JP2002334490A - 光学式情報記録担体の製造方法 - Google Patents
光学式情報記録担体の製造方法Info
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- JP2002334490A JP2002334490A JP2002134784A JP2002134784A JP2002334490A JP 2002334490 A JP2002334490 A JP 2002334490A JP 2002134784 A JP2002134784 A JP 2002134784A JP 2002134784 A JP2002134784 A JP 2002134784A JP 2002334490 A JP2002334490 A JP 2002334490A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 比較的単純な構造を有しかつ簡素な工程にて
大量生産に適する高密度化した光学式情報記録担体の製
造方法を提供することにある。 【解決手段】 透明基板上に第１反射層を形成する工程
と、前記第１反射層上に放射線硬化樹脂を介して放射線
透過性を有する透明スタンパを保持する工程と、前記透
明スタンパ側から放射線を前記放射線硬化樹脂へ照射し
これを硬化させて透明層を形成する工程と、前記透明層
から前記スタンパを剥離する工程と、前記透明層上に第
２反射層を形成する工程と、前記第２反射層を保護する
保護層を積層する工程と、を含むことを特徴とする。
大量生産に適する高密度化した光学式情報記録担体の製
造方法を提供することにある。 【解決手段】 透明基板上に第１反射層を形成する工程
と、前記第１反射層上に放射線硬化樹脂を介して放射線
透過性を有する透明スタンパを保持する工程と、前記透
明スタンパ側から放射線を前記放射線硬化樹脂へ照射し
これを硬化させて透明層を形成する工程と、前記透明層
から前記スタンパを剥離する工程と、前記透明層上に第
２反射層を形成する工程と、前記第２反射層を保護する
保護層を積層する工程と、を含むことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ビデオディスク、
コンパクトディスク等の光ディスク、即ち光学式情記録
担体の製造方法に関する。
コンパクトディスク等の光ディスク、即ち光学式情記録
担体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来技術】従来から第３図（ｃ）に示す如き光ディス
クが知られている。かかる光ディスクは、透明基板上に
金属を蒸着あるいはスパッタリングして金属反射層２が
形成され、この反射層上には保護層３が設けられている
構造を有する。透明基板上には記録すべき信号に対応す
る微小凹凸（以下ピットと称する）が設けられており反
射層２がピットの形状を有するようになっている。この
透明基板１は、射出成形法、圧縮成形法、２Ｐ法等によ
って、ＰＭＭＡ（ポリメタアクリレート）ＰＣ（ポリカ
ーボネート）等の透明樹脂を材料して作成されている。
クが知られている。かかる光ディスクは、透明基板上に
金属を蒸着あるいはスパッタリングして金属反射層２が
形成され、この反射層上には保護層３が設けられている
構造を有する。透明基板上には記録すべき信号に対応す
る微小凹凸（以下ピットと称する）が設けられており反
射層２がピットの形状を有するようになっている。この
透明基板１は、射出成形法、圧縮成形法、２Ｐ法等によ
って、ＰＭＭＡ（ポリメタアクリレート）ＰＣ（ポリカ
ーボネート）等の透明樹脂を材料して作成されている。
【０００３】第３図は光ディスクの製造工程の一例を示
している。
している。
【０００４】この製造工程においては、まず、表面に螺
旋又は同心円状にピットが配列されたニッケルスタンパ
（図示せず）を成形型とし、ＰＭＭＡ，ＰＣ等の透明樹
脂を射出成形するとにより、スタンパのピットに対応す
るピットが主面に転写された透明基板１が作成される
（図３（ａ））。
旋又は同心円状にピットが配列されたニッケルスタンパ
（図示せず）を成形型とし、ＰＭＭＡ，ＰＣ等の透明樹
