JP2000268417A

JP2000268417A - 光ディスクの製造方法

Info

Publication number: JP2000268417A
Application number: JP11073973A
Authority: JP
Inventors: Jiro Fujimori; 二郎藤森; Masaaki Motokawa; 昌明本川; Haruhisa Maruyama; 治久丸山
Original assignee: Pioneer Video Corp; Pioneer Electronic Corp
Current assignee: Pioneer Video Corp; Pioneer Corp
Priority date: 1999-03-18
Filing date: 1999-03-18
Publication date: 2000-09-29
Also published as: US6312547B1

Abstract

(57)【要約】【課題】信頼性の向上した多層構成の光ディスクを効
率良く生産することができる光ディスクの製造方法を提
供すること。【解決手段】第１の情報記録面上に光透過性シートを
積層し、その上に第２の情報記録面を有する紫外線硬化
型樹脂を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、多層の記録面を有する
光ディスクの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の多層記録タイプの光ディスク５０
は、図4に示すように第１及び第２の情報記録面を有す
る第１ディスク１と、第３及び第４の情報記録面を有す
る第２ディスク２とを接着剤８等を用いて貼り合わせた
ものであり、第１ディスク１は、第１の光透過性基板３
の第１の情報記録面上に、半透過性の第１の反射膜４、
第２の情報記録面を有する中間層５、第２の反射膜６、
そして保護膜７が順に積層された構造を有している。第
１の光透過性基板３の第１の情報記録面上及び中間層５
の第２の情報記録面上には、それぞれ第１の情報信号を
担持する第１のピット９及び第２の情報信号を担持する
第２のピット１０が形成されており、これらのピット
９、ピット１０は、いずれも第１の光透過性基板３側
（図中矢印方向）から照射した再生用ビームによって読
み取ることができる形状を有している。尚、第２ディス
ク２は、第１ディスク１と構造が同じであり説明を省略
する。

【０００３】上記光ディスク５０は、図５に示す工程で
製造される。先ず、図５（ａ）に示すように、第１の情
報信号を担持する第１のピット９が形成された第１の情
報記録面上に半透過性の第１の反射膜４が形成された第
１の光透過性基板３を準備する。次に、図５（ｂ）に示
すように、第１の反射層４を上にして上記第１の光透過
性基板３をスピンテーブル２０上に載置する。スピンテ
ーブル２０は、光透過性に優れた円盤で形成され、中央
に基板取り付け用の軸部２１が設けられている。第１の
光透過性基板３の中央には、中心穴３ａが設けられてい
るので、スピンテーブル２０の軸部２１に第１の光透過
性基板３の中心穴３ａを挿入することで、第１の光透過
性基板３は、スピンテーブル２０上に吸着固定される。

【０００４】次に、第１の反射層４上に後述する工程で
中間層５となる紫外線硬化型樹脂Ｐを図示しないディス
ペンサにより第１の光透過性基板３の中心穴３ａ付近に
ドーナツ状に滴下した後、第２の情報信号を担持する第
２のピット１０が形成されたスタンパ２２を、ピット１
０が形成された面を下にして載置する。スタンパ２２の
中央には、上記第１の光透過性基板３の中心穴３ａと同
様に中心穴２２ａが形成されているので、スタンパ２２
の中心穴２２ａをスピンテーブル２０の軸部２１に挿入
することで、第１の光透過性基板３と同軸上に載置され
る。

【０００５】次に、図５（ｃ）に示す如くスピンテーブ
ル２０を高速で回転すると、紫外線硬化型樹脂Ｐがスタ
ンパ２２と第１の反射膜４との隙間に広がり、余分な紫
外線硬化型樹脂Ｐを振り切り、厚さが均等な紫外線硬化
型樹脂Ｐによる膜が形成される。次に、図５（ｄ）に示
す工程において、スピンテーブル２０の底面側（図中矢
印方向）から紫外線を照射し、紫外線硬化型樹脂Ｐを硬
化させることで中間層５が形成される。

【０００６】次に、図５（ｅ）に示すようにスタンパ２
２を取り去りると、第２の情報信号を担持する第２のピ
ット１０が中間層５側に転写されているので、中間層５
の第２のピットが転写された第２の情報記録面上に第１
の反射膜４よりも高反射率を有する第２の反射層６を形
成した後、第２の反射層６上に保護膜７を形成すること
で、第１ディスク１が完成する。そして、上記の工程と
同様に形成された第３及び第４の情報記録面を有する第
２ディスク２と、上記工程で製造された第１ディスク１
とを互いに保護膜７側を対向させて接着剤８により接着
することで、光ディスク５０が完成する。

