JP2742524B2 - 光情報媒体、光情報媒体製造方法並びに光情報媒体製造装置 - Google Patents
光情報媒体、光情報媒体製造方法並びに光情報媒体製造装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、２枚の光情報基板
を貼合わせた光情報媒体、その製造方法及びその製造装
置に関する。また、本発明は、レーザーを絞って照射す
ることにより情報を記録または再生する情報面が２層か
らなる光情報媒体とその製造方法および製造装置にも関
する。
を貼合わせた光情報媒体、その製造方法及びその製造装
置に関する。また、本発明は、レーザーを絞って照射す
ることにより情報を記録または再生する情報面が２層か
らなる光情報媒体とその製造方法および製造装置にも関
する。
【０００２】
【従来の技術】光カードや光ディスクなどの光情報媒体
の実用化が進められている。なかでもコンパクトディス
ク（以下、「ＣＤ」と称する）の普及は著しい。特に、
ＣＤ−ＲＯＭにディジタル信号として記録された映像や
音声情報をコンピューターで簡単に扱えるようになって
きたため、情報産業分野でのＣＤの利用価値が著しく高
まった。このような光ディスクに高密度の情報を記録し
再生するには、記録再生に使用するレーザー光の波長を
短くし、かつ、対物レンズの開口数（ＮＡ）を高くする
必要がある。
の実用化が進められている。なかでもコンパクトディス
ク（以下、「ＣＤ」と称する）の普及は著しい。特に、
ＣＤ−ＲＯＭにディジタル信号として記録された映像や
音声情報をコンピューターで簡単に扱えるようになって
きたため、情報産業分野でのＣＤの利用価値が著しく高
まった。このような光ディスクに高密度の情報を記録し
再生するには、記録再生に使用するレーザー光の波長を
短くし、かつ、対物レンズの開口数（ＮＡ）を高くする
必要がある。
【０００３】最近の半導体レーザー、画像圧縮技術、各
種周辺技術の進歩により、直径１２０ｍｍのディスク片
面に長時間の映像音声情報を記録できるようになった。
例えば、ＮＡ（開口数）０．６の対物レンズと波長６５
０ｎｍの赤色半導体レーザーを用いれば、トラックピッ
チが０．７４μｍ、最短ピット長さ０．４０μｍの信号
ピットを高品質に再生できる。変調方式に８−１５方式
を用いれば１ビット長は０．２５μｍになる。従って、
ＣＤの５倍以上の密度を達成でき、冗調度を１５％にす
れば、直径１２０ｍｍのディスクに約５Ｇバイトの情報
を記録できることになり、ＣＤと同じ大きさのディスク
の片面にＭＰＥＧ２方式で平均４．７Ｍｂｐｓの映像音
声信号を約１４２分記録できる。
種周辺技術の進歩により、直径１２０ｍｍのディスク片
面に長時間の映像音声情報を記録できるようになった。
例えば、ＮＡ（開口数）０．６の対物レンズと波長６５
０ｎｍの赤色半導体レーザーを用いれば、トラックピッ
チが０．７４μｍ、最短ピット長さ０．４０μｍの信号
ピットを高品質に再生できる。変調方式に８−１５方式
を用いれば１ビット長は０．２５μｍになる。従って、
ＣＤの５倍以上の密度を達成でき、冗調度を１５％にす
れば、直径１２０ｍｍのディスクに約５Ｇバイトの情報
を記録できることになり、ＣＤと同じ大きさのディスク
の片面にＭＰＥＧ２方式で平均４．７Ｍｂｐｓの映像音
声信号を約１４２分記録できる。
【０００４】しかし、高ＮＡ対物レンズでは、許容でき
るディスク傾き（チルト）が非常に小さい。例えば、コ
ンパクトディスク（以下、ＣＤと略記）と同じ１．２ｍ
ｍの厚さの基板を用いれば、ＮＡ０．６の対物レンズに
許容できるチルトは約０．２５度であり、これは、光ヘ
ッドをプレーヤに取り付ける誤差に匹敵し、ディスクの
形状変化によるチルトは許容できなくなり実用性はな
い。
るディスク傾き（チルト）が非常に小さい。例えば、コ
ンパクトディスク（以下、ＣＤと略記）と同じ１．２ｍ
ｍの厚さの基板を用いれば、ＮＡ０．６の対物レンズに
許容できるチルトは約０．２５度であり、これは、光ヘ
ッドをプレーヤに取り付ける誤差に匹敵し、ディスクの
形状変化によるチルトは許容できなくなり実用性はな
い。
【０００５】基板の厚みを薄くする事で、高ＮＡ対物レ
ンズを使用できる様になり、実用的な光ディスクの高密
度化が達成できる。例えば、基板の厚さをＣＤの半分の
０．６ｍｍにすれば、ＮＡ０．６の対物レンズに許容で
きるチルトは約０．７５度に拡大し、光ヘッドの取り付
け誤差を０．２５度としても、実際のディスク形状変化
によるチルトは０．５度まで余裕がある。
ンズを使用できる様になり、実用的な光ディスクの高密
度化が達成できる。例えば、基板の厚さをＣＤの半分の
０．６ｍｍにすれば、ＮＡ０．６の対物レンズに許容で
きるチルトは約０．７５度に拡大し、光ヘッドの取り付
け誤差を０．２５度としても、実際のディスク形状変化
によるチルトは０．５度まで余裕がある。
【０００６】まず、比較の為にＣＤの製造方法を簡単に
述べる。音声信号が記録されたスタンパを用いて、射出
成形法により、片面に音声信号の設けられた厚さ１．２
ｍｍの基板を作製する。その音声信号面上にアルミニウ
ムなどの反射膜をスパッタ法で形成し、その上に紫外線
硬化樹脂を塗布して紫外線照射により保護膜を形成して
ＣＤができる。
述べる。音声信号が記録されたスタンパを用いて、射出
成形法により、片面に音声信号の設けられた厚さ１．２
ｍｍの基板を作製する。その音声信号面上にアルミニウ
ムなどの反射膜をスパッタ法で形成し、その上に紫外線
硬化樹脂を塗布して紫外線照射により保護膜を形成して
ＣＤができる。
【０００７】薄型基板の光ディスクでは、単板では自重
で垂れてしまうので２枚の基板を貼合わせる。この２枚
の基板の貼合わせによって、機械的強度が高まるだけで
なく両面を用いる事で容量が倍増する。
で垂れてしまうので２枚の基板を貼合わせる。この２枚
の基板の貼合わせによって、機械的強度が高まるだけで
なく両面を用いる事で容量が倍増する。
【０００８】この薄型基板の貼合わせディスクについて
従来の製造方法を説明する。映像や音声などの情報信号
が記録されたスタンパを用いて、射出成形法により、片
面に情報信号の設けられた第１の薄型基板を作製する。
従来の製造方法を説明する。映像や音声などの情報信号
が記録されたスタンパを用いて、射出成形法により、片
面に情報信号の設けられた第１の薄型基板を作製する。
【０００９】その情報信号面上にアルミニウムなどの反
射膜をスパッタ法で形成し、その上に紫外線硬化樹脂を
塗布して紫外線を照射する事で保護膜を形成する。ま
た、別の情報信号の記録されたスタンパを用いて第２の
薄型基板を作製し、上記と同様に反射膜と保護膜を形成
する。
射膜をスパッタ法で形成し、その上に紫外線硬化樹脂を
塗布して紫外線を照射する事で保護膜を形成する。ま
た、別の情報信号の記録されたスタンパを用いて第２の
薄型基板を作製し、上記と同様に反射膜と保護膜を形成
する。
【００１０】これらの２枚の基板の保護膜上にホットメ
ルト接着剤をロールコータで塗布し、そのホットメルト
接着剤を合わせる様に２枚の基板を貼合わせて加圧する
事で、第１と第２の基板を一体とした貼合わせディスク
を作製する。このホットメルト貼合わせ方法はレーザー
ディスクと同じである。
ルト接着剤をロールコータで塗布し、そのホットメルト
接着剤を合わせる様に２枚の基板を貼合わせて加圧する
事で、第１と第２の基板を一体とした貼合わせディスク
を作製する。このホットメルト貼合わせ方法はレーザー
ディスクと同じである。
【００１１】この様にして作製したディスクは、２枚の
基板の保護膜を互いに対向させ、それらの保護膜間にホ
ットメルト接着剤の層を形成して２枚の基板を一体とし
た構造を有している。
基板の保護膜を互いに対向させ、それらの保護膜間にホ
ットメルト接着剤の層を形成して２枚の基板を一体とし
た構造を有している。
【００１２】この従来の貼合わせディスクの構造を図８
を用いて説明する。１０１は第１の基板で、その片面に
情報信号面１０２が設けられている。その情報信号面１
０２上にアルミニウムを主成分とする金属などの反射膜
１０３が形成され、その上には保護膜１０４が形成され
ている。１０５は第２の基板で、その片面に情報信号面
１０６が設けられている。その情報信号面１０６上に同
様に反射膜１０７と保護膜１０８が形成されている。そ
して、互いに対向する保護膜１０４と保護膜１０８の間
にホットメルト接着剤の層１０９が設けられて第１及び
第２の基板１０１及び１０５を一体に貼合わせている。
を用いて説明する。１０１は第１の基板で、その片面に
情報信号面１０２が設けられている。その情報信号面１
０２上にアルミニウムを主成分とする金属などの反射膜
１０３が形成され、その上には保護膜１０４が形成され
ている。１０５は第２の基板で、その片面に情報信号面
１０６が設けられている。その情報信号面１０６上に同
様に反射膜１０７と保護膜１０８が形成されている。そ
して、互いに対向する保護膜１０４と保護膜１０８の間
にホットメルト接着剤の層１０９が設けられて第１及び
第２の基板１０１及び１０５を一体に貼合わせている。
【００１３】また、他の光情報媒体として、同じ方向か
らレーザーを絞って照射し、情報を記録または再生する
２層の情報面を形成する方法が提案されている（特開平
３−２０９６４２号公報、ＵＳＰ５，１３４，６０
４）。レーザー入射側に近い情報面の反射率を小さくし
てレーザー入射側から遠い情報面にも十分レーザーが到
達し、それぞれの層の情報面を独立に読み出すことがで
きるようにし、同じ大きさの光情報媒体でも記録領域の
面積を倍増でき記録容量を飛躍的に向上することができ
る。
らレーザーを絞って照射し、情報を記録または再生する
２層の情報面を形成する方法が提案されている（特開平
３−２０９６４２号公報、ＵＳＰ５，１３４，６０
４）。レーザー入射側に近い情報面の反射率を小さくし
てレーザー入射側から遠い情報面にも十分レーザーが到
達し、それぞれの層の情報面を独立に読み出すことがで
きるようにし、同じ大きさの光情報媒体でも記録領域の
面積を倍増でき記録容量を飛躍的に向上することができ
る。
【００１４】このような従来例について、２層の情報面
が再生専用である場合の原理について説明する。図９は
２層のうちレーザー入射側より遠い情報面にレーザーが
絞られている場合を示している。１５１はガラスや樹脂
の透明基板で、その片面に情報面１５２が形成されてい
る。その情報面１５２上に半透明薄膜１５３を入射レー
ザーの一部だけが反射するように形成する。半透明薄膜
１５３の上にさらに透明物質１５４で情報面１８０を形
成する。情報面１８０上の反射膜１８１は、レーザーを
殆ど反射した方がよいのでアルミニウムなどの金属で形
成する。さらに、この反射膜１８１上に紫外線硬化樹脂
などで保護膜１８２を形成する。１７１は情報面１８０
に絞られて入射するレーザーである。
が再生専用である場合の原理について説明する。図９は
２層のうちレーザー入射側より遠い情報面にレーザーが
絞られている場合を示している。１５１はガラスや樹脂
の透明基板で、その片面に情報面１５２が形成されてい
る。その情報面１５２上に半透明薄膜１５３を入射レー
ザーの一部だけが反射するように形成する。半透明薄膜
１５３の上にさらに透明物質１５４で情報面１８０を形
成する。情報面１８０上の反射膜１８１は、レーザーを
殆ど反射した方がよいのでアルミニウムなどの金属で形
成する。さらに、この反射膜１８１上に紫外線硬化樹脂
などで保護膜１８２を形成する。１７１は情報面１８０
に絞られて入射するレーザーである。
【００１５】情報面１８０にレーザーが絞られている場
合、情報面１８０の情報信号は再生できるが、その途中
の情報面１５２でもレーザーの一部は反射される。１７
２はその一部の反射光である。この場合、透明物質１５