脂を射出成形するとにより、スタンパのピットに対応す
るピットが主面に転写された透明基板１が作成される
（図３（ａ））。
【０００５】次に、第３図（ｂ）に示す如く、真空蒸着
工程において得られた基板１のピットＰを担持した表面
上に金属反射層２が形成される。
工程において得られた基板１のピットＰを担持した表面
上に金属反射層２が形成される。
【０００６】更に、第３図（ｃ）に示す如く、反射層２
の上に紫外線等の放射線により硬化する放射線硬化型樹
脂からなる保護膜３が形成される。このようにして従来
の光ディスクが得られる。
の上に紫外線等の放射線により硬化する放射線硬化型樹
脂からなる保護膜３が形成される。このようにして従来
の光ディスクが得られる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
如き光ディク製造工程により、従来の光ディスクが多量
に製造されるのであるが、この様な従来の光ディスクで
は近年におけるピットを高密度に形成して大量情報を記
録するという要望には十分こたえられなかった。
如き光ディク製造工程により、従来の光ディスクが多量
に製造されるのであるが、この様な従来の光ディスクで
は近年におけるピットを高密度に形成して大量情報を記
録するという要望には十分こたえられなかった。
【０００８】本発明の目的は、比較的単純な構造を有し
かつ簡素な工程にて大量生産に適する高密度化した光学
式情報記録担体の製造方法を提供することにある。
かつ簡素な工程にて大量生産に適する高密度化した光学
式情報記録担体の製造方法を提供することにある。
【０００９】本発明に適用される光学式情報記録担体
は、複数の反射層を透明層を介して積層したことを特徴
とする。
は、複数の反射層を透明層を介して積層したことを特徴
とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項１に記載の発明は、透明基板上に第１反射層
を形成する工程と、前記第１反射層上に放射線硬化樹脂
を介して放射線透過性を有する透明スタンパを保持する
工程と、前記透明スタンパ側から放射線を前記放射線硬
化樹脂へ照射しこれを硬化させて透明層を形成する工程
と、前記透明層から前記スタンパを剥離する工程と、前
記透明層上に第２反射層を形成する工程と、前記第２反
射層を保護する保護層を積層する工程と、を含むことを
特徴とする。
め、請求項１に記載の発明は、透明基板上に第１反射層
を形成する工程と、前記第１反射層上に放射線硬化樹脂
を介して放射線透過性を有する透明スタンパを保持する
工程と、前記透明スタンパ側から放射線を前記放射線硬
化樹脂へ照射しこれを硬化させて透明層を形成する工程
と、前記透明層から前記スタンパを剥離する工程と、前
記透明層上に第２反射層を形成する工程と、前記第２反
射層を保護する保護層を積層する工程と、を含むことを
特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施例を図面を
参照しつつ説明する。
参照しつつ説明する。
【００１２】第１の実施例として互いに異なる反射光帯
域を持つ２つの反射層を有する光ディスクを作成する。
域を持つ２つの反射層を有する光ディスクを作成する。
【００１３】まず、図１（ａ）に示す如く、第１の記録
ピットＰ１を把持した透明基板１１を用意する。透明基
板１１は、その表面に螺旋又は同心円状に第１の記録ピ
ットＰ１が配列されたニッケルスタンパ（図示せず）を
成形型として、ＰＭＭＡ，ＰＣ等の透明樹脂を射出成形
することにより得られた透明基板である。射出成形によ
り、ニッケルスタンパの配列ピットが第１ピットＰ１と
して基板１上に転写されている。
ピットＰ１を把持した透明基板１１を用意する。透明基
板１１は、その表面に螺旋又は同心円状に第１の記録ピ
ットＰ１が配列されたニッケルスタンパ（図示せず）を
成形型として、ＰＭＭＡ，ＰＣ等の透明樹脂を射出成形
することにより得られた透明基板である。射出成形によ
り、ニッケルスタンパの配列ピットが第１ピットＰ１と
して基板１上に転写されている。
【００１４】次に、第１図（ｂ）に示す如く、真空蒸着
装置を用いてこの基板１１のピットＰ１を把持した表面
