねり（Ｂ）が０．０１５（≦０．０２
０）であり、このとき、ＲＦエンベローブが良好な値を
示した。

【００７６】（比較例１）第２磁性層塗料の組成で、塩
化ビニル樹脂を含まず、ポリウレタン樹脂含有量を１０
部加える以外は実施例１と同じようにして磁気記録テー
プを製造し、諸特性を測定した。その結果を表および表
４に示す。比較例１では、第２磁性層用塗料の構成にお
いて、塩化ビニル樹脂を加えず、ポリウレタン樹脂のみ
を１０部加えたことにより、表面の二乗平均粗さ（ＲＭ
Ｓ）が１７倍に高くなり、実施例１に比べて、Ｙ−Ｃ／
Ｎおよび残留磁束密度Ｂｍが大幅に低下した。

【００７７】（比較例２）第２磁性層塗料の構成におい
て、分散時間を１時間に変更した以外は実施例７と同じ
ようにして磁気記録テープを製造し、諸特性を測定し
た。その結果を表２に示す。分散時間を１時間長くした
結果、実施例７に比べ、表面平滑度がかなり悪くなり、
Ｙ−ｏｕｔ、Ｙ−Ｃ／Ｎおよび残留磁束密度Ｂｍが大幅
に低下した。また、この表面粗さは、実施例１に比べ
て、ＲＭＳが１２倍に、ＲＭＳ／Ｒａも少し高い値にな
った。

【００７８】（比較例３）第２磁性層塗料の構成におい
て、分散時間を４時間に変更した以外は実施例８と同じ
ようにして磁気記録テープを製造し、諸特性を測定し
た。その結果を表２に示す。実施例８よりも１時間だけ
第２磁性層における分散時間を長くすると本例のよう
に、前記磁性層の表面うねり（Ａ）が０．０２６（≧
０．０２２）、前記非磁性支持体の磁性層形成面の表面
うねり（Ｂ）が０．０１０（≦０．０２０）となり、こ
のとき、ＲＦエンベローブが低い値を示した。

【００７９】（比較例４）第２磁性層塗料の構成におい
て、分散時間を４時間に変更し、乾燥膜厚を１．０μｍ
に変更した以外は実施例８と同じようにして磁気記録テ
ープを製造し、諸特性を測定した。その結果を表３およ
び表４に示す。実施例９、１０よりも第２磁性層におけ
る乾燥膜厚を厚く（１μｍ以上）すると本例のように、
前記磁性層の表面うねり（Ａ）が０．０２２（≧０．０
２２）、前記非磁性支持体の磁性層形成面の表面うねり
（Ｂ）が０．０２６（≧０．０２０）となり、このと
き、ＲＦエンベローブが低い値を示した。

【００８０】（比較例５）第２磁性層塗料の構成におい
て、分散時間を４時間に変更し、乾燥膜厚を０．１μｍ
に変更した以外は実施例８と同じようにして磁気記録テ
ープを製造し、諸特性を測定した。その結果を表３およ
び表４に示す。実施例９、１０よりも第２磁性層におけ
る乾燥膜厚を薄く（０．１μｍ以下）すると本例のよう
に、前記磁性層の表面うねり（Ａ）が０．０４８（≧
０．０２２）、前記非磁性支持体の磁性層形成面の表面
うねり（Ｂ）が０．０１０（≦０．０２０）となり、こ
のとき、ＲＦエンベローブが低い値を示した。

【００８１】

【表１】

【００８２】

【表２】

【００８３】

【表３】

【００８４】

【表４】

【００８５】

【発明の効果】本発明により、ビデオ特性とクロマ／オ
ーディオ特性のバランスが取れて電磁変換特性が顕著に
向上しているとともに走行耐久性の向上した磁気記録媒
体を提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者竹田克之東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】主成分としてコバルト含有酸化鉄系磁性
粉を含有する第１磁性層と、主成分としてバリウムフェ
ライト磁性粉を含有する第２磁性層とが、この順に非磁
性支持体上に湿潤状態で塗設され、第２磁性層の光波干
渉式三次元表面粗さ計による二乗平均平方根（ＲＭＳ）
が１．０〜１５ｎｍであり、前記二乗平均平方根（ＲＭ
Ｓ）と光波干渉式三次元表面粗さ計による中心線平均粗
さ（Ｒａ）との比（ＲＭＳ／Ｒａ）が１．０〜１．５で
あることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】前記第２磁性層表面のうねり（Ａ）と前
記非磁性支持体における磁性層形成面の表面うねり
（Ｂ）とが、それぞれ、（Ａ）≦０．０２２μｍ、（Ｂ）≦０．０２０μｍの条件を満たす前記請求項１に記載の磁気記録媒体。