４の厚さが十分であれば、情報面１５２上でのレーザー
ビーム径は十分大きくなり、情報面１５２上の信号は再
生できず、情報面１８０の再生信号には悪影響は与えな
い。また、情報面１５２上の半透明薄膜１５３を均一な
厚さに形成しておけば、入射レーザーは局所的な位相変
化を受けないので、信号再生に不適当な回折現象も殆ど
無視できる。２層のうちレーザー入射側に近い情報面１
５２にレーザーが絞られている場合も、半透明薄膜１５
３をレーザーが透過するが、情報面１８０上でのレーザ
ービーム径は十分大きくなり、情報面１８０上の信号は
再生できず、情報面１５２の再生信号には悪影響は与え
ない。
合、情報面１８０の情報信号は再生できるが、その途中
の情報面１５２でもレーザーの一部は反射される。１７
２はその一部の反射光である。この場合、透明物質１５
４の厚さが十分であれば、情報面１５２上でのレーザー
ビーム径は十分大きくなり、情報面１５２上の信号は再
生できず、情報面１８０の再生信号には悪影響は与えな
い。また、情報面１５２上の半透明薄膜１５３を均一な
厚さに形成しておけば、入射レーザーは局所的な位相変
化を受けないので、信号再生に不適当な回折現象も殆ど
無視できる。２層のうちレーザー入射側に近い情報面１
５２にレーザーが絞られている場合も、半透明薄膜１５
３をレーザーが透過するが、情報面１８０上でのレーザ
ービーム径は十分大きくなり、情報面１８０上の信号は
再生できず、情報面１５２の再生信号には悪影響は与え
ない。
【００１６】図１０はこの２層光情報媒体の製造方法を
示している。１５１は上記した片面に情報面１５２を形
成した透明基板であり、これはＣＤ基板と同様にインジ
ェクション法などにより作製される。その情報面１５２
の上に、図１０（ａ）のように半透明薄膜１５３をター
ゲット１６１を用いてスパッタリング法や真空蒸着法で
形成する。ターゲット１６１は、半透明薄膜１５３を構
成する物質で、金やアルミニウムなど金属、またはＺｎ
Ｓなどの誘電体である。次に、図１０（ｂ）のように、
情報面１８０を作るためのスタンパ１６２と情報面１５
２上に形成された半透明薄膜１５３との間に透明物質１
５４となる紫外線硬化樹脂１５４を挿入し、所定の厚さ
になるように加圧して、透明物質１５１と半透明薄膜１
５３を経て紫外線１６４を照射する。
示している。１５１は上記した片面に情報面１５２を形
成した透明基板であり、これはＣＤ基板と同様にインジ
ェクション法などにより作製される。その情報面１５２
の上に、図１０（ａ）のように半透明薄膜１５３をター
ゲット１６１を用いてスパッタリング法や真空蒸着法で
形成する。ターゲット１６１は、半透明薄膜１５３を構
成する物質で、金やアルミニウムなど金属、またはＺｎ
Ｓなどの誘電体である。次に、図１０（ｂ）のように、
情報面１８０を作るためのスタンパ１６２と情報面１５
２上に形成された半透明薄膜１５３との間に透明物質１
５４となる紫外線硬化樹脂１５４を挿入し、所定の厚さ
になるように加圧して、透明物質１５１と半透明薄膜１
５３を経て紫外線１６４を照射する。
【００１７】次に、図１０（ｃ）のように、スタンパ１
６２を剥離してできた情報面１８０の上にターゲット１
６５を用いて反射膜１８１をスパッタリング法や真空蒸
着法で形成する。ターゲット１６５は、再生専用の場合
はアルミニウムなどの金属を用い、記録再生の場合は相
変化材料や光磁気材料を用いる。この製造方法上では、
透明基板１５１と半透明薄膜１５３が紫外線を透過させ
ることが必要である。最後にこの反射膜１８１上に紫外
線硬化樹脂で保護膜１８２を形成する。
６２を剥離してできた情報面１８０の上にターゲット１
６５を用いて反射膜１８１をスパッタリング法や真空蒸
着法で形成する。ターゲット１６５は、再生専用の場合
はアルミニウムなどの金属を用い、記録再生の場合は相
変化材料や光磁気材料を用いる。この製造方法上では、
透明基板１５１と半透明薄膜１５３が紫外線を透過させ
ることが必要である。最後にこの反射膜１８１上に紫外
線硬化樹脂で保護膜１８２を形成する。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】従来の貼合わせディス
クはホットメルト法を用いているので、ＣＤの製造方法
に加えて、ホットメルト接着剤のロールコータや加圧機
などの新たな設備が必要になり、コストが大幅に高くな
る。また、今後のディスクは車載用途も考慮する必要が
あるので、８０℃、８５％程度の環境にも長時間耐えな
ければならない。しかし、ホットメルト接着剤は高温高
湿で軟化し、許容できるディスク傾き（チルト）以上に
ディスクが変形してしまう。２層光情報媒体の従来の製
造方法では、レーザー入射側から遠い情報面を作るに際
し、情報の形成されたスタンパと、レーザー入射側に近
い情報面上の半透明薄膜との間に紫外線硬化樹脂を挿入
し、加圧しながらレーザー入射側に近い情報面を経て紫
外線を照射するので、ディスク１枚毎に樹脂を紫外線で
硬化させる工程とスタンパから剥離する工程を必要とす
る。また、硬化した樹脂のスタンパからの剥離にはある
程度の時間を要し、ゴミも付着し易いので、生産性が劣
り、光情報媒体のコストが高くなり、かつ欠陥が多くな
るという問題があった。
クはホットメルト法を用いているので、ＣＤの製造方法
に加えて、ホットメルト接着剤のロールコータや加圧機
などの新たな設備が必要になり、コストが大幅に高くな
る。また、今後のディスクは車載用途も考慮する必要が
あるので、８０℃、８５％程度の環境にも長時間耐えな
ければならない。しかし、ホットメルト接着剤は高温高
湿で軟化し、許容できるディスク傾き（チルト）以上に
ディスクが変形してしまう。２層光情報媒体の従来の製
造方法では、レーザー入射側から遠い情報面を作るに際
し、情報の形成されたスタンパと、レーザー入射側に近
い情報面上の半透明薄膜との間に紫外線硬化樹脂を挿入
し、加圧しながらレーザー入射側に近い情報面を経て紫
外線を照射するので、ディスク１枚毎に樹脂を紫外線で
硬化させる工程とスタンパから剥離する工程を必要とす
る。また、硬化した樹脂のスタンパからの剥離にはある
程度の時間を要し、ゴミも付着し易いので、生産性が劣
り、光情報媒体のコストが高くなり、かつ欠陥が多くな
るという問題があった。
【００１９】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、その目的とするところは、生産性が高
く低コストで欠陥の少ない光情報媒体、及びその製造方
法並びに製造装置を提供することにある。
れたものであり、その目的とするところは、生産性が高
く低コストで欠陥の少ない光情報媒体、及びその製造方
法並びに製造装置を提供することにある。
【００２０】
【課題を解決するための手段】本発明の光情報媒体は、
第１の情報信号面を有する第１の基板と、該第１の基板
の該第１の情報信号面上に形成された第１の反射膜と、
第２の情報信号面を有する第２の基板と、該第２の基板
の該第２の情報信号面上に形成された第２の反射膜と、
該第１の反射膜と該第２の反射膜の間に設けられ、該第
１及び第２の基板を結合する光硬化樹脂層とを備え、そ
のことにより上記目的が達成される。
第１の情報信号面を有する第１の基板と、該第１の基板
の該第１の情報信号面上に形成された第１の反射膜と、
第２の情報信号面を有する第２の基板と、該第２の基板
の該第２の情報信号面上に形成された第２の反射膜と、
該第１の反射膜と該第２の反射膜の間に設けられ、該第
１及び第２の基板を結合する光硬化樹脂層とを備え、そ
のことにより上記目的が達成される。
【００２１】前記第１及び第２の反射膜は、アルミニウ
ムを主成分とする金属から形成されていることが好まし
い。
ムを主成分とする金属から形成されていることが好まし
い。
【００２２】前記第１及び第２の反射膜の少なくとも一
方は、０．１μｍ以下の厚さを有していることが好まし
い。
方は、０．１μｍ以下の厚さを有していることが好まし
い。
【００２３】前記第１及び第２の基板は、実質的に等し
い厚さを有してもよい。
い厚さを有してもよい。
【００２４】ある実施形態では、前記第１及び第２の基
板は、０．５７ｍｍ以上、０．６３ｍｍ以下の厚さを有
している。
板は、０．５７ｍｍ以上、０．６３ｍｍ以下の厚さを有
している。
【００２５】前記第１の信号情報面及び前記第２の信号
情報面の少なくとも一方に、ピットアートが形成されて
いてもよい。
情報面の少なくとも一方に、ピットアートが形成されて
いてもよい。
【００２６】前記第１の基板と前記第１の反射膜との
間、及び前記第２の基板と前記第２の反射膜との間の少
なくとも一方に、記録材料膜が設けられててもよい。
間、及び前記第２の基板と前記第２の反射膜との間の少
なくとも一方に、記録材料膜が設けられててもよい。
【００２７】本発明の光情報媒体の製造方法は、片面に
第１の情報信号面を有する第１の基板を形成する工程
と、該第１の基板の該第１の情報信号面上に第１の反射
膜を形成する工程と、片面に第２の情報信号面を有する
第２の基板を形成する工程と、該第２の基板の該第２の
情報信号面上に第２の反射膜を形成する工程と、光硬化
樹脂を介して該第１の反射膜と該第２の反射膜とが互い
に対向するように、該第１の基板と該第２の基板とを重
ね合わせる工程と、少なくとも該第２の基板および第２
の反射膜を介して光を該光硬化樹脂に照射することによ
って、該第１の反射膜と該第２の反射膜との間で該光の
一部を多重反射させ、該光硬化樹脂を硬化させて該第１
の基板と該第２の基板とを結合する工程とを包含し、そ
のことにより上記目的が達成される。
第１の情報信号面を有する第１の基板を形成する工程
と、該第１の基板の該第１の情報信号面上に第１の反射
膜を形成する工程と、片面に第２の情報信号面を有する
第２の基板を形成する工程と、該第２の基板の該第２の
情報信号面上に第２の反射膜を形成する工程と、光硬化
樹脂を介して該第１の反射膜と該第２の反射膜とが互い
に対向するように、該第１の基板と該第２の基板とを重
ね合わせる工程と、少なくとも該第２の基板および第２
の反射膜を介して光を該光硬化樹脂に照射することによ
って、該第１の反射膜と該第２の反射膜との間で該光の
一部を多重反射させ、該光硬化樹脂を硬化させて該第１
の基板と該第２の基板とを結合する工程とを包含し、そ
のことにより上記目的が達成される。
【００２８】ある実施形態では、前記第１の基板と前記
第２の基板とを重ね合わせる工程は、該第１の基板を回
転しながら前記光硬化樹脂をドーナツ状に塗布する工程
と、該光硬化樹脂を介して前記第１の反射膜と前記第２
の反射膜とが互いに対向するように、前記第２の基板を
該第１の基板に重ね合わせ、該第１の基板と該第２の基
板とを一体的に回転する工程とを包含する。
第２の基板とを重ね合わせる工程は、該第１の基板を回
転しながら前記光硬化樹脂をドーナツ状に塗布する工程
と、該光硬化樹脂を介して前記第１の反射膜と前記第２
の反射膜とが互いに対向するように、前記第２の基板を
該第１の基板に重ね合わせ、該第１の基板と該第２の基
板とを一体的に回転する工程とを包含する。
【００２９】ある実施形態では、前記第２の基板を前記
第１の基板に重ね合わせ、該第１の基板と該第２の基板
とを一体的に回転した後に、該第２の基板の上に透明板
を配置し、該透明板該によって該第２の基板を押圧する
工程を更に包含している。
第１の基板に重ね合わせ、該第１の基板と該第２の基板
とを一体的に回転した後に、該第２の基板の上に透明板
を配置し、該透明板該によって該第２の基板を押圧する
工程を更に包含している。
【００３０】前記第１の反射膜と前記第２の反射膜は、
アルミニウムを主成分とする金属から形成されているこ
とが好ましい。
アルミニウムを主成分とする金属から形成されているこ
とが好ましい。
