JPH02223030A - 光学式情報記録担体及びその製造方法 - Google Patents
光学式情報記録担体及びその製造方法Info
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D17/00—Producing carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records; Producing record discs from master stencils
- B29D17/005—Producing optically read record carriers, e.g. optical discs
-
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、ビデオディスク、コンパクトディスク等の光
ディスク、即ち光学式情報記録担体に関する。
ディスク、即ち光学式情報記録担体に関する。
背景技術
従来から第３図（ｃ）に示す如き光ディスクが知られて
いる。かかる光ディスクは、透明基板１上に金属を蒸着
あるいはスパッタリングして金属反射層２が形成され、
この反射層上には保護層３が設けられている構造を有す
る。透明基板上には記録すべき信号に対応する微小凹凸
（以下ビットと称する）が設けられており反射層２がビ
ットの形状を有するようになっている。この透明基板１
は、射出成形法、圧縮成形法、２Ｐ法等によって、ＰＭ
ＭＡ （ポリメタアクリレート）、ＰＣ（ポリカーボネ
ート）等の透明樹脂を材料として作成されている。
いる。かかる光ディスクは、透明基板１上に金属を蒸着
あるいはスパッタリングして金属反射層２が形成され、
この反射層上には保護層３が設けられている構造を有す
る。透明基板上には記録すべき信号に対応する微小凹凸
（以下ビットと称する）が設けられており反射層２がビ
ットの形状を有するようになっている。この透明基板１
は、射出成形法、圧縮成形法、２Ｐ法等によって、ＰＭ
ＭＡ （ポリメタアクリレート）、ＰＣ（ポリカーボネ
ート）等の透明樹脂を材料として作成されている。
第３図は光ディスクの製造工程の一例を示している。こ
の製造工程においては、まず、表面に螺旋又は同心円状
にビットが配列されたニッケルスタンパ（図示せず）を
成形型として、ＰＭＭＡ。
の製造工程においては、まず、表面に螺旋又は同心円状
にビットが配列されたニッケルスタンパ（図示せず）を
成形型として、ＰＭＭＡ。
ＰＣ等の透明樹脂を射出成形することにより、スタンパ
のビットに対応するビットＰが主面に転写された透明基
板１が作成される（第３図（ａ））。
のビットに対応するビットＰが主面に転写された透明基
板１が作成される（第３図（ａ））。
次に、第３図（ｂ）に示す如く、真空蒸着工程において
得られた基板１のビットＰを担持した表面上に金属反射
層２が形成される。
得られた基板１のビットＰを担持した表面上に金属反射
層２が形成される。
更に、第３図（ｃ）に示す如く、反射層２の上に紫外線
等の放射線により硬化する放射線硬化型樹脂からなる保
護膜３が形成される。このようにして従来の光ディスク
が得られる。
等の放射線により硬化する放射線硬化型樹脂からなる保
護膜３が形成される。このようにして従来の光ディスク
が得られる。
しかしながら、以上の如き光デイスク製造工程により従
来の光ディスクが多量に製造されるのであるが、この様
な従来の光ディスクでは近年におけるビットを高密度に
形成して大量の情報を記録するという要望には十分こた
えられなかった。
来の光ディスクが多量に製造されるのであるが、この様
な従来の光ディスクでは近年におけるビットを高密度に
形成して大量の情報を記録するという要望には十分こた
えられなかった。
発明の概要
本発明の目的は、比較的単純な構造を有しかつ簡素な工
程にて大量生産に適する高密度化した光学式情報記録担