上に珪素（Ｓｉ）を蒸着して、反射層１２を形成する。
このようにして透明基板１１上に珪素からなる第１反射
層１２を形成する。
装置を用いてこの基板１１のピットＰ１を把持した表面
上に珪素（Ｓｉ）を蒸着して、反射層１２を形成する。
このようにして透明基板１１上に珪素からなる第１反射
層１２を形成する。
【００１５】次に、透明スタンパ１３を用意しこれを転
写装置に装着する。透明スタンパ１３は、次工程で塗布
される放射線硬化型樹脂１４を硬化させるに必要な波長
帯の光を透過する放射線透過性のガラス又はプラスチッ
クからなる。透明タンパ１３の表面に螺旋又は同心円状
に第２の記録ピットが配列されており、第１図（ｃ）に
示す如く、そのピット面を上方に向けて転写装置に装着
する。
写装置に装着する。透明スタンパ１３は、次工程で塗布
される放射線硬化型樹脂１４を硬化させるに必要な波長
帯の光を透過する放射線透過性のガラス又はプラスチッ
クからなる。透明タンパ１３の表面に螺旋又は同心円状
に第２の記録ピットが配列されており、第１図（ｃ）に
示す如く、そのピット面を上方に向けて転写装置に装着
する。
【００１６】次に、第１図（ｃ）に示す如く、透明スタ
ンパ１３のピット面上に、液状の放射線硬化型樹脂１４
を供給する。
ンパ１３のピット面上に、液状の放射線硬化型樹脂１４
を供給する。
【００１７】次に、透明基板１１を、その珪素からなる
第１反射層１２を下方に向けて液状の放線硬化型樹脂１
４を介して透明スタンパ１３のピット面に載置する。こ
のように、第１反射層１２及び透明スタンパ１３間に放
射線硬化型樹脂１４を保持させる。（第１図（ｄ））。
第１反射層１２を下方に向けて液状の放線硬化型樹脂１
４を介して透明スタンパ１３のピット面に載置する。こ
のように、第１反射層１２及び透明スタンパ１３間に放
射線硬化型樹脂１４を保持させる。（第１図（ｄ））。
【００１８】次に、第１図（ｄ）に示す状態のままで、
スタンパ１３側すなわち図面下方から放射線を照射し
て、第１反射層１２上の放射線硬化型樹脂１４を硬化さ
せる。このようにして、透明スタンパ１３の配列ピット
を第２ピットＰ２として担持した硬化した放射線硬化型
樹脂１４上に転写する。
スタンパ１３側すなわち図面下方から放射線を照射し
て、第１反射層１２上の放射線硬化型樹脂１４を硬化さ
せる。このようにして、透明スタンパ１３の配列ピット
を第２ピットＰ２として担持した硬化した放射線硬化型
樹脂１４上に転写する。
【００１９】次に、第１図（ｅ）に示す如く、放射線硬
化型樹脂の硬化後、この放射線硬化型樹脂１４の層から
透明スタンパ１３を剥離する。
化型樹脂の硬化後、この放射線硬化型樹脂１４の層から
透明スタンパ１３を剥離する。
【００２０】次に、第１図（ｆ）に示す如く、真空蒸着
装置を用いて、この基板１１上の放射線硬化型樹脂１４
のピットＰ２を担持した表面上にアルミニウム（Ａｌ）
を蒸着し、反射層１５を形成する。このように、放射線
硬化型樹脂１４上にアルミニウムからなる第２反射層１
５を積層形成する。
装置を用いて、この基板１１上の放射線硬化型樹脂１４
のピットＰ２を担持した表面上にアルミニウム（Ａｌ）
を蒸着し、反射層１５を形成する。このように、放射線
硬化型樹脂１４上にアルミニウムからなる第２反射層１
５を積層形成する。
【００２１】次に、第１図（ｇ）に示す如く、第２反射
層１５を保護する放射線硬化型樹脂からなる保護層１６
を積層して、反射光帯域が互いに異なる第１及び第２反
射層１２及び１５を積層した光ディスクを得る。
層１５を保護する放射線硬化型樹脂からなる保護層１６
を積層して、反射光帯域が互いに異なる第１及び第２反
射層１２及び１５を積層した光ディスクを得る。
【００２２】本実施例のように第１及び第２反射層１２
及び１５を珪素及びアルミニウムとした場合において
は、第１反射層のピットＰ１を読み取るときは、第１反
射層により十分反射される波長の光、例えば４００ｎｍ
の光を用い、第２反射層のピットＰ２を読み取るとき
は、第１反射層を透過しかつ第２反射層により反射され
る波長の光、例えば８００ｎｍ以上の光を用いる。この
ように反射層を各々材質を異ならせることでその反射光