【００３１】本発明の光情報媒体を製造する装置は、第
１の情報信号面上に第１の反射膜が形成された第１の基
板と、第２の情報信号面上に第２の反射膜が形成された
第２の基板とを結合して、光情報媒体を製造する装置で
あって、該第１の基板を低速回転させて該第１の反射膜
の上に光硬化樹脂を塗布する装置と、該第１の反射膜と
該第２の反射膜とが互いに対向するように該光硬化樹脂
の上に該第２の基板を重ねる装置と、該第１の基板と該
第２の基板とを一体的に高速回転させる装置と、光を照
射する装置とを備えており、そのことにより上記目的が
達成される。
１の情報信号面上に第１の反射膜が形成された第１の基
板と、第２の情報信号面上に第２の反射膜が形成された
第２の基板とを結合して、光情報媒体を製造する装置で
あって、該第１の基板を低速回転させて該第１の反射膜
の上に光硬化樹脂を塗布する装置と、該第１の反射膜と
該第２の反射膜とが互いに対向するように該光硬化樹脂
の上に該第２の基板を重ねる装置と、該第１の基板と該
第２の基板とを一体的に高速回転させる装置と、光を照
射する装置とを備えており、そのことにより上記目的が
達成される。
【００３２】本発明の光情報媒体を製造する装置は、第
１の情報信号面上に第１の反射膜が形成された第１の基
板と、第２の情報信号面上に第２の反射膜が形成された
第２の基板とを結合して、光情報媒体を製造する装置で
あって、該第１の基板を低速回転させて該第１の反射膜
の上に光硬化樹脂を塗布する装置と、該第１の反射膜と
該第２の反射膜とが互いに対向するように該光硬化樹脂
の上に該第２の基板を重ねる装置と、該第１の基板と該
第２の基板とを一体的に高速回転させる装置と、該第２
の基板を透明板で押さえる装置と、光を照射する装置と
を備え、そのことにより上記目的が達成される。
１の情報信号面上に第１の反射膜が形成された第１の基
板と、第２の情報信号面上に第２の反射膜が形成された
第２の基板とを結合して、光情報媒体を製造する装置で
あって、該第１の基板を低速回転させて該第１の反射膜
の上に光硬化樹脂を塗布する装置と、該第１の反射膜と
該第２の反射膜とが互いに対向するように該光硬化樹脂
の上に該第２の基板を重ねる装置と、該第１の基板と該
第２の基板とを一体的に高速回転させる装置と、該第２
の基板を透明板で押さえる装置と、光を照射する装置と
を備え、そのことにより上記目的が達成される。
【００３３】本発明の光情報媒体を製造する装置は、第
１の情報信号面を有する第１の基板を作製する第１の成
形機と、該第１の基板の該第１の情報信号面上に第１の
反射膜を形成する第１のスパッタ装置と、を含む第１製
造ブロックと、第２の情報信号面を有する第２の基板を
作製する第２の成形機と、該第２の基板の該第２の情報
信号面上に第２の反射膜を形成する第２のスパッタ装置
と、を含む第２製造ブロックと、光硬化樹脂層を介して
該第１の基板の該第１の反射膜と該第２の基板の該第２
の反射膜とを対向させた後、該第２の基板および該第２
の反射膜を介して該光硬化樹脂に光を照射する第３製造
ブロックと、該第１の製造ブロックおよび該第２の製造
ブロックから、それぞれ、該第１の基板および該第２の
基板を該第３のブロックに移動させる転送装置とを備
え、そのことにより上記目的が達成される。
１の情報信号面を有する第１の基板を作製する第１の成
形機と、該第１の基板の該第１の情報信号面上に第１の
反射膜を形成する第１のスパッタ装置と、を含む第１製
造ブロックと、第２の情報信号面を有する第２の基板を
作製する第２の成形機と、該第２の基板の該第２の情報
信号面上に第２の反射膜を形成する第２のスパッタ装置
と、を含む第２製造ブロックと、光硬化樹脂層を介して
該第１の基板の該第１の反射膜と該第２の基板の該第２
の反射膜とを対向させた後、該第２の基板および該第２
の反射膜を介して該光硬化樹脂に光を照射する第３製造
ブロックと、該第１の製造ブロックおよび該第２の製造
ブロックから、それぞれ、該第１の基板および該第２の
基板を該第３のブロックに移動させる転送装置とを備
え、そのことにより上記目的が達成される。
【００３４】本発明の光情報媒体は、第１の情報信号面
を有する第１の基板と、該第１の基板の該第１の情報信
号面上に形成された半透明膜と、第２の情報信号面を有
する第２の基板と、該第２の基板の該第２の情報信号面
上に形成された反射膜と、該半透明膜と該反射膜の間に
設けられ、該第１及び第２の基板を結合する光硬化樹脂
層とを備え、そのことにより上記目的が達成される。
を有する第１の基板と、該第１の基板の該第１の情報信
号面上に形成された半透明膜と、第２の情報信号面を有
する第２の基板と、該第２の基板の該第２の情報信号面
上に形成された反射膜と、該半透明膜と該反射膜の間に
設けられ、該第１及び第２の基板を結合する光硬化樹脂
層とを備え、そのことにより上記目的が達成される。
【００３５】前記反射膜は、記録材料膜を含んでいても
よい。
よい。
【００３６】前記第１の基板の厚さは、０．５５ｍｍ以
上、０．６１ｍｍ以下であることが好ましい。
上、０．６１ｍｍ以下であることが好ましい。
【００３７】前記光硬化樹脂層は、３０μｍ以上で６０
μｍ以下の厚さを有していることが好ましい。
μｍ以下の厚さを有していることが好ましい。
【００３８】前記第１の信号情報面及び前記第２の信号
情報面の少なくとも一方に、ピットアートが形成されて
いてもよい。
情報面の少なくとも一方に、ピットアートが形成されて
いてもよい。
【００３９】本発明の光情報媒体の製造方法は、片面に
第１の情報信号面を有する第１の基板を形成する工程
と、該第１の基板の該第１の情報信号面上に半透明膜を
形成する工程と、片面に第２の情報信号面を有する第２
の基板を形成する工程と、該第２の基板の該第２の情報
信号面上に反射膜を形成する工程と、光硬化樹脂を介し
て該半透明膜と該反射膜とが互いに対向するように、該
第１の基板と該第２の基板とを重ね合わせる工程と、該
第１の基板および該半透明膜を介して光を該光硬化樹脂
に照射することによって、該反射膜と該反射膜との間で
該光の一部を多重反射させ、それによって、該光硬化樹
脂を硬化させて該第１の基板と該第２の基板とを結合す
る工程とを包含し、そのことにより上記目的が達成され
る。
第１の情報信号面を有する第１の基板を形成する工程
と、該第１の基板の該第１の情報信号面上に半透明膜を
形成する工程と、片面に第２の情報信号面を有する第２
の基板を形成する工程と、該第２の基板の該第２の情報
信号面上に反射膜を形成する工程と、光硬化樹脂を介し
て該半透明膜と該反射膜とが互いに対向するように、該
第１の基板と該第２の基板とを重ね合わせる工程と、該
第１の基板および該半透明膜を介して光を該光硬化樹脂
に照射することによって、該反射膜と該反射膜との間で
該光の一部を多重反射させ、それによって、該光硬化樹
脂を硬化させて該第１の基板と該第２の基板とを結合す
る工程とを包含し、そのことにより上記目的が達成され
る。
【００４０】本発明の光情報媒体の製造装置は、第１の
情報信号面を有する第１の基板を作製する第１の成形機
と、該第１の基板の該第１の情報信号面上に半透明膜を
形成する第１のスパッタ装置と、を含む第１製造ブロッ
クと、第２の情報信号面を有する第２の基板を作製する
第２の成形機と、該第２の基板の該第２の情報信号面上
に反射膜を形成する第２のスパッタ装置と、を含む第２
製造ブロックと、光硬化樹脂層を介して該第１の基板の
該半透明膜と該第２の基板の該反射膜とを対向させた
後、該第１の基板および該半透明膜を介して該光硬化樹
脂に光を照射する第３製造ブロックと、該第１の製造ブ
ロックおよび該第２の製造ブロックから、それぞれ、該
第１の基板および該第２の基板を該第３のブロックに移
動させる転送装置とを備えており、そのことにより上記
目的が達成される。
情報信号面を有する第１の基板を作製する第１の成形機
と、該第１の基板の該第１の情報信号面上に半透明膜を
形成する第１のスパッタ装置と、を含む第１製造ブロッ
クと、第２の情報信号面を有する第２の基板を作製する
第２の成形機と、該第２の基板の該第２の情報信号面上
に反射膜を形成する第２のスパッタ装置と、を含む第２
製造ブロックと、光硬化樹脂層を介して該第１の基板の
該半透明膜と該第２の基板の該反射膜とを対向させた
後、該第１の基板および該半透明膜を介して該光硬化樹
脂に光を照射する第３製造ブロックと、該第１の製造ブ
ロックおよび該第２の製造ブロックから、それぞれ、該
第１の基板および該第２の基板を該第３のブロックに移
動させる転送装置とを備えており、そのことにより上記
目的が達成される。
【００４１】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を実
施例を用いて説明する。
施例を用いて説明する。
【００４２】（実施例１）図１、図２及び図３（ａ）か
ら（ｄ）を参照しながら、本発明による光情報媒体の実
施例を説明する。
ら（ｄ）を参照しながら、本発明による光情報媒体の実
施例を説明する。
【００４３】まず、図１を参照する。本実施例の光情報
媒体は、第１の情報信号面２を有する第１の基板（厚
さ：約０．６ｍｍ）１と、第１の情報信号面２上に形成
された第１の反射膜３と、第２の情報信号面６を有する
第２の基板（厚さ：約０．６ｍｍ）５と、第２の情報信
号面６上に形成された第２の反射膜７とを備えており、
第１の反射膜と該第２の反射膜の間に設けられた紫外線
硬化樹脂層１０によって、第１の基板１と第２の基板５
とが結合されている。
媒体は、第１の情報信号面２を有する第１の基板（厚
さ：約０．６ｍｍ）１と、第１の情報信号面２上に形成
された第１の反射膜３と、第２の情報信号面６を有する
第２の基板（厚さ：約０．６ｍｍ）５と、第２の情報信
号面６上に形成された第２の反射膜７とを備えており、
第１の反射膜と該第２の反射膜の間に設けられた紫外線
硬化樹脂層１０によって、第１の基板１と第２の基板５
とが結合されている。
【００４４】本実施例の情報信号面２及び６には、信号
再生用光２１及び２３の波長に応じたサイズを持つ複数
のピットが形成されている。ピットは、基板１及び５の
形状が円盤状の場合、同心円または螺旋状に配列され
る。なお、情報信号面２及び６には、ピットとは別に、
トラッキングのためのガイドグルーブが設けられる場合
がある。ただし、本発明においては、このような情報信
号面２及び６の具体的形態は、特定のものに限定されな
い。例えば、ピットやグルーブを用いて巨視的に画像を
形成したもの（「ピットアート」と称する）を情報信号
面２及び６の全てまたは一部に形成しても良い。
再生用光２１及び２３の波長に応じたサイズを持つ複数
のピットが形成されている。ピットは、基板１及び５の
形状が円盤状の場合、同心円または螺旋状に配列され
る。なお、情報信号面２及び６には、ピットとは別に、
トラッキングのためのガイドグルーブが設けられる場合
がある。ただし、本発明においては、このような情報信
号面２及び６の具体的形態は、特定のものに限定されな
い。例えば、ピットやグルーブを用いて巨視的に画像を
形成したもの（「ピットアート」と称する）を情報信号
面２及び６の全てまたは一部に形成しても良い。
【００４５】第１の情報信号面２に記録されている情報
は、基板１を介して入射する信号再生用光２１によって
再生される。基板１を介して入射した光２１は、反射膜
３によって反射され、反射光２２になる。反射光２２の
強度変化を検出することによって、記録情報が再生され
る。他方、第２の情報信号面６に記録されている情報
は、基板５を介して入射する光２３によって再生され
る。基板５を介して入射した光２３は、反射膜７によっ
て反射され、反射光２４になる。光２１、２３の形成及
び光２２、２４の検出は、公知の技術で実行される。な