【０００７】以上のように製造された光ディスク５０
は、例えば第１の光透過性基板３を介して入射するレー
ザビームに対して、一部の光は透過し、一部の光が反射
する半透過性の反射膜で生成された第１の反射膜４によ
り反射された光で第１のピット９による情報信号を読み
取ると共に、第１の反射膜４及び中間層５を透過した光
が第２の反射膜６で反射された光で第２のピット１０に
よる情報信号を読み取るようにしているので、中間層５
の厚みを均一にすることが情報信号を読み取る際の信頼
性を高める上で非常に重要となる。

【０００８】上記光ディスク５０は、中間層５に液状の
紫外線硬化型樹脂Ｐを用いているため、気泡が混入しや
すく、厚さを均一にすることが難しい。そこで、スピン
テーブル２０による回転処理を行う場合は、減圧状態に
ある図示せぬチャンバー内で行い、中間層５内部にある
気泡を取り除くと共に、紫外線硬化型樹脂Ｐの滴下量と
スピンテーブル２０の速度及び時間を変化させることで
中間層５の厚さの均一化を行っている。しかし、紫外線
硬化型樹脂Ｐの滴下量を制御することや、スピンテーブ
ル２０の速度や時間を制御することで、中間層５の厚さ
を均一にすることは非常に難しく、チャンバー内を減圧
状態にしても気泡を完全に取り除くことができなかっ
た。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる事情
に基づいてなされたものであり、中間層の厚みを均一に
することが可能であり、信頼性の高い光ディスクの製造
方法を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
光ディスクの製造方法であって、片面に第１の情報記録
面を有する光透過性基板の第１の情報記録面上に、入射
光の一部を反射し一部を透過する半透過性の第１の反射
膜を形成する工程と、第１の反射膜上に光透過性シート
を積層する工程と、第２の情報記録面を有するスタンパ
を準備する工程と、光透過性シート及びスタンパの内の
一方に液状の紫外線硬化型樹脂を塗布し、光透過性シー
ト及び液状の紫外線硬化型樹脂を内側にして光透過性基
板とスタンパとを減圧空間内で重ね合せて所定の加圧力
にて押圧する工程と、重ね合せられた光透過性基板とス
タンパを大気圧内に戻した後、光透過性基板及び第１の
反射膜を介して紫外線を照射し、光透過性シート上に第
２の情報記録面が転写された紫外線硬化型樹脂層を形成
する工程と、紫外線硬化型樹脂層の第２の情報記録面上
に第１の反射膜より高い反射率を有する第２の反射膜を
形成する工程とを有することを特徴とする。

【００１１】請求項２記載の発明は、請求項１記載の光
ディスクの製造方法であって、光透過性シートを積層す
る工程の前に、第１の反射膜上に液状の紫外線硬化型樹
脂を塗布し、紫外線を照射して硬化させた保護膜を形成
する工程を有することを特徴とする。

【００１２】請求項３記載の発明は、請求項１又は２記
載の光ディスクの製造方法であって、紫外線硬化型樹脂
は、室温未硬化状態での粘度が１５〜４００ｃｐｓであ
ることを特徴とする。

【００１３】請求項４記載の発明は、請求項１記載の光
ディスクの製造方法であって、光透過性シートとして、
室温未硬化状態での粘度が３，５００〜４００，０００
Ｐでかつ未硬化状態での厚さが３０〜６０μｍであるド
ライ光硬化性フィルムを用いることを特徴とする。

【００１４】請求項５記載の発明は、請求項４記載の光
ディスクの製造方法であって、第１の光透過性基板側か
ら紫外線を照射する工程において光透過性シートを構成
するドライ光硬化性フィルムをも硬化させることを特徴
とする。

【００１５】請求項６記載の発明は、請求項１記載の光
ディスクの製造方法であって、光透過性シートとして、
厚さが３０〜６０μｍである粘着シートを用いることを
特徴とする。