体及びその製造方法を提供することにある。
程にて大量生産に適する高密度化した光学式情報記録担
体及びその製造方法を提供することにある。
本発明の光学式情報記録担体は、反射光帯域が互いに異
なる複数の反射層を透明層を介して積層したことを特徴
とする。
なる複数の反射層を透明層を介して積層したことを特徴
とする。
本発明の光学式情報記録担体の製造方法は、透明基板上
に第１反射層を形成する工程と、前記第１反射層上に液
状の放射線硬化型樹脂を介して放射線透過性を有する透
明スタンパを保持する工程と、前記透明スタンパ側から
放射線を前記放射線硬化型樹脂へ照射しこれを硬化させ
て透明層を形成する工程と、前記透明層から前記透明ス
タンパを剥離する工程と、前記透明層上に第２反射層を
形成する工程と、反射層を保護する保護層を積層する工
程と、を含むことを特徴とする。
に第１反射層を形成する工程と、前記第１反射層上に液
状の放射線硬化型樹脂を介して放射線透過性を有する透
明スタンパを保持する工程と、前記透明スタンパ側から
放射線を前記放射線硬化型樹脂へ照射しこれを硬化させ
て透明層を形成する工程と、前記透明層から前記透明ス
タンパを剥離する工程と、前記透明層上に第２反射層を
形成する工程と、反射層を保護する保護層を積層する工
程と、を含むことを特徴とする。
本発明の透明スタンパは、放射線透過性を有するガラス
又はプラスチックからなることを特徴とする。
又はプラスチックからなることを特徴とする。
本発明の光学式情報記録担体の他の製造方法は、透明基
板上に第１反射光帯域を有する第１反射層を形成する工
程と、前記第１反射層上に液状の放射線硬化型樹脂を介
してスタンパを保持する工程と、放射線を第１反射層を
通して前記放射線硬化型樹脂へ照射しこれを硬化させて
透明層を形成する工程と、前記透明層から前記スタンパ
を剥離する工程と、前記透明層上に前記第１反射光帯域
とは異なる第２反射光帯域を有する第２反射層を形成す
る工程と、反射層を保護する保護層を積層する工程と、
を含むことを特徴とする。
板上に第１反射光帯域を有する第１反射層を形成する工
程と、前記第１反射層上に液状の放射線硬化型樹脂を介
してスタンパを保持する工程と、放射線を第１反射層を
通して前記放射線硬化型樹脂へ照射しこれを硬化させて
透明層を形成する工程と、前記透明層から前記スタンパ
を剥離する工程と、前記透明層上に前記第１反射光帯域
とは異なる第２反射光帯域を有する第２反射層を形成す
る工程と、反射層を保護する保護層を積層する工程と、
を含むことを特徴とする。
実施例
以下に、本発明の実施例を図面を参照しつつ説明する。
第１の実施例として凡Ｓ異なる反射光帯域を持つ２つの
反射層を有する光ディスクを作成する。
反射層を有する光ディスクを作成する。
まず、第１図（ａ）に示す如く、第１の記録ビットＰ１
を担持した透明基板１１を用意する。透明基板１１は、
その表面に螺旋又は同心円状に第１の記録ビットＰ１が
配列されたニッケルスタンパ（図示せず）を成形型とし
て、ＰＭＭＡ、ＰＣ等の透明樹脂を射出成形することに
より得られた透明基板である。射出成形により、ニッケ
ルスタンパの配列ビットが第１ビツトＰ１として基板１
１上に転写されている。
を担持した透明基板１１を用意する。透明基板１１は、
その表面に螺旋又は同心円状に第１の記録ビットＰ１が
配列されたニッケルスタンパ（図示せず）を成形型とし
て、ＰＭＭＡ、ＰＣ等の透明樹脂を射出成形することに
より得られた透明基板である。射出成形により、ニッケ
ルスタンパの配列ビットが第１ビツトＰ１として基板１
１上に転写されている。
次に、第１図（ｂ）に示す如く、真空蒸着装置を用いて
この基板１１のビットＰ１を担持した表面上に珪素（Ｓ
ｔ）を蒸着して、反射層１２を形成する。このようにし
て透明基板１１上に珪素からなる第１反射層１２を形成
する。