お、光２１、２３の形成及び光２２、２４の検出が一つ
の光ヘッドで行われる場合、異なる情報信号面から連続
して情報を再生するには、光情報媒体を途中で裏がえす
必要がある。第１の反射膜３及び第２の反射膜７は、好
ましくは、アルミニウムを主成分とする金属から形成さ
れ、本実施例では、０．０５μｍの厚さを有している。
後述する製造方法上の理由から、第１及び第２の反射膜
３及び７の少なくとも一方は、０．１μｍ以下の厚さを
有していることが好ましい。ただし、反射膜の材料によ
っては、０．１μｍを越えても良い場合がある。
は、基板１を介して入射する信号再生用光２１によって
再生される。基板１を介して入射した光２１は、反射膜
３によって反射され、反射光２２になる。反射光２２の
強度変化を検出することによって、記録情報が再生され
る。他方、第２の情報信号面６に記録されている情報
は、基板５を介して入射する光２３によって再生され
る。基板５を介して入射した光２３は、反射膜７によっ
て反射され、反射光２４になる。光２１、２３の形成及
び光２２、２４の検出は、公知の技術で実行される。な
お、光２１、２３の形成及び光２２、２４の検出が一つ
の光ヘッドで行われる場合、異なる情報信号面から連続
して情報を再生するには、光情報媒体を途中で裏がえす
必要がある。第１の反射膜３及び第２の反射膜７は、好
ましくは、アルミニウムを主成分とする金属から形成さ
れ、本実施例では、０．０５μｍの厚さを有している。
後述する製造方法上の理由から、第１及び第２の反射膜
３及び７の少なくとも一方は、０．１μｍ以下の厚さを
有していることが好ましい。ただし、反射膜の材料によ
っては、０．１μｍを越えても良い場合がある。
【００４６】本実施例によれば、ホットメルト接着剤で
はなく、紫外線硬化樹脂を用いているため、８０℃、８
５％程度の環境にも長時間耐えられ、許容できるディス
ク傾き（チルト）以上にディスクが変形してしまわな
い。このため、車載用途に適し、耐環境性に優れた光情
報媒体が提供される。なお、本明細書では、図１に示す
ような光情報媒体を、「薄型基板の貼合わせディスク」
と称する。このようなディスクは、通常、円盤状の形状
を持つが、カード状の形状を持っていても良い。
はなく、紫外線硬化樹脂を用いているため、８０℃、８
５％程度の環境にも長時間耐えられ、許容できるディス
ク傾き（チルト）以上にディスクが変形してしまわな
い。このため、車載用途に適し、耐環境性に優れた光情
報媒体が提供される。なお、本明細書では、図１に示す
ような光情報媒体を、「薄型基板の貼合わせディスク」
と称する。このようなディスクは、通常、円盤状の形状
を持つが、カード状の形状を持っていても良い。
【００４７】次に、図１及び図３（ａ）〜（ｄ）を参照
しながら、上記光情報媒体の製造方法を説明する。
しながら、上記光情報媒体の製造方法を説明する。
【００４８】まず、図１に示される基板１を射出成形
（インジェクション）法などにより作製する。射出成形
法による場合、基板１の材料としては、ポリカーボネー
ト等の透明樹脂を使用することが好ましい。本実施例で
は、厚さ０．６±０．０３ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径
１５ｍｍの円盤状の基板１を作製した。射出成形法等に
よれば、種々の形状及びサイズを持つ基板の形成が容易
に行える。射出成形法による場合、第１の情報信号面２
の凹凸は射出成形時に形成される。従って、その情報の
内容は、成形のための型によって規定される。ただし、
基板１は、他の方法で作製されても良い。次に、基板１
の第１の情報信号面２の上に反射膜３をスパッタリング
法や真空蒸着法で形成する。
（インジェクション）法などにより作製する。射出成形
法による場合、基板１の材料としては、ポリカーボネー
ト等の透明樹脂を使用することが好ましい。本実施例で
は、厚さ０．６±０．０３ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径
１５ｍｍの円盤状の基板１を作製した。射出成形法等に
よれば、種々の形状及びサイズを持つ基板の形成が容易
に行える。射出成形法による場合、第１の情報信号面２
の凹凸は射出成形時に形成される。従って、その情報の
内容は、成形のための型によって規定される。ただし、
基板１は、他の方法で作製されても良い。次に、基板１
の第１の情報信号面２の上に反射膜３をスパッタリング
法や真空蒸着法で形成する。
【００４９】これとは別に、片面に第２の情報信号面６
を設けた円盤状の基板５を射出成形法などにより作り、
その上に反射膜７をスパッタリング法や真空蒸着法で形
成する。第２の基板５は、第１の基板１の作製方法と同
様の方法で作製される。第２の基板５の形状やサイズ
は、第１の基板１と同一とする。ただし、用途によって
は、第１の基板１と第２の基板５ての間で形状やサイズ
を異なるようにしてもよい。本実施例では、基板１及び
５の厚さを各々０．５７ｍｍ以上、０．６３ｍｍ以下に
なるように設定することによって、ＮＡ０．６以上の対
物レンズを使用しても許容できるチルトを約０．７５度
に拡大することができる。本発明では、２枚の基板を張
り合わせて１枚の光情報媒体を製造するため、各基板の
強度が更に低下しても問題が少ない。そのため、各基板
の厚さを約０．６ｍｍよりも更に薄くなるようにして、
より高いＮＡを持つ対物レンズの使用を可能にすること
もできる。ただし、現在のＣＤの基板に用いられている
ような材料から本発明の基板を作製する場合、強度の観
点から、各基板の厚さは０．３ｍｍ以上であることが好
ましい。
を設けた円盤状の基板５を射出成形法などにより作り、
その上に反射膜７をスパッタリング法や真空蒸着法で形
成する。第２の基板５は、第１の基板１の作製方法と同
様の方法で作製される。第２の基板５の形状やサイズ
は、第１の基板１と同一とする。ただし、用途によって
は、第１の基板１と第２の基板５ての間で形状やサイズ
を異なるようにしてもよい。本実施例では、基板１及び
５の厚さを各々０．５７ｍｍ以上、０．６３ｍｍ以下に
なるように設定することによって、ＮＡ０．６以上の対
物レンズを使用しても許容できるチルトを約０．７５度
に拡大することができる。本発明では、２枚の基板を張
り合わせて１枚の光情報媒体を製造するため、各基板の
強度が更に低下しても問題が少ない。そのため、各基板
の厚さを約０．６ｍｍよりも更に薄くなるようにして、
より高いＮＡを持つ対物レンズの使用を可能にすること
もできる。ただし、現在のＣＤの基板に用いられている
ような材料から本発明の基板を作製する場合、強度の観
点から、各基板の厚さは０．３ｍｍ以上であることが好
ましい。
【００５０】片面に情報信号面を有する各基板を作製す
るための射出成形工程やスパッタリング工程は、ＣＤの
製造プロセスでも用いられている工程である。これら各
工程に要するサイクルタイムは数秒に過ぎず、非常に生
産性の高い工程である。
るための射出成形工程やスパッタリング工程は、ＣＤの
製造プロセスでも用いられている工程である。これら各
工程に要するサイクルタイムは数秒に過ぎず、非常に生
産性の高い工程である。
【００５１】次に、図３（ａ）に示すように、反射膜の
形成された基板１を低速（例えば、１０〜５０ｒｐｍ）
で回転させながら、反射膜上に紫外線硬化樹脂１０をド
ーナツ状に塗布する。このときに塗布される紫外線硬化
樹脂１０の量は、１〜５グラム程度とする。紫外線硬化
樹脂１０としては、例えば、大日本インキ社製のＳＤ１
７００を使用する。この他に、ＳＤ１０１やＳＤ３０１
等を用いても良い。また、紫外線で硬化する樹脂の代わ
りに、他の波長帯域の光によって硬化する樹脂を用いて
も良く、光硬化樹脂の種類は特に限定されない。ただ
し、現時点では、紫外線で硬化する樹脂が最も実用的で
ある。なお、複数の種類の樹脂が混合されたものを使用
しても良いし、樹脂を多層構造にしてもよい。
形成された基板１を低速（例えば、１０〜５０ｒｐｍ）
で回転させながら、反射膜上に紫外線硬化樹脂１０をド
ーナツ状に塗布する。このときに塗布される紫外線硬化
樹脂１０の量は、１〜５グラム程度とする。紫外線硬化
樹脂１０としては、例えば、大日本インキ社製のＳＤ１
７００を使用する。この他に、ＳＤ１０１やＳＤ３０１
等を用いても良い。また、紫外線で硬化する樹脂の代わ
りに、他の波長帯域の光によって硬化する樹脂を用いて
も良く、光硬化樹脂の種類は特に限定されない。ただ
し、現時点では、紫外線で硬化する樹脂が最も実用的で
ある。なお、複数の種類の樹脂が混合されたものを使用
しても良いし、樹脂を多層構造にしてもよい。
【００５２】次に、図３（ｂ）に示すように、第２の反
射膜が紫外線硬化樹脂１０の方に向くように第２の基板
５を配置し、第１の基板１に重ねる。このようにする代
わりに、第１の基板１を第２の基板５の上に配置して、
重ね合わせを行っても良い。紫外線硬化樹脂１０が、第
１及び第２の反射膜の間において、基板１及び５の内径
近くまで拡散した後、図３（ｃ）に示すように、第１の
基板１と第２の基板５とを一体として高速（例えば、１
０００〜５０００ｒｐｍ）で回転させ、それによって第
１及び第２の反射膜の間で紫外線硬化樹脂をほぼ均一の
厚さにする。回転終了時の紫外線硬化樹脂の厚さは、１
０〜６０μｍ程度になる。この厚さは、紫外線硬化樹脂
の粘性及び初期膜圧、回転速度並びに回転時間等によっ
て最適化される。
射膜が紫外線硬化樹脂１０の方に向くように第２の基板
５を配置し、第１の基板１に重ねる。このようにする代
わりに、第１の基板１を第２の基板５の上に配置して、
重ね合わせを行っても良い。紫外線硬化樹脂１０が、第
１及び第２の反射膜の間において、基板１及び５の内径
近くまで拡散した後、図３（ｃ）に示すように、第１の
基板１と第２の基板５とを一体として高速（例えば、１
０００〜５０００ｒｐｍ）で回転させ、それによって第
１及び第２の反射膜の間で紫外線硬化樹脂をほぼ均一の
厚さにする。回転終了時の紫外線硬化樹脂の厚さは、１
０〜６０μｍ程度になる。この厚さは、紫外線硬化樹脂
の粘性及び初期膜圧、回転速度並びに回転時間等によっ
て最適化される。
【００５３】次に、図３（ｄ）に示すように、第１の基
板１に紫外線（波長：例えば、３００〜４００ｎｍ）を
照射する。紫外線光源としては、例えば、ハロゲンラン
プや水銀ランプが使用される。本実施例の場合、１００
〜２００ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を１０〜４０秒程度照射
する。この紫外線照射によって紫外線硬化樹脂１０は硬
化し、２つの基板１及び５が一体的に結合され、基板１
及び５の貼合わせ（ボンディング）が完了する。
板１に紫外線（波長：例えば、３００〜４００ｎｍ）を
照射する。紫外線光源としては、例えば、ハロゲンラン
プや水銀ランプが使用される。本実施例の場合、１００
〜２００ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を１０〜４０秒程度照射
する。この紫外線照射によって紫外線硬化樹脂１０は硬
化し、２つの基板１及び５が一体的に結合され、基板１
及び５の貼合わせ（ボンディング）が完了する。
【００５４】上記紫外線照射について、更に、図１を参
照しながら詳細を説明する。図１の第２の基板５に照射
された紫外線（図１において不図示）は、第２の基板５
を透過した後、第２の情報信号面６に形成された反射膜
７に照射される。第２の基板５としては、信号再生用の
光２３を高い透過率（例えば、９０％以上）で透過する
材料が使用される。そのような材料は、通常、紫外線を
も高い透過率で透過する。第２の基板５を透過した紫外
線の大部分は反射膜７によって反射されるが、残りは、
反射膜７を透過して、紫外線硬化樹脂１０に入射する。