【００１６】請求項７記載の発明は、請求項１記載の光
ディスクの製造方法であって、半透過性の第１の反射膜
は、金属薄膜又は誘電体薄膜からなることを特徴とす
る。

【００１７】

【作用】本発明の光ディスクの製造方法においては、光
透過性シートと紫外線硬化型樹脂層とにより中間層を形
成するようにしたので、所定の均一な厚さの中間層を有
する多層構成の光ディスクを低コストで効率良く得るこ
とができる。

【００１８】また、紫外線硬化型樹脂層に第２の情報記
録面を転写する工程を減圧空間内で行うようにしたので
紫外線硬化型樹脂への気泡の混入が抑圧され、また減圧
空間と大気圧の圧力差により紫外線硬化型樹脂内に残る
気泡をつぶすことができる。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施形態について
図面を参照して説明する。図１は本発明の光ディスク６
０の要部断面図である。尚、従来例と同様の機能を有す
る部分には同一の符号を付している。本発明の光ディス
ク６０は、図１に示すように第１及び第２の情報記録面
を有する第１ディスク１１と、第３及び第４の情報記録
面を有する第２ディスク１２とを接着剤８等を用いて貼
り合わせたものであり、第１ディスク１１は、第１の光
透過性基板３の第１の情報記録面上に、半透過性の第１
の反射膜４、第１の保護膜１３、光透過性シート１４、
第２の情報記録面を有する転写層（紫外線硬化型樹脂
層）１５、第２の反射膜６、そして第２の保護膜１６が
順に積層された構造を有している。即ち、上述した従来
例と異なる点は、中間層１７を上記第１の保護膜１３、
光透過性シート１４、及び転写層１５とで構成したこと
にある。尚、第２ディスク１２は、第１ディスク１１と
同様な構造であり、説明を省略する。

【００２０】第１の光透過性基板３の第１の情報記録面
及び転写層１７の第２の情報記録面間には、それぞれ第
１の情報信号を担持する第１のピット９及び第２の情報
信号を担持する第２のピット１０が形成され、これらの
ピット９、ピット１０は、いずれも第１の光透過性基板
３側（図中矢印方向）から照射した再生用ビームによっ
て読み取ることができる形状を有している。

【００２１】本発明の光ディスク６０は、以下に説明す
る方法により効率良く製造される。図２及び図３は、本
発明の光ディスク６０の製造方法における好ましい実施
形態を示す工程図である。先ず、図２（ａ）に示す第１
工程において、片面に第１の情報記録面を有する第１の
光透過性基板３の第１の情報記録面上に、入射光の一部
を反射し、一部を透過する半透過性の第１の反射層４
が、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレ
ーティング法等により形成される。

【００２２】ここで用いられる第１の光透過性基板３の
形成材料は、光透過性を有しているものであればよく、
例えばポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリ
レート（ＰＭＭＡ）等の樹脂、光学ガラス等の透明材料
が挙げられる。各種透明材料の中でも、ポリカーボネー
トは、耐環境性に優れ、また寸法安定性にも優れている
ことから好適に用いられる。これら第１の光透過性基板
３は、その形成材料が樹脂である場合には、例えばキャ
ビティ内にスタンパーが配置された金型を用いる射出成
形により一体的に形成され、同時に表面のピット９も形
成される。

【００２３】第１の光透過性基板３の形状及び大きさ
は、この光ディスクの用途に応じて適宜に決定すればよ
い。例えば近年話題となっているデジタルビデオディス
ク（ＤＶＤ）の場合、第１の光透過性基板３は、直径１
２０ｍｍ程度で中心部に直径１５ｍｍ程度の中心穴３ａ
を有する円盤状であり、その厚さは、０．６ｍｍ程度で
ある。また、第１の光透過性基板３に形成されているピ
ット９の深さは、通常、０．０２〜１μｍ、好ましくは
０．０５〜０．３μｍである。

【００２４】本発明の光ディスク６０は、再生時に第１
の光透過性基板３側から照射した再生用ビームが第２の
情報記録面にまで到達する必要があるので第１の光透過
性基板３上に積層されている第１の反射膜４は、入射し
た光ビームの一部を透過し一部を反射する半透過膜とな
っている。従って、第１の反射膜４は、例えば、一般的
な反射膜よりも薄い金属膜を例示することができる。よ
り具体的には、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、ニッケル（Ｎ
ｉ）、アルミニウム（Ａｌ）等からなる厚さ１００〜２
００オングストローム程度の金属薄膜又はシリコンカー
バイド、シリコンナイトライド等の誘電体薄膜を例示す
ることができる。