この基板１１のビットＰ１を担持した表面上に珪素（Ｓ
ｔ）を蒸着して、反射層１２を形成する。このようにし
て透明基板１１上に珪素からなる第１反射層１２を形成
する。
次に、透明スタンパ１３を用意してこれを転写装置に装
着する。透明スタンパ１３は、次工程で塗布される放射
線硬化型樹脂１４を硬化させるに必要な波長帯の光を透
過する放射線透過性のガラス又はプラスチックからなる
。透明スタンパ１３の表面に螺旋又は同心円状に第２の
記録ビットが配列されており、第１図（ｃ）に示す如く
、そのビット面を上方に向けて転写装置に装着する。
着する。透明スタンパ１３は、次工程で塗布される放射
線硬化型樹脂１４を硬化させるに必要な波長帯の光を透
過する放射線透過性のガラス又はプラスチックからなる
。透明スタンパ１３の表面に螺旋又は同心円状に第２の
記録ビットが配列されており、第１図（ｃ）に示す如く
、そのビット面を上方に向けて転写装置に装着する。
次に、第１図（Ｃ）に示す如く、透明スタンパ１３のピ
ット面上に、液状の放射線硬化型樹脂１４を供給する。
ット面上に、液状の放射線硬化型樹脂１４を供給する。
次に、透明基板１１を、その珪素からなる第１反射層１
２を下方に向けて液状の放射線硬化型樹脂１４を介して
透明スタンパ１３のピット面上に載置する。このように
、第１反射層１２及び透明スタンパ１３間に放射線硬化
型樹脂１４を保持させる（第１図（ｄ））。
２を下方に向けて液状の放射線硬化型樹脂１４を介して
透明スタンパ１３のピット面上に載置する。このように
、第１反射層１２及び透明スタンパ１３間に放射線硬化
型樹脂１４を保持させる（第１図（ｄ））。
次に、第１図（ｄ）に示す状態のままで、透明スタンパ
１３側すなわち図面下方から放射線を照射して、第１反
射層１２上の放射線硬化型樹脂１４を硬化させる。この
ようにして、透明スタンパ１３の配列ビットを第２ビツ
トＰ２として担持した硬化した放射線硬化型樹脂１４上
に転写する。
１３側すなわち図面下方から放射線を照射して、第１反
射層１２上の放射線硬化型樹脂１４を硬化させる。この
ようにして、透明スタンパ１３の配列ビットを第２ビツ
トＰ２として担持した硬化した放射線硬化型樹脂１４上
に転写する。
次に、第１図（ｅ）に示す如く、放射線硬化型樹脂の硬
化後、この放射線硬化型樹脂１４の層から透明スタンパ
１３を剥離する。
化後、この放射線硬化型樹脂１４の層から透明スタンパ
１３を剥離する。
次に、第１図（ｆ）に示す如く、真空蒸着装置を用いて
、この基板１１上の放射線硬化型樹脂１４のビットＰ２
を担持した表面上にアルミニウム（ＡＩ）を蒸着し、反
射層１５を形成する。このように、放射線硬化型樹脂１
４上にアルミニウムからなる第２反射層１５を積層形成
する。
、この基板１１上の放射線硬化型樹脂１４のビットＰ２
を担持した表面上にアルミニウム（ＡＩ）を蒸着し、反
射層１５を形成する。このように、放射線硬化型樹脂１
４上にアルミニウムからなる第２反射層１５を積層形成
する。
次に、第１図（ｇ）に示す如く、第２反射層１５を保護
する放射線硬化型樹脂からなる保護層１６を積層して、
反射光帯域が互いに異なる第１及び第２反射層１２及び
１５を積層した光ディスクを得る。
する放射線硬化型樹脂からなる保護層１６を積層して、
反射光帯域が互いに異なる第１及び第２反射層１２及び
１５を積層した光ディスクを得る。
本実施例のように第１及び第２反射層１２及び１５を珪
素及びアルミニウムとした場合においては、第１反射層
のビットＰ１を読み取るときは、第１反射層により十分
反射される波長の光、例えば４００ｎｍの光を用い、第
２反射層のビットＰ２を読み取るときは、第１反射層を
透過しかつ第２反射層により反射される波長の光、例え
ば８００ｎｍ以上の光を用いる。このように反射層を各
々材質を異ならせることでその反射光帯域を各々違う反
射層とする。また、蒸着又はスパッタリング工程におい