帯域を各々違う反射層とする。また、蒸着又はスパッタ
リング工程において第１及び第２反射層１２、１５の各
層の膜厚を調整することにより、各層の光透過率を変え
ることができる。さらに、図１（ａ）〜（ｆ）に示す工
程を、互いに異なる反射光帯域を有する反射層材料を用
いつつ、繰り返すことによって２層以上の反射層を有す
る光ディスクを得ることができる。
及び１５を珪素及びアルミニウムとした場合において
は、第１反射層のピットＰ１を読み取るときは、第１反
射層により十分反射される波長の光、例えば４００ｎｍ
の光を用い、第２反射層のピットＰ２を読み取るとき
は、第１反射層を透過しかつ第２反射層により反射され
る波長の光、例えば８００ｎｍ以上の光を用いる。この
ように反射層を各々材質を異ならせることでその反射光
帯域を各々違う反射層とする。また、蒸着又はスパッタ
リング工程において第１及び第２反射層１２、１５の各
層の膜厚を調整することにより、各層の光透過率を変え
ることができる。さらに、図１（ａ）〜（ｆ）に示す工
程を、互いに異なる反射光帯域を有する反射層材料を用
いつつ、繰り返すことによって２層以上の反射層を有す
る光ディスクを得ることができる。
【００２３】第２の実施例として反射光帯域が互いに異
なる多数の反射層を積層した光ディスクを作成する。
なる多数の反射層を積層した光ディスクを作成する。
【００２４】まず、第２図（ａ）に示す如く、第１の記
録ピットＰ１を担持した透明基板１１を用意する。透明
基板１１は、第１の実施例と同様のものである。
録ピットＰ１を担持した透明基板１１を用意する。透明
基板１１は、第１の実施例と同様のものである。
【００２５】次に、第２図（ｂ）に示す如く、真空蒸着
装置を用いてこの基板１１のピットＰ１を担持した表面
上に誘電体多層反射層を形成する。このようにして透明
基板１１上に第１反射光帯域を有する第１反射層１２を
形成する。第１反射層は８００ｎｍの光を反射し、他の
波長例えば６００ｎｍ以下の光を透過する誘電体多層反
射層とする。
装置を用いてこの基板１１のピットＰ１を担持した表面
上に誘電体多層反射層を形成する。このようにして透明
基板１１上に第１反射光帯域を有する第１反射層１２を
形成する。第１反射層は８００ｎｍの光を反射し、他の
波長例えば６００ｎｍ以下の光を透過する誘電体多層反
射層とする。
【００２６】次に、表面に螺旋又は同心円状に第２の記
録ピットＰ２が配列されたスタンパ１３を、第２図
（ｃ）に示す如く、そのピット面を上方に向けて転写装
置に装着する。
録ピットＰ２が配列されたスタンパ１３を、第２図
（ｃ）に示す如く、そのピット面を上方に向けて転写装
置に装着する。
【００２７】次に、第２図（ｄ）に示す状態のままで、
透明基板１１側すなわち図面上方から放射線を照射し
て、第１反射層１２上の放射線硬化型樹脂１４を硬化さ
せ透明層を形成する。このようにして、スタンパ１３の
配列ピットを第２ピットＰ２として担持した硬化した放
射線硬化型樹脂の透明層１４上に転写する。
透明基板１１側すなわち図面上方から放射線を照射し
て、第１反射層１２上の放射線硬化型樹脂１４を硬化さ
せ透明層を形成する。このようにして、スタンパ１３の
配列ピットを第２ピットＰ２として担持した硬化した放
射線硬化型樹脂の透明層１４上に転写する。
【００２８】次に、第２図（ｅ）に示す如く、放射線硬
化型樹脂の硬化後、この放射線硬化型樹脂の透明層１４
からスタンパ１３を剥離する。
化型樹脂の硬化後、この放射線硬化型樹脂の透明層１４
からスタンパ１３を剥離する。
【００２９】次に、第２図（ｆ）に示す如く、真空蒸着
装置を用いて、この基板１１上の放射線硬化型樹脂１４
のピットＰ２を担持した表面上に誘電体多層反射層１５
を形成する。このように、放射線硬化型樹脂１４上に第
２反射光帯域を有する第２反射層１５を積層形成する。
第２反射層は、第１反射層と異なる波長のレーザを反射
し、他の波長の光を透過する誘電体多層反射層とする。
装置を用いて、この基板１１上の放射線硬化型樹脂１４
のピットＰ２を担持した表面上に誘電体多層反射層１５
を形成する。このように、放射線硬化型樹脂１４上に第
２反射光帯域を有する第２反射層１５を積層形成する。