【００２５】次に、図２（ｂ）に示す第２工程におい
て、上記第１の反射膜４上に第１の保護膜１３を形成す
る。第１の保護膜１３は、後述する光透過性シート１４
を積層する前に、第１の反射膜４の露出面を保護するた
めのものであり、反射膜を露出したままの半製品を移送
したり保管したりするような場合に有用である。第１の
反射膜４は、ピット９に担持された第１の情報信号を再
生するために再生用ビームの一部を反射する半透過性を
有していなければならないのに対して、第１の保護膜１
３は、むしろ再生用ビームや硬化用紫外線の透過に全く
影響を与えないものである方が好ましいので、実質的に
１００％の光透過性を有することが好ましい。

【００２６】第１の保護膜１３の形成材料としては、例
えば、紫外線硬化型樹脂等が挙げられる。第１の保護膜
１３は、室温未硬化状態での厚さが５〜１０μｍであ
り、粘度が１５〜４００ｃｐｓ（センチポイズ）、好ま
しくは１５〜５０ｃｐｓの液状の紫外線硬化型樹脂を第
１の反射膜４上にスピンコートし、紫外線を照射して硬
化されることにより形成される。

【００２７】次に、図２（ｃ）に示す第３工程におい
て、上記第１の保護膜１３上に光透過性シート１４を積
層する。光透過性シート１４は、例えば、光透過性のア
クリル系粘着剤からなる粘着シート又は光透過性のドラ
イ光硬化性フィルム等である。ドライ光硬化性フィルム
１４は、室温未硬化状態での粘度が３，５００〜４０
０，０００Ｐで、且つ未硬化状態での厚さが３０〜６０
μｍであると共に、紫外線の照射により硬化する性質を
有し、実質的に溶剤を含まないものである。また、ドラ
イ光硬化性フィルムに代えて粘着シートを用いる場合
は、ドライ光硬化性フィルムと同様に、未硬化状態での
厚さが３０〜６０μｍのものを採用する。

【００２８】ドライ光硬化性フィルムは、室温未硬化状
態での粘度が３，５００ポイズ未満であると、ほぼ液状
となりフィルム形状が維持されなくなったり、反射膜上
あるいは保護膜上に接着積層された後の硬化収縮が過大
になる等の問題を生じることがある。一方、室温未硬化
状態での粘度が４００，０００ポイズを超えると、光デ
ィスクの生産工程において混入した気泡が残存し易くな
り、反射膜あるいは保護膜への密着力が低下して実用に
供せなくなることがある。また、ドライ光硬化性フィル
ムは、架橋及び／又は重合により高分子量ポリマーに変
化する光硬化性樹脂組成物により形成され、そのような
光硬化性樹脂組成物としては、例えば光重合型感光性樹
脂組成物が挙げられる。

【００２９】次に、図２（ｄ）に示す第４工程におい
て、第２の情報信号を担持する第２のピット１０が形成
されたスタンパ２２を準備し、スタンパ２０の第２のピ
ット１０が形成された情報記録面に液状の紫外線硬化型
樹脂Ｐが塗布される。この液状の紫外線硬化型樹脂Ｐ
は、後述する第７工程において紫外線が照射されると、
硬化して転写層１５となる。また、この液状の紫外線硬
化型樹脂Ｐは、室温未硬化状態での粘度が１５〜４００
ｃｐｓ（センチポイズ）、好ましくは１５〜５０ｃｐｓ
であり、スタンパ２２の情報記録面上にスピンコートす
ることによって未硬化状態での厚さが５〜１０μｍとな
るように塗布される。

【００３０】次に、図３（ｅ）に示す第５工程におい
て、液状の紫外線硬化型樹脂Ｐが塗布されたスタンパ２
２は、スタンパ２２の中央の図示しない中央穴をチャン
バー３０内に配設されているスピンテーブル２０の軸部
２１に挿入し、スピンテーブル２０上に載置される。続
いて、上記第３工程で得られた半製品、即ち、第１の光
透過基板３上に第１の反射膜４、第１の保護膜１３、光
透過性シート１４が順に積層された状態の半製品を、光
透過性シート１４を下にして、第１の光透過性基板３の
中央穴３ａをスピンテーブル２０の軸部２１に沿って挿
入し、光透過性シート１４がスタンパ２２上の液状の紫
外線硬化型樹脂Ｐと対向し、少し離間するように図示せ
ぬストッパによりセットする。その後、チャンバー３０
内を所定の真空度（例えば５０ｐａ以下）に減圧する。