アルミニウムを主成分とする反射膜７の紫外線透過率
は、反射膜７の厚さが０．０５〜０．１μｍ以下の場
合、０．１〜１％程度である。このような相対的に低い
透過率であっても、紫外線硬化樹脂１０は、予想される
レートよりも著しく早いレートで硬化することが本発明
者によって確認された。
照しながら詳細を説明する。図１の第２の基板５に照射
された紫外線（図１において不図示）は、第２の基板５
を透過した後、第２の情報信号面６に形成された反射膜
７に照射される。第２の基板５としては、信号再生用の
光２３を高い透過率（例えば、９０％以上）で透過する
材料が使用される。そのような材料は、通常、紫外線を
も高い透過率で透過する。第２の基板５を透過した紫外
線の大部分は反射膜７によって反射されるが、残りは、
反射膜７を透過して、紫外線硬化樹脂１０に入射する。
アルミニウムを主成分とする反射膜７の紫外線透過率
は、反射膜７の厚さが０．０５〜０．１μｍ以下の場
合、０．１〜１％程度である。このような相対的に低い
透過率であっても、紫外線硬化樹脂１０は、予想される
レートよりも著しく早いレートで硬化することが本発明
者によって確認された。
【００５５】より詳細には、反射膜７の透過率が１％の
場合、反射膜を設けない場合に比較して、紫外線硬化樹
脂１０に届く紫外線の量は約８０分の１以下に低下す
る。通常、ＣＤの保護膜を紫外線硬化樹脂から形成する
場合のデータを基に単純計算を行えば、紫外線硬化樹脂
１０の完全な硬化に要する時間は８０倍以上に増加し、
典型的には、１６０秒以上の時間になる。当業者であれ
ば、このような長時間の紫外線照射は実用的な光情報媒
体製造を不可能にすると判断するであろう。しかし、本
発明者の実験によれば、予測に反して、５〜２０倍（１
０〜４０秒）程度の照射時間で、紫外線硬化樹脂１０の
硬化が充分に達成されることがわかった。このような結
果は、紫外線硬化樹脂１０が２枚の反射膜によって挟ま
れていることから生じる効果による。反射膜を透過した
僅かの紫外線が２枚の反射膜３及び７の間を多重反射す
ることが、短時間で樹脂の効果を達成するのに重要な役
割を果たしていると考えられる。また、紫外線硬化樹脂
１０が空気に接触しない状態で紫外線を照射されるの
で、空気中の酸素による硬化への悪影響が排除されとい
うる点も、照射時間の短縮に大きく寄与しているはずで
ある。
場合、反射膜を設けない場合に比較して、紫外線硬化樹
脂１０に届く紫外線の量は約８０分の１以下に低下す
る。通常、ＣＤの保護膜を紫外線硬化樹脂から形成する
場合のデータを基に単純計算を行えば、紫外線硬化樹脂
１０の完全な硬化に要する時間は８０倍以上に増加し、
典型的には、１６０秒以上の時間になる。当業者であれ
ば、このような長時間の紫外線照射は実用的な光情報媒
体製造を不可能にすると判断するであろう。しかし、本
発明者の実験によれば、予測に反して、５〜２０倍（１
０〜４０秒）程度の照射時間で、紫外線硬化樹脂１０の
硬化が充分に達成されることがわかった。このような結
果は、紫外線硬化樹脂１０が２枚の反射膜によって挟ま
れていることから生じる効果による。反射膜を透過した
僅かの紫外線が２枚の反射膜３及び７の間を多重反射す
ることが、短時間で樹脂の効果を達成するのに重要な役
割を果たしていると考えられる。また、紫外線硬化樹脂
１０が空気に接触しない状態で紫外線を照射されるの
で、空気中の酸素による硬化への悪影響が排除されとい
うる点も、照射時間の短縮に大きく寄与しているはずで
ある。
【００５６】反射膜としては、アルミニウムを主成分と
した薄膜が最も適しているが、それに限定はされない。
反射膜としては、他の金属膜を用いても良いし、また、
多層膜（例えば、誘電体多層膜）を用いても良い。
した薄膜が最も適しているが、それに限定はされない。
反射膜としては、他の金属膜を用いても良いし、また、
多層膜（例えば、誘電体多層膜）を用いても良い。
【００５７】上記製造方法に代えて、第１の反射膜３ま
たは第２の反射膜７の上に、予め、保護膜を形成してか
ら、貼合わせ用の紫外線硬化樹脂１０の塗布、貼合わ
せ、紫外線照射を行っても良い。こうすることにより、
貼合わせ前にほこり等によって信号情報面が劣化するこ
とを防止できる。保護膜は、紫外線硬化樹脂を用いて形
成することが好ましい。この場合、各基板１、５は、従
来のＣＤと同じ様に、成形、反射膜スパッタ、保護膜形
成のプロセスで作製されることとなる。あるいは、紫外
線硬化樹脂からなる保護膜の硬化を、貼合わせ用紫外線
硬化樹脂１０の硬化と同時に行っても良い。
たは第２の反射膜７の上に、予め、保護膜を形成してか
ら、貼合わせ用の紫外線硬化樹脂１０の塗布、貼合わ
せ、紫外線照射を行っても良い。こうすることにより、
貼合わせ前にほこり等によって信号情報面が劣化するこ
とを防止できる。保護膜は、紫外線硬化樹脂を用いて形
成することが好ましい。この場合、各基板１、５は、従
来のＣＤと同じ様に、成形、反射膜スパッタ、保護膜形
成のプロセスで作製されることとなる。あるいは、紫外
線硬化樹脂からなる保護膜の硬化を、貼合わせ用紫外線
硬化樹脂１０の硬化と同時に行っても良い。
【００５８】紫外線照射により紫外線硬化樹脂１０が硬
化する時、一般には発熱を伴い、その熱で基板１または
５が若干そる場合がある。そこで、図２に示すように、
少なくとも紫外線照射の間は、第２の基板５をその上か
ら透明板（例えばガラス板）１１で押さえつけ、紫外線
を透明板１１、第２の基板５、及び第２の反射膜（図２
において不図示）を透過させることによって樹脂１０を
硬化させてもよい。そうすることによって、基板１及び
５がそることなく、ディスク傾き（チルト）が殆ど無視
できる貼合わせディスクを作製することができる。
化する時、一般には発熱を伴い、その熱で基板１または
５が若干そる場合がある。そこで、図２に示すように、
少なくとも紫外線照射の間は、第２の基板５をその上か
ら透明板（例えばガラス板）１１で押さえつけ、紫外線
を透明板１１、第２の基板５、及び第２の反射膜（図２
において不図示）を透過させることによって樹脂１０を
硬化させてもよい。そうすることによって、基板１及び
５がそることなく、ディスク傾き（チルト）が殆ど無視
できる貼合わせディスクを作製することができる。
【００５９】次に、図４を参照しながら、上記貼合わせ
ディスクを製造する装置の例を説明する。第１のブロッ
ク３１は、第１の成形機３２、第１の取り出しロボット
３３、第１のスパッタ装置３４とそれらを接続する移載
機３５から成る。
ディスクを製造する装置の例を説明する。第１のブロッ
ク３１は、第１の成形機３２、第１の取り出しロボット
３３、第１のスパッタ装置３４とそれらを接続する移載
機３５から成る。
【００６０】成形機３２で第１の情報信号面２を設けた
基板１を射出成形法で作製し、取りだしロボット３３で
移載機３５のＡ点に移す。移載機３５によりＢ点に移動
してスパッタ装置３４で情報信号面２の上に反射膜３を
スパッタした後、再び移載機３５でＣ点に移動させる。
基板１を射出成形法で作製し、取りだしロボット３３で
移載機３５のＡ点に移す。移載機３５によりＢ点に移動
してスパッタ装置３４で情報信号面２の上に反射膜３を
スパッタした後、再び移載機３５でＣ点に移動させる。
【００６１】一方、第２のブロック３６は、第２の成形
機３７、第２の取り出しロボット３８、第２のスパッタ
装置３９とそれらを接続する移載機４０から成る。成形
機３７で第２の情報信号面６を設けた基板５を射出成形
法で作製し、取りだしロボット３８で移載機４０のＤ点
に移す。移載機４０によりＥ点に移動してスパッタ装置
４０で情報信号面６の上に反射膜７をスパッタした後、
再び移載機４０でＦ点に移動させる。
機３７、第２の取り出しロボット３８、第２のスパッタ
装置３９とそれらを接続する移載機４０から成る。成形
機３７で第２の情報信号面６を設けた基板５を射出成形
法で作製し、取りだしロボット３８で移載機４０のＤ点
に移す。移載機４０によりＥ点に移動してスパッタ装置
４０で情報信号面６の上に反射膜７をスパッタした後、
再び移載機４０でＦ点に移動させる。
【００６２】第１のブロック３１と第２のブロック３６
は隣接して設置され、第１のブロックは移動ロボット４
１で、第２のブロック３６は移動ロボット４２で第３の
ブロック４３と接続している。第３のブロック４３は移
動ロボット４１、４２、紫外線照射装置４４、それらを
接続する移載機４５及びストッカー４６より成る。移載
機４５は紫外線硬化樹脂の塗布手段、ディスク回転手段
も備え、図３（ａ）から（ｃ）を参照しながら説明した
貼合わせ方法を実行する。この第３のブロック４３が貼
合わせ装置である。
は隣接して設置され、第１のブロックは移動ロボット４
１で、第２のブロック３６は移動ロボット４２で第３の
ブロック４３と接続している。第３のブロック４３は移
動ロボット４１、４２、紫外線照射装置４４、それらを
接続する移載機４５及びストッカー４６より成る。移載
機４５は紫外線硬化樹脂の塗布手段、ディスク回転手段
も備え、図３（ａ）から（ｃ）を参照しながら説明した
貼合わせ方法を実行する。この第３のブロック４３が貼
合わせ装置である。
【００６３】第１のブロックから基板１を移動ロボット
４１で移載機４５のＧ点に移動させ、その点で第１の基
板を低速回転させて紫外線硬化樹脂をドーナツ状に塗布
する。第２のブロック３６から第２の基板を移動ロボッ
ト４２で移載機４５のＨ点に移動させ、移載機４５で点
Ｇに移動させ、基板１に第１の反射膜と第２の反射膜が
互いに対向する様に重ね合わせる。そこで、第１と第２
の基板を一体に高速回転させ、紫外線硬化樹脂を第１と
第２の反射膜の間をほぼ均一に拡散させる。
４１で移載機４５のＧ点に移動させ、その点で第１の基
板を低速回転させて紫外線硬化樹脂をドーナツ状に塗布
する。第２のブロック３６から第２の基板を移動ロボッ
ト４２で移載機４５のＨ点に移動させ、移載機４５で点
Ｇに移動させ、基板１に第１の反射膜と第２の反射膜が
互いに対向する様に重ね合わせる。そこで、第１と第２
の基板を一体に高速回転させ、紫外線硬化樹脂を第１と
第２の反射膜の間をほぼ均一に拡散させる。
【００６４】その後、移載機４５で点Ｉに移動させ、紫
外線照射装置４４に導いて基板５の側から紫外線を照射
して固める。そうして作製された媒体をストッカー４６
に積み重ねる。
外線照射装置４４に導いて基板５の側から紫外線を照射
して固める。そうして作製された媒体をストッカー４６
に積み重ねる。
【００６５】以上は、点Ｉから紫外線照射装置に導いて
紫外線を照射する場合の例であるが、点Ｉに紫外線照射
装置が移動してきて紫外線を照射しても良い。紫外線照
射時にディスクが反らない様に透明板で押さえる場合は
その方が貼合わせ装置を構成しやすい。
紫外線を照射する場合の例であるが、点Ｉに紫外線照射
装置が移動してきて紫外線を照射しても良い。紫外線照
射時にディスクが反らない様に透明板で押さえる場合は
その方が貼合わせ装置を構成しやすい。
【００６６】上記実施例では、光ディスクについて説明
したが、光カード等の他の光情報媒体についても同様で
ある。
したが、光カード等の他の光情報媒体についても同様で
ある。
【００６７】また、上記実施例では、読み出し専用の光
情報媒体を例にとって本願発明を説明したが、公知の記
録材料膜を基板と反射膜との間に設ければ、レーザーで
記録再生でき、ユーザーが自由に自分自身の情報も記録
できる様になる。
情報媒体を例にとって本願発明を説明したが、公知の記
録材料膜を基板と反射膜との間に設ければ、レーザーで
記録再生でき、ユーザーが自由に自分自身の情報も記録
できる様になる。
【００６８】（実施例２）以下、図５及び６（ａ）から
（ｃ）を参照しながら、本発明による光情報媒体の他の