第２反射層は、第１反射層と異なる波長のレーザを反射
し、他の波長の光を透過する誘電体多層反射層とする。
【００３０】次に、第２図（ｃ）に示す如く、再びスタ
ンパ１３によって放射線硬化型樹脂１４にピットを形状
を設け、図２（ｄ）以下の工程を繰り返すことにより多
層の反射層を有する光ディスクを作成する。勿論最後の
反射層を保護する放射線硬化型樹脂からなる保護層１６
を積層して、反射光帯域が互いに異なる第１及び第２反
射層１２及び１５を積層したた光デスクを得る。
ンパ１３によって放射線硬化型樹脂１４にピットを形状
を設け、図２（ｄ）以下の工程を繰り返すことにより多
層の反射層を有する光ディスクを作成する。勿論最後の
反射層を保護する放射線硬化型樹脂からなる保護層１６
を積層して、反射光帯域が互いに異なる第１及び第２反
射層１２及び１５を積層したた光デスクを得る。
【００３１】各反射層で反射する波長を適当に選択する
ことにより、幾く層もの反射層及び透明層を積層するこ
とが可能である。
ことにより、幾く層もの反射層及び透明層を積層するこ
とが可能である。
【００３２】誘電体多層反射層は、ＰｂＯ2 ，ＺｒＯ
2 ，ＴｉＯ2 等の高屈折率物質とＳｉＯ2 ，ＭｇＦ2 ，
Ａｌ2Ｏ3 等の低屈折率物質のλ／４膜を交互に積層す
ることにより反射光帯域が狭い反射層とすることができ
る。反射層の各層の膜厚を適当にずらしたり２〜３の反
射光帯域を同一面上で合成することにより反射光の選択
性を高めることができる。
2 ，ＴｉＯ2 等の高屈折率物質とＳｉＯ2 ，ＭｇＦ2 ，
Ａｌ2Ｏ3 等の低屈折率物質のλ／４膜を交互に積層す
ることにより反射光帯域が狭い反射層とすることができ
る。反射層の各層の膜厚を適当にずらしたり２〜３の反
射光帯域を同一面上で合成することにより反射光の選択
性を高めることができる。
【００３３】本実施例の場合においては、第１反射層の
ピットＰ１を読み取るときは、第１反射により十分反射
される波長の光、例えば８００ｎｍの光を用い、第２反
射層のピットＰ２を読みるときは、第１反射層を透過し
かつ第２反射層により反射される波長の光、例えば５０
０ｎｍの光を用いる。このように、第２の実施例では、
反射光帯域が互いに異なる反射層を積層した構造を有す
る光ディスクにおいて、反射層に放射線硬化樹脂を硬化
させることのできる波長帯域の放射を必要十分に透過す
る誘電体層を用いることで、透明でない通常のスタンパ
から、上記の光ディスクを作製可能としたことを特徴と
している、
ピットＰ１を読み取るときは、第１反射により十分反射
される波長の光、例えば８００ｎｍの光を用い、第２反
射層のピットＰ２を読みるときは、第１反射層を透過し
かつ第２反射層により反射される波長の光、例えば５０
０ｎｍの光を用いる。このように、第２の実施例では、
反射光帯域が互いに異なる反射層を積層した構造を有す
る光ディスクにおいて、反射層に放射線硬化樹脂を硬化
させることのできる波長帯域の放射を必要十分に透過す
る誘電体層を用いることで、透明でない通常のスタンパ
から、上記の光ディスクを作製可能としたことを特徴と
している、
【００３４】
【発明の効果】本発明によれば、反射光帯域が互いに異
なる複数の反射層を積層している故に、記録密度を向上
させた光学式情報記録担体が得られる。
なる複数の反射層を積層している故に、記録密度を向上
させた光学式情報記録担体が得られる。
【００３５】また、本発明によれば、放射線透過性の透
明スタンパを用いて該透明スタンパ側から放射線を照射
して放射線硬化型樹脂を硬化させ反射層を形成している
故に、複数の反射層を積層せた光学式情報記録担体が得
られることができ、すなわち、光ディスクの大容量化が
可能となる。
明スタンパを用いて該透明スタンパ側から放射線を照射
して放射線硬化型樹脂を硬化させ反射層を形成している
故に、複数の反射層を積層せた光学式情報記録担体が得
られることができ、すなわち、光ディスクの大容量化が
可能となる。
【図１】本発明による光学情報記録担体の製造方法を示
す概略断面図である。
す概略断面図である。
【図２】本発明による光学式情報記録担体の製造方法を
示す概略断面図である。
示す概略断面図である。