【００３１】次に、図３（ｆ）に示す第６工程におい
て、チャンバ３０内を所定真空度に減圧した状態でスト
ッパを解除して光透過性シート１４と液状の紫外線硬化
型樹脂Ｐを接触させ、図示せぬプレスヘッドによりプレ
スする。このプレスヘッドによるプレスにより第１の光
透過性基板３の変形、反りが矯正される。その後、プレ
スヘッドによりプレスを続行しつつ、チャンバー３０内
をリークして大気圧に戻す。このように、減圧空間内で
光透過性シート１４と液状の紫外線硬化型獣樹脂Ｐを重
ね合せることにより、気泡の巻き込みを抑制でき、更
に、リークによる圧力差により液状の紫外線硬化型樹脂
Ｐ内に残留する気泡を光学的影響が無視できる程度につ
ぶすことができる。

【００３２】次に、図３（ｇ）に示す第７工程におい
て、プレスヘッドによるプレスを解除して上記液状の紫
外線硬化型樹脂Ｐが塗布されているスタンパ２２と半製
品が載置されたスピンテーブル２０をチャンバー３０外
に取り出し、第１の光透過性基板３側（図中点線矢印方
向）から紫外線を照射して液状の紫外線硬化型樹脂Ｐを
硬化させ、スタンパ２２を剥離することにより、第２の
情報記録面が転写された転写層１５が形成される。尚、
光透過性シート１４として光透過性のドライ光硬化性フ
ィルムを用いた場合には、紫外線硬化時、液状の紫外線
硬化型樹脂Ｐ及びドライ光硬化性フィルムが同時に硬化
することになる。

【００３３】次に、図３（ｈ）に示す第８工程におい
て、転写層１５上に上記第１の反射膜４よりも高い反射
率を有する第２の反射膜６を積層し、その後第２の保護
膜１６を形成する。第２の反射膜６は、第１の反射膜４
と異なり、半透過性である必要はない。従って、第２の
反射膜６の形成オ材料としては、例えばアルミニウム
（Ａｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合金、金（Ａｕ）、銀
（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）等が挙げられる。これらの中で
も、好ましいのはアルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム
（Ａｌ）合金である。

【００３４】第２の反射膜６の形成方法としては、例え
ばスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティン
グ法等が挙げられる。このような第２の反射膜６の厚さ
は、通常、０．０５〜０．２μｍ、好ましくは０．０８
〜０．１２μｍである。また、第２の保護膜１６は、第
１の保護膜１３と同様に、液状の紫外線硬化型樹脂を第
２の反射膜６上に塗布した後、紫外線を照射して硬化さ
せる。上述した第１から第８工程を経て製造された第１
基ディスク１１は、同様の工程で製造された第２ディス
ク１２と共に、図示しない貼り合わせ装置により貼り合
わされる。

【００３５】貼り合わせ装置は、ロールコート法、スク
リーン印刷法或いはスピンコート法等の接着剤塗布装置
を用いて、ラジカル重合紫外線硬化樹脂又はカチオン重
合紫外線硬化樹脂等からなる接着剤８を、例えば第１デ
ィスク１１の第２の保護膜１６上に塗布し、第１ディス
ク１１及び第２ディスク１２の第２の保護膜１６同士を
重ね合わせ、紫外線照射装置で紫外線を照射して接着剤
８を硬化させることにより、貼り合わせ型の光ディスク
６０が完成する。

【００３６】上述の実施形態では、２層構造の第１及び
第２ディスク１１、１２を貼り合せた例で説明したが、
貼り合せずに単板構造の多層タイプの光ディスクとして
も良い。また、上述の実施形態では、２層構造の光ディ
スクを示したが、これに限らず３層、４層等の多層構造
としても良い。この場合、上述の図２（ａ）〜（ｄ）と
図３（ｅ）〜（ｇ）からなる中間層形成工程と反射膜形
成工程を繰り返し行うことにより３層、４層構成の光デ
ィスクが実現できる。また、上述の実施形態において
は、液状の紫外線硬化型樹脂Ｐをスタンパ２２上に塗布
する例を示したが、これに代えて光透過性シート１４上
に塗布するようにしても良い。