実施例を説明する。この実施例は、２つの情報信号面か
らの情報の再生を一つの方向から光を入射することによ
って可能ならしめる「２層光情報媒体」に関する。
（ｃ）を参照しながら、本発明による光情報媒体の他の
実施例を説明する。この実施例は、２つの情報信号面か
らの情報の再生を一つの方向から光を入射することによ
って可能ならしめる「２層光情報媒体」に関する。
【００６９】まず、図５を参照する。本実施例の光情報
媒体は、第１の情報信号面５２を有する第１の基板（厚
さ：約０．６ｍｍ）５１と、第１の情報信号面５２上に
形成された半透明膜５３と、第２の情報信号面５６を有
する第２の基板（厚さ：約０．６ｍｍ）５５と、第２の
情報信号面５６上に形成された反射膜５７とを備えてお
り、半透明膜５３と反射膜５７との間に設けられた紫外
線硬化樹脂層６０によって、第１の基板５１と第２の基
板５５とが結合されている。
媒体は、第１の情報信号面５２を有する第１の基板（厚
さ：約０．６ｍｍ）５１と、第１の情報信号面５２上に
形成された半透明膜５３と、第２の情報信号面５６を有
する第２の基板（厚さ：約０．６ｍｍ）５５と、第２の
情報信号面５６上に形成された反射膜５７とを備えてお
り、半透明膜５３と反射膜５７との間に設けられた紫外
線硬化樹脂層６０によって、第１の基板５１と第２の基
板５５とが結合されている。
【００７０】本実施例でも、情報信号面５２及び５６
に、信号再生用光の波長に応じたサイズを持つ複数のピ
ットが形成されている。ピットは、基板５１及び５５の
形状が円盤状の場合、同心円または螺旋状に配列され
る。なお、情報信号面５２及び５６には、ピットとは別
に、トラッキングのためのガイドグルーブが設けられる
場合がある。このような情報信号面の形態は、特定のも
のに限定されない。
に、信号再生用光の波長に応じたサイズを持つ複数のピ
ットが形成されている。ピットは、基板５１及び５５の
形状が円盤状の場合、同心円または螺旋状に配列され
る。なお、情報信号面５２及び５６には、ピットとは別
に、トラッキングのためのガイドグルーブが設けられる
場合がある。このような情報信号面の形態は、特定のも
のに限定されない。
【００７１】半透明膜５３は、例えば、金やアルミニウ
ム等の金属、またはＺｎＳなどの誘電体から形成され、
金を用いた場合、約１０ｎｍの厚さを有している。
ム等の金属、またはＺｎＳなどの誘電体から形成され、
金を用いた場合、約１０ｎｍの厚さを有している。
【００７２】反射膜５７は、アルミニウムを主成分とす
る金属から形成され、本実施例では、０．０５μｍの厚
さを有している。
る金属から形成され、本実施例では、０．０５μｍの厚
さを有している。
【００７３】第１の情報信号面５２に記録されている情
報は、基板５１を介して入射する信号再生用光７１によ
って再生される。基板５１を介して入射した光７１は、
半透明膜５３によって反射され、反射光７２になる。反
射光７２の強度変化を検出することによって、記録情報
が再生される。他方、第２の情報信号面５６に記録され
ている情報は、第１の基板５１、半透明膜５３及び紫外
線硬化樹脂６０を介して入射する光７１によって再生さ
れる。光７１は、反射膜５７によって反射され、反射光
７２になる。本実施例によれば、基板５１を介して入射
する光７１によって、２つの情報信号面５２及び５６に
記録されている情報を選択的に、かつ連続的に再生でき
る。第２の情報信号面５６の情報を再生するために、第
２の基板５５を介して光を入射する必要はない。従っ
て、第２の基板５５は透明である必要はなく、基板５５
の材料について選択の自由度は大きい。
報は、基板５１を介して入射する信号再生用光７１によ
って再生される。基板５１を介して入射した光７１は、
半透明膜５３によって反射され、反射光７２になる。反
射光７２の強度変化を検出することによって、記録情報
が再生される。他方、第２の情報信号面５６に記録され
ている情報は、第１の基板５１、半透明膜５３及び紫外
線硬化樹脂６０を介して入射する光７１によって再生さ
れる。光７１は、反射膜５７によって反射され、反射光
７２になる。本実施例によれば、基板５１を介して入射
する光７１によって、２つの情報信号面５２及び５６に
記録されている情報を選択的に、かつ連続的に再生でき
る。第２の情報信号面５６の情報を再生するために、第
２の基板５５を介して光を入射する必要はない。従っ
て、第２の基板５５は透明である必要はなく、基板５５
の材料について選択の自由度は大きい。
【００７４】また、複数層の情報面のうちの例えば１面
を、レーザーで記録再生でき、他の層を再生専用とすれ
ば、高密度化するだけではなく、ユーザーが自由に自分
自身の情報も記録できる様になる。この場合、レーザー
入射側より遠い情報面を記録再生可能にする。レーザー
入射側に近い情報面のレーザーの反射率を小さくして、
レーザー入射側より遠い情報面にもレーザーを到達させ
て記録再生できる。このようにするためには、第２の基
板に記録材料膜を設ける必要がある。記録材料膜は、反
射膜５７上に直接または他の誘電体膜等を介して設けら
れる。記録材料膜に情報を記録する場合でも、第２の記
録情報面５６には、トラッキングのためのグループやト
ラック番号などを示すピットが設けられ、凹凸が形成さ
れる。しかし、画像データ、音楽データ、または情報処
理装置によって処理されるべきデータなどは、第２の記
録情報面５６そのものではなく、記録材料膜に記録され
る。記録材料膜としては、相変化材料膜、光磁気材料
膜、または有機色素材料膜等の公知の記録材料膜が使用
され得る。
を、レーザーで記録再生でき、他の層を再生専用とすれ
ば、高密度化するだけではなく、ユーザーが自由に自分
自身の情報も記録できる様になる。この場合、レーザー
入射側より遠い情報面を記録再生可能にする。レーザー
入射側に近い情報面のレーザーの反射率を小さくして、
レーザー入射側より遠い情報面にもレーザーを到達させ
て記録再生できる。このようにするためには、第２の基
板に記録材料膜を設ける必要がある。記録材料膜は、反
射膜５７上に直接または他の誘電体膜等を介して設けら
れる。記録材料膜に情報を記録する場合でも、第２の記
録情報面５６には、トラッキングのためのグループやト
ラック番号などを示すピットが設けられ、凹凸が形成さ
れる。しかし、画像データ、音楽データ、または情報処
理装置によって処理されるべきデータなどは、第２の記
録情報面５６そのものではなく、記録材料膜に記録され
る。記録材料膜としては、相変化材料膜、光磁気材料
膜、または有機色素材料膜等の公知の記録材料膜が使用
され得る。
【００７５】次に、図６（ａ）〜（ｃ）を参照しなが
ら、図５の光情報媒体の製造方法を説明する。
ら、図５の光情報媒体の製造方法を説明する。
【００７６】まず、図６（ａ）に示すように、第１の情
報信号面５２を有する透明基板５１を射出成形法などに
より作製する。この第１の情報信号面５２がレーザー入
射側に近い情報面になる。射出成形法による場合、基板
５１の材料としては、ポリカーボネート等の透明樹脂を
使用することが好ましい。本実施例では、厚さ０．５８
±０．０３ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍの円盤
状の基板５１を作製した。次に、基板５１の第１の情報
信号面５２の上に半透明膜５３をスパッタリング法や真
空蒸着法で形成する。スパッタリング法のターゲット６
１としては、半透明膜を構成する材料から形成されたも
のを用いる。
報信号面５２を有する透明基板５１を射出成形法などに
より作製する。この第１の情報信号面５２がレーザー入
射側に近い情報面になる。射出成形法による場合、基板
５１の材料としては、ポリカーボネート等の透明樹脂を
使用することが好ましい。本実施例では、厚さ０．５８
±０．０３ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍの円盤
状の基板５１を作製した。次に、基板５１の第１の情報
信号面５２の上に半透明膜５３をスパッタリング法や真
空蒸着法で形成する。スパッタリング法のターゲット６
１としては、半透明膜を構成する材料から形成されたも
のを用いる。
【００７７】これとは別に、図６（ｂ）に示すように、
片面に第２の情報信号面５６を有する円盤状の基板５５
を射出成形法などにより作製し、その上に反射膜５７を
スパッタリング法や真空蒸着法で形成する。ターゲット
６５は、光情報媒体が再生専用の場合、アルミニウムな
どの金属を用い、記録再生の場合、相変化材料や光磁気
材料からなるものを付加的に用いる。この実施例でも、
第２の基板５５の形状やサイズを、第１の基板５１と同
一とする。なお、反射膜５７は、反射率等の観点から、
アルミニウムを主成分とする金属から形成することが好
ましい。
片面に第２の情報信号面５６を有する円盤状の基板５５
を射出成形法などにより作製し、その上に反射膜５７を
スパッタリング法や真空蒸着法で形成する。ターゲット
６５は、光情報媒体が再生専用の場合、アルミニウムな
どの金属を用い、記録再生の場合、相変化材料や光磁気
材料からなるものを付加的に用いる。この実施例でも、
第２の基板５５の形状やサイズを、第１の基板５１と同
一とする。なお、反射膜５７は、反射率等の観点から、
アルミニウムを主成分とする金属から形成することが好
ましい。
【００７８】片面に情報信号面を有する各基板５１、５
５を作製するための射出成形工程及びスパッタリング工
程自体は、ＣＤの製造プロセスでも用いられている公知
の工程である。これらの各工程に要するサイクルタイム
は数秒に過ぎず、非常に生産性の高い工程である。
５を作製するための射出成形工程及びスパッタリング工
程自体は、ＣＤの製造プロセスでも用いられている公知
の工程である。これらの各工程に要するサイクルタイム
は数秒に過ぎず、非常に生産性の高い工程である。
【００７９】次に、透明基板５１を回転させながら、半
透明膜５３上に、基板５１の屈折率に近い屈折率を持つ
紫外線硬化樹脂６０を塗布する。本実施例の紫外線硬化
樹脂６０の屈折率は、１．４８〜１．５５程度であり、
基板５１の屈折率は、１．５〜１．６程度である。
透明膜５３上に、基板５１の屈折率に近い屈折率を持つ
紫外線硬化樹脂６０を塗布する。本実施例の紫外線硬化
樹脂６０の屈折率は、１．４８〜１．５５程度であり、
基板５１の屈折率は、１．５〜１．６程度である。
【００８０】次に、図６（ｃ）に示すように、反射膜５
７が紫外線硬化樹脂６０の方に向くように第１の基板５
１を配置し、第２の基板５５に重ねる。この後、透明基
板５１及び半透明膜５３を介して紫外線６４を紫外線硬
化樹脂に照射する。これらの樹脂硬化工程は、実施例１
で説明した工程とほぼ同様の工程で行われ得るが、本実
施例の工程は、紫外線が半透明膜５３を介して紫外線硬
化樹脂６０に照射される点で、実施例１の製造方法とは
異なる。しかし、この場合でも、半透明膜５３を透過し
た光は、半透明膜５３と反射膜５７との間を多重反射
し、紫外線硬化を促進する。半透明膜５３の紫外線透過
率は、２０％〜７０％程度である。このため、半透明膜
５３は、一種の反射膜として機能し、実施例１で述べた
と同様の硬化メカニズムによって、予想よりも短時間で
樹脂の硬化を完了させる。
７が紫外線硬化樹脂６０の方に向くように第１の基板５
１を配置し、第２の基板５５に重ねる。この後、透明基
板５１及び半透明膜５３を介して紫外線６４を紫外線硬
化樹脂に照射する。これらの樹脂硬化工程は、実施例１
で説明した工程とほぼ同様の工程で行われ得るが、本実
施例の工程は、紫外線が半透明膜５３を介して紫外線硬
化樹脂６０に照射される点で、実施例１の製造方法とは
異なる。しかし、この場合でも、半透明膜５３を透過し
た光は、半透明膜５３と反射膜５７との間を多重反射