て第１及び第２反射層１２．１５の各層の膜厚を調整す
ることにより、各層の光透過率を変えることができる。
素及びアルミニウムとした場合においては、第１反射層
のビットＰ１を読み取るときは、第１反射層により十分
反射される波長の光、例えば４００ｎｍの光を用い、第
２反射層のビットＰ２を読み取るときは、第１反射層を
透過しかつ第２反射層により反射される波長の光、例え
ば８００ｎｍ以上の光を用いる。このように反射層を各
々材質を異ならせることでその反射光帯域を各々違う反
射層とする。また、蒸着又はスパッタリング工程におい
て第１及び第２反射層１２．１５の各層の膜厚を調整す
ることにより、各層の光透過率を変えることができる。
さらに、第１図（田〜（ｆ）に示す工程を、互いに異な
る反射光帯域を有する反射層材料を用いつつ、繰り返す
ことによって２層以上の反射層を有する光ディスクを得
ることができる。
る反射光帯域を有する反射層材料を用いつつ、繰り返す
ことによって２層以上の反射層を有する光ディスクを得
ることができる。
第２の実施例として反射光帯域が互いに異なる多数の反
射層を積層した光ディスクを作成する。
射層を積層した光ディスクを作成する。
まず、第２図（ａ）に示す如く、第１の記録ビットＰ１
を担持した透明基板１１を用意する。透明基板１１は、
第１の実施例と同様のものである。
を担持した透明基板１１を用意する。透明基板１１は、
第１の実施例と同様のものである。
次に、第２図（ｂ）に示す如く、真空蒸着装置を用いて
この基板１１のビットＰ１を担持した表面上に誘電体多
層反射層を形成する。このようにして透明基板１１上に
第１反射光帯域を有する第１反射層１２を形成する。第
１反射層は８０００ｍの光を反射し、他の波長例えば６
００ｎｍ以下の光を透過する誘電体多層反射層とする。
この基板１１のビットＰ１を担持した表面上に誘電体多
層反射層を形成する。このようにして透明基板１１上に
第１反射光帯域を有する第１反射層１２を形成する。第
１反射層は８０００ｍの光を反射し、他の波長例えば６
００ｎｍ以下の光を透過する誘電体多層反射層とする。
次に、表面に螺旋又は同心円状に第２の記録ビットＰ２
が配列されたスタンパ１３を、第２図（ｃ）に示す如く
、そのピット面を上方に向けて転写装置に装着する。
が配列されたスタンパ１３を、第２図（ｃ）に示す如く
、そのピット面を上方に向けて転写装置に装着する。
次に、第２図（Ｃ）に示す如く、スタンパ１３のビット
面上に、液状の放射線硬化型樹脂１４を供給する。
面上に、液状の放射線硬化型樹脂１４を供給する。
次に、透明基板１１を、第１反射層１２を下方に向けて
液状の放射線硬化型樹脂１４を介してスタンパ１３のビ
ット面上に載置する。このように、第１反射層１２及び
スタンパ１３間に放射線硬化型樹脂１４を保持させる（
第２図（ｄ））。
液状の放射線硬化型樹脂１４を介してスタンパ１３のビ
ット面上に載置する。このように、第１反射層１２及び
スタンパ１３間に放射線硬化型樹脂１４を保持させる（
第２図（ｄ））。
次に、第２図（ｄ）に示す状態のままで、透明基ａｉｌ
ｌ側すなわち図面上方から放射線を照射して、第１反射
層１２上の放射線硬化型樹脂１４を硬化させ透明層を形
成する。このようにして、スタンパ１３の配列ビットを
第２ビツトＰ２として担持した硬化した放射線硬化型樹
脂の透明層１４上に転写する。
ｌ側すなわち図面上方から放射線を照射して、第１反射
層１２上の放射線硬化型樹脂１４を硬化させ透明層を形
成する。このようにして、スタンパ１３の配列ビットを
第２ビツトＰ２として担持した硬化した放射線硬化型樹
脂の透明層１４上に転写する。
次に、第２図（ｅ）に示す如く、放射線硬化型樹脂の硬
化後、この放射線硬化型樹脂の透明層１４からスタンパ
１３を剥離する。
化後、この放射線硬化型樹脂の透明層１４からスタンパ
１３を剥離する。
次に、第２図（ｆ）に示す如く、真空蒸着装置を用いて