【００３７】

【発明の効果】本発明の光ディスクの製造方法によれ
ば、第１の情報記録面と第２の情報記録面との間に設け
られる中間層を光透過性シートと赤外線硬化型樹脂とで
構成することにより中間層の厚みが均一化され、第２の
情報記録面から情報信号を読み取る際の信頼性を高める
ことができる。また、第２の情報記録面を転写する工程
を減圧空間内で行うことにより、紫外線硬化型樹脂への
気泡の混入が抑制され、更に、減圧空間から大気圧に戻
すことにより、圧力差で紫外線硬化型樹脂内に残る気泡
を光学的に無視できる程度につぶせる。よって、信頼性
の向上した多層構成の光ディスクを効率良く製造するこ
とが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態の光ディスクの要部断面図。

【図２】本発明の実施形態の光ディスクの製造方法を示
す工程図。

【図３】本発明の実施形態の光ディスクの製造方法を示
す工程図。

【図４】従来例における光ディスクの要部断面図。

【図５】従来例における光ディスクの製造方法を示す工
程図。

【符号の説明】

３・・・第１の光透過性基板４・・・第１の反射層６・・・第２の反射層８・・・接着剤９・・・第１のピット１０・・第２のピット１１・・第１ディスク１２・・第２ディスク１３・・第１の保護膜１４・・光透過性シート１５・・転写層１６・・第２の保護膜１７・・中間層６０・・光ディスク

フロントページの続き (72)発明者丸山治久山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地パイオニアビデオ株式会社内Ｆターム(参考） 5D121 AA01 AA03 AA04 AA05 DD04 EE22 EE23 EE27 EE28 EE29 GG10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】片面に第１の情報記録面を有する光透過
性基板の前記第１の情報記録面上に、入射光の一部を反
射し一部を透過する半透過性の第１の反射膜を形成する
工程と、前記第１の反射膜上に光透過性シートを積層する工程
と、第２の情報記録面を有するスタンパを準備する工程と、前記光透過性シート及び前記スタンパの内の一方に液状
の紫外線硬化型樹脂を塗布し、前記光透過性シート及び
液状の紫外線硬化型樹脂を内側にして前記光透過性基板
とスタンパとを減圧空間内で重ね合せて所定の加圧力に
て押圧する工程と、前記重ね合せられた前記光透過性基板とスタンパを大気
圧内に戻した後、前記光透過性基板及び第１の反射膜を
介して紫外線を照射し、前記光透過性シート上に前記第
２の情報記録面が転写された紫外線硬化型樹脂層を形成
する工程と、前記紫外線硬化型樹脂層の第２の情報記録面上に前記第
１の反射膜より高い反射率を有する第２の反射膜を形成
する工程とを有することを特徴とする光ディスクの製造
方法。
【請求項２】前記光透過性シートを積層する工程の前
に、前記第１の反射膜上に液状の紫外線硬化型樹脂を塗
布し、紫外線を照射して硬化させた保護膜を形成する工
程を有することを特徴とする請求項１記載の光ディスク
の製造方法。
【請求項３】前記紫外線硬化型樹脂は、室温未硬化状
態での粘度が１５〜４００ｃｐｓであることを特徴とす
る請求項１又は２記載の光ディスクの製造方法。
【請求項４】前記光透過性シートとして、室温未硬化
状態での粘度が３，５００〜４００，０００Ｐでかつ未
硬化状態での厚さが３０〜６０μｍであるドライ光硬化
性フィルムを用いることを特徴とする請求項１記載の光
ディスクの製造方法。
【請求項５】前記光透過性基板側から紫外線を照射す
る工程において前記光透過性シートを構成するドライ光
硬化性フィルムをも硬化させることを特徴とする請求項
４記載の光ディスクの製造方法。
【請求項６】前記光透過性シートとして、厚さが３０
〜６０μｍである粘着シートを用いることを特徴とする
請求項１記載の光ディスクの製造方法。
【請求項７】前記半透過性の第１の反射膜は、金属薄
膜又は誘電体薄膜からなることを特徴とする請求項１記
載の光ディスクの製造方法。