し、紫外線硬化を促進する。半透明膜５３の紫外線透過
率は、２０％〜７０％程度である。このため、半透明膜
５３は、一種の反射膜として機能し、実施例１で述べた
と同様の硬化メカニズムによって、予想よりも短時間で
樹脂の硬化を完了させる。
【００８１】なお、前述した理由から、紫外線照射に際
しては、透明板等（不図示）によって透明基板５１を加
圧することが好ましい。こうして、２つの情報信号面５
２、５６をほぼ一定の間隔を隔てて対向するようにし
て、第１の基板５１と第２基板５５とを結合することが
できる。なお、本実施例では、紫外線硬化樹脂層の厚さ
を、３０μｍ以上６０μｍ以下に設定した。このように
設定したことによって、２つの信号情報面を十分に分離
して再生することができるようになる。この厚さを６０
μｍよりも厚くすると、レーザの絞りに収差が発生する
おそれがあるので好ましくない。
しては、透明板等（不図示）によって透明基板５１を加
圧することが好ましい。こうして、２つの情報信号面５
２、５６をほぼ一定の間隔を隔てて対向するようにし
て、第１の基板５１と第２基板５５とを結合することが
できる。なお、本実施例では、紫外線硬化樹脂層の厚さ
を、３０μｍ以上６０μｍ以下に設定した。このように
設定したことによって、２つの信号情報面を十分に分離
して再生することができるようになる。この厚さを６０
μｍよりも厚くすると、レーザの絞りに収差が発生する
おそれがあるので好ましくない。
【００８２】ＣＤの保護膜形成プロセスにおいても、紫
外線硬化樹脂の塗布と紫外線照射の工程が用いられてお
り、その生産性は高い。従って、図６（ｃ）の工程も、
十分に生産性は高くできる。また、従来のように紫外線
硬化樹脂によって情報信号面を作製する方法とは異な
り、射出成形法で情報信号面５６を作製するので、情報
信号面５６の表面に大きなゴミが付着せずに欠陥を少な
くできる。
外線硬化樹脂の塗布と紫外線照射の工程が用いられてお
り、その生産性は高い。従って、図６（ｃ）の工程も、
十分に生産性は高くできる。また、従来のように紫外線
硬化樹脂によって情報信号面を作製する方法とは異な
り、射出成形法で情報信号面５６を作製するので、情報
信号面５６の表面に大きなゴミが付着せずに欠陥を少な
くできる。
【００８３】図７は、２層光情報媒体の製造装置を示
す。図７において、第１ブロック８１は、第１の成形機
８２、第１の取り出しロボット８３、第１のスパッタ装
置８４とそれらを接続する移載機８５から成る。成形機
８２で第１の情報面５２を形成した透明基板５１をイン
ジェクション法で作製し、取り出しロボット８３で移載
機８５のＡ点に移す。移載機８５によりＢ点に移動して
スパッタ装置８４で情報面５２の上に半透明薄膜５３を
スパッタした後、再び移載機８５でＣ点に移動させる。
す。図７において、第１ブロック８１は、第１の成形機
８２、第１の取り出しロボット８３、第１のスパッタ装
置８４とそれらを接続する移載機８５から成る。成形機
８２で第１の情報面５２を形成した透明基板５１をイン
ジェクション法で作製し、取り出しロボット８３で移載
機８５のＡ点に移す。移載機８５によりＢ点に移動して
スパッタ装置８４で情報面５２の上に半透明薄膜５３を
スパッタした後、再び移載機８５でＣ点に移動させる。
【００８４】一方、第２ブロック８６は、第２の成形機
８７、第２の取り出しロボット８８、第２のスパッタ装
置８９とそれらを接続する移載機９０から成る。成形機
８７で第２の情報面５６を形成した基板５５をインジェ
クション法で作製し、取りだしロボット８８で移載機９
０のＤ点に移す。移載機９０によりＥ点に移動してスパ
ッタ装置８９で情報面５６の上に反射膜５７をスパッタ
した後、再び移載機９０でＦ点に移動させる。
８７、第２の取り出しロボット８８、第２のスパッタ装
置８９とそれらを接続する移載機９０から成る。成形機
８７で第２の情報面５６を形成した基板５５をインジェ
クション法で作製し、取りだしロボット８８で移載機９
０のＤ点に移す。移載機９０によりＥ点に移動してスパ
ッタ装置８９で情報面５６の上に反射膜５７をスパッタ
した後、再び移載機９０でＦ点に移動させる。
【００８５】第１ブロック８１と第２ブロック８６は隣
接して設置され、第１ブロック８１は移動ロボット９１
で、第２ブロック８６は移動ロボット９２でそれぞれ第
３ブロック９３と接続している。第３ブロック９３は、
移動ロボット９１、９２、紫外線照射装置９４、それら
を接続する移載機９５およびストッカー９６から成る。
移載機９５は紫外線硬化樹脂の塗布機能も備えている。
接して設置され、第１ブロック８１は移動ロボット９１
で、第２ブロック８６は移動ロボット９２でそれぞれ第
３ブロック９３と接続している。第３ブロック９３は、
移動ロボット９１、９２、紫外線照射装置９４、それら
を接続する移載機９５およびストッカー９６から成る。
移載機９５は紫外線硬化樹脂の塗布機能も備えている。
【００８６】第１ブロック８１から透明基板５１を移動
ロボット９１で移載機９５のＧ点に移動させ、その点で
透明基板５１を回転させて紫外線硬化樹脂６０を塗布
し、移載機９５で点Ｈに移動させる。第２ブロック８６
から基板５５を移動ロボット９２で移載機９５のＨ点に
移動させ、透明基板５１に重ね合わせる。再び移載機９
５で点Ｉに移動させ、紫外線照射装置９４に導いて透明
基板５１の側から紫外線６４を照射して固める。そうし
て作製された媒体をストッカー９６に積み重ねる。
ロボット９１で移載機９５のＧ点に移動させ、その点で
透明基板５１を回転させて紫外線硬化樹脂６０を塗布
し、移載機９５で点Ｈに移動させる。第２ブロック８６
から基板５５を移動ロボット９２で移載機９５のＨ点に
移動させ、透明基板５１に重ね合わせる。再び移載機９
５で点Ｉに移動させ、紫外線照射装置９４に導いて透明
基板５１の側から紫外線６４を照射して固める。そうし
て作製された媒体をストッカー９６に積み重ねる。
【００８７】その後、レーベルなどの印刷を行なうが、
紫外線照射装置９４に直接印刷装置を接続してもよい。
通常のＣＤでは、紫外線硬化樹脂でできた保護膜の上に
レーベルを印刷するが、本実施例の２層光情報媒体で
は、基板５５の情報面５６とは反対側の平面に印刷す
る。
紫外線照射装置９４に直接印刷装置を接続してもよい。
通常のＣＤでは、紫外線硬化樹脂でできた保護膜の上に
レーベルを印刷するが、本実施例の２層光情報媒体で
は、基板５５の情報面５６とは反対側の平面に印刷す
る。
【００８８】
【発明の効果】本発明により、ＣＤの製造プロセスに加
えて、特別にホットメルト接着剤のロールコータや加圧
機などによる工程を必要としないため、コストの大幅な
増加しない薄型基板の貼合わせディスクとその製造方
法、製造装置を提供できた。また、紫外線硬化樹脂はホ
ットメルト接着剤の様に高温高湿で軟化しないため、車
載用途等にも耐えられる高密度光ディスクを提供できる
様になった。
えて、特別にホットメルト接着剤のロールコータや加圧
機などによる工程を必要としないため、コストの大幅な
増加しない薄型基板の貼合わせディスクとその製造方
法、製造装置を提供できた。また、紫外線硬化樹脂はホ
ットメルト接着剤の様に高温高湿で軟化しないため、車
載用途等にも耐えられる高密度光ディスクを提供できる
様になった。
【００８９】以上のように、本発明によれば、２枚の情
報面をそれぞれインジェクション工程とスパッタリング
工程で作製し、それらの情報面を紫外線硬化樹脂の塗布
・硬化工程で重ねるので、ＣＤの製造に用いられている
生産性の高い工程を応用して製造でき、欠陥の少ない、
コストの低い多層光情報媒体を提供することができる。
報面をそれぞれインジェクション工程とスパッタリング
工程で作製し、それらの情報面を紫外線硬化樹脂の塗布
・硬化工程で重ねるので、ＣＤの製造に用いられている
生産性の高い工程を応用して製造でき、欠陥の少ない、
コストの低い多層光情報媒体を提供することができる。
【図１】本発明による光情報媒体の実施例を示す断面図
【図２】本発明による光情報媒体の製造方法における紫
外線照射方法の一例の説明図
外線照射方法の一例の説明図
【図３】（ａ）から（ｄ）は、本発明による光情報媒体
の製造方法の実施例における工程図
の製造方法の実施例における工程図
【図４】本発明による光情報媒体の製造装置の実施例の
ブロック構成図
ブロック構成図
【図５】本発明による他の光情報媒体の実施例を示す断
面図
面図
【図６】（ａ）から（ｃ）は、本発明による光情報媒体
の製造方法の実施例における工程図
の製造方法の実施例における工程図
【図７】本発明による他の光情報媒体の製造装置の実施
例のブロック構成図
例のブロック構成図
【図８】光情報媒体の従来例を示す断面図
【図９】光情報媒体の他の従来例を示す断面図
【図１０】（ａ）から（ｃ）は、光情報媒体の従来の製
造方法を示す工程断面図
造方法を示す工程断面図
１ 第１の情報信号面が形成された基板 ２、６ 情報信号面 ３、７ 反射膜 ５ 第２の情報信号面が形成された基板 １０ 紫外線硬化樹脂 ２１、２３ 入射光 ２２、２４ 反射光 ３１、３６、４３ 製造装置ブロック ３２、３７ 成形機 ３４、３９ スパッタ装置 ５１ 第１の情報信号面が形成された基板 ５２、５６ 情報信号面 ５３ 半透明膜 ５７ 反射膜 ５５ 第２の情報信号面が形成された基板 ６０ 紫外線硬化樹脂 ６１、６５ ターゲット ６４ 紫外線 ８１、８６、９３ 製造装置ブロック ８２、８７ 成形機 ８４、８９ スパッタ装置 １０１ 第１の情報信号面が形成された基板 １０２、１０６ 情報信号面 １０３、１０７ 反射膜 １０４、１０８ 保護膜 １０５ 第２の情報信号面が形成された基板 １０９ ホットメルト接着剤 １５１ 第１の情報信号面が形成された基板 １５２、１８０ 情報信号面 １５３ 半透明膜 １５４ 紫外線硬化樹脂 １８１ 反射膜 １８２ 保護膜 １７１ 入射レーザ光 １７２ 反射レーザ光
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ１１Ｂ 7/26 ５３１ Ｇ１１Ｂ 7/26 ５３１
Claims (21)
- 【請求項１】 第１の情報信号面を有する第１の基板
と、 該第１の基板の該第１の情報信号面上に形成された第１
の反射膜と、 第２の情報信号面を有する第２の基板と、 該第２の基板の該第２の情報信号面上に形成された第２
の反射膜と、 該第１の反射膜と該第２の反射膜との間に設けられ、該
第１及び第２の基板を結合する光硬化樹脂層と、 を備え、 該第１の反射膜と該第２の反射膜とは、該光硬化樹脂層
の硬化のために照射される光の少なくとも一部が、該第
１の反射膜と該第２の反射膜との間で多重反射するよう
に配置されていて、 該光硬化樹脂層は、該第１の反射膜と該第２の反射膜と
の間での該光の多重反射によって硬化させられたもので
ある、 光情報媒体。 - 【請求項２】 前記第１及び第２の反射膜は、アルミニ
ウムを主成分とする金属から形成されている請求項１に
記載の光情報媒体。 - 【請求項３】 前記第１及び第２の反射膜の少なくとも
一方は、０．１μｍ以下の厚さを有している請求項１に
記載の光情報媒体。 - 【請求項４】 前記第１及び第２の基板は、実質的に等
しい厚さを有している請求項１に記載の光情報媒体。 - 【請求項５】 前記第１及び第２の基板は、０．５７ｍ
ｍ以上且つ０．６３ｍｍ以下の厚さを有している請求項
４に記載の光情報媒体。 - 【請求項６】 前記第１の基板と前記第１の反射膜との
間、及び前記第２の基板と前記第２の反射膜との間の少
なくとも一方に、記録材料膜が設けられている請求項１
に記載の光情報媒体。 - 【請求項７】 片面に第１の情報信号面を有する第１の
基板を形成する工程と、 該第１の基板の該第１の情報信号面上に第１の反射膜を
形成する工程と、 片面に第２の情報信号面を有する第２の基板を形成する