、この基板１１上の放射線硬化型樹脂１４のビットＰ２
を担持した表面上に誘電体多層反射層１５を形成する。
、この基板１１上の放射線硬化型樹脂１４のビットＰ２
を担持した表面上に誘電体多層反射層１５を形成する。
このように、放射線硬化型樹脂１４上に第２反射光帯域
を有する第２反射層１５を積層形成する。第２反射層は
、第１反射層と異なる波長のレーザ光を反射し、他の波
長の光を透過する誘電体多層反射層とする。
を有する第２反射層１５を積層形成する。第２反射層は
、第１反射層と異なる波長のレーザ光を反射し、他の波
長の光を透過する誘電体多層反射層とする。
次に、第２図（ｃ）に示す如く、再びスタンパ１３によ
って放射線硬化型樹脂１４にビット形状を設け、第２図
曲以下の工程を繰ゆ返すことにより多層の反射層を有す
る光ディスクを作成する。
って放射線硬化型樹脂１４にビット形状を設け、第２図
曲以下の工程を繰ゆ返すことにより多層の反射層を有す
る光ディスクを作成する。
勿論最後の反射層を保護する放射線硬化型樹脂からなる
保護層１６を積層して、反射光帯域が互に異なる第１及
び第２反射層１２及び１５を積層した光ディスクを得る
。
保護層１６を積層して、反射光帯域が互に異なる第１及
び第２反射層１２及び１５を積層した光ディスクを得る
。
各反射層で反射する波長を適当に選択することにより、
幾（層もの反射層及び透明層を積層することが可能であ
る。
幾（層もの反射層及び透明層を積層することが可能であ
る。
誘電体多層反射層は、ＰｂＯ２，ＺｒＯ２゜ＴｉＯ２等
の高屈折率物質とＳ ｉ ０２ 、 ＭｇＦｚ 。
の高屈折率物質とＳ ｉ ０２ 、 ＭｇＦｚ 。
ＡＲｚ０３等の低屈折率物質のλ／４膜を交互に積層す
ることにより反射光帯域が狭い反射層とすることができ
る。反射層の各層の膜厚を適当にずらしたり２〜３の反
射光帯域を同一面上で合成することにより反射光の選択
性を高めることができる。
ることにより反射光帯域が狭い反射層とすることができ
る。反射層の各層の膜厚を適当にずらしたり２〜３の反
射光帯域を同一面上で合成することにより反射光の選択
性を高めることができる。
本実施例の場合においては、第１反射層のビットＰ１を
読み取るときは、第１反射層により十分反射される波長
の光、例えば８００ｎｍの光を用い、第２反射層のビッ
トＰ２を読み取るときは、第１反射層を透過しかつ第２
反射層により反射される波長の光、例えば５００ｎｍの
光を用いる。
読み取るときは、第１反射層により十分反射される波長
の光、例えば８００ｎｍの光を用い、第２反射層のビッ
トＰ２を読み取るときは、第１反射層を透過しかつ第２
反射層により反射される波長の光、例えば５００ｎｍの
光を用いる。
このように、第２の実施例では、反射光帯域が互いに異
なる反射層を積層した構造を有する光ディスクにおいて
、反射層に放射線硬化型樹脂を硬化させることのできる
波長帯域の放射線を必要十分に透過する誘電体層を用い
ることで、透明でない通常のスタンパから、上記の光デ
ィスクを作製可能としたことを特徴としている。
なる反射層を積層した構造を有する光ディスクにおいて
、反射層に放射線硬化型樹脂を硬化させることのできる
波長帯域の放射線を必要十分に透過する誘電体層を用い
ることで、透明でない通常のスタンパから、上記の光デ
ィスクを作製可能としたことを特徴としている。
発明の効果
以上のように、本発明によれば、反射光帯域が互いに異
なる複数の反射層を積層している故に、記録密度を向上
させた光学式情報記録担体が得られる。
なる複数の反射層を積層している故に、記録密度を向上
させた光学式情報記録担体が得られる。
また、本発明によれば、放射線透過性の透明スタンパを
用いて該透明スタンパ側から放射線を照射して放射線硬
化型樹脂を硬化させ反射層を形成している故に、複数の
反射層を積層させた光学式情報記録担体が得られること