【図３】従来の光学式情報記録担体の製造方法示す概略
断面図ある。
断面図ある。
１・・・基板 １２・・・反射層 １３・・・放射線透過性の透明スタンパ １４・・・放射線硬化型樹脂層 １５・・・第２反射層 １６・・・保護層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 横関 伸一 埼玉県鶴ヶ島市富士見６丁目１番１号 パ イオニア株式会社総合研究所内 Ｆターム(参考） 5D029 JB13 MA18 MA19 MA33 NA27 5D121 AA01 AA04 AA05 DD06 DD07 GG02
Claims (1)
- 【請求項１】 透明基板上に第１反射層を形成する工程
と、 前記第１反射層上に放射線硬化樹脂を介して放射線透過
性を有する透明スタンパを保持する工程と、 前記透明スタンパ側から放射線を前記放射線硬化樹脂へ
照射しこれを硬化させて透明層を形成する工程と、 前記透明層から前記スタンパを剥離する工程と、 前記透明層上に第２反射層を形成する工程と、 前記第２反射層を保護する保護層を積層する工程と、を
含むことを特徴とする光学式情報記録担体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002134784A JP2002334490A (ja) | 1988-11-08 | 2002-05-10 | 光学式情報記録担体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28182388 | 1988-11-08 | ||
| JP63-281823 | 1988-11-08 | ||
| JP2002134784A JP2002334490A (ja) | 1988-11-08 | 2002-05-10 | 光学式情報記録担体の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000335421A Division JP2001176125A (ja) | 1988-11-08 | 2000-11-02 | 光学式情報記録担体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002334490A true JP2002334490A (ja) | 2002-11-22 |
Family
ID=26554350
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000335421A Pending JP2001176125A (ja) | 1988-11-08 | 2000-11-02 | 光学式情報記録担体 |
| JP2002134784A Pending JP2002334490A (ja) | 1988-11-08 | 2002-05-10 | 光学式情報記録担体の製造方法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000335421A Pending JP2001176125A (ja) | 1988-11-08 | 2000-11-02 | 光学式情報記録担体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JP2001176125A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006116885A1 (en) * | 2005-05-02 | 2006-11-09 | Unaxis Balzers Ag | Reusable stamper for optical disk |
| EP1840892A2 (en) * | 2006-03-28 | 2007-10-03 | Kabushi Kaisha Toshiba | Optical disk, optical disk manufacturing method and optical disk reproducing method |
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