工程と、 該第２の基板の該第２の情報信号面上に第２の反射膜を
形成する工程と、 光硬化樹脂層を介して該第１の反射膜と該第２の反射膜
とが互いに対向するように、該第１の基板と該第２の基
板とを重ね合わせる工程と、 少なくとも該第２の基板および第２の反射膜を介して光
を該光硬化樹脂層に照射することによって、該第１の反
射膜と該第２の反射膜との間で該光の一部を多重反射さ
せ、該光硬化樹脂層を硬化させて該第１の基板と該第２
の基板とを結合する工程と、 を包含する光情報媒体の製造方法。 - 【請求項８】 前記第１の基板と前記第２の基板とを重
ね合わせる工程は、該第１の基板を低速回転しながら前
記光硬化樹脂をドーナツ状に塗布する工程と、 該光硬化樹脂を介して前記第１の反射膜と前記第２の反
射膜とが互いに対向するように、前記第２の基板を該第
１の基板に重ね合わせ、該第１の基板と該第２の基板と
を一体的に高速回転する工程と、 を包含する請求項７に記載の光情報媒体の製造方法。 - 【請求項９】 前記第２の基板を前記第１の基板に重ね
合わせ、該第１の基板と該第２の基板とを一体的に高速
回転した後に、該第２の基板の上に透明板を配置し、該
透明板によって該第２の基板を押圧する工程を更に包含
している、請求項７に記載の光情報媒体の製造方法。 - 【請求項１０】 第１の情報信号面上に第１の反射膜が
形成された第１の基板と、第２の情報信号面上に第２の
反射膜が形成された第２の基板とを結合して、光情報媒
体を製造する装置であって、 該第１の基板を低速回転させて該第１の反射膜の上に光
硬化樹脂を塗布する装置と、 該第１の反射膜と該第２の反射膜とが互いに対向するよ
うに該光硬化樹脂の上に該第２の基板を重ねる装置と、 該第１の基板と該第２の基板とを一体的に高速回転させ
る装置と、 光を照射する装置と、 を備えており、 該第１の反射膜と該第２の反射膜とを、該照射される光
の少なくとも一部が、 該第１の反射膜と該第２の反射膜
との間で多重反射するように配置し、該光の多重反射に
よって該光硬化樹脂を硬化させる、 製造装置。 - 【請求項１１】 第１の情報信号面を有する第１の基板
を作製する第１の成形機と、該第１の基板の該第１の情
報信号面上に第１の反射膜を形成する第１のスパッタ装
置と、を含む第１製造ブロックと、 第２の情報信号面を有する第２の基板を作製する第２の
成形機と、該第２の基板の該第２の情報信号面上に第２
の反射膜を形成する第２のスパッタ装置と、を含む第２
製造ブロックと、 光硬化樹脂層を介して該第１の基板の該第１の反射膜と
該第２の基板の該第２の反射膜とを対向させた後、該第
２の基板および該第２の反射膜を介して該光硬化樹脂層
に光を照射する第３製造ブロックと、 該第１の製造ブロックおよび該第２の製造ブロックか
ら、それぞれ、該第１の基板および該第２の基板を該第
３のブロックに移動させる転送装置と、 を備えており、 該第３製造ブロックでは、該第１の反射膜と該第２の反
射膜とを、該照射される光の少なくとも一部が該第１の
反射膜と該第２の反射膜との間で多重反射するように配
置し、該光の多重反射によって該光硬化樹脂層を硬化さ
せる、 光情報媒体の製造装置。 - 【請求項１２】 第１の情報信号面を有する第１の基板
と、 該第１の基板の該第１の情報信号面上に形成された半透
明膜と、 第２の情報信号面を有する第２の基板と、 該第２の基板の該第２の情報信号面上に形成された反射
膜と、 該半透明膜と該反射膜との間に設けられ、該第１及び第
２の基板を結合する光硬化樹脂層と、 を備え、 該半透明膜と該反射膜とは、該光硬化樹脂層の硬化のた
めに照射される光の少なくとも一部が、該半透明膜と該
反射膜との間で多重反射するように配置されており、 該光硬化樹脂層は、該半透明膜と該反射膜との間での該
光の多重反射によって 硬化させられたものである、 光情
報媒体。 - 【請求項１３】 前記反射膜は、記録材料膜を含んでい
る請求項１２に記載の光情報媒体。 - 【請求項１４】 前記第１の基板の厚さは、０．５５ｍ
ｍ以上且つ０．６１ｍｍ以下である請求項１２に記載の
光情報媒体。 - 【請求項１５】 前記光硬化樹脂層は、３０μｍ以上且
つ６０μｍ以下の厚さを有している請求項１２に記載の
光情報媒体。 - 【請求項１６】 前記第１の信号情報面及び前記第２の
信号情報面の少なくとも一方に、ピットアートが形成さ
れている請求項１或いは１２に記載の光情報媒体。 - 【請求項１７】 片面に第１の情報信号面を有する第１
の基板を形成する工程と、 該第１の基板の該第１の情報信号面上に半透明膜を形成
する工程と、 片面に第２の情報信号面を有する第２の基板を形成する
工程と、 該第２の基板の該第２の情報信号面上に反射膜を形成す
る工程と、 光硬化樹脂層を介して該半透明膜と該反射膜とが互いに
対向するように、該第１の基板と該第２の基板とを重ね
合わせる工程と、 該第１の基板および該半透明膜を介して光を該光硬化樹
脂層に照射することによって、該半透明膜と該反射膜と
の間で該光の一部を多重反射させ、それによって、該光
硬化樹脂層を硬化させて該第１の基板と該第２の基板と
を結合する工程と、 を包含する光情報媒体の製造方法。 - 【請求項１８】 第１の情報信号面を有する第１の基板
を作製する第１の成形機と、該第１の基板の該第１の情
報信号面上に半透明膜を形成する第１のスパッタ装置
と、を含む第１製造ブロックと、 第２の情報信号面を有する第２の基板を作製する第２の
成形機と、該第２の基板の該第２の情報信号面上に反射
膜を形成する第２のスパッタ装置と、を含む第２製造ブ
ロックと、 光硬化樹脂層を介して該第１の基板の該半透明膜と該第
２の基板の該反射膜とを対向させた後、該第１の基板お
よび該半透明膜を介して該光硬化樹脂層に光を照射する
第３製造ブロックと、 該第１の製造ブロックおよび該第２の製造ブロックか
ら、それぞれ、該第１の基板および該第２の基板を該第
３のブロックに移動させる転送装置と、 を備えた光情報媒体の製造装置。 - 【請求項１９】 前記第３製造ブロックでは、前記半透
明膜と前記反射膜とを、前記照射される光の少なくとも
一部が該半透明膜と該反射膜との間で多重反射するよう
に配置し、該光の多重反射によって該光硬化樹脂層を硬
化させる、請求項１８に記載の製造装置。 - 【請求項２０】 第１の情報信号面上に半透明膜が形成
された第１の基板と、第２の情報信号面上に反射膜が形
成された第２の基板とを結合して、光情報媒体を製造す
る装置であって、 該第１の基板を低速回転させて該半透明膜の上に光硬化
樹脂を塗布する装置と、 該半透明膜と該反射膜とが互いに対向するように該光硬
化樹脂の上に該第２の基板を重ねる装置と、 該第１の基板と該第２の基板とを一体的に高速回転させ
る装置と、 光を照射する装置と、 を備えており、 該半透明膜と該反射膜とを、該照射される光の少なくと
も一部が、該半透明膜と該反射膜との間で多重反射する
ように配置し、該光の多重反射によって該光硬化樹脂を
硬化させる、製造装置。 - 【請求項２１】 前記第１の基板を透明板で押さえる装
置を更に備える、請求項２０に記載の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7255357A JP2742524B2 (ja) | 1994-10-03 | 1995-10-02 | 光情報媒体、光情報媒体製造方法並びに光情報媒体製造装置 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23884694 | 1994-10-03 | ||
| JP6-238846 | 1994-10-03 | ||
| JP29713594 | 1994-11-30 | ||
| JP6-297135 | 1994-11-30 | ||
| JP7255357A JP2742524B2 (ja) | 1994-10-03 | 1995-10-02 | 光情報媒体、光情報媒体製造方法並びに光情報媒体製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08212597A JPH08212597A (ja) | 1996-08-20 |
| JP2742524B2 true JP2742524B2 (ja) | 1998-04-22 |
Family
ID=27332635
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7255357A Expired - Lifetime JP2742524B2 (ja) | 1994-10-03 | 1995-10-02 | 光情報媒体、光情報媒体製造方法並びに光情報媒体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2742524B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7697404B2 (en) * | 2005-10-12 | 2010-04-13 | International Business Machines Corporation | Medium, system, and method for a common optical data storage medium depression depth |
| JP5364085B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2013-12-11 | ビクタークリエイティブメディア株式会社 | 光ディスク、その製造方法及び再生装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL7710162A (nl) * | 1977-09-16 | 1979-03-20 | Philips Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een optisch uitleesbare informatieschijf onder toepassing van een vlakke, verstijvende warmtegeleidende plaat van anorganisch materiaal. |
| JPS6327577A (ja) * | 1986-07-21 | 1988-02-05 | Ushio Inc | 光接着方法及び装置 |
| JPH02249150A (ja) * | 1989-03-23 | 1990-10-04 | Teijin Ltd | 光記録媒体 |
| JPH0520714A (ja) * | 1991-07-15 | 1993-01-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光デイスク製造方法及び製造装置 |
| JPH06131704A (ja) * | 1992-10-15 | 1994-05-13 | Fujitsu Ltd | 薄型両面光ディスクの製造方法 |
| JPH06274940A (ja) * | 1993-03-23 | 1994-09-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスク及びその製造方法 |
-
1995
- 1995-10-02 JP JP7255357A patent/JP2742524B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08212597A (ja) | 1996-08-20 |
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