ができ、すなわち、光ディスクの大容量化が可能となる
。
用いて該透明スタンパ側から放射線を照射して放射線硬
化型樹脂を硬化させ反射層を形成している故に、複数の
反射層を積層させた光学式情報記録担体が得られること
ができ、すなわち、光ディスクの大容量化が可能となる
。
第１図及び第２図は本発明による光学式情報記録担体の
製造方法を示す概略断面図、第３図は従来の光学式情報
記録担体の製造方法を示す概略断面図ある。 主要部分の符号の説明 １１・・・・・・基板 １２・・・・・・第１反射層 １３・・・・・・放射線透過性の透明スタンパ１４・・
・・・・放射線硬化型樹脂層 １５・・・・・・第２反射層 １６・・・・・・保護層 出願人 パイオニア株式会社
製造方法を示す概略断面図、第３図は従来の光学式情報
記録担体の製造方法を示す概略断面図ある。 主要部分の符号の説明 １１・・・・・・基板 １２・・・・・・第１反射層 １３・・・・・・放射線透過性の透明スタンパ１４・・
・・・・放射線硬化型樹脂層 １５・・・・・・第２反射層 １６・・・・・・保護層 出願人 パイオニア株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）反射光帯域が互いに異なる複数の反射層を透明層
を介して積層したことを特徴とする光学式情報記録担体
。 （２）前記透明層は微小凹凸を有していることを特徴と
する請求項１記載の光学式情報記録担体。 （３）前記複数の反射層は２層構造であり、一方の反射
層は珪素からなり、他方の反射層はアルミニウムからな
ることを特徴とする請求項１又は２記載の光学式情報記
録担体。 （４）前記透明層は放射線硬化型樹脂からなり、前記反
射層は前記放射線硬化型樹脂を硬化させる放射線を透過
することを特徴とする請求項１又は２記載の光学式情報
記録担体。（５）前記反射層は誘電体の多層膜からなる
ことを特徴とする請求項４記載の光学式情報記録担体。 （６）透明基板上に第１反射層を形成する工程と、前記
第１反射層上に液状の放射線硬化型樹脂を介して放射線
透過性を有する透明スタンパを保持する工程と、前記透
明スタンパ側から放射線を前記放射線硬化型樹脂へ照射
しこれを硬化させて透明層を形成する工程と、前記透明
層から前記透明スタンパを剥離する工程と、前記透明層
上に第２反射層を形成する工程と、反射層を保護する保
護層を積層する工程と、を含むことを特徴とする光学式
情報記録担体の製造方法。 （７）前記透明基板及び前記透明層は微小凹凸を有して
いることを特徴とする請求項６記載の光学式情報記録担
体の製造方法。 （８）前記第１反射層は珪素からなり、第２反射層はア
ルミニウムからなることを特徴とする請求項７記載の光
学式情報記録担体の製造方法。 （９）放射線透過性を有するガラス又はプラスチックか
らなることを特徴とする透明スタンパ。 （１０）透明基板上に第１反射光帯域を有する第１反射
層を形成する工程と、前記第１反射層上に液状の放射線
硬化型樹脂を介してスタンパを保持する工程と、放射線
を第１反射層を通して前記放射線硬化型樹脂へ照射しこ
れを硬化させて透明層を形成する工程と、前記透明層か
ら前記スタンパを剥離する工程と、前記透明層上に前記
第１反射光帯域とは異なる第２反射光帯域を有する第２
反射層を形成する工程と、を含むことを特徴とする光学
式情報記録担体の製造方法。 （１１）前記透明基板及び前記透明層は微小凹凸を有し
ていることを特徴とする請求項１０記載の光学式情報記
録担体の製造方法。 （１２）前記第１反射層は前記放射線硬化型樹脂を硬化
させる放射線を透過することを特徴とする請求項１１記
載の光学式情報記録担体。 （１３）前記第１及び第２反射層は誘電体の多層膜から
なることを特徴とする請求項１１または１２記載の光学
式情報記録担体。
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